JP2006047735A - 貯蔵燐光体スクリーンを読み出すためのシステム - Google Patents

Abstract

【課題】露光された貯蔵燐光体パネルを走査するときに放射線透過フィルターの変換が要求されないように別個の放射線用途のために使用され次々とＸ線に露光される複数の貯蔵燐光パネルを読み出すシステムを提供する。
【解決手段】刺激すると放出される光を検出するため光を像の信号表示に変換するために配置された変換器要素の配列、及び刺激放射線によって放出される光が変換要素によって検出されることを防止するためのフィルタリング手段において、刺激放射線の刺激放出波長における透過率と３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲における刺激された光の透過率の比が１０−６未満であり、前記比が下記式（１）によって規定されることを特徴とするシステム。
Ｔｒ（λｓｔ（ｎｍ））／Ｔｒ（λｘ（ｎｍ））＜１０−６（１）
［式中、λｓｔは刺激波長であり、３５０ｎｍ＜λｘ＜５００ｎｍ。］
変換器要素は電荷結合素子（ＣＣＤ）であり、フィルタリング手段は少なくとも一つの有機遷移金属染料を含む。
【選択図】なし

Description

本発明は複数の貯蔵燐光体プレートを読み出すためのシステムに関する。特に放射線写真環境においてランダムな順序で露光及び処理された前記貯蔵燐光体プレートの取扱いにおけるエラーが避けられ、それによって刺激で前記複数の燐光体スクリーンによって放出された光が刺激光から効果的に分離される。

増感ルミネセント燐光体スクリーンがルミネセント放射線を直接放出し、前記スクリーンが貯蔵媒体でない、従来の放射線写真とは対照的に、刺激性燐光体スクリーン、シート又はパネルと称される放射線像貯蔵パネルを利用する放射線像記録及び再生技術は刺激性燐光体を与えられる。放射線像記録及び再生技術を用いて、放射線像貯蔵パネルの刺激性燐光体は放射線を吸収させられ、それは被写体の像情報を担持するか又は試料から外に放射される。前記刺激性燐光体は可視光又は赤外線の如き刺激線に暴露され、それは刺激性燐光体に対して照射露光中にその上に貯蔵されたエネルギーの量に比例して光を放出させる。

放出された蛍光は次いで電気信号を得るために光電気的に検出される。電気信号はさらに処理され、処理された電気信号は記録材料上に可視像を再生するために利用される。中間貯蔵媒体として貯蔵燐光体シート又はパネルを利用する、この作業方法は“コンピュータ放射線写真”とも称される。

放射線写真では放射線医が患者の状態の正確な評価を作るために優れた像品質を持つことが重要であるので、重要な像品質の側面は解像度及び像信号対ノイズ比である。

コンピュータ放射線写真について信号対ノイズ比は多数の要因に依存する。

第一に、貯蔵燐光体スクリーンによって吸収されるＸ線量子の数が重要である。信号対ノイズ比は吸収される量子の数の平方根に比例するだろう。

第二に、いわゆる蛍光ノイズが重要である。このノイズは吸収されるＸ線量子に対して検出された光刺激された光（ＰＳＬ）量子の数が小さいという事実によって生じる。多数のＰＳＬ光がコンピュータ放射線写真における検出方法で失われるので、蛍光ノイズは信号対ノイズ比に対して重要な寄与を有する。吸収されるＸ線量子毎に平均して少なくとも一つの光子が検出されることが重要である。もしこれがあてはまらないなら、多くの吸収されるＸ線量子が像に寄与せず、信号対ノイズ比は極めて劣るだろう。

この状況はＸ線量子が低エネルギーで使用されるマンモグラフィにおいて最も重要である。軟らかいＸ線は少ないＰＳＬ中心を生じ、それゆえ硬いＸ線より少ない光子を生じるだろう。

コンピュータ放射線写真では、多数のＰＳＬ中心が吸収されるＸ線量子によって作られる。画素刺激のために利用可能な限られた時間のため及び利用可能な限られたレーザ出力のため、読み出し工程においてＰＳＬ中心は全て刺激されない。実際には、ＰＳＬ光子を生じるためにＰＳＬ中心の約３０％だけが刺激される。これらの光子は全ての方向に放出及び散乱されるので、ＰＳＬ光子の５０％だけが貯蔵燐光体スクリーンの上側に放出され、そこでそれらは検出システムによって検出されることができる。放出されたＰＳＬ光子は光ガイドによって検出器の方へ案内される。この光ガイドは光ファイバーの配列からなってもよく、それは貯蔵燐光体スクリーンの上の矩形検出領域を形成し、かつ検出側に円形横断面を有する。このタイプの光ガイドは３０％だけの数値開口率を有し、それは放出されるＰＳＬ光子の１／３だけが検出器に案内されることを意味する。光ガイドと検出器の間にはフィルターが置かれ、それは貯蔵燐光体スクリーンによって反射された刺激光を止め、スクリーンによって放出されるＰＳＬ光を透過する。このフィルターはまた、ＰＳＬの小さな吸収及び反射を有し、ＰＳＬ光子の約７５％だけを透過する。コンピュータ放射線写真では光増倍管が一般に使用され、ＰＳＬ信号を電気信号に変形する。４４０ｎｍにおいて光増倍管は約２０％の量子効率を有する。これは光増倍管に到達するＰＳＬ光子の１／５だけが検出されることを意味する。

要するに、貯蔵燐光体スクリーンに作られる１０００ＰＳＬ中心に対して、１０００×０．３×０．５×０．３×０．７５×０．２又は６．７５ＰＳＬ光子が検出されるにすぎない。もしＸ線量子ごとに少なくとも一つの検出されたＰＳＬ光子を生じることが必要なら、Ｘ線量子によって作られるＰＳＬ中心の数は十分に大きくすべきである。または、逆に、ＰＳＬ中心を作るために要求されるＸ線エネルギーは十分に小さくすべきである。

マンモグラフィでは、Ｘ線源の一般的な設定は２８ｋＶｐである。これは、Ｘ線量子の平均エネルギーが１５ｋｅＶのオーダであるＸ線スペクトルに導く。このエネルギーを有するＸ線量子について、少なくとも一つの検出されたＰＳＬ光子を生じるために、ＰＳＬ中心を作るために必要とされるエネルギーは１５０００×６．７５／１０００＝１００ｅＶより小さくすべきである。

さらに微細な視覚化、高解像度高コントラスト像が多くのＸ線医療像形成システム、特にマンモグラフィにおいて要求されることが良く知られている。Ｘ線フィルム／スクリーン及びデジタルマンモグラフィシステムの解像度は現在それぞれ２０線対／ｍｍ及び１０線対／ｍｍに制限されている。この制限の重要な理由の一つは現在使用されるＸ線スクリーンにおける燐光体粒子サイズと関連する。

特に、燐光体粒子及びそれらの粒子境界によって散乱される光は像における空間解像度及びコントラストの損失を生じる。解像度及びコントラストを増大するために、可視光の散乱を低下しなければならない。散乱は燐光体ルミネセンス効率を維持しながら燐光体粒子サイズを減少することによって減少されることができる。さらに、Ｘ線から光への変換効率、量子検出効率（例えば刺激後に放出された光に変換可能な吸収されたＸ線の部分）及びスクリーン効率（例えば刺激線での刺激後にスクリーンから逃避する放出された光の部分）は燐光体粒子サイズの減少によって否定的な方法で影響されないようにすべきである。特別な利点として前に提示されたコンピュータ放射線写真記録及び再生技術は従来の放射線写真においてより顕著に低い放射線量で得られる多量の情報を含む放射線像を示す。

