JP2006071766A

JP2006071766A - 光学部品の製造装置及び製造方法

Info

Publication number: JP2006071766A
Application number: JP2004252366A
Authority: JP
Inventors: Makoto Uchiumi; 誠内海
Original assignee: MAKUSHISU WAN KK
Current assignee: MAKUSHISU WAN KK
Priority date: 2004-08-31
Filing date: 2004-08-31
Publication date: 2006-03-16

Abstract

【課題】光学基板の貼り合わせ時において、貼り合わせ面に残留する気泡をなくし、ニュートンリングの発生を防止し、歩留まりを向上させることができる光学部品の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】まず、接着剤４５をホルダに保持された光学基板２１の下面に供給する（第１工程）。次に、接着剤４５の頂点が光学基板２１の下方に位置する光学基板２１ａの上面に接触するまで光学基板２１を光学基板２１ａに近付け、接着剤４５の頂点が光学基板２１ａに接触した時点で光学基板２１の移動を停止させる（第２工程）。その後、光学基板２１の移動停止時点から１秒程度経過するまで待機する（第３工程）。次に、再び光学基板２１を光学基板２１ａに近付け、光学基板２１と光学基板２１ａとの距離が０．５ｍｍ程度に達した時点でホルダから光学基板２１を離す(第４工程)。
【選択図】図９

Description

この発明は光学部品の製造装置及び製造方法に関する。

複数のガラス基板等の光学基板を貼り合わせてなる光学部品（レンズ、光学ローパスフィルタ、プリズム等）に関し、光学基板の組み合わせによって種々の光学的な特性を得られることは周知である。所望の光学特性を得るためには、光学基板同士の貼り合わせ作業を慎重かつ正確に行う必要がある。

従来一般に行われている光学基板の貼り合わせは、真空貼り合わせ装置（特開２００３−２９０３５号公報参照）を用いて、以下の手順で行われていた。

真空貼り合わせ装置は、第１の光学基板を保持するチャッキングユニットと、このチャッキングユニットによって保持された第１の光学基板をこの第１の光学基板と対向する第２の光学基板に対して上下方向へ相対移動させる昇降機構と、第２の光学基板の貼り合せ面に接着剤を供給する塗布ユニットと、貼り合せ面を互いに対向させた第１の光学基板と第２の光学基板とを重ね合わせる前に、両光学基板の周囲を真空雰囲気にする真空チャンバとを備えている。

まず、台に載置した第２の光学基板に接着剤を供給し、その後貼り合わせる対象である第１の光学基板を第２の光学基板に対して所定間隔をおいた位置に移動させ、真空チャンバ内を真空引きした後、第１の光学基板の保持状態を解除し、更に両光学基板に上下方向の荷重を加え、接着剤を両光学基板の全面に広げる。
特開２００３−２９０３５号公報

ところで、光学基板同士を貼り合わせたとき、光学基板と接着剤とが触れる瞬間に接着剤の表面が振動を起こし貼り合せ面間に空気が気泡として残留し、ニュートンリングが発生する。

上記真空貼り合わせ装置によれば気泡を小さくすることはできるが、装置内を高真空（１０^-1〜１０^-5Ｐａ）としているわけでないため、気泡をなくすことは原理的に困難である。

また、接着剤の塗布ムラ等によって光学基板同士が接近し過ぎるとニュートンリングが発生する。

ニュートンリングは光学部品の光学特性を劣化させ、歩留まり低下の原因となる。

この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は光学基板の貼り合わせ時において、貼り合わせ面に残留する気泡をなくし、ニュートンリングの発生を防止し、歩留まりを向上させることができる光学部品の製造装置及び製造方法を提供することである。

上記課題を解決するため請求項１記載の発明は、第１の光学基板を保持する保持手段と、この保持手段によって保持された前記第１の光学基板をこの基板と対向する第２の光学基板に対して上下方向へ相対移動させる移動手段と、前記第１の光学基板の一方の面の所定位置に接着剤を供給する接着剤供給手段と、前記接着剤供給手段によって前記第１の光学基板の一方の面に供給されて山形になった前記接着剤の頂点が前記第１の光学基板の下方に位置する前記第２の光学基板の上面に接触するまで前記移動手段によって前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記接着剤の頂点が前記第２の光学基板に接触した時点で前記第１の光学基板の移動を停止させ、その時点から所定時間経過後、再び前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記第１の光学基板と前記第２の光学基板との距離が所定値に達した時点で前記保持手段による前記第１の光学基板の保持状態を解除する光学基板制御手段とを備えていることを特徴とする。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の光学部品の製造装置において、前記重なり合った前記第１、第２の光学基板の周囲に突き当てて、それらの基板を整列させるとともに、前記第１、第２の光学基板間からはみ出た前記接着剤の一部を吸収する櫛の歯状の吸収部を有する整列手段を備えていることを特徴とする。

