JP2006083109A - 安息香酸誘導体 - Google Patents
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Abstract
【課題】オキセタン基とカルボン酸基を有する新規化合物の提供。
【解決手段】少なくとも2個以上のオキセタン基を結合した安息香酸誘導体であり、オキセタン基の結合位置が安息香酸の3,4位または3,5位であるのが好ましく、またオキセタン基と安息香酸とがアルキレンジオキシ基を介して結合されているのが好ましい安息香酸誘導体。
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも2個以上のオキセタン基を結合した安息香酸誘導体であり、オキセタン基の結合位置が安息香酸の3,4位または3,5位であるのが好ましく、またオキセタン基と安息香酸とがアルキレンジオキシ基を介して結合されているのが好ましい安息香酸誘導体。
【選択図】なし
Description
本発明は、カチオン重合が可能なオキセタン基を有する新規な化合物に関する。詳細には、分子中にオキセタン基とは異なる反応性の官能基を有するオキセタン基含有化合物に関する。
紫外線(UV)や電子線等の活性エネルギー線の照射による樹脂類の硬化はその速度が速く、場合によっては無溶媒でも行えることなどから、各種塗装、印刷、電子材料分野などに広く利用されている。これらの分野においては、従来からアクリロイル基やメタクリロイル基(以下、両者を合わせて(メタ)アクリロイル基ということがある。)を含む化合物が多く利用されているが、皮膚刺激性が強かったり、空気中で硬化しようとすると酸素による硬化阻害のため充分な硬化が行われ難く、また硬化時の収縮が大きいことなどの問題があった。
これらの問題のない硬化系として、カチオン重合性のビニルエーテル基やオキシラン基を有する化合物が検討されている。しかしながらビニルエーテル基は目的とする誘導体の合成過程で当該基の脱離が起こり易く、またオキシラン基は高反応性故に誘導体の合成が困難であるなどの欠点がある。
近年、上述の問題を解決しうる官能基としてオキセタン基の検討がなされ、多くのオキセタン誘導体が合成されている(例えば、特許文献1〜4参照。)。
しかしながら、これらに記載された化合物はいずれもオキセタン基以外の反応性の官能基を有さないため、これらの化合物からさらなる新規化合物の合成は極めて困難であった。
特開平11−106380号公報
特開2001−163882号公報
特開2002−80581号公報
国際公開第02/28985号パンフレット
これらの問題のない硬化系として、カチオン重合性のビニルエーテル基やオキシラン基を有する化合物が検討されている。しかしながらビニルエーテル基は目的とする誘導体の合成過程で当該基の脱離が起こり易く、またオキシラン基は高反応性故に誘導体の合成が困難であるなどの欠点がある。
近年、上述の問題を解決しうる官能基としてオキセタン基の検討がなされ、多くのオキセタン誘導体が合成されている(例えば、特許文献1〜4参照。)。
しかしながら、これらに記載された化合物はいずれもオキセタン基以外の反応性の官能基を有さないため、これらの化合物からさらなる新規化合物の合成は極めて困難であった。
本発明の目的は、上述のような問題を解決しうるオキセタン基とオキセタン基以外の反応性の官能基を有する化合物を提供するものである。
すなわち、本発明の第1は、少なくとも2個以上のオキセタン基を結合した安息香酸誘導体に関する。
本発明の第2は、オキセタン基の結合位置が安息香酸の3,4位または3,5位であることを特徴とする本発明の第1に記載の安息香酸誘導体に関する。
本発明の第3は、オキセタン基と安息香酸とがアルキレンジオキシ基を介して結合されていることを特徴とする本発明の第1に記載の安息香酸誘導体に関する。
本発明の第4は、アルキレンジオキシ基の炭素数が1〜10であることを特徴とする本発明の第3に記載の安息香酸誘導体に関する。
本発明の第2は、オキセタン基の結合位置が安息香酸の3,4位または3,5位であることを特徴とする本発明の第1に記載の安息香酸誘導体に関する。
本発明の第3は、オキセタン基と安息香酸とがアルキレンジオキシ基を介して結合されていることを特徴とする本発明の第1に記載の安息香酸誘導体に関する。
本発明の第4は、アルキレンジオキシ基の炭素数が1〜10であることを特徴とする本発明の第3に記載の安息香酸誘導体に関する。
以下、本発明を詳述する。
本発明のオキセタン基を含有する安息香酸誘導体は、安息香酸の誘導体とオキセタン基を有する化合物から合成される。
本発明の化合物の合成に使用される安息香酸の誘導体としては種々の誘導体が使用できるが、少なくとも2個以上の水酸基を結合した安息香酸が好ましく使用でき、具体的には3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸および3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸や、ω−ヒドロキシアルキレン基やω−ヒドロキシアルキレンオキシ基を前記の位置(3,4位、3,5位、3,4,5位など)に結合した安息香酸などが例示される。なお、これらの化合物は必ずしもカルボン酸である必要はなく、容易にカルボン酸に誘導できる化合物、例えばエステルであってもよい。
本発明のオキセタン基を含有する安息香酸誘導体は、安息香酸の誘導体とオキセタン基を有する化合物から合成される。
