JP2006064692A - 流体ゲージ近接センサ、および変調された流体の流れを使用して該流体ゲージ近接センサを作動する方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明の課題は、加工品の表面上のレジストの種類または露光波長に関係なくどのような環境でも使用でき、かつ外部ノイズに対して実質的に影響を受けない流体ゲージ近接センサを提供することである。
【解決手段】前記課題は、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソース、およびノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも1つの経路が設けられており、該流体はノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする流体フロー近接ゲージによって解決される。
【選択図】図1

Description

本発明は、非常に小さい距離を検出するための装置および方法に関し、とりわけ流体の流れによって近接的にセンシングするための装置および方法に関する。
多くの自動的な製造工程において、製造ツールと加工される製品または材料の表面との間の間隔をセンシングする必要がある。このような製品または材料は、しばしば「加工品」と称される(たとえば半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ基板等)。たとえばリソグラフィ(たとえばマスクレスリソグラフィ、液浸リソグラフィ、フォトリソグラフィ等)等の幾つかの状況では、ナノメータに達する精度で間隔を測定しなければならない。
このような精度の近接センサを創り出すことに関する試みは、とりわけリソグラフィシステムの場合に有意義である。リソグラフィの場合、この近接センサは侵入型でなく、かつ非常に小さな間隔を精確に検出できることの他に、異物を侵入させることなく、または、典型的には半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ等である加工品に接触するおそれはない。これらの状況のうちどれか1つが発生するだけで、加工品が有意に劣化または破壊するおそれがある。
非常に小さな間隔を測定するために使用可能な近接センサには、種々の種類がある。近接センサの例に、容量センサおよび光学的センサがある。このような近接センサは、リソグラフィシステムで使用される場合に重大な欠点を有する。というのも、ウェハまたは基板に沈殿した材料の物理的特性が、該装置の精度に悪影響を及ぼす可能性があるからだ。たとえば、電荷の濃度に依存する容量ゲージは、1種類の材料(たとえば金属)が集中する場所で、見かけ上の近接的な測定結果を発生させることがある。また、非導電性および/または感光性の材料から成る新種のウェハが使用される場合、別の種類の問題が発生する。このような材料は、たとえば砒化ガリウム(GaAs)およびリン化インジウム(InP)である。さらに、光がウェハまたは基板の表面下の部分と相互作用することにより、別の問題が発生することもある。これによって見かけ上の反射が発生し、不所望の干渉パタンが引き起こされてしまう。また、容量センサおよび光学的センサが最適でないケースがある。
近接センシングのための択一的なアプローチでは、流体ゲージセンサが使用される。流体ゲージセンサは、基板表面の電荷濃度、または電気的特性、光学的特性および他の物理的特性の影響を受けにくい。現在の半導体製造では、近接度を高精度で、ナノメータのオーダで測定しなければならない。流体ゲージ技術は、非常に近接している表面までの間隔を測定する精確な手法となることができる。流体ゲージは、測定される材料の光学的特性または電気的特性の影響を受けにくい。間隔の精度は、ナノメータのオーダに達することがある。リソグラフィシステムでウェハまたは基板の最上面までの間隔を形成するためには、流体ゲージが使用される。
焦点の精度の要求は、プリントされるフィーチャサイズが縮小されるにつれて格段に強まってきている。流体ゲージ近接センサに関する1つの問題として、流体の流れが一定でなければならないことが挙げられる。このことは、異物および熱条件の問題にも関連する。また流体ゲージ近接センサは、低周波の外部音響干渉およびセンサのオフセットエラーにも敏感である。リソグラフィツール露光システムのステージでは、位置制御するためにしばしば干渉計が使用され、この干渉計は、異なる容量、圧力および温度の流体に影響を受けやすい。
さらに、レジストをウェハまたは基板上で使用する際には、特別な湿度要件が必要とされる。また、リソグラフィツールはそれぞれ異なる波長の光を使用するので、異なる種類の条件付きの流体が必要とされることがある。これらの要件は、流体ゲージセンサを慎重に選択し、流体ゲージセンサに供給される流体(たとえば流体、窒素、アルゴン等)を条件付けしなければならないことを意味する。比較的高性能の設計では、平衡状態のブリッジの設計が使用され、コモンモード除去によって外部音響干渉の作用が低減される。
本発明の課題は、加工品の表面上のレジストの種類または露光波長に関係なくどのような環境でも使用でき、かつ外部ノイズに対して実質的に影響を受けない流体ゲージ近接センサを提供することである。
前記課題は、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソース、およびノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも1つの経路が設けられており、該流体はノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする流体フロー近接ゲージによって解決される。
本発明の別の実施例によれば、流体ゲージシステムを通過する流体の流れを変調周波数で変調する装置と、被測定間隔を表す信号をフィルタリングするアナログまたはデジタルのハードウェアフィルタリングシステムまたはソフトウェアフィルタリングシステムと、フィルタリングされた変調周波数の信号を復調するアナログまたはデジタルのハードウェア復調システムまたはソフトウェア復調システムとを有する、リソグラフィツールに設けられた流体ゲージシステムが提供される。
本発明の別の実施形態、特徴および利点、ならびに本発明の種々の実施形態の構造および実施は、添付図面と関連して以下で詳細に説明する。
本発明が図解されている添付図面と説明とによって、本発明の基本的思想が説明されており、これらによって当業者は本発明を活用することができる。
ここで本発明を、図面と関連して説明する。図面では、同様の参照番号は同一または同機能の要素を指すことがある。さらに参照番号の最も左の(複数の)数字は、該参照番号が最初に現れる図面を指す。
ここでは本発明を、特定の適用事例に対する実施例と関連して説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されないことを理解すべきである。ここで提供された思想を当業者が読めば、本発明の範囲内で別の付加的な修正、適用および実施形態を認識し、本発明を活用できる別の付加的な領域を認識することができる。
本発明の1つの実施形態によれば、流体ゲージ近接センサを使用するシステムおよび方法が提供される。変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソースが、ノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも1つの経路に沿って案内される。流体は、ノズルとターゲットとの間のギャップに存在する。該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力する。
1つの実施例では、変調された流体は1つのターゲット(たとえば測定表面)のみと相互作用する。別の実施例では、変調された流体はターゲットおよび基準と相互作用する。
振幅変調された信号は、デジタル処理されるか、またはアナログ装置で処理される。ここでは、変調周波数および該変調周波数のいずれか一方の側に十分な帯域幅を含むようにフィルタリング(たとえば帯域通過フィルタ、帯域制限フィルタ、高域通過フィルタ等)すること、および/または、音響的ドライバの変調周波数で動作する復調器を使用して復調することも含むことができる。
流量センサまたは圧力センサは、流体の流れをシングルエンドまたは差動式で検出するために使用される。1つの実施例では、流量センサまたは圧力センサは合成ブリッジの一部とされる。別の実施例では、流量センサまたは圧力センサは対称的ブリッジの一部とされる。いずれの実施例でも、該少なくとも1つの経路にリストリクタを設けることができる。