請求項３記載の発明は、保持手段によって保持された第１の光学基板の一方の面の所定位置に接着剤を供給する第１工程と、この第１工程の後、前記第１の光学基板の一方の面に供給されて山形になった前記接着剤の頂点が前記第１の光学基板の下方に位置する第２の光学基板の上面に接触するまで前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記接着剤の頂点が前記第２の光学基板に接触した時点で前記第１の光学基板の移動を停止させる第２工程と、この第２工程の後、前記第１の光学基板の移動停止時点から所定時間経過するまで待機する第３工程と、この第３工程の後、再び前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記第１の光学基板と前記第２の光学基板との距離が所定値に達した時点で前記保持手段による前記第１の光学基板の保持状態を解除し、所定時間放置する第４工程とを含むことを特徴とする。

接着剤の表面張力（接着剤と第１の光学基板との境界面（接着剤と第２の光学基板との境界面）に作用する界面張力）によって光学基板と接着剤との間から空気を排除しながら接着剤が光学基板の全面に行き渡る。

請求項４記載の発明は、請求項３記載の光学部品の製造方法において、前記第４工程の後、櫛の歯状の吸収部を有する整列手段を前記重なり合った前記第１、第２の光学基板の周囲に突き当てて、それらの基板を整列させるとともに、前記第１、第２の光学基板間からはみ出た前記接着剤の一部を吸収させることを特徴とする。

光学基板を重ね合わせ、整列器５１を用いて光学基板２１の整列を行なったとき、光学基板２１の周囲からはみ出した余分な接着材が整列器の吸収部に吸収される。

請求項５記載の発明は、請求項３又は４記載の光学部品の製造方法において、前記第１工程で、前記第１の光学基板の一方の面を下に向け、その光学基板の下方から前記接着剤を供給することを特徴とする。

接着剤を光学基板の下面に所定量に達するまで供給したとき、接着剤は山形形状になる。

この発明の光学部品の製造装置及び製造方法によれば、光学基板の貼り合わせ時において、貼り合わせ面に残留する気泡をなくし、ニュートンリングの発生を防止し、歩留まりを向上させることができる。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

図１はこの発明の一実施形態に係る光学部品の製造装置の構成を説明する平面図である。

この光学部品の製造装置はホルダ１０と供給マガジン２０と回収マガジン３０と接着剤塗布ユニット（接着剤供給手段）４０と１次照射ユニット５０と２次照射ユニット６０と画像処理検査ユニット７０とＵＶ光源８０とクリーンブース９０とコントローラ５とを備えている。

供給マガジン２０には光学ローパスフィルタ（光学部品）ＯＬＰＦを製造するための複数の光学基板２１（図２参照）が収容されている。５つの供給マガジン２０にはそれぞれ種類の異なる光学基板２１（図２参照）が１００枚ずつ収納されている。光学基板２１の大きさ、形状は例えば１辺の長さ３０ｍｍの正方形又は直径３０ｍｍの円形である。また、光学基板２１の厚さは０．２〜１．０ｍｍである。

回収マガジン３０には製造された光学ローパスフィルタＯＬＰＦが収納される。回収マガジン３０は、例えば良品（ニュートンリングがないもの）の光学ローパスフィルタＯＬＰＦを収納する良品用の回収マガジン３１と、不良品（ニュートンリングがあるもの）の光学ローパスフィルタＯＬＰＦを収納する不良品用の回収マガジン３２とで構成される。