本発明の化合物の合成に使用される安息香酸の誘導体としては種々の誘導体が使用できるが、少なくとも2個以上の水酸基を結合した安息香酸が好ましく使用でき、具体的には3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸および3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸や、ω−ヒドロキシアルキレン基やω−ヒドロキシアルキレンオキシ基を前記の位置(3,4位、3,5位、3,4,5位など)に結合した安息香酸などが例示される。なお、これらの化合物は必ずしもカルボン酸である必要はなく、容易にカルボン酸に誘導できる化合物、例えばエステルであってもよい。
もう一方の出発化合物であるオキセタン基を有する化合物としては、下記式(1)で表される化合物が好ましい。
式(1)中、Rは水素、塩素、またはメチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基などの炭素数1〜12のアルキル基であり、好ましくは原料入手の容易さからエチル基である。また、Xはハロゲン原子または水酸基である。
本発明の安息香酸誘導体は、有機化学における通常の合成方法に従って合成することができ、合成方法は特に限定されるものではない。
反応にあたっては、オキセタン基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して反応条件を選ぶ必要がある。なお、オキセタン基は類似のカチオン重合性官能基であるオキシラン基などと比べて、副反応を起こす可能性が低い。さらに、類似したアルコール、フェノール、カルボン酸などの各種化合物をつぎつぎに反応させることもあり、適宜保護基の活用を考慮してもよい。合成された粗安息香酸誘導体は、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの方法で精製してもよい。特に結晶性がある程度高いものについては、再結晶は有効な手段であり、常温で再結晶が不可能な化合物についても、−20℃などの低温に冷却することで再結晶が可能になることもある。
反応にあたっては、オキセタン基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して反応条件を選ぶ必要がある。なお、オキセタン基は類似のカチオン重合性官能基であるオキシラン基などと比べて、副反応を起こす可能性が低い。さらに、類似したアルコール、フェノール、カルボン酸などの各種化合物をつぎつぎに反応させることもあり、適宜保護基の活用を考慮してもよい。合成された粗安息香酸誘導体は、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの方法で精製してもよい。特に結晶性がある程度高いものについては、再結晶は有効な手段であり、常温で再結晶が不可能な化合物についても、−20℃などの低温に冷却することで再結晶が可能になることもある。
合成方法としては、例えば、ジまたはトリヒドロキシ安息香酸またはそのエステル等を出発化合物として、ウィリアムソンのエーテル合成法等によりオキセタン基を少なくとも2個結合させればよい。
具体的には、3−ハロメチルオキセタン類と上述の安息香酸類等とを、これらと反応しない有機溶媒中で、塩基性物質の存在下に反応させる。かかる塩基性物質としては、NH4OH(アンモニア水)、アルカリ金属水酸化物(KOH,NaOH等)、炭酸塩(Na2CO3,K2CO3等)が挙げられる。また第4級アンモニウム塩を用いてもよい。使用する塩基性物質の量は、水酸基に対して当量以上使用するのが好ましく、具体的には1.0〜3当量倍、より好ましくは1.1〜2当量倍である。
また、別の合成方法として3−ヒドロキシメチルオキセタンを用いる場合は、当該オキセタン化合物と一般式R1SO2Cl(R1は芳香族基やアルキル基を表す)で表される有機スルホニルクロリド化合物とを適当な塩基性物質、例えばピリジンやトリエチルアミン等の存在下で反応させて得られるスルホン酸エステル(必要により濃縮や精製等を行う)と前記安息香酸類等とを反応させれば得ることができる。
具体的には、3−ハロメチルオキセタン類と上述の安息香酸類等とを、これらと反応しない有機溶媒中で、塩基性物質の存在下に反応させる。かかる塩基性物質としては、NH4OH(アンモニア水)、アルカリ金属水酸化物(KOH,NaOH等)、炭酸塩(Na2CO3,K2CO3等)が挙げられる。また第4級アンモニウム塩を用いてもよい。使用する塩基性物質の量は、水酸基に対して当量以上使用するのが好ましく、具体的には1.0〜3当量倍、より好ましくは1.1〜2当量倍である。
また、別の合成方法として3−ヒドロキシメチルオキセタンを用いる場合は、当該オキセタン化合物と一般式R1SO2Cl(R1は芳香族基やアルキル基を表す)で表される有機スルホニルクロリド化合物とを適当な塩基性物質、例えばピリジンやトリエチルアミン等の存在下で反応させて得られるスルホン酸エステル(必要により濃縮や精製等を行う)と前記安息香酸類等とを反応させれば得ることができる。
より具体的には、アルキレンジオキシ基を介して結合された本発明の安息香酸誘導体の合成は、例えば、次のようにして得ることができる。
3−ハロメチルオキセタンを用いる場合は、ω−ハロゲン化アルカノール(炭素数1〜10)とジまたはトリヒドロキキシ安息香酸とを予め反応させて、ビスまたはトリス(ヒドロキシアルキルオキシ)安息香酸を得、次いで3−ハロメチルオキセタンを反応させる。または3−ヒドロキシメチルオキセタンとα,ω−ジハロアルカン(炭素数1〜10)とを反応させて得られる3−(ω−ハロゲン化アルキルオキシ)メチルオキセタンとジまたはトリヒドロキキシ安息香酸とを反応させて得ることができる。これらの合成はいずれも上記のウィリアムソンのエーテル合成法等により容易に行うことができる。
