JP2006066386A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

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Abstract

【課題】 プラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】 背面基板と、背面基板から離隔されて配置された前面基板と、前面基板と背面基板との間に配置され、放電セルを区画する隔壁と、放電セルを横切って延び、X電極及びY電極をそれぞれ備える維持電極対と、対をなすX電極とY電極との間に配置される中間電極と、維持電極対及び中間電極を覆うように形成され、対をなすX電極とY電極との間に溝が形成されている第1誘電体層と、維持電極対及び中間電極と交差するように、放電セルを横切って延びるアドレス電極と、アドレス電極を覆うように形成された第2誘電体層と、放電セル内に配置された蛍光体層と、放電セル内にある放電ガスと、を備えるプラズマディスプレイパネル。これにより、発光効率が向上し、放電開始電圧が低下したPDPを提供できる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:以下、PDP)に関する。
近来に、従来の陰極線管ディスプレイ装置に替わるものとして注目されているPDPは、複数個の電極が形成された2枚の基板の間に放電ガスが封入された後、放電電圧が加えられ、これによって発生する紫外線により所定のパターンに形成された蛍光体が励起されて、所望の画像を得る装置である。
一般的な交流型PDP10は、図1に示すように、上板50と、それと平行に結合される下板60とを備える。上板50の前面基板11には、X電極31とY電極32とが対をなす維持電極対12が配置されており、前面基板11に対向する背面基板21上には、アドレス電極22が、前面基板11の電極31、32と交差するように配置されている。前面基板11と、背面基板21との各面には、各電極を埋め込むように、それぞれ第1誘電体層15及び第2誘電体層25が形成されている。第1誘電体層15の背面には、通常MgOから形成された保護層16が形成され、第2誘電体層25の全面には、放電距離を維持し、かつ放電セル70間の電気的光学的クロストークを防止する隔壁30が形成されている。この隔壁30の両側面と、隔壁30が形成されていない第2誘電体層25の全面には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の蛍光体26が塗布されている。X電極31とY電極32それぞれは、透明電極31a、32a及びバス電極31b、32bを備える。このように配置された1対のX電極31及びY電極32と、それと交差するアドレス電極22とによってなされる空間が、単位放電セル70として一つの放電部を形成する。
このような形状を持つPDP10では、放電領域を広げるためには、X電極31とY電極32との距離が長くなるように配置せねばならない。X電極31とY電極32との距離が長い場合、放電空間が広がって、放電が活発に発生するためである。しかし、X電極31とY電極32との距離が長くなる場合、放電開始電圧が上昇するために、電力消費が増加するという問題点がある。
本発明は、前記のような問題点を解決するために、放電空間が拡大されて発光効率が向上するだけでなく、放電開始電圧が低下したPDPを提供することを目的とする。
また本発明は、放電セル内で輝度の均一性が向上したPDPを提供することを他の目的とする。
前記のような目的及びその他の目的を達成するために、本発明は、背面基板と、前記背面基板から離隔されて配置された前面基板と、前記前面基板と背面基板との間に配置され、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルを横切って延び、X電極及びY電極をそれぞれ備える維持電極対と、前記対をなすX電極とY電極との間に配置される中間電極と、前記維持電極対及び前記中間電極を覆うように形成され、前記対をなすX電極とY電極との間に溝が形成されている第1誘電体層と、前記維持電極対及び前記中間電極と交差するように、前記放電セルを横切って延びるアドレス電極と、前記アドレス電極を覆うように形成された第2誘電体層と、前記放電セル内に配置された蛍光体層と、前記放電セル内にある放電ガスと、を備えるPDPを提供する。
本発明において、前記第1誘電体層の厚さDに対する前記溝の深さHの相対比H/Dは、0.15ないし0.45であることが望ましい。
本発明によれば、X電極とY電極との間に配置された中間電極と、X電極との間で放電が開始されるために、放電開始電圧が低下したPDPが提供される。また、前記PDPで、X電極とY電極との距離が長くなるように配置できるので、放電空間が広がって放電が円滑に行われる。したがって、発光効率が向上する。
また、本発明によれば、X電極とY電極との間の第1誘電体層に形成された溝によって、放電セル内の輝度が均一になり、放電電圧が低下したPDPが提供される。