ホルダ１０は軸１１を中心として回転できる。ホルダ１０の先端部は長手方向へ伸縮する。

ホルダ１０は供給マガジン２０から光学基板２１を取り出し、１次照射ユニット５０に載置された光学基板２１（２１ａ）上に搬送する。

また、ホルダ１０は１次照射ユニット５０で１次硬化された複数の光学基板２１を２次照射ユニット６０に搬送する。

更に、ホルダ１０は２次照射ユニット６０で完成した光学ローパスフィルタＯＬＰＦを画像処理検査ユニット７０へ搬送する。

また、ホルダ１０は画像処理検査ユニット７０でなされた良否の判別結果に基づいて光学ローパスフィルタＯＬＰＦを所定の回収マガジン３０へ搬送し、収容する。

更に、ホルダ１０は保持した光学基板２１を上下方向へ移動させることができる。

すなわち、ホルダ１０は保持手段及び移動手段として機能する。

接着剤塗布ユニット４０は光学基板２１に対して下方から接着剤（ＵＶ光硬化型）４５（図６参照）を所定量だけ供給する。

接着剤４５の粘度及び硬化エネルギはそれぞれ２００〜２００００ｍＰａｓ（好ましくは２００〜２００００ｍＰａｓ）及び２０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²程度である。

１次照射ユニット５０では接着剤４５を介して複数の光学基板２１を重ね合わせる。１次照射ユニット５０は昇降機構５３と重ね合わせた複数の光学基板２１を整列させる整列器（整列手段）５１と光学基板２１の上面を均一に加圧する平行維持機構５５（図４参照）とを備えている。昇降機構５３は軸５３ａを中心として回転可能であるとともに、重ね合わせた複数の光学基板２１を上下方向へ移動可能である。

１次照射ユニット５０には光ファイバ８１を介してＵＶ光源８０からＵＶ光が導かれる。

２次照射ユニット６０には光ファイバ８２を介してＵＶ光源８０からＵＶ光が導かれる。

ＵＶ光源８０として、波長及び出力がそれぞれ３６５ｎｍ及び３００ｍＷ／ｃｍ² （ファイバ先１０ｍｍ）であるランプが用いられる。

クリーンブース９０はホルダ１０、供給マガジン２０、回収マガジン３０、接着剤塗布ユニット４０、１次照射ユニット５０、２次照射ユニット６０、画像処理検査ユニット７０、ＵＶ光源８０等を収容する密閉された室である。

クリーンブース９０内に微細なゴミ（パーティクル）があると光学ローパスフィルタＯＬＰＦの歩留まりが低下するため、クリーンブース９０内は清浄レベルをクラス１０００（直径１μｍ以上の粒子が１立方フィート当り１０００個以下）とされている。

コントローラ５はホルダ１０の動作を制御する。コントローラ５は例えばマイクロコンピュータで構成することができる。

図２はホルダの先端部の拡大斜視図である。

ホルダ１０は導電性プラスチック製であり、その先端部は音叉形をしている。ホルダ１０の先端部を構成する部材１１ａ，１１ｂ，１１ｃは正方形の光学基板２１の３つの辺の上面とそれぞれ対向する。部材１１ａ，１１ｂ，１１ｃの下面には光学基板２１の上面と対向して複数の孔（図では見えない）が設けられている。孔はエア源（図示せず）等に接続されている。エア源は−０．１ＭＰａ程度の圧力に設定されている。このホルダ１０によれば光学基板２１との接触面積が小さいので、ホルダ１０との接触による光学基板２１の汚染を減少させることができる。

図３は整列器の斜視図である。

４つの整列器５１が１次照射ユニット５０上に設けられている。整列器５１は重ね合わせた複数の光学基板２１の周囲に突き当てられる。白抜き矢印で示すように整列器５１を押し当てることによって重ね合わされた複数の光学基板２１が整列する。

整列器５１はガラス製又は金めっきが施されたプラスチック製である。

整列器５１の光学基板２１と突き当たる部分には接着剤４５（図８参照）を吸収する櫛の歯状の吸収部５２が形成されている。櫛の歯の幅及び間隔はそれぞれ０．５ｍｍ及び０．５〜１ｍｍである。

図４は平行維持機構の斜視図である。

平行維持機構５５はクリーンブース９０の床面に直立する柱９１に図示しない上下動機構を介して支持されている。上下動機構は図示しないアクチュエータによって上下方向へ移動できる。

平行維持機構５５はＬ字形のアーム５６ａ，５６ｂと平行バネ５７ａ，５７ｂと支持部材５８ａ，５８ｂと板材５９とを備えている。アーム５６ａ，５６ｂのそれぞれの一端は上下動機構に支持されている。アーム５６ａ，５６ｂの他端には平行バネ５７ａ，５７ｂの一端を支持する支持部材５８ａ，５８ｂがそれぞれ固着されている。