本システムおよび本方法を使用すると、実際には装置動作に干渉するおそれのある装置の所望の周波数範囲に、周辺の音響エネルギーのみが得られる。このことによって、外部音響ノイズおよびセンサオフセットに対する装置全体の敏感度が低減される。
本願の記載では、「流体」は概して、すべての粘性の材料、たとえば空気、気体、液体等を指すのに使用される。しかし、これらの例に制限されない。
本構成を使用すると、条件付けされた流体ソースを使用する必要が実質的になくなり、低周波の外部音響妨害およびセンサのオフセットエラー双方に対するセンサの敏感度が低減される。
流体ゲージ近接センサ
図1に、本発明の1つの実施形態による流体ゲージ近接センサ100が示されている。流体ゲージ近接センサ100は、質量流量コントローラ106と、中央流路112と、測定流路116と、基準流路118と、測定流路リストリクタ120と、基準流路リストリクタ122と、測定プローブ128と、基準プローブ130と、ブリッジ流路136と、質量流量センサ138とを有する。流体供給部102は、流体を所望の圧力で、流体ゲージ近接センサ100へ噴射する。
中央流路112は流体供給部102と質量流量コントローラ106とを連通し、接合部114(たとえば流体分流部または流体方向決定部)を終端とする。質量流量コントローラ106は、流体ゲージ近接センサ100内部における流速を一定に維持する。流体は、質量流量コントローラ106から有孔のスナバ110を介して、流路112に付加されたアキュムレータ108によって押出される。スナバ110は、流体供給部102によって引き起こされた流体の乱流を低減し、このスナバ110の使用はオプションである。設けられたスナバ110にしたがって、流体は中央流路112を介して接合部114へ通流する。中央流路112は接合部114を終端とし、測定流路116と基準流路118とに分割される。1つの実施形態では、質量流量コントローラ106は十分に低い速度で流体を噴射することにより、該システム全体にわたって非圧縮性の流体の層流を形成し、不所望の空気のノイズの生成が最小になる。
ブリッジ流路136が、測定流路116と基準流路118との間に結合されている。ブリッジ流路136は、測定流路116と接合部124で連通されており、基準流路118と接合部126で連通されている。1つの実施形態では、接合部114と接合部124との間の間隔および接合部114と接合部126との間の間隔は等しくなっている。別の実施形態を異なる配置で実現することも考えられる。
流体ゲージ近接センサ100内のすべての流路を、流体が通流することができる。流路112,116,118および136は、導管(たとえばチューブ、パイプ等)から形成できる。または、流体の流れを含んでセンサ100を案内する種類であれば、どの種類の構造からでも形成することができる。これは、通常の当業者であれば理解できる。大抵の実施形態では流路112,116,118および136は、たとえば局所的な乱流または流れの不安定性を起こすことによって空気のノイズを引き起こす可能性のある屈曲部も凹凸も、不要な障害物も有してはならない。種々の実施形態では、測定流路116および基準流路118の全長は等しいか、または等しくない。
基準流路118は、基準プローブ130の近傍を終端とする。それと同様に、測定流路116は測定プローブ128の近傍を終端とする。基準プローブ130は基準表面134の上方に位置づけられ、測定プローブ128は測定表面132の上方に位置づけられる。リソグラフィの場合には測定表面132は、半導体ウェハまたはフラットパネルディスプレイ基板であるか、または基板を支持するステージである。基準表面134は扁平な金属板とすることができるが、この例に制限されない。
ノズルが測定プローブ128および基準プローブ130に設けられる。ノズルの一例が以下に、図3および4と関連して記載されている。流体供給部102によって噴射された流体は、プローブ128および130に設けられたノズルから放出され、測定表面132および基準表面134に衝突する。
上記のように、ノズルと相応の測定表面または基準表面との間の間隔は、スタンドオフとも称される。
1つの実施形態では基準プローブ130は、固定された基準表面134の上方に既知の基準スタンドオフ142をもって位置づけされる。測定プローブ128は、測定表面132の上方に未知の測定スタンドオフ140をもって位置づけされる。既知の基準スタンドオフ142は、所望の一定の値に設定される。この一定の値は、最適なスタンドオフとすることができる。このような配置では、測定プローブ128の上流側の逆圧が未知の測定スタンドオフ140の関数であり、基準プローブ130の上流側の逆圧が既知の基準スタンドオフ142の関数である。
スタンドオフ140および142が等しい場合、構成は対称的であり、ブリッジは平衡状態にある。したがって、ブリッジ流路136を通流する流体の流れは存在しない。他方で、測定スタンドオフ140と基準スタンドオフ142とが異なる場合、その結果として測定流路116と基準流路118との間に発生した圧力差によって、質量流量センサ138を通流する流体の流れが引き起こされる。
質量流量センサ138はブリッジ流路136に沿って配置され、中央の位置に配置することができる。質量流量センサ138は、測定流路116と基準流路118との間の圧力差によって引き起こされた流体の流れを感知する。このような圧力差は、測定表面132の垂直方向の位置付けが変化した結果として発生する。
対称的なブリッジが設けられる実施例では、測定スタンドオフ140および基準スタンドオフ142は等しくなっている。測定流路116と基準流路118との間に圧力差が存在しないので、質量流量センサ138は質量流量を検出しない。他方で、測定スタンドオフ140の値と基準スタンドオフ142の値との間に差が存在すれば、どのような差であっても、測定流路116と基準流路118との間に差圧が発生する。有利なオフセットを使用して非対称的な配置を実現することができる。
質量流量センサ138は、圧力差または非平衡状態によって引き起こされた流体の流れを感知する。圧力差によって、測定スタンドオフ140のユニークな関数である速度を有する流体の流れが引き起こされる。換言すれば、流体ゲージ100へ流入する流れの流速が一定であると仮定すると、測定流路116の流体圧力と基準流路118の流体圧力との間の差が、スタンドオフ140とスタンドオフ142との間の大きさの差の関数である。基準スタンドオフ142が既知のスタンドオフに設定されていれば、測定流路116の流体圧力と基準流路118の流体圧力との間の差が、測定スタンドオフ140(すなわち、測定表面132と測定プローブ128との間のz方向の未知のスタンドオフ)の大きさの関数である。
質量流量センサ138は、いずれか一方向にブリッジ流路136を流れる流体の流れを検出する。ブリッジの構成に起因して、流路116と流路118との間に圧力差が発生した場合のみ、流体の流れがブリッジ流路136に発生する。圧力が非平衡状態にある場合、質量流量センサ138はその結果である流体の流れを検出し、適切な制御機能が開始される。この適切な制御機能は、システム100の相応の部分に接続されたオプションのコントローラ150を使用して行われる。質量流量センサ138は、視覚的なディスプレイまたは聴覚的な指示によって、感知された流れの指示を供給する。これは、オプションの出力装置152を使用することによって行うことができる。
択一的に、質量流量センサの代わりに差圧センサ(図示されていない)を使用することができる。差圧センサは、2つの流路間の圧力の差を測定する。この圧力の差は、測定スタンドオフと基準スタンドオフとの間の差の関数である。
オプションのコントローラ150における制御機能はたとえば、精確なギャップ差を計算することである。別の実施形態では、この制御機能は測定スタンドオフ140の大きさを増大または低減することである。このことは、圧力差がゼロに十分に近づくまで、測定表面132を測定プローブ128に対して相対的に移動することによって行われる。圧力差がゼロに十分に近づくのは、測定表面132からのスタンドオフと基準表面134からのスタンドオフとの間に差がなくなった場合である。
質量流量コントローラ106、スナバ110およびリストリクタ120および122を使用して、流体乱流および別の空気ノイズを低減することも考えられる。こうすることにより、本発明においてナノメータの精度に達することができる。これらの要素はすべて、本発明の1つの実施形態でも、またはどのような組み合わせでも、所望の感度に依存して使用することができる。たとえば非常に高精度の感度が必要とされる適用事例の場合、すべての要素を使用することができる。択一的に、必要とされる感度が比較的低い適用事例の場合、スナバ110のみを使用して、かつ有孔のリストリクタ120および122をオリフィスに置換するだけでよいことがある。したがって本発明は、特定の適用事例の要求をコスト上効率よく満たすフレキシブルなアプローチを提供する。
