JP2006048798A - 光記録媒体の保護層形成用シート、光記録媒体およびそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 硬化収縮率が小さく、かつ形状保持性の高い硬化前保護層を備えた保護層形成用シートおよびその製造方法、ならびに厚さ精度の高い保護層が接着層を介することなく情報記録層に形成された、反りの小さい光記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 硬化前保護層１１と、硬化前保護層１１を挟む２枚の基材１２，１２’とからなる保護層形成用シート１であって、硬化前保護層１１を、エネルギー線硬化性ポリマー２０〜９０重量％と、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマー１０〜８０重量％とを含有する組成物から構成する。この硬化前保護層１１を、情報記録層（半透過反射層３’）に圧着し、エネルギー線の照射によりその硬化前保護層１１を硬化させ、保護層１１’を形成する。
【選択図】 図２

Description

本発明は、光記録媒体の表面を保護する保護層を形成するためのシートおよびその製造方法、ならびに当該シートを使用した光記録媒体およびその製造方法に関するものである。

光ディスクとして、ポリカーボネートからなる光ディスク基板と、光ディスク基板上に形成された１層または２層以上の情報記録層と、接着層を介して情報記録層に接着された保護フィルムとから構成されるものが一般的に知られている。光ディスクが読出し専用のものである場合、情報記録層にはピットを構成する凹凸パターンが形成され、光ディスクが書換え可能なものである場合、情報記録層にはグルーブおよびランドを構成する凹凸パターンが形成される。

保護フィルムと情報記録層との接着方法としては、例えば、保護フィルムまたは情報記録層に光硬化性樹脂を塗工して接着層を形成し、その接着層によって保護フィルムと情報記録層とを貼り合わせる方法が知られている（特許文献１）。

しかしながら、上記の方法は、接着層を形成する工程と、保護フィルムを貼り合わせる工程とを必要とするため、光ディスクの製造工程を増やす一因、ひいては光ディスクの製造コストを増加させる一因となっていた。

そこで、最近、光硬化性接着剤フィルムをあらかじめ形成し、その光硬化性接着剤フィルムを情報記録層に転写して、光硬化性接着剤による保護層を形成してなる光ディスクが提案された（特許文献２）。かかる光ディスクによれば、接着層を形成することなく、情報記録層に直接保護層を形成することができるため、従来の光ディスクの製造工程を一つ減らすことができる。
特開平１０−２８３６８３号公報 特開２００２−２５１１０号公報

特許文献２に記載の光硬化性接着剤は、光硬化性の（メタ）アクリル樹脂またはエチレン−酢酸ビニル共重合体を主原料としているが、この光硬化性接着剤は硬化収縮率が大きいため、当該光硬化性接着剤からなるフィルムを硬化させると光ディスクが反ってしまうという問題がある。また、上記光硬化性接着剤からなるフィルムは形状保持性が低いため、得られる保護層の厚さ精度は必ずしも高くはない。

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、硬化収縮率が小さく、かつ形状保持性の高い硬化前保護層を備えた保護層形成用シートおよびその製造方法、ならびに厚さ精度の高い保護層が接着層を介することなく情報記録層に形成された、反りの小さい光記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、第１に本発明は、エネルギー線硬化性ポリマー２０〜９０重量％と、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマー１０〜８０重量％とを含有する組成物からなる硬化前保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートを提供する（請求項１）。

本明細書における「エネルギー線硬化性を有しない」とは、通常のエネルギー線照射量では硬化しないという意味であり、いかなるエネルギー線照射量であっても硬化しないという意味ではない。

また、本明細書における「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録・再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体（例えば、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＬＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ、ＭＯ等；いわゆる光ディスク（光磁気ディスクを含む））が該当するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。

上記発明（請求項１）においては、エネルギー線硬化性ポリマーと、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーとを含有する組成物を使用することにより、硬化収縮率の小さい硬化前保護層を得ることができ、特にエネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーを使用することにより、形状保持性の高い硬化前保護層を得ることができる。かかる保護層形成用シートを使用して得られる光記録媒体においては、保護層を接着するための接着層が存在せず、また保護層の厚さ精度が高いため、良好な信号特性が得られるとともに、硬化前保護層の硬化に伴う反りが抑制されている。

また、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーを使用することにより、得られる保護層のガラス転移温度、透過率および屈折率の制御を容易に行うことができ、光記録媒体の保護層として好適な物性を得ることができる。

上記発明（請求項１）において、前記硬化前保護層は、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下の平滑面を有する基材の前記平滑面に積層されていること（請求項２）、さらには、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下の平滑面を有する２つの基材の前記平滑面相互間に挟まれていること（請求項３）が好ましい。

上記発明（請求項２）によれば、硬化前保護層における少なくとも一方の面の平滑性が高くなり、この面を情報記録層に密着させることにより、より良好な信号特性を得ることができる。また、上記発明（請求項３）によれば、硬化前保護層の両面の平滑性が高くなるため、さらに良好な信号特性を得ることができる。

上記発明（請求項１〜３）において、前記エネルギー線硬化性ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であるのが好ましい（請求項４）。

上記発明（請求項１〜４）において、前記エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーは、メタクリル樹脂、ポリカーボネートまたはポリシクロオレフィンであるのが好ましい（請求項５）。

上記発明（請求項１〜５）において、前記組成物の硬化前の貯蔵弾性率は、１×１０^３〜１×１０^６Ｐａであるのが好ましい（請求項６）。

上記発明（請求項１〜６）において、前記組成物の硬化後の貯蔵弾性率は、１×１０^６Ｐａ以上であるのが好ましい（請求項７）。

上記発明（請求項１〜７）において、前記組成物の硬化後のガラス転移温度は、６０℃以上であるのが好ましい（請求項８）。

上記発明（請求項１〜８）において、前記組成物の硬化後の波長４００ｎｍ以上の光の透過率が、８５％以上であるのが好ましい（請求項９）。

上記発明（請求項１〜９）において、前記組成物の硬化後の線膨張係数は、０．３×１０^−４〜２．０×１０^−４／℃であるのが好ましい（請求項１０）。

上記発明（請求項１〜１０）において、光記録媒体の情報記録層（の反射層または半透過反射層）に対する前記組成物の硬化後の接着力は、０．１Ｎ／２５ｍｍ以上であるのが好ましい（請求項１１）。

