JP2006080252A - 固体撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 CMOSイメージセンサにおいて、上部積層膜の絶縁膜中のフォトダイオードの受光領域に対応する領域に、埋め込み型のカラーフィルタを設け、このカラーフィルタの下面の位置を上部積層膜の最も下層のメタル配線膜の下面の位置より下に配置するようにした。これにより、フォトダイオードとカラーフィルタやマイクロレンズとの間隔が縮小でき、集光効率の向上や混色を防止できる。また、黒基準を検出するための画素では、埋め込み型の光学フィルタの代わりに遮光性膜、例えば遮光媒体やブラックフィルタを設けるようにした。これにより、遮光性を向上し、黒基準の精度を向上する。
【選択図】 図1
Description
一般に、CCDイメージセンサは、半導体基板に複数のフォトダイオード(光電変換素子)及びCCD転送レジスタ等を形成し、その半導体基板上にCCD転送レジスタ用の転送電極や遮光膜を配置し、その上層にカラーフィルタやマイクロレンズを配置した構造であり、半導体基板上に形成される上部積層膜は比較的薄い構造となっている。
これに対し、CMOSイメージセンサは、半導体基板に複数のフォトダイオード及び各種の画素トランジスタ等を形成し、その半導体基板上に画素トランジスタの駆動配線や遮光膜を配置し、その上層にカラーフィルタやマイクロレンズを配置した構造であり、通常は配線層が多層構造であることから、半導体基板上に形成される上部積層膜は比較的厚い構造となっている。
図4は従来のCMOSイメージセンサのフォトダイオード周辺部の素子構造を示す断面図である。
図示のように、半導体基板1の表面にフォトダイオード2が設けられ、その上部にメタル配線3と絶縁膜4による多層配線層5が形成され、その上にカラーフィルタ6を介してマイクロレンズ7が設けられている。
(例えば特許文献1参照)。
例えば、フォトダイオードとマイクロレンズの距離が大きいため、集光効率が悪くなり、感度低下を招く要因となる。
また、フォトダイオードとカラーフィルタの距離が大きいため、斜めに入射した光が配線の隙間を通って隣接する画素のフォトダイオードに入り、混色の問題が生じる要因となる。
また、この種の固体撮像装置では、出力レベルの基準を得るために、一部の画素(いわゆるオプティカルブラックという)のフォトダイオードを遮光し、その出力を検出して黒基準を得るようにしているが、遮光膜が中間の配線層によってフォトダイオードから離れているために、周辺の有効画素領域から光が漏れ込み、黒レベルが浮いてしまうという問題があった。
また、黒基準用画素においては、光学フィルタの代わりに遮光性膜を配置することにより、黒基準用画素に対する光の漏れ込みを確実に防止でき、黒基準の精度を向上することが可能となる。
また、黒基準を検出するための画素では、埋め込み型の光学フィルタの代わりに遮光性膜、例えば遮光媒体やブラックフィルタを設けるようにした。これにより、黒基準用画素を確実に遮光でき、黒基準の精度を向上できる。
図示のように、半導体基板10の表面にフォトダイオード11が設けられ、その上部に3層のメタル配線(導電膜)12と絶縁膜13による多層配線層(上部積層膜)14が形成され、その上にマイクロレンズ17が設けられている。
そして、図1(A)に示す通常の画素では、多層配線層14の絶縁膜13中のフォトダイオード11の受光領域に対応する領域に埋め込み型のカラーフィルタ(光学フィルタ)15が配置されている。この埋め込み型のカラーフィルタ15は、その下面の位置が多層配線層14の最も下層のメタル配線12の下面の位置より下に配置され、フォトダイオード11の受光面と近接して配置されている。また、埋め込み型のカラーフィルタ15の外周と各メタル配線12とは互いに近接して配置され、各メタル配線12が入射光の通過領域を制限する遮光膜として機能し、斜めの入射光が隣接する画素のフォトダイオードに漏れ込むのを防止する。
このような通常の画素の積層構造では、図4に示した従来の構造に比較し、フォトダイオードとカラーフィルタやマイクロレンズの距離が近くなり、集光効率の改善や混色の防止を図ることが可能となる。例えば、図1に矢印Aで示すような斜め光が入射した場合でも、この光はメタル配線12の間を通り、隣の画素のフィルタを通ってフォトダイオードに入射するため、混色は生じないことになる。