本発明の1つの実施形態では、有孔のリストリクタ120および122が使用される。有孔のリストリクタ120および122は、圧力を多数の段で、かつ急速でなく段階的に低減しなければならない場合に、サファイアリストリクタの代わりに使用することができる。これは、乱流を回避するのに使用することができる。
フローリストリクタ
本発明の1つの実施形態によれば、測定流路116および基準流路118はリストリクタ120および122を有する。各リストリクタ120および122は、測定流路116および基準流路118をそれぞれ通流する流体の流れを制限する。
測定流路リストリクタ120は測定流路116内部に、接合部114と接合部124との間に配置される。同様に、基準流路リストリクタ122は基準流路118内部に、接合部114と接合部126との間に配置される。1つの実施例では、接合部114から測定流路リストリクタ120までの間隔と、接合部114から基準流路リストリクタ122までの間隔とは等しくなっている。別の実施例では、これらの間隔は等しくされない。センサを対称的にしなければならないという内因的な要件は存在しないが、センサが幾何的に対称的であれば、センサを使用するのが容易になる。
図2は、本発明の別の構成による、多孔質材料210を有するリストリクタ120の断面のイメージを示している。この多孔質材料210を、流体の流れ200が通過する。各リストリクタ120および122は、多孔質材料(たとえばポリエチレン、焼結ステンレス鋼等)から成る。測定流路リストリクタ120および基準流路リストリクタ122の寸法および透磁性は、実質的に同じである。1つの実施例では、リストリクタ120および122は約2〜約15mmの長さであるが、この長さに制限されない。測定流路リストリクタ120も基準流路リストリクタ122も、流路116および118の断面積にわたる流体の流れを制限する。多孔質材料リストリクタは、乱流およびそれに関連する空気ノイズを格段に低減するのに寄与する。これは、固体の無孔材料に孔を空けて形成されたオリフィスを1つしか使用しないリストリクタによって引き起こされた乱流およびノイズの量との比較による。
このようなリストリクタは、少なくとも2つの重要な機能を果たす。第1にこれらのリストリクタは、流体ゲージ近接センサ100に存在する圧力および流れの妨害を低減する。もっとも顕著な妨害は、質量流量コントローラ110または音響的なピックアップのソースによって発生される。第2に、これらのリストリクタはブリッジ内で必要な抵抗素子として使用される。
流体ゲージ近接センサの実施例を挙げたが、本発明はこの例に制限されない。この例は図解のために挙げられたものであり、制限するためのものではない。関連分野の当業者であれば、ここに含まれる思想に基づいて、択一的構成(ここに挙げられた実施例の等価的形態、拡大形態、変形形態、派生的形態等)を理解することができる。このような択一的構成は、本発明の範囲および対象内である。
ノズル
図3には、本発明の実施形態によるノズル350の断面図および該ノズルの特性がそれぞれ示されている。流体ゲージノズル350の基本的な構成の特徴は、測定表面132または基準表面134に対して平行な、扁平な端面351である。ノズルのジオメトリは、ゲージのスタンドオフhおよび内径dによって決定される。一般的に、ノズル外径Dが十分に大きければ、Dに対するノズルの圧力降下の依存性は低い。残った物理的パラメータは、Q‐流体の質量流量と、Δ‐ノズル全体における圧力降下である。流体は、密度ρおよび動的粘度ηによって表される。
無次元パラメータであるΔp/(1/2・ρu)とレイノルズ数Reとh/dとの間の関係式が求められる。ここでは半径方向速度uは、ノズル面と基板表面との間の円柱領域への入口でとられる。レイノルズ数は、Re=ud/vと定義される。ここでは、vは運動粘性率である。
したがってノズルの特性は、5つの物理的変数であるv,Δp,Q,dおよびhの項で表される。ここでΔpとhとの間に関係式が成立し、残りの変数は実際のシステムの場合、典型的には一定である。この関係式は、異なる適用事例、異なる所要感度に対してノズル形式の展開するのに役立つ。
ノズルの実施例を挙げたが、本発明はこの実施例に制限されない。この実施例は、例解の目的でここに挙げられたのであり、制限のためではない。関連分野の当業者であれば、ここに含まれる思想に基づいて、択一的構成(ここに挙げられた実施例の等価的形態、拡大形態、変形形態、派生的形態等)を理解することができる。このような択一的構成は、本発明の範囲および対象内である。
センサの使用方法
図4に、流体の流れを使用して非常に小さい間隔を検出し、制御動作(たとえばステップ410〜470)を実行するための方法400を説明するフローチャートが示されている。簡便化のため、方法400は流体ゲージ近接センサ100に関連して説明される。しかし方法400は、この構造のセンサ100に必ずしも制限されるわけではなく、異なる構造の流体ゲージ近接センサによって実施することができる。
ステップ410で、基準プローブが基準表面上方に(たとえば操作者、機械装置またはロボットアーム等によって)位置づけされる。たとえば、ロボットが基準プローブ130を、基準表面134上方に既知の基準スタンドオフ142をもって位置づける。択一的に、基準スタンドオフをセンサアセンブリ内部に配置することができる。基準スタンドオフは、特定の値に事前調節され、この特定の値は典型的には一定に維持される。
ステップ420で、測定プローブが測定表面上方に位置づけされる。たとえば、測定プローブ128を測定表面132上方に位置づけすることにより、測定ギャップ140が形成される。
ステップ430で、流体がセンサ内に噴射される。たとえば、測定流体が流体ゲージ近接センサ100内に、一定の質量流量で噴射される。ステップ440で、センサへ流入する流体フローが一定に維持される。たとえば、質量流量コントローラ106が流体フローを一定に維持する。ステップ450で、流体の流れが測定流路と基準流路とに分配される。たとえば、流体ゲージ近接センサ100によって測定流体の流れが引き起こされ、測定流路116にも基準流路118にも同様に分配される。
ステップ460で、測定流路の流体の流れも基準流路の流体の流れも同様に、該流路の断面積にわたって制限される。測定流路リストリクタ120および基準流路リストリクタ122が流体の流れを制限して空気ノイズを低減し、流体ゲージ近接センサ100における抵抗素子として使用される。
ステップ470で、流体は基準プローブおよび測定プローブから圧出される。たとえば、流体ゲージ近接センサ100が流体を、測定プローブ128および基準プローブ130から圧出する。ステップ480で流体の流れが、基準流路と測定流路とを連通するブリッジ流路を介して監視される。ステップ490において、基準流路と測定流路との間の圧力差に基づいて制御動作が実行される。たとえば質量流量センサ138が、測定流路116と基準流路118との間の質量流量を監視する。質量流量に基づいて、質量流量センサ138が制御動作を開始する。このような制御動作には、感知された質量流量の指示を供給すること、感知された質量流量を指示するメッセージを送出すること、または、質量流量または質量流量の固定的な基準値が感知されなくなるまで基準表面に対して相対的な測定表面の位置を再配置するサーボ制御動作を開始することが含まれる。このような制御動作は例として挙げられたのであり、制限ではないことを理解すべきである。
関連分野の当業者が本思想から知り得る上記ステップに対して付加的なステップまたは拡張も、本発明の範囲内である。
本発明を図1〜4と関連して、流体または流体に関して説明した。1つの実施形態では、該流体は流体である。本発明は流体に制限されない。別の流体、流体またはこれらの組み合わせも使用することができる。たとえば、測定される表面および/または使用される光の波長に依存して、水分含有量が低減された流体または不活性の流体を使用することができる。低水分含有量の流体または不活性の流体の方が流体よりも、測定される表面と反応しにくい。
流体の流れに周辺流体を使用するセンサ
上記実施形態で記載されたセンサは、基準表面132および/または測定表面138に近接する流体の流れよって引き起こされた周辺ノイズ501から悪影響を受けることがある。センサ500は、周辺ノイズ信号501が測定信号に与える影響を補償および/または消去するように構成される。ノイズ信号501は、各表面132および134近傍における局所的な流体の流れの変動によって引き起こされる。ノイズ信号501は固有の周波数範囲を有し、このような周波数範囲は、該信号501のノイズ周波数と区別されるように調節される変調信号559の任意の周波数Fmから分離することができる。