上記発明（請求項１〜１１）において、前記組成物の硬化後の屈折率は、１．４５〜１．７５であるのが好ましい（請求項１２）。

第２に本発明は、硬化前保護層を備えた光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法であって、エネルギー線硬化性ポリマー２０〜９０重量％と、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマー１０〜８０重量％とを含有する組成物を、第１の平面上に塗布し乾燥させるとともに、前記第１の平面と第２の平面によって挟むことにより、前記硬化前保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法を提供する（請求項１３）。

なお、ここでいう「平面」は、シート状の基材の平面であってもよいが、これに限定されるものではなく、例えば、テーブル等の平面であってもよい。また、当該平面を有する物は、必ずしも記録媒体の保護層形成用シートにおける硬化前保護層に積層されていなくてもよい。

上記発明（請求項１３）によれば、厚さ精度の高い硬化前保護層を確実に形成することができる。

上記発明（請求項１３）においては、前記第１の平面上に塗布した組成物の乾燥を、前記エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーのガラス転移温度よりも高い温度で行うことが好ましい（請求項１４）。

上記発明（請求項１４）によれば、組成物の流動性が高くなって両ポリマーの相溶性が向上するため、屈折率等の物性が均一な保護層を得ることができる。

第３に本発明は、光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、最外層の情報記録層に対し、前記光記録媒体の保護層形成用シート（請求項１〜１２）の硬化前保護層を圧着し、エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する（請求項１５）。

第４に本発明は、光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、最外層の情報記録層に対し、前記光記録媒体の保護層形成用シート（請求項２〜１２）の硬化前保護層を、前記保護層形成用シートにおける基材の平滑面に接していた側の面が前記情報記録層側になるようにして圧着し、エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する（請求項１６）。

上記発明（請求項１５，１６）によれば、接着層を形成することなく、しかも厚さ精度が高い保護層を形成することができるため、良好な信号特性が得られる。また、硬化前保護層の硬化収縮率は小さいため、硬化前保護層の硬化に伴う光記録媒体の反りは抑制される。

第５に本発明は、前記光記録媒体の保護層形成用シート（請求項１〜１２）の硬化前保護層を硬化してなる保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項１７）。

第６に本発明は、光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、前記光記録媒体の保護層形成用シート（請求項２〜１２）の硬化前保護層を硬化してなる保護層とを備え、前記保護層は、前記硬化前保護層における前記基材の平滑面に接していた側の面を情報記録層側として、前記情報記録層に積層されていることを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項１８）。

本発明の光記録媒体の保護層形成用シートにおける硬化前保護層は、硬化収縮率が小さく、かつ形状保持性が高い。したがって、本発明によれば、硬化前保護層の硬化に伴う光記録媒体の反りを抑制することができるとともに、厚さ精度の高い保護層を、接着層を介することなく情報記録層に形成することができ、それによって良好な信号特性を有する光記録媒体が得られる。

以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートの断面図であり、図２（ａ）〜（ｇ）は同実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。

図１に示すように、本実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シート１は、硬化前保護層１１と、硬化前保護層１１の一方の面に積層された基材１２と、硬化前保護層１１の他方の面に積層された基材１２’とからなる。ただし、基材１２，１２’は、保護層形成用シート１の使用時に剥離されるものである。

硬化前保護層１１は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）と、エネルギー線硬化性を有しなく光ディスクの保護層を構成し得るポリマー（II）と、所望により第三成分（III）とを含有する組成物からなり、エネルギー線の照射によって硬化し、光ディスクＤの保護層１１’を形成するものである。

〔エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）〕
エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）は、エネルギー線の照射によって硬化するポリマーである。このエネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）と、後述するポリマー（II）との組合せにより、硬化収縮率の小さい硬化前保護層１１を得ることができる。

エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０万以上であるのが好ましく、特に１５万〜２００万であるのが好ましい。エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の重量平均分子量が１０万未満であると、硬化収縮率の小さい硬化前保護層１１を得ることが困難になる。

エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体であるのが好ましい。また、このアクリル酸エステル共重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させて得られる、側鎖にエネルギー線硬化性基を有する重量平均分子量（Ｍｗ）１０万以上のエネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）であるのが好ましい。

上記のようなアクリル酸エステル共重合体は、情報記録層の凹凸パターンに正確に追従することが可能であり、また、硬化後には光ディスクＤの保護層１１’として好ましい性質を発揮し得る。

上記エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）におけるエネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、０．１〜５０ｍｏｌ％であるのが好ましく、特に３〜３０ｍｏｌ％であるのが好ましい。エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が０．１ｍｏｌ％未満であると、所望のエネルギー線硬化性が得られず、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が５０ｍｏｌ％を超えると、硬化前保護層１１の硬化時の体積収縮率が大きくなり、得られる光ディスクＤに反りが生じるおそれがある。

なお、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、次の式によって算出される。
エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率＝（エネルギー線硬化性基のモル数／アクリル系共重合体を構成するモノマーの総モル数）×１００

アクリル系共重合体（ａ１）は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。ここで、本明細書における（メタ）アクリル酸エステルモノマーとは、アクリル酸エステルモノマーおよび／またはメタクリル酸エステルモノマーを意味するものとする。

アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであり、好ましくはヒドロキシル基含有不飽和化合物またはカルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。