平行バネ５７ａ，５７ｂの他端は１次照射ユニット５０のステージ５２上に重ね合わせた複数の光学基板２１を加圧する板材（例えば光学基板２１より大きい正方形の板材）５９の側面にそれぞれ支持されている。

板材５９の下面とステージ５２の上面とは平行である。板材５９の中央に形成された孔５９ａには接着剤４５を硬化させるＵＶ光を導入する光ファイバ８１が挿入されている。

アーム５６ａ，５６ｂを下方へ移動させたとき、支持部材５８ａ，５８ｂが下方へ移動し、平行バネ５７ａ，５７ｂのバネ力によって板材５９が光学基板２１の上面を均一に加圧する。

図５は画像処理検査ユニットの斜視図である。

画像処理検査ユニット７０はレンズユニット７１とＣＣＤカメラ７２とを有する。ステージ７５上に載置された光学ローパスフィルタＯＬＰＦに透過照明装置（図示せず）から光を照射する。レンズユニット７１を通して得られた光学ローパスフィルタＯＬＰＦの画像はＣＣＤカメラ７２の受光面（図示せず）に結像する。

図６、７は光学ローパスフィルタの製造方法を説明する図である。

図６（ａ）は光学基板の下面に接着剤を所定量だけ供給した状態を示す図、図６（ｂ）は光学基板の周囲からはみ出した余分な接着材を整列器によって吸収した状態を示す図、図６（ｃ）は整列状態の光学基板を示す図、図６（ｄ）は光学基板の中心部にＵＶ光を照射して光学基板の中心部の接着剤だけを硬化させた状態を示す図、７（ａ）は光学基板の上面全体にＵＶ光を照射して光学基板の全面で接着剤が硬化させた状態を示す図、図７（ｂ）はＣＣＤカメラで得られた画像に基づいて光学ローパスフィルタの外観検査を行なている状態を示す図、図７（ｃ）は良品及び不良品の光学ローパスフィルタをそれぞれ所定の回収マガジンに収容した状態を示す図である。

（１）接着剤定量供給工程
まず、供給マガジン２０（図１参照）から光学基板（第１の光学基板）２１を取り出し、接着剤塗布ユニット４０で光学基板２１の下面の中心部（所定位置）に接着剤（ＵＶ光硬化型）４５を所定量だけ供給する（図６（ａ）参照）。

（２）重ね合わせ工程
接着剤４５が供給された光学基板２１を１次照射ユニット５０の昇降機構５３（図１参照）に予め載置された別の光学基板（第２の光学基板）２１上に重ね合せる。

上記作業を繰返して所定の枚数の光学基板２１を重ね合わせた後、整列器５１を用いて光学基板２１の整列を行なう。余分な接着材４５は光学基板２１の周囲からはみ出し、ぬれ性の優れた整列器５１の吸収部５２に吸収される（図６（ｂ）参照）。このとき、はみ出した接着材４５の周縁部の断面形状は表面張力によってほぼ半円形となっている。

整列器５１によって、図６（ｃ）に示すように、整列され、光学基板２１の表裏への接着材４５の回り込みが防止される。

（３）ＵＶ１次硬化工程
その後、光学基板２１の上面を平行維持機構５５（図６では板材５９だけが記載されている）を用いて均一に加圧する。このとき、接着剤４５の流動性によって光学基板２１間の平行度及び厚さが一定に保たれ、ニュートンリングの発生を防止することができる。

次に、光学基板２１の中心部にＵＶ光が照射される。ＵＶ光の照射によって接着剤４５の層の中心部だけが硬化する。

その結果、接着剤４５の層を厚みを一定に保った状態で光学基板２１が結合される（図６（ｄ）参照）。なお、接着剤４５の層の厚みを加圧力、加圧時間、接着剤４５の粘度等を変えることによって制御することができる。

（４）ＵＶ２次照射工程
次に、結合された複数の光学基板２１を２次照射ユニット６０（図１参照）へ搬送し、白抜き矢印で示すように光学基板２１の上面全体にＵＶ光を照射する。ＵＶ光の照射によって、接着剤４５による光学基板２１に生じたストレスが解放されるとともに、光学基板２１の全面で接着剤４５が硬化する。その結果、光学ローパスフィルタＯＬＰＦが完成する（図７（ａ）参照）。