図5は、本発明の1つの実施形態による流体ゲージ近接センサを示している。この実施形態では、質量流量コントローラおよび条件付けされた流体を使用する代わりに、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れ560のソースが、交番的な流体の流れを発生する。このような流体の流れを使用することによってセンサ信号562が形成され、たとえばフィルタ564および復調器570等である信号処理電子回路を通過し、センサ信号562の不所望の成分(たとえばノイズ501)が除去される。
本発明の種々の実施形態では、信号処理電子回路をアナログ装置、デジタル装置、または両装置の組み合わせとすることができ、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらすべての組み合わせで実現することができる。これらはすべて、本発明の範囲内で考えられる。
ソース560は、トランデューサ、音響的ドライバ、スピーカ、ヘッドフォン、圧電結晶、マイクロフォン、光電池、または1つの形態の入力エネルギーを別の形態の出力エネルギーに変換する別の装置とすることができる。しかし、これらに制限されない。別の例としてソース560は、電磁力、静電力、圧電力または磁気抵抗力のいずれかによって移動される表面またはダイヤフラムとすることができる。
1つの例では、ソース560はプローブ128および130近傍の周辺流体を、センサ500の測定部(たとえば測定側の測定流路116、測定プローブ128等)または基準部(たとえば基準側の基準流路118、基準プローブ130等)によって双方向に移動(たとえば押し引き)する。周辺流体を押し引きする周期は、音響的ドライバ560を駆動する変調周波数Fm559を使用して設定される。
この実施形態では、第1の流体フロー近接プローブ128および第2の流体フロー近接プローブ130が、センサ138を使用して比較され、差信号562が形成される。
センサ138は、流量センサ、圧力センサまたは絶対圧力センサとすることができるが、これらに制限されない。
差信号562は、所望の成分(たとえば、変調周波数および側波帯にある測定信号)および不所望の成分(たとえばノイズ501)双方を含む情報を有する。
フィルタ564(たとえば帯域制限フィルタ、帯域通過フィルタ、高域通過フィルタ等)は差信号564をフィルタリングして、フィルタリング信号568を形成する。フィルタリング信号568は特定の周波数範囲内にある情報を含んでいるので、低周波ノイズおよび/または高周波のノイズおよび干渉がフィルタリング除去され、差信号564の所望の成分のみが残る。
復調器570は、音響的ドライバ560を駆動する変調周波数Fm559(mは変調を表す)と同じ周波数(Fm559)を使用してフィルタリング信号568を復調し、復調信号572(たとえば測定信号、結果信号等)を形成する。復調信号572は、測定スタンドオフ142に関する情報を含んでおり、ひいては加工品138に関する情報を提供する。
1つの例では、ソース560はプローブ128および130近傍の周辺流体を、センサ500の測定部(たとえば測定側における測定流路116、測定プローブ128等)および/または基準部(たとえば基準側における基準流路118、基準プローブ130等)によって単方向に移動する(たとえば押すか、または引く)。周辺流体を押す周期または引く周期は、音響的ドライバ560を駆動する変調周波数Fm559を使用して設定される。ソース560に適用される周波数Fm559は、周期的な流れの振幅を測定するのに十分に低くされる。これは、音波がターゲットに到達するのに要する時間を測定するのとは異なる。ブリッジを通流する正味の流れは、ゼロになる。
前記実施形態もここに記載された別の実施形態も、液浸ベースのリソグラフィシステム、マスクレスリソグラフィシステム、フォトリソグラフィシステムまたはマスクベースのリソグラフィシステム等とともに使用できることを認識されたい。
音響的ドライバ560の駆動周波数Fm559の波長は、ブリッジ経路136の長さに対して長くすることができる。ブリッジに発生する非平衡状態がどのようなものであっても、非平衡状態が発生すれば、Fmの搬送周波数を伴う振幅変調された信号562が生成される。変調信号562はFm559にある信号を含んでおり、この信号の振幅は、非平衡状態によって変化する。非平衡状態が0より高い周波数で発生するので、信号562の振幅変調が発生する。これによって、±fgのFmを中心とする周波数帯が形成される(fgは、流体ゲージ近接センサ500の所望の応答である)。フィルタ564によってこれらの信号568が通過し、かつ不所望の音響的干渉501を含む他のすべての信号が抑圧される。フィルタ出力568の(たとえば復調された)振幅が測定され、結果として得られた出力572が、所望のブリッジ非平衡状態である。
たとえばノイズ501が10Hzである場合、100Hzの変調レート(周波数)および80〜120Hzの通過帯域によって、差信号562の所望の成分のみをスタンドオフ142の検出測定に使用することができる。
この実施形態によって、センサ500に対していかなる適合も変更も行う必要なく、任意の波長を使用する任意の種類のリソグラフィシステムで該センサ500を使用することもできるようになる。条件付けされた流体および質量流量コントローラを使用する上記に記載された実施形態では、リソグラフィツールで使用される光の波長および/または基板上で使用されるレジストの種類に依存して、流体の異なるソース(加湿された流体、乾燥した流体、特別な種類の流体等)を使用しなければならなかった。しかし図5に示された実施形態では、条件付けされた流体のソースは使用されないので、波長またはレジストの種類を考慮せずに、センサ500をいかなる種類のリソグラフィシステムにも配置することができる。また、周辺流体のみを使用することにより、条件付けされた流体ソースによる上記実施形態で起こりうるような、異物を該システムに引き込むことはない。
フィルタ564および復調器570を、両機能を果たす1つの装置として構成するか、または2つ以上の別個の装置として構成できることにも留意されたい。また、フィルタ564および復調器570をアナログ装置および/またはデジタル装置として構成し、ハードウェア、ソフトウェアおよび/またはファームウェアとして構成できることにも留意されたい。デジタル領域で行われる場合、量子化器およびデジタル信号プロセッサ等を使用することができる。種々の実施形態において、復調器570を任意のAM無線波長復調装置と同様にすることができ、復調器570において同期検出等を使用することができる。また、フィルタ564および復調器570をセンサ500内部の局所的なものにするか、または、センサ500から遠隔に配置して固定配線伝送システムまたは無線伝送システムのいずれかによって接続することも可能であることに注目すべきである。
図6および7は、信号562を形成するために使用される本発明の種々の実施形態による種々のセンシングの概略図である。
図6には、本発明の1つの実施形態によるシングルエンド型のセンシング構成が示されている。この構成では、シングルエンド型センサ638を使用して測定流路内の変調された流体の流れが感知され、信号562が生成される。
図7は、本発明の1つの実施形態による差動型センシング構成が示されている。この構成では、差動センサ738Aおよび738Bを使用して信号562が生成される。1つの実施例では、第1のフィルタおよび第2のフィルタ(たとえば第1の帯域通過フィルタおよび第2の帯域通過フィルタ)(図示されていない)および第1の復調器および第2の復調器(図示されていない)がそれぞれ、信号562を処理するために使用される。
図8,9,10および11に、図5のシステムで本発明の種々の実施形態にしたがって変調された流体の流れの生成に関する異なった概略図を示している。
図8に、本発明の1つの実施形態によるソース860が示されている。ソース860は流体供給部874を有しており、この流体供給部874は、可変のフローコントローラ876の周辺よりも大きな供給圧力で条件付けられた流体875を供給する。記憶装置879から得られた信号878(たとえば平均フロー設定)をFm信号559に加算することにより、変調信号877が形成される。変調信号877が可変フローコントローラ876を駆動することにより、変調された流体の流れ879が生成され、流体ゲージ500の方向に方向付けられる。1つの実施例では、可変フローコントローラ876は高速の可変フローコントローラであり、流体ゲージ500への流れ879の制御および変調双方を行う。