3−ハロメチルオキセタンを用いる場合は、ω−ハロゲン化アルカノール(炭素数1〜10)とジまたはトリヒドロキキシ安息香酸とを予め反応させて、ビスまたはトリス(ヒドロキシアルキルオキシ)安息香酸を得、次いで3−ハロメチルオキセタンを反応させる。または3−ヒドロキシメチルオキセタンとα,ω−ジハロアルカン(炭素数1〜10)とを反応させて得られる3−(ω−ハロゲン化アルキルオキシ)メチルオキセタンとジまたはトリヒドロキキシ安息香酸とを反応させて得ることができる。これらの合成はいずれも上記のウィリアムソンのエーテル合成法等により容易に行うことができる。
上記の各反応は、用いられる化合物の形態や反応性により適した反応条件を選定すればよいが、通常、反応温度は−20℃〜180℃、好ましくは10℃〜150℃が選ばれ、反応時間は10分〜48時間、好ましくは30分〜24時間である。これらの範囲外では反応が充分に進行しなかったり、副反応が生じたりして好ましくない。また、両者の混合割合は、水酸基1当量につき、オキセタン化合物0.9〜1.5当量が好ましい。この範囲外では、オキセタン基の導入が不十分になったり、無駄になったりして好ましくない。
反応は、無溶媒でも可能であるが、通常は適当な溶媒下で行われる。使用される溶媒は目的とする反応を妨害しなければ特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル、安息香酸エチル等のエステル類やこれらの混合物が挙げられる。
なお、安息香酸化合物としてエステルを使用した場合は、目的とする反応の終了後、アルカリ金属水酸化物のアルコール/水混合溶液と加熱し、しかるのちプロトン酸を用いて酸性とすることでカルボン酸の形態に容易にすることができる。
なお、安息香酸化合物としてエステルを使用した場合は、目的とする反応の終了後、アルカリ金属水酸化物のアルコール/水混合溶液と加熱し、しかるのちプロトン酸を用いて酸性とすることでカルボン酸の形態に容易にすることができる。
本発明の安息香酸誘導体は、オキセタン基とオキセタン基以外の反応性の官能基を有する新規な安息香酸誘導体であり、本発明の安息香酸誘導体は、そのまま、カチオン重合して架橋高分子としたり、他のカチオン重合性化合物に添加して架橋剤として使用したりすることができる。また分子中に反応性のカルボン酸基を有するため、カルボン酸と容易に反応しうる他の官能基を有する種々の化合物と反応させて新規なオキセタン誘導体を容易に合成することもできる。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである
(1H−NMRおよび13C−NMRの測定)
化合物を重水素化クロロホルム(CDCl3)または重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d)に溶解し、VARIAN社製INOVA 400で測定した。なお、1H−NMRはテトラメチルシランを基準物質とした。
化合物を重水素化クロロホルム(CDCl3)または重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d)に溶解し、VARIAN社製INOVA 400で測定した。なお、1H−NMRはテトラメチルシランを基準物質とした。
(参考例1: 3−クロロメチル−3−エチルオキセタンの合成)
2Lセパラブルフラスコに3−ヒドロキシメチル−3−エチルオキセタン(東亜合成(株)製、製品名OXT−101)235.5g(2.03mol)、トリエチルアミン228.0g(2.25mol)およびジメチルホルムアミド(DMF;溶媒)500mLを入れ、氷冷下、メタンスルホン酸クロリド257.4g(2.03mol)およびDMF100mLの溶液を滴下した。滴下終了後さらに1.5時間氷冷した後、100℃に昇温して4時間反応した。冷却し脱イオン水2L中へ注ぎ、トルエン500mLで4回抽出し、有機層を併せて濃縮し淡黄色の液状の粗3−クロロメチル−3−エチルオキセタン210.7gを得た。得られた液体を減圧蒸留して、85〜86℃/4.8kPaの留分として、3−クロロメチル−3−エチルオキセタン147.5gを得た(1H−NMRにて同定)。
2Lセパラブルフラスコに3−ヒドロキシメチル−3−エチルオキセタン(東亜合成(株)製、製品名OXT−101)235.5g(2.03mol)、トリエチルアミン228.0g(2.25mol)およびジメチルホルムアミド(DMF;溶媒)500mLを入れ、氷冷下、メタンスルホン酸クロリド257.4g(2.03mol)およびDMF100mLの溶液を滴下した。滴下終了後さらに1.5時間氷冷した後、100℃に昇温して4時間反応した。冷却し脱イオン水2L中へ注ぎ、トルエン500mLで4回抽出し、有機層を併せて濃縮し淡黄色の液状の粗3−クロロメチル−3−エチルオキセタン210.7gを得た。得られた液体を減圧蒸留して、85〜86℃/4.8kPaの留分として、3−クロロメチル−3−エチルオキセタン147.5gを得た(1H−NMRにて同定)。
(実施例1: 3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,6−ジオキサヘプチル]安息香酸の合成)
2Lなす形フラスコに3−ヒドロキシメチル−3−エチルオキセタン(東亜合成(株)製、製品名OXT−101)46.3g、1,4−ジブロモブタン(東京化成(株)製、試薬)250.3gおよびヘキサン275mlを仕込み、2gのテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド(東京化成(株)製、試薬)を含む、500mlの33%水酸化ナトリウム水溶液を加えて、5時間激しく攪拌した。その後さらに、80℃で1時間加熱還流させた後、500mLの脱イオン水を加え、分液して、水層から160mLのヘキサンで3回抽出した。有機層と抽出層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧で留去した。得られた透明な液体を減圧蒸留して、109℃/532Paの留分として、3−[(4−ブロモブトキシ)メチル]−3−エチルオキセタン44.5gを得た(1H−NMRにて同定)。