ヒドロキシル基含有不飽和化合物の具体的な例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート等が挙げられ、カルボキシル基含有不飽和化合物の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有化合物が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。

アクリル系共重合体（ａ１）を構成する（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレート、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が用いられる。

アクリル系共重合体（ａ１）は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常３〜１００重量％、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常０〜９７重量％、好ましくは６０〜９５重量％、特に好ましくは７０〜９０重量％の割合で含有してなる。

アクリル系共重合体（ａ１）は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にも少量（例えば１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）の割合で、ジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。

不飽和基含有化合物（ａ２）が有する置換基は、アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がヒドロキシル基、アミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアナート基が好ましく、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナート基、アジリジニル基、エポキシ基またはオキサゾリン基が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはアミノ基、カルボキシル基またはアジリジニル基が好ましい。このような置換基は、不飽和基含有化合物（ａ２）１分子毎に一つずつ含まれている。

また不飽和基含有化合物（ａ２）には、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合が、１分子毎に１〜５個、好ましくは１〜２個含まれている。このような不飽和基含有化合物（ａ２）の具体例としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシアナート、アリルイソシアナート；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。

不飽和基含有化合物（ａ２）は、上記アクリル系共重合体（ａ１）の官能基含有モノマー１００当量当たり、通常１０〜１００当量、好ましくは２０〜９５当量、特に好ましくは２５〜９０当量の割合で用いられる。

アクリル系共重合体（ａ１）と不飽和基含有化合物（ａ２）との反応においては、官能基と置換基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に存在する官能基と、不飽和基含有化合物（ａ２）中の置換基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）が得られる。この反応における官能基と置換基との反応率は、通常７０％以上、好ましくは８０％以上であり、未反応の官能基がエネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）中に残留していてもよい。

エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）中に存在（残留）するカルボキシル基および／またはヒドロキシル基の量（両者が存在する場合には両者の合計量）は、モノマー換算で、好ましくは０．０１〜３０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは０．５〜２５ｍｏｌ％である。なお、アクリル系共重合体（ａ１）の官能基含有モノマーが含有するカルボキシル基および／またはヒドロキシル基と不飽和基含有化合物（ａ２）とが反応する場合、
（カルボキシル基および／またはヒドロキシル基含有モノマーのモル数）
−（不飽和基含有化合物のモル数）
に基づいて計算した値がカルボキシル基および／またはヒドロキシル基の存在量となる。

上記のようにエネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）中にカルボキシル基および／またはヒドロキシル基が存在すると、保護層と情報記録層との接着力が高くなり、得られる光ディスクの強度、耐久性が向上する。

エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０万以上であるのが好ましく、特に１５万〜１５０万であるのが好ましく、さらに２０万〜１００万であるのが好ましい。

硬化前保護層１１を構成する組成物中、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の含有量は２０〜９０重量％であり、好ましくは４０〜８０重量％である。エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の含有量が２０重量％未満では、硬化前保護層１１の情報記録層に対する接着性および凹凸パターンへの追従性が低下する。エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の含有量が９０重量％を超えると、ポリマー（II）の含有量が少なくなり過ぎ、後述するポリマー（II）による特有の効果が得られない。

〔ポリマー（II）〕
ポリマー（II）は、エネルギー線硬化性を有しなく光ディスクの保護層を構成し得るポリマーである。このポリマー（II）と、上記エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）との組合せにより、硬化収縮率の小さい硬化前保護層１１を得ることができる。また、ポリマー（II）を使用することにより、形状保持性の高い硬化前保護層１１を得ることができるとともに、得られる保護層１１’のガラス転移温度、透過率および屈折率の制御を容易に行うことができ、光ディスクの保護層１１’として好適な物性を得ることができる。

ここで、「エネルギー線硬化性を有しない」とは、通常のエネルギー線照射量では硬化しないという意味であり、具体的には、例えば紫外線の場合には、光量で１０００mJ/cm^２以下の照射量、電子線の場合には、１５００krad以下の照射量において硬化しないという意味である。

ポリマー（II）としては、エネルギー線硬化性を有しなく、光ディスクの保護層として好適なものが使用される。好ましいポリマー（II）としては、形状保持性の高い材料としての熱可塑性樹脂が挙げられ、特に透過率の点から、メタクリル樹脂、ポリカーボネートまたはポリシクロオレフィンを使用するのが好ましい。ポリシクロオレフィンとしては、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体やその水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとビニル化合物との共重合体等が挙げられる。これらのポリマーは、光の透過性が高く、また耐熱性に優れる。

硬化前保護層１１を構成する組成物中、ポリマー（II）の含有量は１０〜８０重量％であり、好ましくは２０〜６０重量％である。ポリマー（II）の含有量が１０重量％未満では、硬化前保護層１１の硬化収縮率を小さくする効果および形状保持性を向上させる効果が得られない。一方、ポリマー（II）の含有量が８０重量％を超えると、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）の含有量が少なくなり過ぎ、硬化前保護層１１の情報記録層に対する接着性および凹凸パターンへの追従性が低下する。

〔第三成分（III）〕
硬化前保護層１１を構成する組成物は、上記エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）およびポリマー（II）以外の第三成分（III）を含有してもよい。そのような第三成分（III）としては、例えば、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／または多官能オリゴマー、架橋剤、レベリング剤、微粒子、触媒、その他の添加剤等が挙げられる。また、エネルギー線として紫外線を用いる場合には、第三成分（III）として光重合開始剤を添加することにより、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。

光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝などが挙げられる。

光重合開始剤は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して０．１〜２０重量部、特には０．５〜１０重量部の範囲の量で用いられることが好ましい。

エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／または多官能オリゴマーとしては、例えば、イソボルニルアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルオリゴ（メタ）アクリレート、ポリウレタンオリゴ（メタ）アクリレート等が挙げられる。組成物がかかるエネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／または多官能オリゴマーを含有することにより、硬化物（保護層１１’）の特性を制御することができる。

エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／または多官能オリゴマーは、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して１０〜４００重量部、特には３０〜２００重量部の範囲の量で用いられることが好ましい。

架橋剤としては、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアナート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。組成物がかかる架橋剤を含有することにより、硬化前保護層１１の形状保持性を向上させることができる。

架橋剤は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して０．０１〜１０重量部、特には０．１〜５重量部の範囲の量で用いられることが好ましい。

レベリング剤としては、例えば、ジメチルシロキサン系化合物、フッ素系化合物、界面活性剤等を使用することができる。組成物がかかるレベリング剤を含有することにより、硬化前保護層１１（保護層１１’）の平滑性を向上させることができる。

硬化前保護層１１を構成する組成物中、レベリング剤の含有量は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して、０〜２重量部であることが好まし、特に０．０１〜０．５重量部であることが好ましい。

微粒子としては、例えば、平均粒子径が０．５μｍ以下の二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン、硫酸カルシウム粒子等の無機微粒子や、有機物によって修飾された上記無機酸化物微粒子、あるいは、例えば特開２０００−２７３２７２号公報に記載の反応性粒子などが挙げられる。組成物がかかる微粒子を含有することにより、得られる保護層１１’の硬度を向上させ、保護層１１’に傷防止性能を付与することができる。

硬化前保護層１１を構成する組成物中、微粒子の含有量は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して、０〜６０重量部であることが好ましく、特に０〜５０重量部であることが好ましい。

触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、塩化第一錫、塩化第二錫、テトラ−ｎ−ブチル錫、トリ−ｎ−ブチル錫アセテート、ｎ−ブチル錫トリクロライド、トリメチル錫ハイドロオキサイド、ジメチル錫ジクロライド、ジブチル錫アセテート、オクテン酸錫等の他、カリウムオレエート等の有機金属触媒を使用することができる。

ヒドロキシル基とイソシアネート基とのウレタン化反応、特にイソシアネート基が脂肪族系または脂環式系の場合におけるウレタン化反応は、反応速度が遅い傾向があるが、上記のような触媒を使用することにより、ヒドロキシル基とイソシアネート基との反応を極めて効果的に促進させることができる。

硬化前保護層１１を構成する組成物中、触媒の含有量は、ヒドロキシル基を含有する化合物１００重量部に対して、０．０００５〜１重量部であることが好ましく、特に０．００１〜０．５重量部であることが好ましい。

その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、粘着付与剤、カップリング剤、染料等が挙げられる。硬化前保護層１１を構成する組成物中、その他の添加剤の含有量は、エネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）１００重量部に対して、その他の添加剤の合計で０〜５重量部であることが好ましく、特に０〜３重量部であることが好ましい。

硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化前の貯蔵弾性率は、１×１０^３〜１×１０^６Ｐａであるのが好ましく、１×１０^４〜５×１０^５Ｐａであるのが特に好ましい。ここで、「硬化前の貯蔵弾性率」の測定温度は、硬化前保護層１１と情報記録層とを圧着する作業環境と同じ温度であるものとする。すなわち、硬化前保護層１１と情報記録層とを室温で圧着する場合、貯蔵弾性率は、室温下で測定したものであり、硬化前保護層１１と情報記録層とを加熱下で圧着する場合、貯蔵弾性率は、加熱温度と同じ温度で測定したものである。

硬化前保護層１１の硬化前の貯蔵弾性率が１×１０^３Ｐａ未満では、硬化前保護層１１に流動性があり、光ディスクの保護層形成用シート１として不適なものになるおそれがある。また、硬化前保護層１１の硬化前の貯蔵弾性率が１×１０^６Ｐａを超えると、凹凸パターンを有する情報記録層に対する硬化前保護層１１の追従性が悪くなり、硬化前保護層１１と情報記録層との密着性が低くなるおそれがある。

また、硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の貯蔵弾性率は、１×１０^６Ｐａ以上であるのが好ましく、特に、１×１０^８〜１×１０^１１Ｐａであるのが好ましい。ここで、「硬化後の貯蔵弾性率」の測定温度は、光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。

硬化前保護層１１の硬化後の貯蔵弾性率が１×１０^６Ｐａ未満であると、形成される保護層１１’の強度が不足するおそれがある。

硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後のガラス転移温度は、６０℃以上であるのが好ましく、特に６５℃以上であるのが好ましい。光ディスクの使用環境として高温環境が考えられるが、組成物の硬化後のガラス転移温度（保護層１１’のガラス転移温度）が６０℃未満であると、かかる光ディスクの使用環境に適さないおそれがある。

硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の波長４００ｎｍ以上の光の透過率は、８５％以上であるのが好ましい。光ディスクにおいては、記録容量を上げるために短波長レーザ（例えば波長４０５ｎｍの青紫色レーザ）を使用することがあるが、硬化後の組成物（保護層１１’）が上記透過率を有することにより、かかる短波長レーザにも対応することが可能となる。

硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の線膨張係数（保護層１１’の線膨張係数）は、湿熱条件下での使用でも光ディスクが大きな反りを起こさないよう、光ディスク基板２の線膨張係数とほぼ同じであるのが好ましい。例えば、光ディスク基板２がポリカーボネート樹脂からなる場合、その線膨張係数は通常０．８×１０^−４／℃であるため、この場合、硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の線膨張係数は、０．３×１０^−４〜２．０×１０^−４／℃であるのが好ましく、特に０．６×１０^−４〜１．０×１０^−４／℃であるのが好ましい。

光ディスクＤの情報記録層（後述の例では半透過反射層３’）に対する、硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の接着力は、０．１Ｎ／２５ｍｍ以上であるのが好ましく、特に０．５Ｎ／２５ｍｍ以上であるのが好ましい。組成物の硬化後の接着力が０．１Ｎ／２５ｍｍ未満であると、形成される保護層１１’と情報記録層との間で剥離が生じる可能性がある。