図9には、本発明の1つの実施形態によるソース960が示されている。ソース960は、制御された流れを形成する一定のフローコントローラ980の周辺より高い供給圧力で条件付けられた流体975を供給する流体供給部974を含んでいる。記憶装置979から得られた信号978(たとえば平均フロー設定)によって一定のフローコントローラ980を駆動することにより、制御された流体の流れ981が形成される。Fm信号559がフロー変調弁982を駆動し、交番的な流れが形成され、変調された流体の流れ979が形成される。この流れ979は、流体ゲージ500の方向に方向付けられる。
図10には、本発明の1つの実施形態によるソース1060が示されている。ソース1060は、一定のフローコントローラ1080の周辺より高い供給圧力で条件付けられた
流体1075を供給する流体供給部1074を含んでいる。記憶装置1079から得られた信号1078(たとえば平均フロー設定)によって一定の流体フローコントローラ1080を駆動することによって、流体の流れ1081が形成される。Fm信号559は音響的ドライバ1083を駆動し、フロー1081と加算された信号1084が形成され、変調された流体の流れ1079が流れ1081から形成される。この流体の流れ1079は、流体ゲージ500の方向に方向付けられる。
図11に、本発明の1つの実施形態によるソース1160が示されている。ソース1160には、Fm信号559によって駆動される音響的ドライバ1183が含まれており、これによって信号1184が形成され、ゲージ500へ流れる周辺流体を変調するために使用される。
コンピュータシステムの例
図12には、本発明がコンピュータ読み取り可能なコードとして実現されるコンピュータシステム1200の一例が示されている。本発明の種々の実施形態を、このコンピュータシステムの例1200に関して説明する。関連分野の当業者であれば、この説明を読んで、別のコンピュータシステムおよび/またはコンピュータアーキテクチャを使用してどのように本発明を実現できるかを理解することができる。
コンピュータシステム1200には、プロセッサ1204等の1つまたは複数のプロセッサが含まれている。プロセッサ1204は、特殊用途または汎用のデジタル信号プロセッサとすることができる。プロセッサ1204は、通信インフラストラクチャ1206(たとえばバスまたはネットワーク)に接続されている。種々のソフトウェア実装を、このコンピュータシステムの例に関して説明する。関連分野の当業者であれば、この説明を読んで、別のコンピュータシステムおよび/またはコンピュータアーキテクチャを使用してどのように本発明を実現できるかを理解することができる。
コンピュータシステム1200には主記憶装置1208が含まれており、2次記憶装置1210を設けることもできる。主記憶装置1208は、有利にはランダムアクセスメモリ(RAM)である。2次記憶装置1210にはたとえば、ハードディスクドライブ1212および/またはリムーバブル記憶ドライブ1214が含まれる。このリムーバブル記憶ドライブ1214の代表的なものは、フロッピーディスクドライブ、磁気テープドライブ、光ディスクドライブ等である。リムーバブル記憶ドライブ1214は周知のように、リムーバブル記憶ユニット1218から読み出し、および/またはリムーバブル記憶ドライブ1214に書き込む。リムーバブル記憶ユニット1218の代表的なものは、フロッピーディスク、磁気テープ、光ディスク等であり、リムーバブル記憶ドライブ1214によって読み出されリムーバブル記憶ドライブ1214によって書き込まれるものである。もちろんリムーバブル記憶ユニット1218には、コンピュータソフトウェアおよび/またはデータが記憶されたコンピュータ使用可能な記憶媒体が含まれている。
択一的な構成では2次記憶装置1210にも、コンピュータプログラムまたは別の命令をコンピュータシステム1200にロードするための同様の手段を設けることができる。このような手段にはたとえば、リムーバブル記憶ユニット1222およびインタフェース1220が含まれる。このような手段の例に、プログラムカートリッジおよびカートリッジインタフェース(たとえばビデオゲーム装置で見られるようなインタフェース)、リムーバブルメモリチップ(たとえばEPROMまたはPROM)および所属のソケット、およびソフトウェアおよびデータをリムーバブル記憶ユニット1222からコンピュータシステム1200へ伝送するのに使用できる別のリムーバブル記憶ユニット1222およびインタフェース1220が含まれることもある。
コンピュータシステム1200には、通信インタフェース1224も設けることができる。通信インタフェース1224を使用して、ソフトウェアおよびデータをコンピュータシステム1200と外部装置との間で伝送する。通信インタフェース1224の例には、モデム、ネットワークインタフェース(たとえばイーサネットカード)通信ポート、PCMCIAスロットおよびPCMCIAカード等が含まれる。通信インタフェース1224を介して伝送されるソフトウェアおよびデータは、信号1228の形態であり、この信号は電子的信号、電磁的信号、光学的信号、または通信インタフェース1224によって受信可能な別の信号とすることができる。このような信号1228は、通信経路1226を介して通信インタフェース1224へ供給される。通信経路1226は信号1228を伝搬し、ワイヤまたはケーブル、ファイバ光学系、電話回線、携帯電話リンク、RFリンクおよび他の通信路を使用して実現することができる。
本明細書では「コンピュータプログラム媒体」および「コンピュータ使用可能媒体」という用語は、リムーバブル記憶ドライブ1214、ハードディスクドライブに設けられたハードディスク1212および信号1228等の媒体を全般的に指すのに使用される。またコンピュータプログラム媒体およびコンピュータ使用可能媒体は、主記憶装置1208および2次記憶装置1210等のメモリも指す。このメモリは、半導体記憶装置(たとえばDRAM等)であってもよい。このようなコンピュータプログラム製品は、ソフトウェアをコンピュータシステム1200へ供給するための手段である。
コンピュータプログラム(コンピュータ制御ロジックとも称される)は主記憶装置1208および/または2次記憶装置1210に記憶される。またコンピュータプログラムは、通信インタフェース1224を介して受信することもできる。このようなコンピュータプログラムが実行される場合、コンピュータシステム1200によって本発明を上記のように実施することができる。特にコンピュータプログラムを実行する場合、プロセッサ1204によって本発明のプロセスを実施することができ、たとえば上記のフィルタ564および/または復調器572における動作を実施することができる。したがってこのようなコンピュータシステムは、コンピュータシステム1200の制御システムである。ソフトウェアを使用して本発明を実施する場合、ソフトウェアをコンピュータプログラム製品に記憶し、リムーバブル記憶ドライブ1214またはハードドライブ1212または通信インタフェース1224を使用してコンピュータシステム1200にロードすることができる。
また本発明は、任意のコンピュータ使用可能媒体に記憶されたソフトウェアを含むコンピュータ製品も対象としている。このようなソフトウェアを1つまたは複数のデータ処理装置で実行する場合、該データ処理装置を上記のように動作させることができる。本発明の実施形態では、現在または将来公知である任意のコンピュータ使用可能媒体またはコンピュータ読み出し可能媒体を使用することができる。コンピュータ使用可能媒体の例には、1次記憶装置(たとえば、すべての種類のランダムアクセスメモリ)、2次記憶装置(たとえば、ハードドライブ、フロッピーディスク、CD ROM、ZIPディスク、テープ、磁気記憶装置、光学的記憶装置、MEMS、ナノテクノロジー記憶装置等)および通信媒体(たとえば、有線通信ネットワーク、無線通信ネットワーク、ローカルエリアネットワーク、広域ネットワーク、イントラネット等)があるが、これらに制限されない。ソフトウェア、ハードウェア、ファームウェアまたはこれらの組み合わせを使用して、ここに記載された実施形態を実現することも考えられる。
本発明の別の実施形態によれば、ここに記載されたセンサは、US Ser. Nos. 10/322768(提出日:2002年12月19日、Atty. Docket 1857.0920000)、10/646720(提出日:2002年8月9日、Atty. Docket 18572030000)、10/_______(提出日:___________、Atty. Docket 18572130000)、10/_______(提出日:___________、Atty. Docket 18572430000)および10/_______(提出日:___________、Atty. Docket 18572580000)に開示されたシステム、および、US4953388およびUS4550592に開示されたシステム内部で使用することができる。これらはすべて、参照によってここに完全に開示されたものとする。