無症候の女性母集団の臨床的診断及びルーチンスクリーニングに対して、スクリーン−フィルムマンモグラフィは今日、胸部癌の早期発見のための代表的な技術をなお表す。しかしながら、スクリーン−フィルムマンモグラフィはその有効性を低減する制限を持つ。胸部組織における放射線吸収密度における極めて低い相違のため、像コントラストは本質的に低い。フィルムノイズ及び散乱放射線はさらにコントラストを低下し、表示された像における微小石灰化の検出を困難にする。従って、例えばフィルム勾配は幅広いラティチュードに対する必要性に対してバランスされなければならない。

デジタル放射線写真システムは一次デジタル及び二次デジタルシステムとして広く分類されることができる。一次デジタルシステムはセンサ上に入射する放射線を使用可能な電気信号に直接変化してデジタル像を形成することを意味する。他方、二次デジタルシステムは放射線のデジタル像への変換において中間工程を伴う。例えば、デジタルＸ線透視では、Ｘ線を可視像に変換して次いでビデオカメラを使用してデジタル像に変換される中間変換のために像増強装置が使用される。同様に、光刺激されたルミネセンス（ＰＳＬ）プレートを使用するデジタルＸ線システムはまず化学エネルギーとして視覚像を貯蔵する。第二工程では、貯蔵された化学エネルギーはレーザを使用して電気信号に変換されＰＳＬプレートを走査してデジタル像を形成する。

さらに、デジタル放射線写真システムのために走査モードでシリコン光ダイオードアレーを使用する様々な方式が使用される。しかしながら、これらの光ダイオードアレーは１０ｋｅＶ以上のエネルギーでのアレーの量子効率（感度）の急激な落ち込みのため、Ｘ線を可視光に変換するための中間燐光体スクリーンを必要とする。

燐光体プレートに埋め込まれた、好ましく使用される刺激性燐光体は、２５０ｎｍ未満の波長を放射線だけでなく２５０〜４００ｎｍの波長領域の可視又は紫外光も吸収する燐光体であり、さらに４００〜９００ｎｍの波長領域の刺激線で照射されるときに３００〜５００ｎｍの範囲の波長の刺激された放出を与える。

良く知られた頻繁に使用される刺激性燐光体は二価のユウロピウム活性化燐光体（例えばＢａＦｂｒ：Ｅｕ，ＢａＦＢｒＩ：Ｅｕ）又はセシウム活性化アルカリ土類金属ハロゲン化物燐光体及びセシウム活性化オキシハライド燐光体、並びにＹＬｕＳｉＯ_５：Ｃｅ，Ｚｒの式を有する燐光体を含む。

本発明では二価のユウロピウム活性化アルカリハロゲン化物型燐光体スクリーン（前記ハロゲン化物は塩化物、臭化物及び沃化物の少なくとも一つ又はそれらの組み合わせである）又は二価のユウロピウム活性化アルカリ土類金属燐光体スクリーン（前記ハロゲン化物はフッ素、塩素、臭素及び沃素の少なくとも一つ又はそれらの組み合わせである）のいずれかを含有するスクリーンをランダムに使用することが考えられる。最も好ましいのは二価のユウロピウム活性化ＣｓＸ型燐光体スクリーン（前記ＸはＢｒ又はＢｒ（Ｃｌ），Ｂｒ（Ｉ）又はＢｒ（Ｃｌ，Ｉ）のようなＣｌ及びＩの少なくとも一つとＢｒの組み合わせである）及びバリウムフルオロハライド燐光体スクリーン（燐光体は（Ｂａ，Ｍ^ＩＩ）ＦＸ′：Ｅｕ型のものであり、Ｍ^ＩＩはアルカリ土類金属であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及び／又はＩである）のランダムな使用である。

結晶性の二価のユウロピウム活性化アルカリハロゲン化物燐光体スクリーンは円柱体の形で（及び針状の形でも）結合剤のない層でＣｓＢｒ：Ｅｕ^２＋貯蔵燐光体粒子を有することが有利であり、前記円柱体は例えばＥＰ−Ａ １３５９２０４に記載されているように１μｍ〜３０μｍ（より好ましくは２μｍ〜１５μｍ）の範囲の平均横断面直径、前記円柱体の筒部に沿って測定すると１００μｍ〜１０００μｍ（より好ましくは１００μｍ〜５００μｍ）の範囲の平均長さを有する。かかるブロック形状、プリズム状、円柱状又は針状燐光体は粉砕後に得られるか否かにかかわらず別の例では燐光体結合剤層に被覆される。

本発明の別の例では前記刺激性燐光体は（Ｂａ，Ｍ^ＩＩ）ＦＸ′：Ｅｕ型燐光体であり、式中Ｍ^ＩＩはアルカリ土類金属であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及び／又はＩである。好ましい例では、前記Ｍ^ＩＩはＳｒ^２＋である。本発明のシステムに有利に使用される粉末燐光体スクリーンはそれらの対応する貯蔵燐光体層中の結合媒体に分散されるＢａ（Ｓｒ）ＦＢｒ：Ｅｕ^２＋貯蔵燐光体粒子を含有するユウロピウム活性化アルカリ土類金属ハロゲン化物燐光体スクリーンを有する。

記録された像自体は刺激放射線によって露光された光刺激性燐光体スクリーンを刺激することによって及び刺激で燐光体スクリーンによって放出された光を検出し、検出された光を放射線像の電気信号表示に変換することによって再生される。

特別な例では刺激で燐光体スクリーンによって放出された光は電荷結合素子の配列によって検出される。良好な収集効率を得るために刺激で燐光体スクリーンによって放出された光は光ガイドによって電荷結合素子の配列上に案内される。一つの例ではこの光ガイドは光ファイバープレート（ＦＯＰ）の形で実施される。ＦＯＰプレートは二次元光ガイド配列を一緒に形成する多数の並列した光ファイバーからなる。配列の第一寸法は光刺激性燐光体スクリーン上の走査線の長さと一致し、一方第二寸法は変換器要素の配列の幅をカバーする。このようにして光刺激性燐光体スクリーン上の走査線を刺激するときに放出される光はポイントバイポイントのような方式で変換器要素の配列上に案内される。刺激されるために露光される燐光体スクリーンの光は刺激でスクリーンによって放出された光から分離されるべきである。刺激光と放出光を分離する別の方法は燐光体スクリーンと光ファイバープレートの光入力面の間に光フィルターを使用することである。着色されたガラスフィルターはこの目的のために広く使用されている。

光ファイバープレートが燐光体スクリーンと密着しているときに最適化された解像度が得られる。しかしながら、着色されたガラスフィルターはかなり厚く、従って光ファイバープレートと燐光体スクリーンの間に着色されたガラスフィルターを置くことは光ファイバープレートとスクリーンの間の密着を有する条件と両立できない。

どのような刺激性又は貯蔵燐光体スクリーンが医療診断像形成で適用されるとしても、刺激で燐光体スクリーンによって放出される光は刺激光から分離されるべきである。例えばＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を含有する貯蔵燐光体パネルを使用するとき、刺激光源は６００〜８００ｎｍの範囲の光を放出する光源であり、フィルターはできるだけ高い程度でレーザ光を吸収すべきであり、同時に４４０ｎｍで放射線の最大放出を有する、刺激で放出された光の同じフィルターによる吸収を最小にすべきである。

刺激波長範囲でフィルターの最適化された光学濃度は６の濃度値であり、一方放出波長範囲の透過率は少なくとも５０％を越えるべきであり、それは０．３０に等しいか又はそれより小さい濃度を生じる。６の光学濃度はレーザ光が１０^６の倍率で弱められることを意味し、又は換言すれば９９．９９９９％の吸収が達成されることを表現する。ＢＧ ３９ Ｓｃｈｏｔｔ（登録商標）フィルターの如きガラスフィルターによってこれらの仕様を達成するためには、フィルターの厚さは少なくとも５ｍｍにすべきであり、それは極端に厚く、シャープネスに負担を与える。