硬化前保護層１１を構成する組成物の硬化後の屈折率は、１．４５〜１．７５であるのが好ましく、特に１．４５〜１．５５であるのが好ましい。光ディスクでは、傷防止のために保護層１１’の表面にハードコート層を設けることがあるが、組成物の硬化後の屈折率（保護層１１’の屈折率）が上記の範囲から外れると、ハードコート層の屈折率と大きく異なることが多く、信号特性に悪影響を及ぼす可能性がある。

硬化前保護層１１を構成する組成物は、硬化前保護層１１を積層してなるシートの硬化後のカール量（後述する試験例の試験方法による）が４０ｍｍ以下となるようなものであることが好ましい。このカール量が４０ｍｍを超えると、硬化前保護層１１の硬化に伴う光ディスクＤの反りが大きくなるおそれがある。

以上の組成物から構成される硬化前保護層１１の厚さは、光ディスクの規格に基づいて決定され、例えば片面１層式のＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃの場合には１００μｍであるが、一般的には９５〜１０５μｍ程度であり、好ましくは９７〜１０３μｍ程度である。

上記のような硬化前保護層１１に積層される基材１２，１２’のうち、先に剥離される方の基材（本実施形態では基材１２’）は、硬化前保護層１１に対して剥離性を有する必要があり、後に剥離される方の基材（本実施形態では基材１２）は、硬化後の保護層１１に対して剥離性を有する必要がある。

具体的には、先に剥離される方の基材（基材１２’）の硬化前保護層１１側の面の剥離力（剥離力Ａ）は１５０ｍＮ／２５ｍｍ以下であるのが好ましく、後に剥離される方の基材（基材１２）の硬化前保護層１１側の面の剥離力は、剥離力Ａ以上、２００ｍＮ／２５ｍｍ以下であるのが好ましい。

また、基材１２，１２’、特に先に剥離される方の基材（基材１２’）の硬化前保護層１１側の面の表面粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍ以下であるのが好ましく、さらには０．０５μｍ以下であるのが好ましい。基材１２，１２’がかかる表面粗さ（Ｒａ）を有することにより、硬化前保護層１１に平滑性を付与し、それによって良好な信号特性を得ることができる。特に、硬化前保護層１１（保護層１１’）の情報記録層側の面は光ディスクの信号特性に大きな影響を与えるため、先に剥離される方の基材（基材１２’）の硬化前保護層１１側の面の表面粗さ（Ｒａ）の制御は重要なものとなる。

このような基材１２，１２’としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、塩化ビニル、アイオノマー、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテル・エーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂またはそれら樹脂を架橋したものからなる透明フィルムを、必要に応じてシリコーン樹脂系、アルキド樹脂系、フッ素樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、ワックス系等の剥離剤で剥離処理したものを使用するのが好ましい。

基材１２，１２’の厚さは、通常は５〜３００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１００μｍである。

本実施形態に係る保護層形成用シート１を製造するには、まず、硬化前保護層１１を構成する組成物と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、その塗布剤を基材１２（または基材１２’）の剥離処理面上に塗工して乾燥させ、硬化前保護層１１を形成する。

塗布剤の塗工には、例えば、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することができる。

乾燥温度は、前述したポリマー（II）のガラス転移温度よりも高い温度であるのが好ましく、特にポリマー（II）のガラス転移温度よりも３０〜４０℃高い温度であるのが好ましい。かかる温度で乾燥することにより、硬化前保護層１１を構成する組成物の流動性が高くなってエネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）およびポリマー（II）の相溶性が向上するため、屈折率等の物性が均一な保護層１１’を得ることができる。この硬化前保護層１１の乾燥温度は、通常７０〜１３０℃程度である。なお、乾燥時間は、１〜５分程度であるのが好ましい。

次いで、形成した硬化前保護層１１の表面にもう１枚の基材１２’（または基材１２）の剥離処理面を重ね合わせて、当該基材を硬化前保護層１１に積層する。

このようにして製造される保護層形成用シート１の硬化前保護層１１は、２枚の基材１２，１２’によって挟まれるため、厚さ精度が高いものとなる。また、硬化前保護層１１の表面には、基材１２，１２’における硬化前保護層１１側の表面状態が転写されるため、基材１２，１２’における硬化前保護層１１側の表面の平滑性を高くすれば、硬化前保護層１１の表面の平滑性も高くなり得る。

次に、上記保護層形成用シート１を使用した光ディスク（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。

最初に、図２（ａ）に示すように、ピットまたはグルーブ／ランドによる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造する。この光ディスク基板２は、通常、ポリカーボネートからなり、射出成形等の成形法によって成形することができる。

上記光ディスク基板２の凹凸パターン上には、図２（ｂ）に示すように、スパッタリング等の手段により反射層３を形成する。反射層３は、単層膜であってもよいし、例えば反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。

次いで、図２（ｃ）に示すように、上記反射層３上にエネルギー線硬化性のスタンパー受容層４を形成する。このスタンパー受容層４は、あらかじめシート状に形成したスタンパー受容層を貼り付けることにより形成してもよいし、スピンコート法等によってスタンパー受容層４用の塗布剤を塗工することにより形成してもよい。スタンパー受容層４の材料としては、例えば、前述したエネルギー線硬化性ポリマー（Ｉ）を使用することができる。

スタンパー受容層４を形成したら、図２（ｄ）に示すように、そのスタンパー受容層４に対してスタンパーＳを圧着し、スタンパー受容層４にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。なお、図２（ｄ）に示すスタンパーＳの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。

この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパー受容層４に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層４を硬化させる。エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。