このような黒基準画素では、膜厚の大きい埋め込み型の遮光性膜16によってフォトダイオードは十分な遮光状態におかれ、正確な黒基準の検出が可能となる。
図2及び図3は本実施例の通常の画素における上部積層膜の形成工低を示す断面図である。
図2(1)では、フォトダイオード11等を設けた半導体基板10上にメタル配線12と絶縁膜13による多層配線層14を形成した段階で、その多層配線層14の上にフォトレジスト膜21を配置した状態である。そして、図2(2)及び図2(3)において、フォトレジスト膜21をパターニングし、フォトダイオード11の受光領域に対応する埋め込み用の凹部22を絶縁膜13に形成する。
次に、図3(6)において、カラーフィルタ15の第2の色のフィルタ材15Bを積層し、図3(7)において新たにフォトリソグラフィとエッチングを行い、フィルタ材15Bを利用する画素の凹部22にだけ残し、その他の画素の凹部22から除去する。なお、図では省略するが、同様の工程によって、カラーフィルタ15の第3の色のフィルタ材を積層し、利用する画素の凹部22に積層する。
このようにして、全ての凹部22に該当する色のフィルタ材が充填された状態で、図3(8)に示すようにエッチングを行い、各フィルタ材15A、15Bを削って所望の膜厚に形成し、各フィルタ15を形成する。次に、図3(9)において、絶縁膜13の材料となるパッシベーション材23を積層して各凹部22を埋め、その後、図3(10)でCMP等を用いて平坦化する。
したがって、特別な工程を用いることなく、埋め込み型フィルタ15や遮光性膜16を容易に形成でき、フォトダイオードに対してカラーフィルタや遮光性膜、さらにはマイクロレンズを従来例よりも近く配置でき、通常の画素では集光効率の向上や混色の防止、黒基準画素では遮光性の向上を図ることが可能となる。
なお、カラーフィルタや遮光性膜の深さや膜厚等は、必要とする特性や製造工程の実情等に応じて適宜選択できるものとし、図示の構造に限定されないことは勿論である。
また、以上の実施例はCMOS型固体撮像装置を前提に説明したが、本発明はCCD型固体撮像装置にも適用可能であり、特に限定しないものとする。
Claims (7)
- 少なくとも光電変換素子を含む複数の画素が形成された半導体基板と、
前記半導体基板上に配置される絶縁膜中に複数層の導電膜を配置した上部積層膜とを有し、
前記上部積層膜の絶縁膜中の光電変換素子の受光領域に対応する領域に埋め込み型の光学フィルタを配置した、
ことを特徴とする固体撮像装置。 - 前記埋め込み型の光学フィルタの下面の位置が上部積層膜の最も下層の導電膜の下面の位置より下に配置されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
- 前記上部積層膜の上部にマイクロレンズが配置されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
- 前記光学フィルタは、特定の波長光を透過するカラーフィルタであることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
- 前記複数の画素の一部は黒基準を検出するための黒基準用画素を含み、前記黒基準用画素上に配置される上部積層膜の絶縁膜中の光電変換素子の受光領域に対応する領域に埋め込み型の遮光性膜を配置したことを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
- 前記黒基準用画素に設けられる遮光性膜は、他の画素に設けられる埋め込み型の光学フィルタよりも大きい膜厚を有することを特徴とする請求項5記載の固体撮像装置。
- 前記画素は光電変換素子で生成した信号電荷を読み出す画素トランジスタ回路を有し、前記上部積層膜の導電膜は前記画素トランジスタ回路の駆動配線を含むことを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
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