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施形態について詳細に説明する。
図2及び図3を参照すれば、本発明の望ましい一実施形態による交流型PDP100が図示されている。ただし、図3は、説明の便宜のために上板150が90°回転した状態を表す。
図示されたように、PDP100は、上板150と、それと平行に結合される下板160とを備え、上板150に備えられた前面基板111と下板160に備えられた背面基板121との間には、隔壁130によって複数個の放電セル170が区画されている。隔壁は、放電セル170間の電気的光学的クロストークを防止する機能を行い、本実施形態で、隔壁130は、四角形の横断面持つ放電セル170を区画する。しかし、隔壁130は、複数の放電空間を形成できるかぎり、多様なパターンの隔壁、例えば、ストライプのような開放型隔壁はもとより、ワッフル、マトリックス、デルタのような閉鎖型隔壁であってもよい。また、閉鎖型隔壁は、放電空間の横断面が、三角形、四角形、五角形などの多角形、または円形、楕円形などに形成できる。
前面基板111には、複数の維持電極対112が配置されている。この時、前面基板111は、ガラスを主材料とした透明な材料から形成されることが一般的である。
維持電極対112は、維持放電を引き起こすために、前面基板111の背面に形成された1対の維持電極131、132を意味し、前面基板111には、このような維持電極対112が所定の間隔で平行に配列されている。この維持電極対112のうち、一つの維持電極はX電極131であり、他の維持電極はY電極132である。本実施形態では、維持電極対112が前面基板111の背面に配置されるが、維持電極対の配置位置はこれに限定されない。例えば、維持電極対は、前面基板の背面から所定の間隔で離隔されて配置可能である。ただし、維持電極対は、前面基板からの距離が同じとなるように配置されることが望ましい。
X電極131及びY電極132のそれぞれは、透明電極131a、132a及びバス電極131b、132bを具備している。透明電極131a、132aは、放電を引き起こす導電体でありつつ、かつ蛍光体126から放出される光が前面基板111に進むことを妨害しない透明な材料で形成されるが、このような材料としては、ITO(Indium Tin Oxide)などがある。しかし、前記ITOのような透明な導電体は、一般的にその抵抗が大きく、したがって、透明電極のみで維持電極を形成すれば、その長手方向への電圧降下が大きくて、駆動電力が多く消費され、かつ応答速度が遅くなるところ、これを改善するために、前記透明電極上には金属材質から形成され、かつ狭い幅で形成されるバス電極131b、132bが配置される。バス電極は、Ag、AlまたはCuのような金属を利用して単層構造で形成できるが、Cr/Al/Crなどの多層構造で形成しても構わない。このような透明電極及びバス電極は、フォトエッチング法、フォトリソグラフィ法などを利用して形成する。
対をなすX電極131とY電極132との間には、中間電極113が配置されている。中間電極113は、前面基板111の背面上に形成され、X電極131及びY電極132と平行に、放電セル170を横切って一方向に延びる。また、中間電極113は、対をなすX電極131及びY電極132から実質的に同じ距離ほど離隔されて配置されることが望ましい。
中間電極113も、透明電極113a及びバス電極113bを備える。このような中間電極131は、前面基板111からの距離が、X電極131及びY電極132から前面基板111までの距離と異なるように配置されるが、電極形成工程を同一工程で行うために、前面基板111からの距離がX電極131及びY電極132から前面基板111までの距離と同一となるように配置されることが望ましい。
前面基板111には、維持電極対112及び中間電極113を埋め込むように第1誘電体層115が形成されている。第1誘電体層115は、放電時に隣接した維持電極131、132と中間電極113との間に直接通電されることと、陽イオンまたは電子が維持電極131、132及び中間電極113に直接衝突して、それらを損傷させることを防止しつつ、電荷を誘導して壁電荷を蓄積できる誘電体から形成される。このような誘電体としては、PbO、B、SiOなどがある。
対をなすX電極131とY電極132との間の第1誘電体層115には、溝145が形成されている。溝145が第1誘電体層115に所定の深さで形成されている。溝145によって第1誘電体層115の一部が除去されているので、前方への可視光透過率が向上する。
また、本実施形態で、溝145は、台形の横断面を持つように形成されているが、これに限定されないで多様な形状を持つように形成可能である。第1誘電体層の溝145は、多様な方法によって形成できる。例えば、第1誘電体層を塗布した後、サンドブラスティングを行って溝を形成できる。または、第1誘電体層を、感光性誘電体を利用して塗布した後、フォトマスクを利用して、感光及び現像工程を行って溝を形成できる。