（５）検査工程
その後、完成した光学ローパスフィルタＯＬＰＦを画像処理検査ユニット７０（図１参照）に搬送し、ＣＣＤカメラ７２で得られた画像に基づいて、光学ローパスフィルタＯＬＰＦの外観検査（気泡混入の有無及びニュートンリングの発生の有無）を行ない、良品と不良品とを判別する（図７（ｂ）参照）。

（６）判別工程
良品と判別された光学ローパスフィルタＯＬＰＦは良品用の回収マガジン３１に収容され、不良品と判別された光学ローパスフィルタＯＬＰＦは不良品用の回収マガジン３２にそれぞれ収容される（図７（ｃ）参照）。

次に、接着剤定量供給工程と重ね合わせ工程とを詳細に説明する。

図８は接着剤定量供給工程を説明する図である。

図８（ａ）は接着剤の光学基板の下面への供給開始時の状態を説明する図、図８（ｂ）は所定量の接着剤が光学基板の下面に供給された状態を示す図である。

接着剤定量供給工程
接着剤４５の供給は接着剤塗布ユニット４０を用いて行なわれる。

接着剤塗布ユニット４０は接着剤溜め４１と接着剤供給管４２とを備えている。

接着剤供給管４２の一端は接着剤４５を溜めておく接着剤溜め４１に接続され、他端はスペーサ９５によって保持された光学基板２１の下面中央部に位置する。

接着剤溜め４１にはエア源（図示せず）が接続され、このエア源は制御するコントローラ（図示せず）によって制御される。接着剤溜め４１は支持部材９２によって光学基板２１の上方に配置されている。接着剤４５の供給圧力及び時間を例えばそれぞれ０．０５〜０．４ＭＰａ及び０．００１〜９．９９９ｍｓの範囲で設定することができる。この接着剤塗布ユニット４０によってμｌ単位で接着剤４５の供給量を設定できる。

まず、接着剤供給管４２の他端を光学基板２１の下方から光学基板２１の下面（一方の面）に接触する直前まで近付けた後、接着剤４５を光学基板２１の下面に供給する（図８（ａ）参照）（第１工程）。このとき、供給する接着剤４５の頂点の曲率を小さくすることができ、気泡の発生を防止できる。

その後、所定量に達するまで接着剤４５を光学基板２１の下面に供給する。このとき、接着剤４５は山形形状になる（図８（ｂ）参照）。その形状は接着剤の表面張力及び密度によって変化する。

図９は重ね合わせ工程を説明する図である。

図９（ａ）は所定量の接着剤が光学基板の下面に供給された状態を示す図、図９（ｂ）は接着剤の頂点が光学基板に接触した状態を示す図、図９（ｃ）は接着剤に作用する表面張力によってその形状が安定した状態を示す図、図９（ｄ）は光学基板間の距離が所定値に達した状態を示す図、図９（ｅ）は接着剤が光学基板の全面に行き渡った状態を示す図である。

第１工程の後、接着剤４５が供給された光学基板２１（図９（ａ）参照）を、ホルダ１０（図２参照）を用いて、接着剤４５の頂点が光学基板２１の下方に位置する光学基板２１の上面に接触するまで、光学基板２１ａに近付け（移動速度１ｍｍ／ｓｅｃ程度）、接着剤４５の頂点が光学基板２１ａに接触した時点で光学基板２１の移動を停止させる（図９（ｂ）参照）（第２工程）。

このとき、接着剤４５の頂点の曲率が小さいため、気泡の発生が防止される。

接着剤４５の粘度、供給量等に応じて、ホルダ１０の移動量が予め設定されており、接着剤４５の頂点が光学基板２１ａに接触した時点で光学基板２１の移動を停止させることが可能である。

第２工程の後、光学基板２１の移動停止時点から所定時間（１ｓｅｃ程度）経過するまで待機し、接着剤４５に作用する表面張力によってその形状の安定を図る（図９（ｃ）参照）（第３工程）。

第３工程の後、再び光学基板２１を光学基板２１ａに近付け、光学基板２１と光学基板２１ａとの距離が所定値（０．５ｍｍ程度）に達した時点（図９（ｄ）参照）でホルダ１０から光学基板２１を離し、所定時間（３〜１０ｓｅｃ程度）放置する(第４工程)。

このとき、接着剤４５と光学基板２１との境界面（接着剤４５と光学基板２１ａとの境界面）に作用する界面張力によって光学基板２１と接着剤４５（光学基板２１ａと接着剤４５）との間（貼り合わせ面）から空気を排除しながら接着剤４５が光学基板２１の全面に行き渡る（図９（ｅ）参照）。

