JP2006062920A - セラミック焼結体の製法およびセラミック焼結体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくともセラミック粉末と有機ビヒクルとを含有する混合物を静水圧成形して、外表面に占める球面の比率が90%以上の中実の成形体を形成する工程、(b)前記成形体を、開口角θが75°以上の円錐状の凹部を有する台座に載置し、脱脂、焼成する工程を経て得られ、相対密度が理論密度の99%以上であり、外表面に占める球面の比率が90%以上であり、その焼結体を上中下で分割したとき、上部と下部の相対密度差が0.8%以下である。
【選択図】図1
Description
(b)前記成形体を、開口角θが75°以上の円錐状の凹部を有する台座に載置し、脱脂、焼成する工程を経て得られることを特徴とするセラミック焼結体の製法が提供される。
3 セラミック焼結体
Claims (8)
- 少なくともセラミック粉末と有機ビヒクルとを含有する混合物を静水圧成形して、外表面に占める球面の比率が90%以上である中実の成形体を形成する工程、前記成形体を、開口角θが75°以上の円錐状の凹部を有する台座に載置し、脱脂、焼成する工程を経て得られることを特徴とするセラミック焼結体の製法。
- 台座の最上面から凹部最深部までの深さをHとし、成形体の最大径をDとしたときに、H/D比が1.1以下である請求項1記載のセラミック焼結体の製法。
- セラミック粉末の主成分と台座の主成分とが同じである請求項1または2に記載のセラミック焼結体の製法。
- セラミック粉末の平均粒径が1μm以下である請求項1乃至3のうちいずれか記載のセラミック焼結体の製法。
- 相対密度が理論密度の99%以上であり、外表面に占める球面の比率が90%以上であり、その焼結体を上中下に分割したとき、上部と下部の相対密度差が0.8%以下であることを特徴とするセラミック焼結体。
- 焼結体の最長径をL、最短径をSとしたときに、L/S比が1〜1.1の範囲である請求項5記載のセラミック焼結体。
- セラミック粒子が、アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化けい素およびジルコンから選ばれる少なくとも1種である請求項5または6に記載のセラミック焼結体。
- セラミック粒子の平均粒径が1μm以下である請求項5乃至7のうちいずれか記載のセラミック焼結体。
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Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JPH04285063A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-09 | Toray Ind Inc | 粉砕機用部材 |
JPH07118071A (ja) * | 1993-10-22 | 1995-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘電体磁器製造用コウ鉢 |
JP2005139013A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Ngk Insulators Ltd | セッター装置およびセラミックスの製造方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04285063A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-09 | Toray Ind Inc | 粉砕機用部材 |
JPH07118071A (ja) * | 1993-10-22 | 1995-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘電体磁器製造用コウ鉢 |
JP2005139013A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Ngk Insulators Ltd | セッター装置およびセラミックスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115231931A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-10-25 | 郑州振中电熔新材料有限公司 | 一种用镁锆共晶料和单斜氧化锆制造高品质氧化锆水口的方法 |
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