図2を参照すれば、溝145が、X電極131とY電極132との間に放電セル170を横切って延びるように形成されている。この場合、溝145は、排気工程時に放電空間に満たされている不純ガスの排気路を提供し、封入工程時に放電ガスの流入路を提供できる。なお、図4に示すように、溝145は、溝145’であっても良い。第1誘電体層115’に形成された溝145’は、放電セル170毎に不連続的に形成される。溝の形状は、前述したものに限定されない。
溝145によって、X電極131とY電極132間の放電経路が短くなり、この部分に電場が強く発生するために、電子及びイオンの密度が高くなる。したがって、溝145内で強いプラズマ放電が発生する。特に、溝の深さHがさらに深くなるにつれて、X電極とY電極との間の放電が対向放電に近似されるようになるので、対向放電の長所を持つことができる。
本発明で、第1誘電体層115の厚さDに対する溝145の深さHの相対比H/Dは、0.15ないし0.45になるように形成されることが望ましい。この時、溝145の深さは、6μmないし18μmであることが望ましい。また、放電セル170内で均一な放電が発生するように、溝145は、放電セル170に対して対称的に形成されることが望ましい。ここで、放電セル170に対して対称的に形成されるとは、例えば、放電セル170の中心を通り、X電極131とY電極132とに平行な平面に関して対象であることを意味する。また、溝145は、中間電極113を覆う第1誘電体層115の部分に形成されることが望ましい。溝145の深さHと第1誘電体層115の厚さDとの関係は、後述する。
第1誘電体層115を覆うように、保護層116が形成されている。保護層116は、放電時に陽イオン及び電子が第1誘電体層115に衝突して、第1誘電体層115が損傷することを防止する。また、保護層116は、放電時に2次電子を多量に放出して、プラズマ放電を円滑にする。このような機能を行う保護層116は、2次電子放出係数が高く、可視光透過率の高い物質を利用して形成される。
保護層116は、第1誘電体層上にMgOを含む物質を薄膜で形成する。このような保護層116は、上板150の他の工程が完了した後に、主にスパッタリング、電子ビーム蒸着法で形成される。
背面基板121の前面には、単位放電セル170でX電極131、Y電極132及び中間電極113と交差するアドレス電極122が配置されている。アドレス電極122は、X電極131とY電極132との間の維持放電をさらに容易にするためのアドレス放電を引き起こすためのものであり、さらに具体的には、維持放電が引き起こるための電圧を低める役割を行う。アドレス放電は、中間電極132とアドレス電極122との間で引き起こる放電である。
このように配置された1対のX電極131、Y電極132及び中間電極113と、これと交差するアドレス電極122とによってなされる空間が、単位放電セル170として一つの放電部を形成する。
背面基板121上には、アドレス電極122を埋め込むように第2誘電体層125が形成されている。第2誘電体層125は、放電時に陽イオンまたは電子がアドレス電極122に衝突してアドレス電極122を損傷させることを防止しつつ、電荷を誘導できる誘電体として形成される。このような誘電体としては、PbO、B、SiOなどがある。
放電セル170を区画する隔壁130間の第2誘電体層125の全面には、R色発光、G発光、B発光蛍光体層126が形成されている。また、隔壁130の側面にも、各放電セルに該当するR発光、G発光、B発光蛍光体層126が形成されている。
このような蛍光体層126は、紫外線を受けて可視光線を発生する成分を持つが、R放電セルに形成されたR発光蛍光体層は、Y(V,P)O:Euのような蛍光体を含み、G放電セルに形成されたG発光蛍光体層は、ZnSiO:Mnのような蛍光体を含み、B放電セルに形成されたB発光蛍光体層は、BAM:Euのような蛍光体を含む。
また、前記放電セル170には、ネオン(Ne)、キセノン(Xe)などが混合された放電ガスが満たされ、前記のように放電ガスが満たされた状態で、前面基板及び背面基板111、121のエッジに形成されたフリットガラスのような密封部材により、前面基板及び背面基板111、121が互いに封合されて結合される。
本発明の一実施形態によるPDP100を備えるプラズマディスプレイ装置200は、図5に示すように、前述したPDP100、映像処理部256、論理制御部262、アドレス駆動部223、X駆動部224、Y駆動部225及びM駆動部226を含む。図5には、複数のラインを形成するX電極131、Y電極132及び中間電極113が図示されている。
図面を参照すれば、Y電極132は、前面基板111の一側に互いに離隔されて延びつつ、エッジ部分で互い連結される。PDP100の駆動時、Y電極132には同じ電気的信号が印加されるために、Y電極132は、電気的に共通に連結される。X電極131も、Y電極132と類似して、共通の信号が印加されるために、電気的に共通に連結される。しかし、中間電極113には、それぞれ独立的な信号が印加されるために、中間電極113は互い離隔されて延びつつ、中間電極駆動部226に連結される。
ここでの単位放電セル170において、各電極113、122、131、132の実質的な配置位置及び形状は、前述した図2及び図3の中間電極113、アドレス電極122、X電極131及びY電極132と同一である。