燐光体スクリーンによって放出された光がＦＯＰによって変換器要素の配列に案内される上記の読み出し装置の場合において、ＦＯＰの入力面と燐光体スクリーンの間の間隙は所望の高解像度を達成するためにたった約１００μｍであることができる。従って、ガラスフィルターはこの用途のために好ましくないことは明らかである。ＦＯＰがマイクロレンズの配列又はセルフォック配列によって置換されるとき、この間隙は２〜３ｍｍの範囲の値を達成するだろう。この場合であっても、上記のようなガラスフィルターの使用は不十分なシャープネスを与えるだろう。

実際の使用の観点から、既に前に示唆したように、異なる刺激性燐光体スクリーン又はパネルが望ましく、それらの全てはランダムな順序で、５００〜８５０ｎｍの波長範囲の刺激線で励起されたとき、３００〜５００ｎｍの波長範囲の刺激された放出を与える。５００〜８５０ｎｍの光が検出器に到達するのを防止することは検出器が赤領域において最高の量子効率を有するＣＣＤであるときに特に重要である。刺激光は刺激で放出された光の波長が緑又は赤刺激光と全く異なるとき、即ち刺激放射線スペクトルと刺激された放出放射線スペクトルの間の重複が全くないか又は無視しうる重複のみが存在するとき、濾過されるだけであることができる。多くの燐光体プレートが次々と露光され読み出し（処理）される医療放射線写真環境における顧客に優しい取扱い又は操作性のためには、ランダムな順序で処理されたとしても、光刺激後に放出された青色光の検出は連続的な読み出しの間にフィルターを交換する必要性なしで、全てのスクリーン又はパネルに対して青色光を透過するフィルターで行われることが推奨される。最適化された像品質を要求する用途並びに通常の像品質を要求する用途において一つの同じ走査装置で走査された異なるプレートの全てに対して一つだけの同じフィルターを使用することが特にコスト低下のために極めて望ましいだろう。異なるタイプのプレートに対する一つだけの走査装置の使用は高く評価されるだろう。

一つの側面では、ＥＰ−Ａ １０６５５２５におけるように、燐光体スクリーンから放射線像を読み出すためのシステムは刺激光の源によって放出された光が変換器要素によって検出されることを防止するために染料を含むフィルタリング手段を与えられた、特別な二価のユウロピウム活性化セシウムハロゲン化物燐光体を含み、一つの燐光体型に制限される。染料は６００〜８００ｎｍの範囲内にある吸収ピーク、少なくとも９９％吸収に相当する値を達成する前記ピークの最大及び２５％未満の４００〜５００ｎｍの範囲の吸収を有する吸収スペクトルを有するので、これは前述の問題に対する解決をもたらすために十分ではない。

それゆえ、本発明の第一目的は、ランダムな順序で取り扱われたときであっても、前記露光された貯蔵燐光体パネルを走査するときに放射線透過フィルターの交換が要求されないように別個の放射線用途のために使用されかつ次々とＸ線に露光される複数の貯蔵燐光体パネルを読み出すためのシステムを提供することである。

特に、最適像品質を要求する用途並びに通常の像品質を要求する用途において一つだけの同じ走査装置を使用し、それによってコストを減らすことが目的である。

それゆえ、放射線像が光刺激性燐光体スクリーンに貯蔵され、スクリーンがスクリーンのすぐの再使用を可能とするために連続的な記録の間に適切な程度まで消去される、複数の貯蔵燐光体パネルを読み出すためのシステムを提供することが考えられる。

本発明のさらなる目的はコンパクトであると同時に高い処理量を有するかかるシステムを提供することである。

本発明のさらなる利点及び具体例は以下の記述及び特許請求の範囲から明らかになるだろう。

図面の簡単な記述
図１Ａ及び１ＢはＸ線露光後に貯蔵されたエネルギーを有する貯蔵燐光体スクリーンを読み出すために使用される比較実験構成を示し、そこでは前記スクリーンは異なる燐光体組成を有し、フィルターの組み合わせは刺激で放出された放射線を検出するために使用される。
図２は本発明の構成であり、そこではフィルターの組み合わせが使用され、そのうちの一つはコバルトを含むフィルターであり、刺激で放出された放射線の検出は放射計検出器によって行われる。
図３Ａ及び３Ｂは二つのガラススライド間に薄いフィルムとして存在する染料１及び染料２の吸収スペクトル及び透過スペクトルを示す。
図４Ａ及び４Ｂは二つのガラススライド間に薄いフィルムとして存在する染料６９及び染料７０の透過スペクトルを示す。

本発明によれば、支持体上の燐光体層における燐光体被覆のＸ線への露光後に刺激性燐光体スクリーン、プレート又はパネルを読み出すためのシステムであって、前記システムが刺激放射線の少なくとも一つの源、刺激すると放出される光を検出するため及び前記光を前記像の信号表示に変換するために配置された変換器要素の配列、及び刺激放射線の前記源によって放出される光が前記変換器要素によって検出されることを防止するためのフィルタリング手段を含むものにおいて、刺激放射線の前記源の刺激放出波長における透過率と３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲における刺激された光の透過率の比が１０^−６未満であり、前記比が下記式（１）によって規定されることを特徴とするシステムが提供される：
Ｔｒ（λ_ｓｔ（ｎｍ））／Ｔｒ（λ_ｘ（ｎｍ））＜１０^−６ （１）
式中、λ_ｓｔは刺激波長であり、３５０ｎｍ＜λ_ｘ＜５００ｎｍ。

本発明によるシステムの一例では、刺激すると放出される光を検出するため及び前記光を前記像の信号表示に変換するための前記変換器要素が電荷結合素子（ＣＣＤ）である

特に本発明によれば前記フィルタリング手段が少なくとも一つの有機遷移金属染料を含むシステムが提供される。

好ましくは前記有機遷移金属染料は一般式（Ｉ）による化合物である：

式中、ｎ≧１，ｍ≧１，Σ（＋）≧１，−２ｎ＝ｍΣ（＋），Ｘ＝Ｎ又はＰ，Ｍ＝Ｃｏ又はＮｉであり、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は同じであっても異なってもよく、各々は独立して置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキル基、置換又は非置換、飽和又は不飽和脂肪族基、置換又は非置換脂環式炭化水素基、置換又は非置換芳香族基、置換又は非置換複素芳香族基、置換又は非置換過剰枝分かれポリマー基、置換又は非置換樹状基を表すか又はＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は各々独立して互いに環系を形成するために必要な原子を表し、Ｌ^１，Ｌ^２，Ｌ^３及びＬ^４は各々独立して、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩの一つを表し、ｍ＝１であるときにΣ（＋）＝２ｎであり、結果として２ｎ正電荷中心がカチオン中に存在し、ｎ＝１でΣ（＋）＝１であるときにｍ＝２であり、結果として二つのカチオン（Ｘ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４）及び（Ｘ^＋Ｒ^５Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８）が分子中に存在し、Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８は同じであっても異なってもよく、各々独立して置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキル基、置換又は非置換、飽和又は不飽和脂肪族基、置換又は非置換脂環式炭化水素基、置換又は非置換芳香族基、置換又は非置換複素芳香族基、置換又は非置換過剰枝分かれポリマー基、置換又は非置換樹状基を表すか又はＲ^５，Ｒ^６，Ｒ^７及びＲ^８は各々独立して互いに環系を形成するために必要な原子を表す。