2Lなす形フラスコに3−ヒドロキシメチル−3−エチルオキセタン(東亜合成(株)製、製品名OXT−101)46.3g、1,4−ジブロモブタン(東京化成(株)製、試薬)250.3gおよびヘキサン275mlを仕込み、2gのテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド(東京化成(株)製、試薬)を含む、500mlの33%水酸化ナトリウム水溶液を加えて、5時間激しく攪拌した。その後さらに、80℃で1時間加熱還流させた後、500mLの脱イオン水を加え、分液して、水層から160mLのヘキサンで3回抽出した。有機層と抽出層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧で留去した。得られた透明な液体を減圧蒸留して、109℃/532Paの留分として、3−[(4−ブロモブトキシ)メチル]−3−エチルオキセタン44.5gを得た(1H−NMRにて同定)。
300mL三ツ口フラスコ中で、3,5−ジヒドロキシ安息香酸エチル5.5g、無水炭酸カリウム13.8gおよび3−[(4−ブロモブトキシ)メチル]−3−エチルオキセタン7.8gを100mLのDMFに溶かした。溶液が濁った状態のまま100℃に加熱して5時間攪拌した後、固体を濾別し溶媒を減圧で完全に留去した。得られた黄色の油状物質に50%水酸化カリウム水溶液30mLとエタノール100mLを加え、3時間加熱還流後、エタノール−水共沸物75mLを常圧蒸留で留去し、冷却後、脱イオン水500mLにフラスコ内容物を注ぐと、均一溶液になった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、析出した油状物質を酢酸エチル200mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,6−ジオキサヘプチル]安息香酸(淡黄色油状物)8.9gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(CDCl3)を図1に示す。
(実施例2: 3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸の合成)
500mLの三ツ口フラスコに、3,5−ジヒドロキシ安息香酸エチル18.7g、無水炭酸カリウム35.4g、ヨウ化カリウム4.5gおよびDMF200mLを入れ、100℃に加熱し、6−クロロヘキサノール29.9gを滴下した。同温度で5時間反応し冷却後、固体を濾別、溶媒を除去し、固体37.1gを得た。
得られた固体に、水酸化カリウム30.6g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて還流状態とし、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン29.6gを滴下し、3時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、析出した油状物質を酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸44.5gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図2に示す。
500mLの三ツ口フラスコに、3,5−ジヒドロキシ安息香酸エチル18.7g、無水炭酸カリウム35.4g、ヨウ化カリウム4.5gおよびDMF200mLを入れ、100℃に加熱し、6−クロロヘキサノール29.9gを滴下した。同温度で5時間反応し冷却後、固体を濾別、溶媒を除去し、固体37.1gを得た。
得られた固体に、水酸化カリウム30.6g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて還流状態とし、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン29.6gを滴下し、3時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、析出した油状物質を酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸44.5gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図2に示す。
(実施例3: 3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,4−ジオキサペンチル]安息香酸の合成)
200mL三ツ口フラスコに、3−クロロメチル−3−エチルオキセタン13.5g、2−ブロモエタノール12.7g、無水炭酸カリウム28.0g、ヨウ化カリウム4.2gおよびDMF100mLを入れ、110℃で4時間反応させた。冷却後固体を濾別しDMFを除去した。得られた液状物には固体が残存していたので、酢酸エチル50mLに溶解して固体を濾別し、酢酸エチルを留去して3−(4−ブロモ−2−オキサブチル)−3−エチルオキセタン15.4gを得た。