映像処理部256は、外部アナログ映像信号をデジタル信号に変換して内部映像信号、例えば、それぞれ8ビットのR、G、B映像データ、クロック信号、垂直及び水平同期信号を発生させる。論理制御部262は、映像処理部256からの内部映像信号によって、駆動制御信号S、S、S、Sを発生させる。
図5及び図6で、参照符号Sは、アドレス電極122に印加される駆動信号を、Sは、X電極131に印加される駆動信号を、Sは、X電極132に印加される駆動信号を、Sは、中間電極113に印加される駆動信号を示す。
アドレス駆動部223は、論理制御部262からの駆動制御信号S、S、S、Sのうち、アドレス駆動信号Sを処理してディスプレイデータ信号を発生させ、発生したディスプレイデータ信号をアドレス電極122に印加する。X駆動部224は、論理制御部262からの駆動制御信号S、S、S、Sのうち、X駆動制御信号Sを処理してX電極131に印加する。また、Y駆動部225は、論理制御部262からの駆動制御信号S、S、S、Sのうち、Y駆動制御信号Sを処理してY電極132に印加し、M駆動部226は、論理制御部262からの駆動制御信号S、S、S、Sのうち、M駆動制御信号Sを処理して中間電極113に印加する。
図6は、単位サブフィールドSFで、PDP100の一放電セル170に配置された電極113、122、131、132に印加される信号の波形度を示す。あらゆる単位フレームそれぞれは、時分割階調ディスプレイを実現するために、8個のサブフィールドに分割される。また、各サブフィールドSFは、リセット時間R、アドレッシング時間A、及び維持放電時間Sに分割される。
図6を参照すれば、単位サブフィールドSFのリセット時間Rには、中間電極113に上昇ランプパルスが印加されつつ放電が発生し、以後に下降ランプパルスが印加されつつ消去放電が発生して、PDP100全体にリセット放電が起きて、放電セル170全体の壁電荷状態が均一化する。これを詳細に説明すれば、アドレス電極122及びY電極132には、第1電圧Vである接地電圧が印加される。中間電極113に印加される電圧は、まず、第2電圧VSET+Vに上昇した後、第1電圧Vまで低下する。この時、X電極131には、最初に第1電圧Vが印加されつつ、中間電極113が、第2電圧VSET+Vから第1電圧Vに減少する間には、第3電圧Vの維持電圧が印加される。
各アドレッシング時間Aでは、アドレス電極122にアドレス電圧Vのディスプレイデータパルスが印加されると同時に、第3電圧Vより低い走査電圧VSCANにバイアスされた中間電極113に、第1電圧Vの走査パルスが印加される。これにより、走査パルスが印加される間に高いレベルのディスプレイデータパルスが印加されれば、アドレス放電によって壁電荷が形成される。したがって、アドレス放電の結果、X電極131、中間電極113及びY電極132には壁電荷がたまる。ただし、アドレス放電が不要な放電セルでは、ディスプレイデータパルスが印加されないために、放電セルで壁電荷が形成されない。
各維持放電時間Sでは、あらゆるX電極131及びY電極132に維持放電パルスが交互に印加されて、相応するアドレッシング時間Aに壁電荷が形成された場合に維持放電を引き起こす。この時、中間電極131及びアドレス電極122は、それぞれ第3電圧V及び第1電圧Vにバイアスされる。
前記の維持放電が始まる時、陰極性の壁電荷がたまったX電極131に第1電圧Vが印加され、正極性の壁電荷がたまった中間電極113に第3電圧Vが印加されるために、相対的に距離の近いX電極131と中間電極113との間で放電が始まる。したがって、近い距離に配置された電極113、131の間で放電が始まるために、放電開始電圧が低下する。X電極131と中間電極113との間で放電が発生した後には、放電領域がY電極132まで拡大されて、X電極131とY電極132との間に維持放電が活発に発生する。この時、Y電極132及びX電極131に、第1電圧V及び第3電圧Vが交互に印加されつつ、維持期間の間に所定の階調を表示する維持放電が連続的に引き起こるので、画像が具現される。特に、X電極131と中間電極113との間で低い電圧で開始されるために、X電極131とY電極132との距離が長くなるように配置できる。この場合、放電空間が広がる効果を奏するために、放電が活発に発生し、発光効率が向上する。結局、X電極131、中間電極113及びY電極132間の維持放電によって、放電開始電圧が低下し、発光効率が向上する効果を持つ。維持放電時に励起された放電ガスのエネルギー準位が低くなりつつ、紫外線が放出される。そして、この紫外線が放電セル170内に塗布された蛍光体層126を励起させるが、この励起された蛍光体層126のエネルギー準位が低くなりつつ可視光が放出され、この可視光が第1誘電体層115及び前面基板111を透過して出射されつつ、ユーザが認識できる画像を形成する。
