JP2006064992A - 液晶基板保持盤とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基体上面に透明または半透明の液晶基板を保持する支持面と、該支持面よりも下がった非支持面とを有する液晶基板保持盤において、上記基体の比剛性が80GPa・cm3/g以上の黒色系セラミックスから形成されるとともに、上記支持面の算術平均粗さが1.2μm以下で、且つ非支持面に樹脂膜を被覆したことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
a*:+側は赤、−側は緑、0は無彩色を表し、絶対値が大きいほど彩度が高くなる
b*:+側は黄、−側は青、0は無彩色を表し、絶対値が大きいほど彩度が高くなる
液晶基板6への露光の際に使用される照射光としては、紫外線領域の照射光を用いることが多く、一般的に、紫外線領域400nm以下の波長領域で考えれば良いが、安全を見ると、450nmまでの波長領域の照射光が含まれることがあり、450nm以下の照射光で、全反射率が10%以下となることが望まれ、液晶基板6において、ピンボケは発生しない。
91重量%のAl2O3に、黒色とするため、Fe2O3:0.7重量%、MnO2:4.7重量%、CoO:1.6重量%、TiO2:0.8重量%の焼結助剤として添加し、さらにSiO2やMgOを添加して湿式にて混合し、スプレードライヤーを用いて噴霧乾燥を行った。その後、湿式状態にて混合、粉砕したあと、スプレードライヤーを用いて噴霧乾燥・造粒を行い、2次原料を作製する。得られた2次原料は、CIP成形にて80MPaの圧力にて板状体に成形した。次に1430℃の酸化雰囲気にて焼成し、アルミナ焼結体を得た後、φ100mm×15mmの円盤を製作する。
2、12…支持面
3、13… 非支持面
4、14…基体
5…液晶基板保持装置
6…液晶基板
7…樹脂膜
17…被覆層
Claims (6)
- 基体上面に透明または半透明の液晶基板を保持する支持面と、該支持面よりも下がった非支持面とを有する液晶基板保持盤において、上記基体が比剛性80GPa・cm3/g以上の黒色系セラミックスから形成されるとともに、非支持面に低反射率樹脂膜を被覆したことを特徴とする液晶基板保持盤。
- 上記基体及び上記樹脂膜の呈色は、色立体(L*,a*,b*)におけるL*が60以下であることを特徴とする請求項1記載の液晶基板保持盤。
- 上記基体がTiO2、CoO、MnO2、またはFe2O3のいずれか1種以上を含有したアルミナから形成されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶基板保持盤。
- 上記アルミナの純度が90%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の液晶基板保持盤。
- 黒色系セラミックスからなる基体を用意し、該基体の上面をブラスト加工にて、透明または半透明液晶基板を保持する支持面と非支持面を形成し、低反射率樹脂膜を基体上面に成膜し、しかる後、上記支持面の低反射率樹脂膜を除去することを特徴とする液晶基板保持盤の製造方法。
- 上記支持面の低反射率樹脂膜を除去した後に、低反射率樹脂膜の成膜温度よりも100℃以下の熱処理温度で再熱処理を行うことを特徴とする請求項5に記載の液晶基板保持盤の製造方法。
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