200mL三ツ口フラスコに、3−(4−ブロモ−2−オキサブチル)−3−エチルオキセタン13.5g、3,5−ジヒドロキシ安息香酸エチル5.4g、無水炭酸カリウム13.0gおよびDMF100mLを入れ、100℃で4時間反応した後、冷却し固体を濾別、溶媒を除去し、ついで残存固体に水酸化カリウム3.4g、エタノール30mLおよび脱イオン水20mLを加え、3時間還流した。フラスコ内の反応物を脱イオン水500mLに注ぐと均一溶液になった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,4−ジオキサペンチル]安息香酸6.9gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図3に示す
200mL三ツ口フラスコに、3−クロロメチル−3−エチルオキセタン13.5g、2−ブロモエタノール12.7g、無水炭酸カリウム28.0g、ヨウ化カリウム4.2gおよびDMF100mLを入れ、110℃で4時間反応させた。冷却後固体を濾別しDMFを除去した。得られた液状物には固体が残存していたので、酢酸エチル50mLに溶解して固体を濾別し、酢酸エチルを留去して3−(4−ブロモ−2−オキサブチル)−3−エチルオキセタン15.4gを得た。
200mL三ツ口フラスコに、3−(4−ブロモ−2−オキサブチル)−3−エチルオキセタン13.5g、3,5−ジヒドロキシ安息香酸エチル5.4g、無水炭酸カリウム13.0gおよびDMF100mLを入れ、100℃で4時間反応した後、冷却し固体を濾別、溶媒を除去し、ついで残存固体に水酸化カリウム3.4g、エタノール30mLおよび脱イオン水20mLを加え、3時間還流した。フラスコ内の反応物を脱イオン水500mLに注ぐと均一溶液になった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,4−ジオキサペンチル]安息香酸6.9gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図3に示す
(実施例4: 3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸の合成)
500mLの三ツ口フラスコに、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸メチル9.2g、無水炭酸カリウム27.4g、ヨウ化カリウム3.7gおよびDMF200mLを入れ、100℃に加熱し、6−クロロヘキサノール21.1gを滴下した。同温度で6時間反応し冷却後、固体を濾別、溶媒を除去した。
得られた固体に、水酸化カリウム19.8g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて80℃に加熱し、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン21.1gを滴下し、4時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、析出した油状物質を酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸25.6gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図4に示す
500mLの三ツ口フラスコに、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸メチル9.2g、無水炭酸カリウム27.4g、ヨウ化カリウム3.7gおよびDMF200mLを入れ、100℃に加熱し、6−クロロヘキサノール21.1gを滴下した。同温度で6時間反応し冷却後、固体を濾別、溶媒を除去した。
得られた固体に、水酸化カリウム19.8g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて80℃に加熱し、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン21.1gを滴下し、4時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、析出した油状物質を酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,8−ジオキサノニル]安息香酸25.6gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図4に示す
(実施例5: 3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)メトキシ]安息香酸の合成)
300mLの三ツ口フラスコに、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸メチル9.3g、水酸化カリウム16.5g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて80℃に加熱し、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン21.8gを滴下し、5時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)メトキシ]安息香酸10.6gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図5に示す