本発明を開示するときに使用されるような“アルキル”の用語はアルキル基における炭素原子の各数に対して可能な全ての変形を意味し、三つの炭素原子に対してはｎ−プロピル及びイソプロピル、四つの炭素原子に対してはｎ−ブチル、イソブチル及びターシャリブチル、五つの炭素原子に対してはｎ−ペンチル、１，１−ジメチル−プロピル、２，２−ジメチルプロピル及び２−メチルブチルが挙げられるが、それらに限定されない。

本発明を開示するときに使用される“飽和脂肪族基”の用語は飽和直鎖、枝分かれした鎖及び脂環式炭化水素基を意味する。

本発明を開示するときに使用される“不飽和脂肪族基”の用語は直鎖、枝分かれした鎖及び脂環式炭化水素基を意味し、それらは少なくとも一つの二重又は三重結合を含む。

本発明を開示するときに使用される“芳香族基”の用語は環式共役炭素原子の共有結合集合体を意味し、それらは大きな共鳴エネルギーを特徴とし、例えばベンゼン、ナフタレン及びアントラセンである。

“脂環式炭化水素基”の用語は環式共役炭素原子の共有結合集合体を意味し、それらは芳香族基を形成せず、例えばシクロヘキサンである。

本発明を開示するときに使用される“置換”の用語は脂肪族基、芳香族基又は脂環式炭化水素基における一以上の炭素原子及び／又は一以上の炭素原子の水素原子が酸素原子、窒素原子、燐原子、珪素原子、硫黄原子、セレン原子又はテルル原子、又はこれらの前記炭素及び水素置換原子の一以上を含有する基によって置換されることを意味する。かかる置換基はヒドロキシル基、チオール基、カルバメート基、ウレア基、エーテル基、チオエーテル基、ニトリル基、ケトン、カルボン酸基、エステル基、スルホネート基、スルホンアミド基、ホスホネート基、ホスホンアミド基、ホスホンアミデート基、アミド基、アミン基、アンモニウム基、スルホニウム基及びホスホニウム基を含む。

“アンモニウム基”、“スルホニウム基”及び“ホスホニウム基”の用語はそれぞれ正電荷窒素、硫黄及び燐原子を意味する。

“複素芳香族基”の用語は環式共役炭素原子の少なくとも一つが窒素原子又は燐原子によって置換される芳香族基を意味する。

“複素環式基”の用語は環式共役炭素原子の少なくとも一つが酸素原子、窒素原子、燐原子、珪素原子、硫黄原子、セレン原子又はテルル原子によって置換される脂環式炭化水素基を意味する。

“Σ（＋）”の用語はカチオン中の正電荷の合計を意味する。

“樹状基（ｄｅｎｄｒｉｍｅｒｉｃ ｇｒｏｕｐ）”及び“過剰枝分かれポリマー基（ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ ｐｏｌｙｍｅｒ ｇｒｏｕｐ）”の用語は次の参照文献に記載されたような意味を有する：（ａ）Ｃ．Ｇａｏ，Ｄ．Ｙａｎ，Ｐｒｏｇｒｅｓｓ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ２９（２００４），１８３−２７５，（ｂ）Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｖｏｌｕｍｅｓ １９７，２１０，２１１及び２１７，（ｃ）Ｊｉｋｅｉ，Ｍ．；Ｋａｋｉｍｏｔｏ，Ｍ．Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２００１，２６，１２３３，（ｄ）Ｎｅｗｋｏｍｅ，Ｇ．Ｒ．；Ｍｏｏｒｅｆｉｅｌｄ，Ｃ．Ｎ．；Ｖｏｅｇｔｌｅ，Ｆ．Ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ Ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ：Ｃｏｎｃｅｐｔｓ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ；ＶＣＨ：Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，２００１，（ｅ）Ｋｉｍ，Ｙ．Ｈ．Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．１９９８，３６，１６８５，（ｆ）Ｖｏｉｔ，Ｂ．Ｉ．Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．２０００，３８，２５０５，（ｇ）Ｓｕｎｄｅｒ，Ａ．；Ｈｅｉｎｅｍａｎｎ，Ｊ．；Ｆｒｅｙ，Ｈ．Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０００，６，２４９９。これらの文献から、過剰枝分かれポリマーが正規の枝分かれデンドリマー（ｒｅｇｕｌａｒｌｙ ｂｒａｎｃｈｅｄ ｄｅｎｄｒｉｍｅｒ）とは明らかに区別されなければならないことは明らかである。

“有機遷移金属染料”の用語はスペクトルの可視及び／又は赤外部分における吸収を有する化合物を意味し、それは遷移金属イオン及び有機対イオンの両方を含有する。

本発明による染料は有機合成の分野で熟練した者に公知の合成方法に従って製造されることができる。詳細な記述は実施例のＩ．染料合成の部分に与えられる。多くの情報はＴｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｍｅｔａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｌｏｎｄｏｎ），１９９７，２２（２），１１７−１２２及び上述の文献などに見出すこともできる。

しかしながら、一般式（Ｉ）による好ましい染料の例（これらに限定されない）は表１及び表２に与えられている。

表１ 一般式（Ｉ）による染料（式中、Ｘ＝Ｐであり、表に記入された染料に対してはｎ＝１；Σ（＋）＝１；ｍ＝２でＰ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４及びＰ^＋Ｒ^５Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８である）

表２ 一般式（Ｉ）による染料（式中、Ｘ＝Ｎであり、表に記入された染料に対してはｎ＝１；Σ（＋）＝１；ｍ＝２でＮ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４及びＮ^＋Ｒ^５Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８である）

本発明による一つの例では前記有機遷移金属染料は有機コバルト染料であり、前記染料は粘稠な深青色の油として存在し、その好ましい例では、前記粘稠な深青色の油は着色された又は着色されないガラスプレート又はプラスチック箔の間に適用される。本発明による別の例では、前記粘稠な深青色の油はポリマーホストに埋め込まれる。前記ポリマーホストはさらなる例ではＵＶ硬化又は熱硬化マトリックスに存在する。さらに別の例では、前記粘稠な深青色の油は当業者に公知の一般的な添加剤を与えられた、濃縮された溶媒ベースの被覆溶液から被覆される。特別な例では、前記添加剤の一つは結合剤媒体である。さらに使用される溶媒は蒸発によってマトリックスから除去されることが有利である。

本発明によるシステムにおける特別な例では、前記粘稠な深青色の油はＵＶ硬化性モノマー、オリゴマー又はそれらの混合物に埋め込まれる。

ＵＶ硬化に作用するために好適な光開始剤は“Ｓｕｒｆａｃｅ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”Ｖｏｌｕｍｅ ＩＩＩ，１９９８，“Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ＆ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｔｉｏｎ”，２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ＆ Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ，Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，特に２０８−２２４頁に記載されているものにおける教示からとることができる。

業界で一般に知られるいかなる重合可能な化合物も使用することができる。放射線硬化性インクジェットインクにおける放射線硬化性化合物として使用するために特に好ましいものは単官能及び／又は多官能アクリレートモノマー、オリゴマ又はプレポリマー、例えばイソアミルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、イソアミルスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ビニルエーテルアクリレート、例えばＵＳ−Ａ ６３１０１１５に記載のもの、２−（ビニロキシ）エチルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリルオキシエチルフタル酸、２−アクリルオキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、ラクトン変性可撓性アクリレート、及びｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ（エチレンオキサイド）アダクトジアクリレート、ビスフェノールＡ ＰＯ（プロピレンオキサイド）アダクトジアクリレート、ヒドロキシピバレートネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、アルコキシル化ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及びポリテトラメチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ（プロピレングリコール）トリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、Ｎ−ビニルアミド、例えばＮ−ビニルカプロラクタム又はＮ−ビニルホルムアミド；又はアクリルアミド又は置換アクリルアミド、例えばアクリロイルモルフォリン；及びＵＳ−Ａ ６３００３８８に記載されたようなアミノ官能エーテルアクリレートである。