その結果、光学基板２１と接着剤４５（光学基板２１ａと接着剤４５）との間に残留する気泡が除去され、ニュートンリングの発生が阻止される。また、接着剤４５と光学基板２１との境界面（接着剤４５と光学基板２１ａとの境界面）に作用する界面張力によって光学基板２１同士が接近し過ぎることがないので、ニュートンリングの発生を防止することができる。

この実施形態によれば、光学基板２１の貼り合わせ時において、貼り合わせ面に気泡が残留せず、ニュートンリングの発生を防止でき、歩留まりが向上する。

また、光学基板２１の間からはみ出した接着剤４５は整列器５１の吸収部５２によって吸収されるため、光学基板２１の表裏への接着材４５の回り込みに起因する光学性能の劣化を防止を防止できる。

なお、上記実施形態では光学部品として光学ローパスフィルタを例示したが、この発明の適用対象はこれに限るものではなく、レンズやプリズム等の光学部品にも及ぶ。

図１はこの発明の一実施形態に係る光学部品製造装置の構成を説明する平面図である。図２はホルダの拡大斜視図である。図３は整列器の斜視図である。図４は平行維持機構の斜視図である。図５は画像処理検査ユニットの斜視図である。図６は光学ローパスフィルタの製造方法を説明する図である。図７は光学ローパスフィルタの製造方法を説明する図である。図８は接着剤定量供給工程を説明する図である。図９は重ね合わせ工程を説明する図である。

符号の説明

５コントローラ（光学基板制御手段）
１０ホルダ（保持手段）
２１，２１ａ光学基板
４０接着剤供給ユニット（接着剤供給手段）
４５接着剤
５１整列器（整列手段）
５２吸収部
ＯＬＰＦ光学ローパスフィルタ（光学部品）

Claims

第１の光学基板を保持する保持手段と、
この保持手段によって保持された前記第１の光学基板をこの基板と対向する第２の光学基板に対して上下方向へ相対移動させる移動手段と、
前記第１の光学基板の一方の面の所定位置に接着剤を供給する接着剤供給手段と、
前記接着剤供給手段によって前記第１の光学基板の一方の面に供給されて山形になった前記接着剤の頂点が前記第１の光学基板の下方に位置する前記第２の光学基板の上面に接触するまで前記移動手段によって前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記接着剤の頂点が前記第２の光学基板に接触した時点で前記第１の光学基板の移動を停止させ、その時点から所定時間経過後、再び前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記第１の光学基板と前記第２の光学基板との距離が所定値に達した時点で前記保持手段による前記第１の光学基板の保持状態を解除する光学基板制御手段と
を備えていることを特徴とする光学部品の製造装置。
前記重なり合った前記第１、第２の光学基板の周囲に突き当てて、それらの基板を整列させるとともに、前記第１、第２の光学基板間からはみ出た前記接着剤の一部を吸収する櫛の歯状の吸収部を有する整列手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の光学部品の製造装置。
保持手段によって保持された第１の光学基板の一方の面の所定位置に接着剤を供給する第１工程と、
この第１工程の後、前記第１の光学基板の一方の面に供給されて山形になった前記接着剤の頂点が前記第１の光学基板の下方に位置する第２の光学基板の上面に接触するまで前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記接着剤の頂点が前記第２の光学基板に接触した時点で前記第１の光学基板の移動を停止させる第２工程と、
この第２工程の後、前記第１の光学基板の移動停止時点から所定時間経過するまで待機する第３工程と、
この第３工程の後、再び前記第１の光学基板を前記第２の光学基板に近付け、前記第１の光学基板と前記第２の光学基板との距離が所定値に達した時点で前記保持手段による前記第１の光学基板の保持状態を解除し、所定時間放置する第４工程と
を含むことを特徴とする光学部品の製造方法。
前記第４工程の後、櫛の歯状の吸収部を有する整列手段を前記重なり合った前記第１、第２の光学基板の周囲に突き当てて、それらの基板を整列させるとともに、前記第１、第２の光学基板間からはみ出た前記接着剤の一部を吸収させることを特徴とする請求項３記載の光学部品の製造方法。
前記第１工程で、前記第１の光学基板の一方の面を下に向け、その光学基板の下方から前記接着剤を供給することを特徴とする請求項３又は４記載の光学部品の製造方法。