スタンパー受容層４が硬化して、スタンパーＳの凹凸パターンによるピットまたはグルーブ／ランドが形成されたら、スタンパーＳとスタンパー受容層４とを分離し、図２（ｅ）に示すように、スタンパー受容層４の凹凸パターン上に、スパッタリング等の手段により半透過反射層３’を形成する。この半透過反射層３’は、単層膜であってもよいし、例えば半透過反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。

そして、保護層形成用シート１の一方の基材１２’を剥離除去して硬化前保護層１１を露出させ、図２（ｆ）に示すように、硬化前保護層１１を上記半透過反射層３’の表面に圧着する。この状態で、エネルギー照射装置を使用して、硬化前保護層１１に対してエネルギーを照射し、硬化前保護層１１を硬化させ、保護層１１’とする。

エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられ、好ましくは紫外線が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で１００〜５００mJ/cm^２程度が好ましく、電子線の場合には、１０〜１０００krad程度が好ましい。

硬化前保護層１１が硬化して保護層１１’が形成されたら、図２（ｇ）に示すように、保護層形成用シート１の他方の基材１２を剥離除去し、必要に応じて保護層１１’の表面にハードコート層、防汚層等のオーバーコート層を形成し、光ディスクＤとする。

ハードコート層としては、分子内に（メタ）アクリロイル基を２つ以上有するポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートまたはエポキシ（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリレートモノマーとをエネルギー線硬化反応させたものが一般的に用いられるが、これに限定されるものではなく、例えば、シロキサン結合を有する材料からなるもの等を用いることもできる。

防汚層を構成する材料としては、例えば、フッ素系化合物、ジメチルシロキサン系化合物、フッ素変性ジメチルシロキサン系化合物などを用いることができる。

上記のように保護層形成用シート１を使用した光ディスク製造方法によれば、保護層１１’を形成するにあたって接着層を設ける必要がないため、少ない製造工程で光ディスクＤを製造することができる。しかも、保護層形成用シート１の硬化前保護層１１は形状保持性が高く、保護層１１’は厚さ精度が高いものとなるため、得られる光ディスクＤは良好な信号特性を有し、製造歩留りも高い。さらに、保護層形成用シート１の硬化前保護層１１は硬化収縮性が小さいため、硬化前保護層１１を硬化させて保護層１１’を形成したときに、光ディスクＤの反りが抑制される。

以上の光ディスク製造方法では、上記保護層形成用シート１を使用して片面２層式の光ディスクを製造したが、これに限定されることなく、例えば、上記保護層形成用シート１を使用して片面１層式等の光ディスクを製造することもできる。

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

例えば、保護層形成用シート１における基材１２または基材１２’はなくてもよい。

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。なお、本実施例等では、エネルギー線として紫外線を用いた例を示す。

〔実施例１〕
ｎ−ブチルアクリレート５２重量部と、メチルメタクリレート２０重量部と、２−ヒドロキシエチルアクリレート２８重量部とを酢酸エチル中で反応させて、官能基にヒドロキシル基を有するアクリル系共重合体の酢酸エチル溶液（固形分濃度：４０重量％）を得た。さらに、そのアクリル系共重合体の酢酸エチル溶液２５０重量部に、酢酸エチル１００重量部と、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナート２１重量部と、触媒としてのジブチル錫ジラウレート０．０２５重量部とを添加し、窒素雰囲気下、室温で４８時間反応させて、紫外線硬化性ポリマー（紫外線硬化型アクリル酸エステル共重合体；重量平均分子量（Ｍｗ）：７９万）を得た。この紫外線硬化性ポリマーにおける紫外線硬化性基の平均側鎖導入率は３０ｍｏｌ％であった。得られたポリマー溶液を酢酸エチルで希釈して、固形分濃度３０重量％の紫外線硬化性ポリマー溶液（ａ）とした。

紫外線硬化性ポリマー溶液（ａ）２００重量部と、紫外線硬化性を有しないポリマーとしてメタクリル樹脂（綜研化学社製，ＥＦ−４３，固形分濃度：５０重量％，Ｔｇ：８０℃）８０重量部と、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝からなる光重合開始剤（日本シイベルへグナー社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ−１５０，固形分濃度：１００重量％）３重量部とを混合し、希釈溶剤としてトルエンを用いて、固形分濃度３３重量％の保護層の塗工液とした。

上記塗工液を、重剥離型剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ５０Ｃ，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：５０μｍ，Ｒａ：０．０１６）の剥離処理面に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにナイフコーターを用いて塗工し、１１０℃で２分間乾燥して硬化前保護層を形成した。その硬化前保護層に軽剥離型剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ７５１１，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：７５μｍ，Ｒａ：０．０１５）を貼合し、保護層形成用シートを得た。

〔実施例２〕
実施例１で得られた紫外線硬化性ポリマー溶液（ａ）１００重量部と、紫外線硬化性を有しないポリマーとしてメタクリル樹脂（綜研化学社製，ＥＦ−４３，固形分濃度：５０重量％，Ｔｇ：８０℃）８０重量部と、紫外線硬化性多官能オリゴマーとしてポリウレタンオリゴアクリレート（大日本インキ化学工業社製，ユニディックＲＳ２４−１５６，固形分濃度：１００重量％，分子量：１６００）３０重量部と、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝からなる光重合開始剤（日本シイベルへグナー社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ−１５０，固形分濃度：１００重量％）３重量部とを混合し、希釈溶剤としてトルエンを用いて、固形分濃度３３重量％の保護層の塗工液とした。