PDP100の輝度は、単位フレームSFで占める維持放電時間Sの長さに比例する。単位フレームで占める維持放電時間Sの長さは、255T(Tは、単位時間)である。この時、あらゆる単位フレームそれぞれは、時分割階調表示を実現するために、8個のサブフィールドSF、SF、SF、SF、SF、SF、SF、SFに分割される。ここで、第1サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間1Tが、第2サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間2Tが、第3サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間4Tが、第4サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間8Tが、第5サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間16Tが、第6サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間32Tが、第7サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間64Tが、そして、第8サブフィールドSFの維持放電時間には2に相応する時間128Tが、それぞれ設定される。これにより、8のサブフィールドのうちディスプレイされるサブフィールドを適切に選択すれば、いかなるサブフィールドでもディスプレイされない0(ゼロ)階調を含んで、総256階調のディスプレイが行われる。
前記のPDP100の維持放電時間Sで、放電セル170内の位置による輝度の分布の一例が、図7に図示されている。図7は、維持電極対112が延びる方向に対する垂直断面で、X方向に沿って測定された輝度である。図示されたように、プラズマ放電がX電極131とY電極132との間の部分で最も活発に発生するために、前記部分の輝度が高い。また、電極113、131、132の形状及び配置が対称構造を持つために、輝度の分布は、x方向に対して対称的となる。なお、X電極131とY電極132との間に中間電極113が配置されているために、中間電極113が配置された部分で、中間電極113による透過率の減少により輝度が減少するという問題点がある。たとえ、中間電極の透明電極113aが透過率の優秀なITOで形成されたとしても、透明電極113aも可視光透過率面でよくなく、バス電極113bの場合、可視光透過率が非常に低いからである。このような放電セル170内での輝度不均衡は、画像の質を低下させる原因となる。
ところが、本発明では、中間電極113を覆う第1誘電体層115に溝145が形成されているために、中間電極113による透過率減少が補正される効果を持つ。このような透過率減少の補正は、主に2つの原理により発生する。第1に、中間電極113を覆う第1誘電体層115に形成された溝145によって、第1誘電体層115が薄くなるので、この部分の透過率が向上する効果を持つ。第2に、溝145が形成された部分で電場が強く発生し、空間電荷などのプライミング粒子の密度が高いために、プラズマ放電が活発に発生し、この部分の輝度が向上する効果を持つ。特に、溝145の深さHがさらに深くなるにつれて、X電極131とY電極132との間で対向放電効果も生じるために、プラズマ放電がさらに活発になる。ただし、溝145の深さHが過度に深くなる場合、第1誘電体層115の厚さDが薄くなって、放電時に第1誘電体層115が破損するという問題点が発生する。したがって、第1誘電体層115の厚さDと溝の深さHとの相関関係が、放電セル170の均一な輝度及び第1誘電体層115の損傷防止を実現するための主要なパラメータとなる。
本発明では、前記パラメータの無次元数である、第1誘電体層の深さDに対する溝の深さHの相対比H/Dをパラメータとして、放電セルの輝度偏差を測定した。この時、中間電極113、X電極131及びY電極132の透明電極113a、131a、132aの幅Aは約120μmであり、第1誘電体層の厚さDは40μmである。また、溝145の最大幅Lは130μmである。本実験は、第1誘電体層の厚さDを一定に維持しつつ、溝145の深さHを0ないし20μmに変化させつつ測定した結果である。また、本実験で、輝度偏差(G−G)は、中間電極113とX電極131(または、Y電極132)との間で実質的に一定に維持される輝度(以下では、第1輝度Gという)と、中間電極113が配置される放電セル170の中央部分での輝度(以下では、第2輝度Gという)との差(G−G)で定義される。もし、輝度偏差(G−G)が正の値を持てば、第1輝度Gが第2輝度Gより大きいことを意味し、輝度偏差が負の値を持てば、第1輝度Gが第2輝度Gより小さなことを意味する。したがって、均一な輝度を持つ放電セルの場合、輝度偏差(G−G)の絶対値
Figure 2006066386
が所定の範囲内に位置せねばならないが、輝度偏差の絶対値
Figure 2006066386
が6cd以下であることが望ましい。
図8を参照すれば、相対比H/D0.15ないし0.45で、輝度偏差の絶対値
Figure 2006066386
が6cd以下であることが分かる。ここで、相対比H/Dが0である場合は、溝が形成されていない場合を意味するが、輝度偏差の絶対値