結論
本発明の種々の実施形態を上記で説明したが、これらの実施形態は例として挙げられたものであり、制限するものではないことを理解すべきである。関連分野の当業者であれば、本発明の思想および範囲から逸脱することなく、形態および詳細の種々の変更を行えることを理解することができる。特定の機能の実施および該機能の関連性を図解するステップを使用して、上記で本発明を説明した。ここでは説明を簡便化するため、これらのステップの境界を任意に定義したが、択一的な境界を定義することもできる。したがって、このような択一的な境界はすべて、請求項に記載された本発明の範囲および思想に含まれる。したがって本発明の思想および範囲は、上記で説明された実施例に制限すべきではなく、特許請求の範囲およびそれに類するものによってのみ定義すべきである。
本発明の1つの実施形態による流体ゲージ近接センサを示す図である。 本発明の1つの実施形態によるリストリクタの断面を示す図である。 本発明の1つの実施形態によるノズルの断面および該ノズルの特性を示す図である。 流体ゲージ近接センサを使用して非常に小さい間隔を検出し制御動作を実行する、本発明の1つの実施形態による方法を示すフローチャートである。 本発明の1つの実施形態による、変調された流体の流れを有する流体ゲージ近接センサを示す図である。 本発明の1つの実施形態によるシングルエンド型のセンシング構成を示す図である。 本発明の1つの実施形態による差動型のセンシング構成を示す図である。 本発明の実施形態による、図5における変調された流体の流れの形成に関する図である。 本発明の実施形態による、図5における変調された流体の流れの形成に関する図である。 本発明の実施形態による、図5における変調された流体の流れの形成に関する図である。 本発明の実施形態による、図5における変調された流体の流れの形成に関する図である。 本発明の1つまたは複数の実施形態をコンピュータ読み出し可能なコードとして実現するためのコンピュータシステムの例を示す図である。

Claims (24)

  1. 流体フロー近接ゲージにおいて、
    変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソースと、
    ノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも1つの経路とが設けられており、
    流体は、該ノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、
    該流量センサまたは圧力センサは、前記ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする、流体フロー近接ゲージ。
  2. 該振幅変調された信号は、振幅変調された搬送周波数を含んでおり、該振幅変調された信号の振幅である、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  3. 該振幅変調された信号を処理する信号処理電子回路が設けられており、
    該信号処理電子回路によって、低周波エラーのうち少なくとも1つと、搬送周波数とノイズとが除去される、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  4. 該信号処理電子回路は、アナログまたはデジタルのハードウェア装置またはソフトウェア装置を有する、請求項3記載の流体フロー近接ゲージ。
  5. 該信号処理電子回路は、該振幅変調された信号をフィルタリングするフィルタを有する、請求項3記載の流体フロー近接ゲージ。
  6. 該信号処理電子回路は、センサの信号をフィルタリングする帯域通過フィルタを有する、請求項3記載の流体フロー近接ゲージ。
  7. 該少なくとも1つの経路は、該流量センサまたは圧力センサのうち一方の第1のセンサおよび第2のセンサを有する、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  8. 該流量センサまたは圧力センサを含む差動型のブリッジが設けられている、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  9. 該流量センサまたは圧力センサは、シングルエンド型のセンサを含んでいる、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  10. 該少なくとも1つの経路は、基準流路を有さないシングルエンド型の測定流路を含んでいる、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  11. 該流量センサまたは圧力センサは、流量センサまたは差動型の圧力センサまたは絶対圧力センサを有する、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  12. 第1の信号を形成する該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第1のセンサを有する基準流路と、
    第2の信号を形成する該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第2のセンサを有する測定流路とが設けられており、
    前記第1の信号および第2の信号を減算することにより、振幅変調された信号が形成される、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  13. 該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第1のセンサおよび第2のセンサは、流量センサまたは差動型の圧力センサまたは絶対圧力センサを有する、請求項12記載の流体フロー近接ゲージ。
  14. 変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部が設けられており、
    前記条件付けされた流体は、高速の可変フローコントローラによって供給され、
    前記可変フローコントローラは、流体ゲージへの流れの制御および変調の双方を行う、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  15. 変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部と、流れを制御する一定のフローコントローラと、該流れを変調する制御弁とが設けられており、
    条件付けされた流体の前記外部の供給部は連続的に、該一定のフローコントローラおよび別個の前記制御弁の双方によって供給される、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  16. 変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部と、流れを制御する一定のフローコントローラと、交番的な流れを形成する音響的ドライバとが設けられており、
    条件付けされた前記外部の供給部は、まず該一定のフローコントローラによって供給された後、制御された該流れは交番的な流れと加算され、変調された流れが形成される、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  17. 変調された流体の流れの装置には、周辺流体を使用して交番的な流体の流れを形成する音響的ドライバが設けられている、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  18. 流体の連続的な供給部と、
    ノズルと測定表面との間に測定ギャップを有する測定流路と、
    ノズルと基準表面との間に基準ギャップを有する基準流路とが設けられており、
    前記基準流路の流れが変調され、
    信号処理電子回路は、センサの信号をフィルタリングおよび復調して基準ギャップを検出し、
    該信号処理電子回路は、該センサの信号を低域通過フィルタリングして、該基準ギャップと測定ギャップとの間のギャップ差を検出する、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  19. 該基準流路と測定流路との間に対称的なブリッジが設けられており、