得られた塗工液を使用し、実施例１と同様にして保護層形成用シートを作製した。

〔実施例３〕
実施例１で得られた紫外線硬化性ポリマー溶液（ａ）１００重量部と、紫外線硬化性を有しないポリマーとしてメタクリル樹脂（綜研化学社製，ＥＦ−４３，固形分濃度：５０重量％，Ｔｇ：８０℃）４０重量部と、紫外線硬化性多官能オリゴマーとしてポリウレタンオリゴアクリレート（大日本インキ化学工業社製，ユニディックＲＳ２４−１５６，固形分濃度：１００重量％，分子量：１６００）３０重量部と、紫外線硬化性多官能モノマーとしてイソボルニルアクリレート（新中村化学工業社製，ＮＫ−エステルＡ−ＩＢ，固形分濃度：１００重量％）２０重量部と、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝からなる光重合開始剤（日本シイベルへグナー社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ−１５０，固形分濃度：１００重量％）３重量部とを混合し、希釈溶剤としてトルエンを用いて、固形分濃度３３重量％の保護層の塗工液とした。

得られた塗工液を使用し、実施例１と同様にして保護層形成用シートを作製した。

〔比較例１〕
アクリル酸ブチル９８重量部とアクリル酸２重量部とを共重合した共重合体（重量平均分子量（Ｍｗ）：７０万）１００重量部に対して、架橋剤としてのポリイソシアナート化合物（日本ポリウレタン社製，コロネートＬ）を１重量部添加し、さらに希釈溶剤として酢酸エチル２００重量部を加えて固形分濃度を３３重量％に調整し、粘着剤の塗工液とした。

上記塗工液を、剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ５０Ｃ，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：５０μｍ，Ｒａ：０．０１６）の剥離処理面に乾燥後の膜厚が２０μｍになるようにナイフコーターを用いて塗工し、１００℃で２分間乾燥して粘着剤層を形成した。その粘着剤層とポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，ピュアエースＣ１１０−８０）とを貼合し、光ディスク用カバーフィルムを得た。

〔比較例２〕
紫外線硬化性を有しないポリマーを混合しない以外、実施例１と同様にして保護層の塗工液を調製した。そして、得られた塗工液を使用し、実施例１と同様にして保護層形成用シートを作製した。

〔試験例〕
１．貯蔵弾性率・ガラス転移温度・線膨張係数・透過率・屈折率
実施例および比較例２で得られた保護層形成用シートに対し、重剥離型剥離フィルム側から紫外線を照射し（リンテック社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量２００mJ/cm²）、硬化前保護層を硬化させ、保護層とした。なお、硬化前保護層の貯蔵弾性率（硬化前）はあらかじめ測定しておいた。

保護層から軽剥離型剥離フィルムおよび重剥離型剥離フィルムを剥離し、以下のようにして、保護層の軽剥離型剥離フィルムに接触していた側の面の表面粗さ（Ｒａ）、保護層の貯蔵弾性率（硬化後）、ガラス転移温度、線膨張係数、４００ｎｍ透過率および屈折率を測定した。結果を表１に示す。

また、比較例１で得られた光ディスク用カバーフィルムについても、剥離フィルムのみを剥離し、紫外線を照射しない以外、上記と同様にして４００ｎｍ透過率および屈折率を測定した。結果を表１に示す。

表面粗さ（Ｒａ）：接触式表面粗さ計（ミツトヨ社製，ＳＶ３０００Ｓ４）を使用し、ＩＳＯ４２８７に準じて測定した。
貯蔵弾性率：硬化前の貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製，装置名：ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡ II）を用いて１Ｈｚで２５℃の値を測定した。また、硬化後の貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置（オリエンテック社製，レオバイブロンＤＤＶ−II−ＥＰ）を用いて３．５Ｈｚで２５℃の値を測定した。
ガラス転移温度および線膨張係数：熱分析装置（マックサイエンス社製，システムＷＳ００２）を使用して測定した。
４００ｎｍ透過率：分光光度計（島津製作所社製，ＵＶ−３１０１ＰＣ）を使用して測定した。
屈折率：アッベ屈折率計（アタゴ社製）を使用し、ＪＩＳ Ｋ７１４２に準じて測定した。

２．接着力
実施例および比較例２で得られた保護層形成用シートについて、以下のようにして接着力を測定した。保護層形成用シートの硬化前保護層から重剥離型剥離フィルムを剥離し、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートからなる基材と厚さ２０μｍの粘着剤層（粘着剤：リンテック社製，ＰＡＴ１）とからなる粘着テープを保護層に貼り付けた。

次いで、硬化前保護層から軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した硬化前保護層を、膜厚３０ｎｍのＡｇを蒸着したディスク基板のＡｇ蒸着面に２０Ｎの圧力で圧着した。そして、ディスク基板側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量２００mJ/cm²）、硬化前保護層を硬化させた。

その後、ＪＩＳ Ｚ０２３７に準じて、硬化した保護層とディスク基板の銀蒸着面との接着力（１８０°ピール強度）を測定した。結果を表１に示す。

比較例１で得られた光ディスク用カバーフィルムについては、粘着剤層から剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を、膜厚３０ｎｍのＡｇを蒸着したディスク基板のＡｇ蒸着面に２０Ｎの圧力で圧着した。その後、ＪＩＳ Ｚ０２３７に準じて、粘着剤層とディスク基板の銀蒸着面との接着力（１８０°ピール強度）を測定した。結果を表１に示す。

３．カール量
実施例および比較例２で得られた保護層の塗工剤を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製，ＰＥＴ５０Ｔ−１００，厚さ：５０μｍ，易接着層なし）に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにナイフコーターを用いて塗工し、１１０℃で２分間乾燥して硬化前保護層を形成した。そして、硬化前保護層側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、硬化前保護層を硬化させた。

得られた積層フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに裁断し、これを測定用サンプルとした。この測定用サンプルを、硬化前保護層が上側になるようにして水平な台の上に置き、測定用サンプルの各角の台からの距離の合計をカール量（ｍｍ）とした。結果を表１に示す。