Figure 2006066386
が10cdと非常に大きいことが分かる。また、実験結果、相対比H/Dが0.45を超過する場合、第1誘電体層115が損傷する現象が発見された。したがって、放電セル170の輝度を均一にし、第1誘電体層115の損傷を減らすためには、相対比H/Dが0.15ないし0.45であることが望ましい。
図9は、相対比H/Dによる維持放電電圧Vを表す。図示されたように、相対比H/Dが増加するにつれて、維持放電電圧Vが低下することを確認できる。特に、相対比H/Dが0.15以上である時、維持放電電圧Vが相対的に低いことを確認できる。
本発明は、図面に図示された実施形態を参考と説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
本発明のPDPを採用すれば、発光効率が向上し、放電開始電圧が低下したPDPを製造できる。
一般的なPDPの部分切開分離斜視図である。 本発明の一実施形態によるPDPの分離斜視図である。 図2のIII−III線の断面図であり、上板が90°回転した状態を示す図面である。 図2に図示された上板の他の実施形態を示す斜視図である。 図2のPDPを備えるプラズマディスプレイ装置を示すブロック図である。 単位サブフィールドで、図2のPDPの一放電セルに配置された電極に印加される信号の波形図である。 図6の維持放電時間Sで、放電セル内の位置による輝度の分布の一例を示す図面である。 第1誘電体層の深さDに対する溝の深さHの相対比H/Dによる輝度偏差を測定したグラフである。 第1誘電体層の深さDに対する溝の深さHの相対比H/Dによる維持放電電圧を測定したグラフである。
符号の説明
100 交流型PDP
111 前面基板
112 維持電極対
113 中間電極
113a、131a、132a 透明電極
113b、131b、132b バス電極
115 第1誘電体層
116 保護層
121 背面基板
122 アドレス電極
125 第2誘電体層
126 蛍光体
130 隔壁
131 X電極
132 Y電極
145 溝
150 上板
160 下板
170 放電セル

Claims (11)

  1. 背面基板と、
    前記背面基板から離隔されて配置された前面基板と、
    前記前面基板と背面基板との間に配置され、放電セルを区画する隔壁と、
    前記放電セルを横切って延び、X電極及びY電極をそれぞれ備える維持電極対と、
    前記対をなすX電極とY電極との間に配置される中間電極と、
    前記維持電極対及び前記中間電極を覆うように形成され、前記対をなすX電極とY電極との間に溝が形成されている第1誘電体層と、
    前記維持電極対及び前記中間電極と交差するように、前記放電セルを横切って延びるアドレス電極と、
    前記アドレス電極を覆うように形成された第2誘電体層と、
    前記放電セル内に配置された蛍光体層と、
    前記放電セル内にある放電ガスと、を備えるプラズマディスプレイパネル。
  2. 前記第1誘電体層の厚さDに対する前記溝の深さHの相対比H/Dは、0.15ないし0.45であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  3. 前記溝の深さHは、6μmないし18μmであることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  4. 前記溝は、前記放電セルに対して対称の形状を持つように形成されたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  5. 前記維持電極対と前記中間電極とは、前記前面基板からの距離が同じとなるように配置されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  6. 前記維持電極対と前記中間電極とは、前記前面基板の背面に配置されることを特徴とする請求項5に記載のプラズマディスプレイパネル。
  7. 前記第1誘電体層を覆う保護層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  8. 前記溝は、前記放電セルごとに不連続的に形成されたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  9. 前記溝は、前記放電セルを横切って形成されたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  10. 前記中間電極は、前記対をなすX電極とY電極とから実質的に同じ距離ほど離隔されて配置されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
  11. 前記溝は、前記中間電極を覆う前記第1誘電体層部分に形成されたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
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