    該ブリッジは1つの搬送周波数で変調され、
    該基準流路は第2の搬送周波数で変調される、請求項18記載の流体フロー近接ゲージ。
  20. 該基準流路または測定流路のうち少なくとも一方が、リストリクタを有する、請求項18記載の流体フロー近接ゲージ。
  21. 該基準流路と測定流路との間に合成的なブリッジが設けられている、請求項18記載の流体フロー近接ゲージ。
  22. 振幅変調された信号を処理する信号処理電子回路が設けられており、
    該信号処理電子回路によって、低周波エラーのうち少なくとも1つと、搬送周波数とノイズが除去され、
    該信号処理電子回路は、第1の帯域通過フィルタおよび第2の帯域通過フィルタと、第1の相応の復調器および第2の相応の復調器とを有する、請求項18記載の流体フロー近接ゲージ。
  23. 流体は、気体または液体のうち1つを含む、請求項1記載の流体フロー近接ゲージ。
  24. リソグラフィツールに設けられる流体ゲージシステムにおいて、
    該流体ゲージシステムを通流する流体を変調周波数で変調する装置と、
    被測定間隔を表す信号をフィルタリングするアナログまたはデジタルのハードウェアフィルタリングシステムまたはソフトウェアフィルタリングシステムと、
    フィルタリングされた該信号を変調周波数で復調するアナログまたはデジタルのハードウェア復調システムまたはソフトウェア復調システムとを有することを特徴とする流体ゲージシステム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016513265A (ja) * 2013-02-28 2016-05-12 ナーゲル マシーネン− ウント ベルクツォイクファブリーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング フルイディック幾何学的形状測定方法及び装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7021120B2 (en) * 2004-04-28 2006-04-04 Asml Holding N.V. High resolution gas gauge proximity sensor
US7134321B2 (en) 2004-07-20 2006-11-14 Asml Holding N.V. Fluid gauge proximity sensor and method of operating same using a modulated fluid flow
US7437911B2 (en) * 2004-12-15 2008-10-21 Asml Holding N.V. Method and system for operating an air gauge at programmable or constant standoff
US20070151327A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Asml Holding N.V. Gas gauge proximity sensor with internal gas flow control
US20070151328A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Asml Holding N.V. Vacuum driven proximity sensor
US7853067B2 (en) 2006-10-27 2010-12-14 Asml Holding N.V. Systems and methods for lithographic reticle inspection
US7578168B2 (en) * 2007-06-27 2009-08-25 Asml Holding N.V. Increasing gas gauge pressure sensitivity using nozzle-face surface roughness
US7694549B2 (en) * 2007-10-23 2010-04-13 Michel Dechape Pneumatic gauging system A.K.A. air gauging system A.K.A. air electric converter

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61280509A (ja) * 1985-06-05 1986-12-11 Yasushi Ishii 音響式マイクロメ−タ
JPS6296806A (ja) * 1985-10-24 1987-05-06 Takenaka Kikai Kogyo Kk 物体の表面変化検出方法
JPH06201359A (ja) * 1990-05-07 1994-07-19 Gardner P Wilson 気体間隙測定装置
JP2001099633A (ja) * 1999-10-01 2001-04-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd 空気マイクロメータのデータ処理装置
JP2004198429A (ja) * 2002-12-19 2004-07-15 Asml Holding Nv 高分解能のガスゲージ近接センサ

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2276036A (en) * 1940-11-23 1942-03-10 Westinghouse Electric & Mfg Co Pneumatic thickness gauge
US2471737A (en) * 1946-11-30 1949-05-31 Niles Bement Pond Co Air gauge
BE493747A (ja) * 1949-06-30
US2986924A (en) * 1955-09-16 1961-06-06 Becker Wilhelm Fritz Kurt Device for location of surfaces
US3127764A (en) * 1961-09-18 1964-04-07 G P E Controls Inc Concentric double aperture air nozzle
GB1094833A (en) * 1965-09-24 1967-12-13 Burchell James Gladwyn Improvements in or relating to gauges
US3495442A (en) * 1967-06-21 1970-02-17 Pillsbury Co Thickness measuring instrument
FR1577249A (ja) * 1967-12-06 1969-08-08
US3597961A (en) * 1968-07-26 1971-08-10 Ite Imperial Corp Fluid operated sensing device
US3545256A (en) * 1969-02-10 1970-12-08 Pitney Bowes Inc High sensitivity fluidic proximity detector
SE331199B (ja) * 1970-03-11 1970-12-14 Mecman Ab
US3709027A (en) * 1971-01-22 1973-01-09 Automatic Switch Co Proximity sensing device
US3904960A (en) * 1973-04-11 1975-09-09 Scripps Co E W Extendable and retractable moisture sensing probe
US3894552A (en) * 1974-01-31 1975-07-15 Foxboro Co Transducer nozzle
US3886794A (en) * 1974-03-11 1975-06-03 Westinghouse Electric Corp Flowmeter apparatus and method
US3942556A (en) * 1974-09-30 1976-03-09 Dana Corporation Fluidic sensor
US4000650B1 (en) * 1975-03-20 1995-11-14 Endress Hauser Gmbh Co Method and apparatus for ultrasonic material level measurement