極めて特別な例（本発明はそれに限定されない）では、前記有機遷移金属染料はＵＶ硬化ポリマーホストに埋め込まれ、前記ポリマーホストはアクリレートポリマー、メタクリレートポリマー及びそれらの混合物からなる群から選択される。さらに特別な例では、前記ＵＶ硬化ポリマーホストはポリメチルメタクリレートポリマー、ポリエチルメタクリレートポリマー、メチルメタクリレート／ブチルメタクリレートコポリマー及びそれらの混合物からなる群から選択される。メタクリレートは従ってこれらのアクリレートで使用されてもよい。メタクリレートのうち、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、４−（ビニロキシ）ブチルメタクリレート、ＵＳ−Ａ ６３１０１１５に記載されたようなビニルエーテルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、及びポリエチレングリコールジメタクリレートが好ましい。

上述の重合可能なオリゴマーの例はエポキシアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、芳香族ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、及び直鎖アクリルオリゴマーを含むが、それらに限定されない。

本発明によれば前記粘稠な油は下記式による化合物をさらに含む：
（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４）Ｐ^＋Ｘ⁻及び（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４）Ｎ^＋Ｘ⁻
式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は同じであっても異なってもよく、各々独立して置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキル基、置換又は非置換、飽和又は不飽和脂肪族基、置換又は非置換脂環式炭化水素基、置換又は非置換芳香族基、置換又は非置換複素芳香族基、置換又は非置換過剰枝分かれポリマー基、置換又は非置換樹状基を表し、又はＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は各々独立して互いに環系を形成するために必要な原子を表し、Ｘ⁻はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩの一つを表す。前記ホスホニウム及び／又はアンモニウム塩が粘稠な油に加えられる量は所望の粘度に依存する。好ましい量は０．１〜５０重量％、より好ましくは０．５〜３０重量％、さらにより好ましくは１〜１５重量％の範囲である。

本発明によれば、前記フィルタリング手段が少なくとも一つの誘電フィルター層をさらに与えられるシステムが提供される。

さらに好ましい例では、本発明によるシステムはスペクトル的に純粋な刺激を与えるためにレーザ源と燐光体パネルの間に設置されるカラーフィルターを与えられる。特に、本発明によるシステムでは、前記カラーフィルターはＯＧ５９０，ＲＧ６１０，ＲＧ６３０，ＲＧ６４５，ＲＧ６６５，ＫＧ１，ＫＧ２，ＫＧ３，ＫＧ４及びＫＧ５のタイプのＳｃｈｏｔｔ（登録商標）フィルターの群から選択されるガラスフィルターである。

本発明によるさらなる例では、前記光フィルターが前記有機遷移金属染料の赤外蛍光の吸収を与えるためにフィルタリング手段と検出手段の間に設置されるシステムが提供される。

本発明によるさらなる例では、前記光フィルターが燐光体パネルによって反射される刺激光によって前記有機遷移金属染料の赤外蛍光の励起を減らすために貯蔵燐光体パネルとフィルタリング手段の間に設置されるシステムが提供される。

特に本発明によるシステムでは前記光フィルターはＫＧ１，ＫＧ２，ＫＧ３，ＫＧ４，ＫＧ５，ＢＧ１８，ＢＧ３８，ＢＧ３９及びＢＧ４０のタイプのＳｃｈｏｔｔ（登録商標）フィルターの群から選択されるガラスフィルターである。

本発明によるシステムでは、透過光は５０％より多い、好ましくは６０％より多い、さらに最も好ましくは７５％より多い効率で行われることが好ましい。

“異なる”プレート、パネル又はスクリーンの用語が本発明のシステムにおける貯蔵燐光体に対して使用されるとき、それらのプレート、パネル又はスクリーンの間の放出スペクトルに差異があることが意味される。前記差異は例えば組成の異なる燐光体の存在のためである。本発明のシステムにおける貯蔵燐光体スクリーンは結合剤含有粉末スクリーン及び結合剤のない結晶又は非晶質燐光体層スクリーンからなる群から選択され、前記燐光体は二価のユウロピウム活性化アルカリハロゲン化物型燐光体又はアルカリ土類金属ハロゲン化物燐光体であり、前記ハロゲン化物はフッ化物、塩化物、臭化物及び沃化物又はそれらの組み合わせの少なくとも一つである。

本発明の特別な利点は一つの同じ走査ユニットで走査されかつ最適な像品質を要求する用途並びに通常の像品質を要求する用途で使用される、好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ型燐光体及び好ましいＢａＦＢｒ：Ｅｕ型燐光体で被覆される異なる貯蔵燐光体プレートの全てに対して一つだけの同じフィルターを使用することに関する。

本発明によれば、複数の異なる燐光体スクリーンの、前記貯蔵燐光体スクリーンの各々が下記工程を連続的に受けるシステムがさらに提供される：
− 前記刺激性燐光体スクリーンを刺激光で刺激する；
− 刺激時に前記燐光体スクリーンによって放出された、刺激された放出光を検出する；
− 前記燐光体スクリーンを消去エネルギーに暴露することによってそれを消去する；
但し、前記スクリーンの各々の刺激スペクトルの最大吸収波長における差が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、前記スクリーンの刺激された放出スペクトルの最大放出における差が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であり、フィルタリング手段は刺激放射線が検出手段によって検出されることを防止するため及び刺激で放出された放射線を透過するために与えられる。

その好ましい例では刺激で放出された放射線を透過する前記複数の異なる燐光体スクリーンは１０％以下の異なる燐光体スクリーンによって刺激で放出された光のフィルタリング手段によって透過における差を与える。

本発明によるシステムでは、前記刺激性燐光体スクリーンは結合剤層含有スクリーン及び結合剤のない燐光体層スクリーンからなる群から選択される。

好ましくは本発明によるシステムに使用される前記結合剤のない燐光体層スクリーンは前記支持体に対して６０°〜９０°の範囲の角度下で平行に配列された燐光体針状結晶を有する針状燐光体を与えられる。

本発明によるシステムにおける一例では、前記結合剤のない燐光体層スクリーンは均一に凝固された形で前記燐光体を含む。

本発明によるシステムにおける別の例では、前記結合剤層含有燐光体スクリーンは整列されない粉末形態で粉砕された針状燐光体を含む。

本発明によるシステムは一例では刺激性燐光体スクリーンを与えられ、前記刺激性燐光体は二価のユウロピウム活性化ＣｓＸ型燐光体（前記ＸはＢｒ又はＢｒとＣｌ及びＩの少なくとも一つとの組み合わせを表す）である。

本発明によるシステムは別の例では刺激性燐光体スクリーンを与えられ、前記刺激性燐光体スクリーンは（Ｂａ，Ｍ^ＩＩ）ＦＸ′：Ｅｕ型燐光体（Ｍ^ＩＩはアルカリ土類金属であり、Ｘ′はＢｒ又はＢｒとＣｌ及びＩの少なくとも一つとの組み合わせを表す）である。そのさらなる例では、（Ｂａ，Ｍ^ＩＩ）ＦＸ′：Ｅｕ型燐光体においてＭ^ＩＩはＳｒ^２＋である。