〔製造例〕
１．保護層形成用シートを使用した光ディスクの製造
＜第１工程：保護層形成用シートの製造＞
実施例１で得られた保護層の塗工液を、重剥離型剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ５０Ｃ，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：５０μｍ）の剥離処理面に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにナイフコーターを用いて塗工し、１１０℃で２分間乾燥して硬化前保護層を形成した。その硬化前保護層に軽剥離型剥離フィルム（リンテック社製，製品名：ＳＰ−ＰＥＴ７５１１，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：７５μｍ）を貼合し、保護層形成用シートを得た。

＜第２工程：裁断加工＞
得られた保護層形成用シートを１４０ｍｍ幅に裁断加工した。

＜第３工程：抜き加工＞
裁断加工後の保護層形成用シートをφ１２０ｍｍのディスク形状に抜き加工した。

＜第４工程：貼合加工＞
抜き加工後の保護層形成用シートの軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した硬化前保護層をディスク基板の記録層面に２０Ｎの圧力で圧着した。そして、ディスク基板側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、硬化前保護層を硬化させ、光ディスクを得た。

２．カバーフィルムを使用した光ディスクの製造（従来例）
＜第１工程：プロテクトフィルムの製造＞
アクリル系粘着剤（リンテック社製，ＬＳ０５８Ｇ）を、易接着性のポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製，ＰＥＴ２５Ａ４１００，厚さ：２５μｍ）上に乾燥後の膜厚が１５μｍになるようにナイフコーターを用いて塗工し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層を形成した。その粘着剤層と剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：３８μｍ）とを貼合し、プロテクトフィルムを得た。

＜第２工程：ＰＣフィルムとプロテクトフィルムとの貼合＞
アクリル系ハードコート剤（ＪＳＲ社製，製品名：デソライトＺ７５２４）を、ポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，ピュアエースＣ１１０−７５，厚さ：７５μｍ）上に乾燥後の膜厚が５μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、紫外線を照射して（リンテック社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、ハードコート層を硬化させた。次いで、プロテクトフィルムの剥離フィルムを剥離し、ハードコート層に貼合した。

＜第３工程：粘着加工＞
比較例１で調製した粘着剤層の塗工液を、剥離フィルム（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，基材：ポリエチレンテレフタレート，厚さ：３８μｍ）の剥離処理面に乾燥後の膜厚が２０μｍになるようにナイフコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層を形成した。その粘着剤層と、上記ポリカーボネートフィルムのハードコート加工面の反対面とを貼合し、これをカバーフィルムとした。

＜第４工程：裁断加工＞
得られたカバーフィルムを１４０ｍｍ幅に裁断加工した。

＜第５工程：抜き加工＞
裁断加工後のカバーフィルムをφ１２０ｍｍのディスク形状に抜き加工した。

＜第６工程：貼合加工＞
抜き加工後のカバーフィルムの剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層をディスク基板の記録層面に２０Ｎの圧力で圧着し、光ディスクを得た。

以上のとおり、保護層形成用シートを使用すれば、カバーフィルムを使用する場合よりも、少ない工程数で光ディスクを製造することができる。

本発明は、信号特性が良好で反りが抑制された光記録媒体を、少ない製造工程で歩留り良く製造するのに有用である。

本発明の一実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートの断面図である。 同実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートを使用した光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。

符号の説明

１…光ディスク（光記録媒体）の保護層形成用シート
１１…硬化前保護層
１１’…保護層
１２，１２’…基材
２…光ディスク基板
３…反射層
３’…半透過反射層
４…スタンパー受容層

Claims (18)

1. エネルギー線硬化性ポリマー２０〜９０重量％と、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマー１０〜８０重量％とを含有する組成物からなる硬化前保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シート。
2. 前記硬化前保護層は、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下の平滑面を有する基材の前記平滑面に積層されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
3. 前記硬化前保護層は、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下の平滑面を有する２つの基材の前記平滑面相互間に挟まれていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
4. 前記エネルギー線硬化性ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
5. 前記エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーが、メタクリル樹脂、ポリカーボネートまたはポリシクロオレフィンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
6. 前記組成物の硬化前の貯蔵弾性率が、１×１０^３〜１×１０^６Ｐａであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
7. 前記組成物の硬化後の貯蔵弾性率が、１×１０^６Ｐａ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
8. 前記組成物の硬化後のガラス転移温度が、６０℃以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
9. 前記組成物の硬化後の波長４００ｎｍ以上の光の透過率が、８５％以上であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
10. 前記組成物の硬化後の線膨張係数が、０．３×１０^−４〜２．０×１０^−４／℃であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
11. 光記録媒体の情報記録層に対する前記組成物の硬化後の接着力が、０．１Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
12. 前記組成物の硬化後の屈折率が、１．４５〜１．７５であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シート。
13. 硬化前保護層を備えた光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法であって、
    エネルギー線硬化性ポリマー２０〜９０重量％と、エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマー１０〜８０重量％とを含有する組成物を、第１の平面上に塗布し乾燥させるとともに、前記第１の平面と第２の平面によって挟むことにより、前記硬化前保護層を形成する
    ことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法。
14. 前記第１の平面上に塗布した組成物の乾燥を、前記エネルギー線硬化性を有しなく光記録媒体の保護層を構成し得るポリマーのガラス転移温度よりも高い温度で行うことを特徴とする請求項１３に記載の光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法。
15. 光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、
    最外層の情報記録層に対し、請求項１〜１２のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を圧着し、
    エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成する
    ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
16. 光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、
    最外層の情報記録層に対し、請求項２〜１２のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を、前記保護層形成用シートにおける基材の平滑面に接していた側の面が前記情報記録層側になるようにして圧着し、
    エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成する
    ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
17. 請求項１〜１２のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を硬化してなる保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体。
18. 光記録媒体基板と、１層または２層以上の情報記録層と、請求項２〜１２のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を硬化してなる保護層とを備え、
    前記保護層は、前記硬化前保護層における前記基材の平滑面に接していた側の面を情報記録層側として、前記情報記録層に積層されていることを特徴とする光記録媒体。
    

Images