US4090406A (en) * 1977-06-23 1978-05-23 Rodder Jerome A Sensor
IT1105537B (it) * 1977-08-11 1985-11-04 Ricardo & Co Engineers Perfezionamento negli apparecchi per la misurazione del flusso di fluidi
US4142401A (en) * 1977-10-03 1979-03-06 Wilson Gardner P Gage
US4203022A (en) * 1977-10-31 1980-05-13 Hypertherm, Incorporated Method and apparatus for positioning a plasma arc cutting torch
DE2915924A1 (de) * 1978-04-26 1979-11-08 Coal Industry Patents Ltd Vorrichtung zum erfassen der geschwindigkeit eines stroemenden fluids
US4348889A (en) * 1979-10-08 1982-09-14 Sussex Instruments Limited Measuring sheet thickness
JPS6018005B2 (ja) * 1979-12-16 1985-05-08 株式会社荏原製作所 透過形測定モ−ドと反射形測定モ−ドとを自動切換可能な超音波流速流量計
US4421970A (en) * 1981-01-30 1983-12-20 Hypertherm, Incorporated Height sensing system for a plasma arc cutting tool
US4458519A (en) * 1981-03-09 1984-07-10 Vacuumatic Limited Air pressure operated proximity sensor
US4391127A (en) * 1981-03-20 1983-07-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Proximity sensor
JPS57191507A (en) * 1981-05-22 1982-11-25 Hitachi Ltd Distance measuring device
US4581918A (en) * 1984-01-09 1986-04-15 Esselte Security Systems Apparatus for non-contact thickness gauging of disc or sheet objects
CH666128A5 (de) * 1984-03-26 1988-06-30 Alusuisse Vorrichtung zum beruehrungslosen messen der temperatur an einer oberflaeche eines werkstuecks.
US4550592A (en) * 1984-05-07 1985-11-05 Dechape Michel L Pneumatic gauging circuit
US4579005A (en) * 1984-11-15 1986-04-01 Manning Technologies, Inc. Single crystal Doppler flowmeter
US4655089A (en) * 1985-06-07 1987-04-07 Smith Meter Inc. Mass flow meter and signal processing system
GB8722871D0 (en) * 1987-09-29 1987-11-04 Bnf Metals Tech Centre Measuring apparatus
US4953388A (en) * 1989-01-25 1990-09-04 The Perkin-Elmer Corporation Air gauge sensor
CA2078727A1 (en) * 1992-09-21 1994-03-22 Karoly G. Nemeth Method and apparatus for detecting thickness variations in sheet material
US5372046A (en) * 1992-09-30 1994-12-13 Rosemount Inc. Vortex flowmeter electronics
JP3028723B2 (ja) * 1993-05-20 2000-04-04 横河電機株式会社 超音波式流体振動流量計
US5789661A (en) * 1997-02-14 1998-08-04 Sigmatech, Inc. Extended range and ultra-precision non-contact dimensional gauge
US6220080B1 (en) * 2000-05-12 2001-04-24 Sigma Tech, Inc. Extended range and ultra precision non contact dimensional gauge for ultra thin wafers and work pieces
US6807845B2 (en) * 2001-10-12 2004-10-26 I F M Electronic Gmbh Measurement apparatus and process for determining the position of an object relative to a reference surface
US20050044963A1 (en) * 2003-08-25 2005-03-03 Asml Holding N.V. High-resolution gas gauge proximity sensor
US7272976B2 (en) 2004-03-30 2007-09-25 Asml Holdings N.V. Pressure sensor
US7021120B2 (en) 2004-04-28 2006-04-04 Asml Holding N.V. High resolution gas gauge proximity sensor
US7021121B2 (en) 2004-05-27 2006-04-04 Asml Holding N.V. Gas gauge proximity sensor with a modulated gas flow
US7134321B2 (en) 2004-07-20 2006-11-14 Asml Holding N.V. Fluid gauge proximity sensor and method of operating same using a modulated fluid flow

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61280509A (ja) * 1985-06-05 1986-12-11 Yasushi Ishii 音響式マイクロメ−タ
JPS6296806A (ja) * 1985-10-24 1987-05-06 Takenaka Kikai Kogyo Kk 物体の表面変化検出方法
JPH06201359A (ja) * 1990-05-07 1994-07-19 Gardner P Wilson 気体間隙測定装置
JP2001099633A (ja) * 1999-10-01 2001-04-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd 空気マイクロメータのデータ処理装置
JP2004198429A (ja) * 2002-12-19 2004-07-15 Asml Holding Nv 高分解能のガスゲージ近接センサ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016513265A (ja) * 2013-02-28 2016-05-12 ナーゲル マシーネン− ウント ベルクツォイクファブリーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング フルイディック幾何学的形状測定方法及び装置

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