本発明のシステムでは、複数の刺激性燐光体スクリーン、プレート又はパネルを読み出すことは特に前記スクリーンをＸ線（好ましくは２５〜１５０ｋＶｐの範囲のエネルギーを有する）に露光した後に考えられ、燐光体層における支持体上に被覆される燐光体は前に開示されたように結合剤のない燐光体層及び結合剤媒体層からなる群から選択され、前記燐光体は二価のユウロピウム活性化アルカリハロゲン化物型燐光体であり、前記ハロゲン化物は塩化物、臭化物及び沃化物又はそれらの組み合わせであり、又は前記燐光体は二価のユウロピウム活性化アルカリ土類金属ハロゲン化物型燐光体であり、前記ハロゲン化物はフッ化物、塩化物、臭化物及び沃化物又はそれらの組み合わせの少なくとも一つであり、前記スクリーンは下記工程に連続的に供せられる：
（１）刺激エネルギーによって前記燐光体スクリーンを刺激し；
（２）刺激で燐光体スクリーンによって放出された、刺激された放出エネルギーを検出し；
（３）検出されたエネルギーを前記放射線像の信号表示に変換し；
（４）前記燐光体スクリーンを消去エネルギーに暴露することによってそれを消去する；
かくして
（１）前記異なるスクリーンの刺激スペクトルにおける最大の位置の差が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり；
（２）前記異なるスクリーンの刺激された放出スペクトルにおける最大の位置の差が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であり；
（３）フィルタリング手段が、刺激放射線が検出手段によって検出されることを防止するため、及び刺激で放出された放射線を透過するために与えられ、前記フィルターは３９０ｎｍ〜４６０ｎｍ、より好ましくは３８０ｎｍ〜４８０ｎｍ、さらにより好ましくは３５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の放射線を透過し、赤色光が透過されることをブロックする。

本発明のシステムは３９０ｎｍ〜４６０ｎｍ、好ましくは３８０ｎｍ〜４８０ｎｍ、さらにより好ましくは３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲の放射線光を透過する染料を含むフィルタリング手段を与えられることが有利であり、本発明のシステムでは前記フィルタリング手段は有機遷移金属染料、より好ましくは前に開示された特定の式の少なくとも一つによる染料を含む。システムのこの特定の部分は赤〜赤外刺激光が検出手段によって捕獲されることを効率的に防止する。貯蔵燐光体によって放出される刺激された放射線が青色波長範囲にあるのでそれはスペクトルの青色波長範囲における放射線波長に対して感受性を有するべきである。

本発明による染料の透過スペクトルは実施例に示されているように、遷移金属イオン上のリガンド、並びにホスホニウム又はアンモニウム対イオンの構造の両方を変更することによって微調整されることができる。

本発明による染料を含有するフィルターは６８５ｎｍ付近の波長で放射線の高くかつ十分な吸収を与え、さらにＢａＦＢｒ：Ｅｕ及びＣｓＢｒ：Ｅｕ型燐光体の両方の光刺激で放出された光の優れた透過を与えるが、考慮しなければならない二つの重要な側面がある。

第一の側面は刺激するレーザの“スペクトル純度”と関連する。しかしながら、約１０ｎｍの極めて小さな波長範囲で最高の程度まで放射線を発生する半導体レーザはまた、約５９０ｎｍの波長を有する光を放出する。５９０ｎｍにおける強度は極めて低いが、フィルターの光学濃度はその波長において満足すべきものではない。そのための解決策はレーザの近くに位置される二つの光フィルターの適用によって提供される。そのレーザによって放出される望まれない放射線をブロックするために極めて多くの組み合わせが可能である。

第二の側面は選択された有機遷移金属染料の蛍光と関連する。有機コバルト染料に対して蛍光放射線の放出は７００〜８００ｎｍの波長範囲において検出される。その問題を解決するために追加の赤外フィルターが設置されるべきである。満足する結果はＳｃｈｏｔｔからの例えばＫＧ５（登録商標）、より好ましくは同じ製造業者からのＢＧ３９（登録商標）（ともに２ｍｍの厚さを有する）のような商業的に入手可能なフィルターで達成されることが実験的に見出された。

本発明によるシステムは変換器要素の配列によって行って、検出されたエネルギーを前記放射線像の信号表示に変換するための手段をさらに与えられる。

さらに本発明によるシステムにおける好ましい例では、消去光は３００ｎｍ〜１５００ｎｍの波長範囲で放出する消去光源アセンブリによって放出される。より好ましいものは、熱の形のエネルギーを減らし、迅速な再使用を可能とするために、前記光源が前記燐光体スクリーンの１ｃｍ^２あたり１ジュールのエネルギーを越えない電力を有するシステムである。

一つの例では、ＣｓＢｒ：Ｅｕ型燐光体を与えられたスクリーン又はパネルを使用することが推奨され、それは結合剤のない針状燐光体の形で、又は結合剤媒体を含む粉末燐光体スクリーンの形である。

さらに、二価のユウロピウム活性化アルカリ土類金属ハロゲン化物燐光体の所望の層として例えば結合剤被覆ＢａＦ（Ｉ，Ｂｒ）：Ｅｕ又はＢａ（Ｓｒ）ＦＢｒ：Ｅｕ燐光体層のようなＢａＦＢｒ：Ｅｕ型燐光体で被覆された貯蔵燐光体プレート又はパネルがフィルターの交換を必要とせず、何ら問題なく同じ走査ユニットで露光後に処理されることが確立された。燐光体スクリーン又はプレートに使用するために好適な他の貯蔵燐光体は例えば以下の式（Ｉ）に相当するアルカリ金属燐光体である：
Ｍ^１＋Ｘ．ａＭ^２＋Ｘ′_２ｂＭ^３＋Ｘ″_３：ｃＺ （Ｉ）
式中、Ｍ^１＋はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ及びＲｂからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｍ^２＋はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｃｕ，Ｐｂ及びＮｉからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｍ^３＋はＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｂｉ，Ｉｎ及びＧａからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、ＺはＧａ^１＋，Ｇｅ^２＋，Ｓｎ^２＋，Ｓｂ^３＋及びＡｓ^３＋からなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｘ，Ｘ′及びＸ″は同じであっても異なってもよく、各々はＦ，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｉからなる群から選択されたハロゲン原子を表し、０≦ａ≦１、０≦ｂ≦１及び０＜ｃ≦０．２である。かかる燐光体は例えばＵＳ−Ａ ５７３６０６９に開示されている。

二価のユウロピウム活性化アルカリハロゲン化物型燐光体スクリーンが好ましく、前記貯蔵燐光体では、好ましいハロゲン化物は塩化物、臭化物及び沃化物又はそれらの組み合わせの少なくとも一つであり、さらにより好ましい例では、二価のユウロピウム活性化セシウムハロゲン化物型燐光体が使用され、前記ハロゲン化物は臭化ハロゲン化物燐光体としてＢｒ又はＢｒとＣｌ及びＩの少なくとも一つとの組み合わせを表す。

本発明によるシステムでは二価ユウロピウム活性化ＣｓＢｒ型燐光体が最も好ましく使用される。

本発明のシステムに使用される燐光体スクリーン、パネル又はプレートに存在する極めて好ましい燐光体は好ましくは下記工程を含む方法によって製造される燐光体である：
− ＥｕＸ″_２，ＥｕＸ″_３及びＥｕＯＸ″（但し、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択された一つの要素である）からなる群から選択されたユウロピウム化合物の１０^−３〜５ｍｏｌ％と前記ＣｓＸを混合する；
− 前記混合物を４５０℃以上の温度で燃焼する；
− 前記混合物を冷却する；そして
− ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体を回収する。

最も好ましくはＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激性燐光体が本発明のシステムにおける貯蔵燐光体パネルに存在し、前記燐光体は下記製造工程でＥＰ−Ａ １２０３３９４に開示されたような方法によって製造されることが最も好ましい：
− ＥｕＸ″_２，ＥｕＸ″_３及びＥｕＯＸ″（但し、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択された一つの要素である）からなる群から選択されたユウロピウム化合物の１０^−３〜５ｍｏｌ％と前記ＣｓＸを混合する；
− 前記混合物を４５０℃以上の温度で燃焼する；
− 前記混合物を冷却する；そして
− ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体を回収する。