300mLの三ツ口フラスコに、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸メチル9.3g、水酸化カリウム16.5g、エタノール100mLおよび脱イオン水50mLを加えて80℃に加熱し、参考例1で合成した3−クロロメチル−3−エチルオキセタン21.8gを滴下し、5時間反応後、脱イオン水600mLに注ぐと均一溶液となった。6mol/L塩酸水溶液を加えてpHを3程度に調節し、酢酸エチル300mLで3回抽出し、抽出層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去し、3,4,5−トリス[(3−エチルオキセタン−1−イル)メトキシ]安息香酸10.6gを得た。得られた化合物の1H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図5に示す
(応用例1: オキセタン誘導体の合成)
200mL三ツ口フラスコに、実施例1で得た3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,6−ジオキサヘプチル]安息香酸5.0g、ヒドロキノン0.53g、4−(ジメチルアミノ)ピリジン0.2gおよびジクロロメタン100mLを入れ、氷冷しながらジシクロヘキシルカルボジイミド2.27gのジクロロメタン10mL溶液をゆっくりと添加した。添加終了後1時間氷冷を続け、その後室温で終夜反応させた。生成した白色固体を濾別し、濾液を6mol/L塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し粘稠油状物を得た。得られた油状物をヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的とするオキセタン誘導体(構造:下記式)を得た。図6に13C−NMRスペクトル(CDCl3)を示す。
200mL三ツ口フラスコに、実施例1で得た3,5−ビス[(3−エチルオキセタン−1−イル)−1,6−ジオキサヘプチル]安息香酸5.0g、ヒドロキノン0.53g、4−(ジメチルアミノ)ピリジン0.2gおよびジクロロメタン100mLを入れ、氷冷しながらジシクロヘキシルカルボジイミド2.27gのジクロロメタン10mL溶液をゆっくりと添加した。添加終了後1時間氷冷を続け、その後室温で終夜反応させた。生成した白色固体を濾別し、濾液を6mol/L塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し粘稠油状物を得た。得られた油状物をヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的とするオキセタン誘導体(構造:下記式)を得た。図6に13C−NMRスペクトル(CDCl3)を示す。
Claims (4)
- 少なくとも2個以上のオキセタン基を結合した安息香酸誘導体。
- オキセタン基の結合位置が安息香酸の3,4位または3,5位であることを特徴とする請求項1記載の安息香酸誘導体。
- オキセタン基と安息香酸とがアルキレンジオキシ基を介して結合されていることを特徴とする請求項1記載の安息香酸誘導体。
- アルキレンジオキシ基の炭素数が1〜10であることを特徴とする請求項3記載の安息香酸誘導体。
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---|---|---|---|---|
JP2003096066A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Nippon Oil Corp | 液晶性オキセタン化合物、重合性液晶性組成物、液晶フィルムの製造方法、光学フィルムおよび液晶表示装置 |
JP2004510785A (ja) * | 2000-10-04 | 2004-04-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 重合性液晶ジオキセタン、並びにその製造方法及び使用 |
JP2004149587A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Tokuyama Corp | 光カチオン重合開始剤組成物 |
JP2006028428A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Nippon Oil Corp | オキセタン誘導体、カチオン重合性組成物および位相差フィルム |
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2004
- 2004-09-16 JP JP2004270431A patent/JP2006083109A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
JP2004510785A (ja) * | 2000-10-04 | 2004-04-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 重合性液晶ジオキセタン、並びにその製造方法及び使用 |
JP2003096066A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Nippon Oil Corp | 液晶性オキセタン化合物、重合性液晶性組成物、液晶フィルムの製造方法、光学フィルムおよび液晶表示装置 |
JP2004149587A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Tokuyama Corp | 光カチオン重合開始剤組成物 |
JP2006028428A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Nippon Oil Corp | オキセタン誘導体、カチオン重合性組成物および位相差フィルム |
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