結合剤のないスクリーンは熱蒸着、化学又は物理蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着（これらに限定されない）からなる群から選択されるいずれかの方法によって支持体上に完成した燐光体をもたらすことによって製造されることができる。しかしながら、アルカリ金属ハロゲン化物とドーパントを一緒にもたらし、アルカリ金属燐光体がスクリーンの製造中にドープされるような方法でそれらを共に支持体上に蒸着することもできる。

ＣｓＸ：Ｅｕ刺激性燐光体（但し、ＸはＢｒ又はＢｒとＣｌ及びＩからなる群から選択されたハロゲン化物との組み合わせを表す）を含有する結合剤のない燐光体スクリーンの製造方法は好ましくは下記工程を含む：
− ＥｕＸ″_２，ＥｕＸ″_３及びＥｕＯＸ″（但し、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されたハロゲン化物である）からなる群から選択されたユウロピウム化合物と前記ＣｓＸの多数の容器を真空蒸着のための状態にもたらし、
− 熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択された方法によって、ユウロピウムの１０^−３〜５ｍｏｌ％をドープされたＣｓＸ燐光体が前記支持体上に形成されるような比で前記ＣｓＸ及び前記ユウロピウム化合物の両方を支持体上に蒸着する。

蒸着は所望の割合で出発化合物の混合物を含有する単一容器から行ってもよい。従って、その方法は下記工程を含む、ＣｓＸ：Ｅｕ型刺激性燐光体（但し、ＸはＢｒ，Ｃｌ及びＩ及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物を表す）を含有する結合剤のない燐光体スクリーンの製造方法をさらに包含する：
− ＥｕＸ″_２，ＥｕＸ″_３及びＥｕＯＸ″（但し、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されたハロゲン化物である）からなる群から選択されたユウロピウム化合物の１０^−３〜５ｍｏｌ％と前記ＣｓＸを混合する；
− 前記混合物を真空蒸着のための状態にもたらす；
− 物理蒸着、熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択された方法によって支持体上に前記混合物を蒸着する。

本発明のシステムから生じる特に有利な効果として、一つだけの青色光透過フィルターの使用が粉末結合剤含有スクリーンのため並びに前に開示されたように結合剤のない燐光体スクリーンのために与えられ、そこでは前記燐光体はアルカリ金属ハロゲン化物又はアルカリ土類金属ハロゲン化物型燐光体として異なる組成を有してもよい。本発明のシステムでは、それらの異なる刺激性燐光体型に対して各々が異なるフィルターを有する二つの走査装置を使用する必要性がかくして避けられる。

本発明をその好ましい例と関連して以下に記載するが、本発明をそれらの例に限定することを意図しないことは理解されるだろう。

実施例
Ｉ．染料合成
式（Ｉ）による有機遷移金属の合成は染料１、染料２、染料６９及び染料７０に対して記載されたような例によって行うが、それらに限定されない。

Ｉ．１．染料１の合成：
ビス［ベンジルトリブチルホスホニウム］テトラクロロコバルテート、染料１が計画１に従って製造された。
１１．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＣｏＣｌ_２ヘキサハイドレートを４００ｍｌのエチルアセテートに懸濁した。懸濁液は窒素雰囲気下で維持しながら共沸混合的に乾燥された。水／エチルアセテート混合物はＤｅａｎ Ｓｔａｒｋセパレータで除去された。エチルアセテートの体積はエチルアセテートの追加量を加えることによって４００ｍｌで一定に保持された。除去される水が多いほど、懸濁液の色は赤から青により多く変わった。除去されたエチルアセテート／水の部分の水含有量は水の理論量が除去されるまで測定された（Ｋａｒｌ Ｆｉｓｃｈｅｒ）。還流下で１時間後、エチルアセテート（２００ｍｌ）における３４．５ｇのベンジルトリブチルホスホニウムクロライドの懸濁液を加え、還流を３時間以上続けた。この時間中、二つの１００ｍｌのエチルアセテート画分を蒸留によって除去した。３時間後、反応混合物からクリアで深青色の油相が分離された。反応混合物を５０℃に冷却し、エチルアセテート層を除去した。油中の残留エチルアセテートを５０℃〜６０℃の範囲の温度で高真空下で除去した。４０ｇの染料１が粘稠な深青色の油として得られた。

Ｉ．２．染料２の合成：
ビス［セチルトリブチルホスホニウム］ジブロモジクロロコバルテート、染料２が計画２に従って製造された。
１１．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＣｏＣｌ_２ヘキサハイドレートを４００ｍｌのエチルアセテートに懸濁した。懸濁液は窒素雰囲気下で維持しながら共沸混合的に乾燥された。水／エチルアセテート混合物はＤｅａｎ Ｓｔａｒｋセパレータで除去された。エチルアセテートの体積はエチルアセテートの追加量を加えることによって４００ｍｌで一定に保持された。除去される水が多いほど、懸濁液の色は赤から青により多く変わった。収集されたエチルアセテート／水の部分の水含有量は水の理論量が収集されるまで測定された（Ｋａｒｌ Ｆｉｓｃｈｅｒ）。２時間の還流時間の後、２００ｍｌの暖かいエチルアセテートにおける５３．２ｇのセチルトリブチルホスホニウムブロマイドの溶液を加えた。生じた混合物を還流下で２時間以上加熱し、一方エチルアセテートを蒸留によって除去した。深青色の油が得られ、それは５０℃に冷却された。油中の残留エチルアセテートを５０℃〜６０℃の範囲の温度で高真空下で除去した。５７．８ｇの染料２が深青色の油として得られた。

Ｉ．３．染料６９の合成：
ビス（メチルトリオクチルアンモニウム）テトラクロロコバルテート、（ＴＯＭＡ）_２ＣｏＣｌ_４、染料６９が計画３に従って製造された。
１１．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＣｏＣｌ_２ヘキサハイドレートを４００ｍｌのエチルアセテートに懸濁した。懸濁液は窒素雰囲気下で維持しながら共沸混合的に乾燥された。水／エチルアセテート混合物はＤｅａｎ Ｓｔａｒｋセパレータで除去された。エチルアセテートの体積はエチルアセテートの追加量を加えることによって４００ｍｌで一定に保持された。除去される水が多いほど、懸濁液の色は赤から青により多く変わった。除去されたエチルアセテート／水の部分の水含有量は水の理論量が収集されるまで測定された（Ｋａｒｌ Ｆｉｓｃｈｅｒ）。

１時間還流後、エチルアセテート（２００ｍｌ）におけるＡｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６（Ｃ_８の方が優位であるＣ_８及びＣ_１０鎖の混合物）としてＡｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．，米国から商業的に入手可能な４４．５ｇのメチルトリオクチルアンモニウムクロライドの溶液を加え、還流を３時間以上続けた。生じた溶液を室温に冷却し、１時間活性炭で処理し、濾過した。エチルアセテートを減圧下で蒸留によって除去した。深青色の油が得られ、それを５０℃に冷却した。油中の残留エチルアセテートを５０℃〜６０℃の範囲の温度で高圧下で除去した。４７ｇの染料６９が深青色の油として得られた。生じた深青色の油は染料７０より低い粘度であった。

Ｉ．４．染料７０の合成：
ビス（メチルトリオクチルアンモニウム）テトラブロモコバルテート、（ＴＯＭＡ）_２ＣｏＢｒ_４、染料７０が以下の計画４に従って製造された。
無水ＣｏＢｒ_２（２．３０ｇ；０．０１ｍｏｌ）及びメチルトリオクチルアンモニウムブロマイド（Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．，米国からのＴＯＭＡＢｒ）（９．７３ｇ）を２００ｍｌのイソプロパノールに加えて加熱し、全ての固体が溶解されるまで（約１時間）還流した。生じた溶液を室温に冷却し、活性炭で１時間処理し、濾過した。溶液を減圧下で濃縮し、深青色の油を得、それを５０℃に冷却した。油中の残留溶媒を５０℃〜６０℃の温度で高真空下で除去した。１１ｇの染料７０が粘稠な深青色の油として得られた。溶媒としてエチルアセテートを使用するときに比較結果が得られた。

前述の表１及び２に述べられた他の染料を製造するために類似の方法を使用することができる。

Ｉ．５．染料１、染料２、染料６９及び染料７０の吸収及び透過スペクトル
染料１及び染料２の吸収スペクトル（二つのガラススライド間の薄膜）が図３Ａに表されている。そこから染料１に対しては少なくとも１．５の高い吸収濃度が６６０〜７０５ｎｍの波長範囲において測定されることが結論づけられる。染料２に対しては１．５の濃度がより深色な範囲（６８０〜７２０ｎｍ）で得られる。

図３Ｂに表された染料１及び染料２の透過スペクトル（二つのガラススライド間の薄膜）は両染料に対して約３５０〜約５００ｎｍの波長範囲で測定すると約９０％の特に望ましい透過率を示す。

染料６９の透過スペクトル（二つのガラススライド間の薄膜）が図４Ａに表されている。そこから少なくとも９０％の特に望ましい透過率は５００ｎｍ以下で８００ｎｍ以上の波長範囲で測定されることが結論づけられる。

図４Ｂに表された染料７０の透過スペクトル（二つのガラススライド間の薄膜）は５００ｎｍ以下の波長範囲で測定すると約８０％の透過率を示し、８０％以上の透過率は８００ｎｍ以上の波長範囲で測定された。

ＩＩ．貯蔵燐光体スクリーン又はパネル
ＩＩ．１．Ｂａ（Ｓｒ）ＦＢｒ：Ｅｕ燐光体プレートで被覆された本発明パネル
燐光体層組成：
ＢＡＥＲＯＳＴＡＢ Ｍ３６ １．５ｇ
（Ｂａｅｒｌｏｅｃｈｅｒ ＧｍｂＨ）
ＤＩＳＰＥＲＳＥ ＡＹＤ ９１００ ０．７５ｇ
（Ｄａｎｉｅｌ Ｐｒｏｄｕｋｔｓ Ｃｏｍｐａｎｙ）
ＫＲＡＴＯＮ ＦＧ１９１０１Ｘ １２．５ｇ
（Ｓｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）
Ｂａ（Ｓｒ）ＦＢｒ：Ｅｕ（平均粒径：７μｍ） ２７０ｇ
Ｂａ（Ｓｒ）ＦＢｒ：Ｅｕ（平均粒径：３μｍ） ３０ｇ

燐光体ラッカー組成の製造：
ＢＡＥＲＯＳＴＡＢ Ｍ３６，ＤＩＳＰＥＲＳＥ ＡＹＤ ９１００及びＫＲＡＴＯＮ ＦＧ９１０１Ｘを、規定された量で攪拌しながら、５０：３０：２０の体積比の水ベンジン１００−１２０、トルエン及びブチルアクリレートからの６１．５ｇの溶媒混合物に溶解した。燐光体をその後加え、攪拌を１７００ｒ．ｐ．ｍ．の速度でもう１０分間さらに行った。

その組成物を下塗りされた１７５μｍ厚ポリエチレンテレフタレート支持体上に２．５ｍ／分の被覆速度でドクターブレード被覆し、室温で３０分間乾燥した。揮発性溶媒をできるだけ多く除去するために被覆された燐光体プレートを乾燥ストーブ中で９０℃で乾燥した。

ＩＩ．２．結合剤のない針状ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体プレートで被覆された本発明のパネル
ＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの熱蒸着によってＣｓＢｒ：Ｅｕスクリーンが作られた。それゆえＣｓＢｒをＥｕＯＢｒと混合し、真空蒸着室中の容器に置いた。ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体は下記工程を含む方法によって製造された：
− ＥｕＯＢｒの１０^−３〜５ｍｏｌ％を前記ＣｓＢｒと混合し、前記混合物を蒸着の状態にもたらす；
− 前記混合物を４５０℃以上の温度で燃焼し、物理蒸着の方法によって支持体上に前記混合物を蒸着する；
− 前記混合物を冷却する。

特に出発材料を有する容器を７５０℃の温度に加熱し、燐光体を１．５ｍｍの厚さ及び４０ｍｍの直径を有するガラスディスク上に蒸着した。容器と支持体の間の距離は１０ｃｍであった。蒸発中、支持体は１２ｒ．ｐ．ｍ．で回転した。蒸発の開始前、蒸着室は４．１０ｍｂａｒの圧力に排気され、蒸発工程中、Ａｒを蒸着室に導入した。蒸発されたスクリーン中のＥｕ濃度はＸ線蛍光で測定すると、８００ｐｐｍのオーダであった。蒸着された針状結晶は約７５０μｍの長さ（平均長さ）及び約４μｍの直径（平均直径）を有していた。

ＩＩ．３．粉末ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体プレートで被覆された本発明パネル
低い感度が望ましい放射線写真用途では、小さな針状結晶を有する針状燐光体は増強した像品質（例えば特にマンモグラフィ用途で望まれるシャープネス）の見地からより有効である。

そこで本発明パネルＢのように蒸着された針状ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体から、針状結晶が削られ、粉砕され、平均長さとして７５０μｍの代わりに約２５０μｍの長さを有する針状結晶を得た。前述の比較燐光体層Ａにおけるのと同じ燐光体層及びラッカー組成がとられ、そこで使用した燐光体以外、同じドクターブレード被覆について得た。

ＩＩ．４．粉末ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体プレートで被覆された本発明パネル
本発明パネルＣのように、結合剤のない燐光体針状結晶が粉砕されたが、結合剤のない層はパネルＣのように同じ支持体上にそれらを溶融することによって得られた。それによって均一な層が得られた。

ＩＩ．５．ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体組成を有する溶融物からの本発明層
酸化アルミニウムるつぼ（その深さはそれを走査装置に後で装着するために減少されている）において、０．５グラムのＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体がオーブン中に置かれた。汚染を避けるため窒素が環境全体にわたってフラッシされ、一方るつぼ中の燐光体材料を極めてゆっくりと７６０℃の溶融温度を最大１０℃越える温度まで加熱した。いったん燐光体が溶融凝集状態になったら、薄くなった液体の、完全に広げられた層はるつぼの底部上に形成された。次いでるつぼを２℃／分の速度で冷却することによって凝固プロセスが開始され、ＣｓＢｒ：Ｅｕ組成を有する層が形成された。

ＩＩＩ．走査装置に与えられたフィルター
１．染料６９を有する本発明フィルター
１ｍｍの厚さを有するＳｃｈｏｔｔ ＢＧ３９（登録商標）フィルターを染料６９の４層で被覆した。その４層はその上に連続的に適用された。さらに、レーザのためのフィルター（ＳｃｈｏｔｔからのＫＧ５）がシステムの配置において要求されないことが確立された。日本のＨＡＭＡＭＡＴＳＵからのＰｈｏｔｏｎｉｃ Ｍｕｌｔｉ−Ｃｈａｎｎｅｌ分析機ＰＭＡ−１１を使用するとき、前述のようなフィルター組み合わせを通過するいかなるレーザ放射線も検出することはできなかった。この結果は７００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲内の１ｍｍの厚さを有するＳｃｈｏｔｔ ＢＧ３９（登録商標）フィルターによる好適な吸収に対する説明となる。

光学濃度の測定はＵＤＴからのＳ３７０放射計で可能であった：０．０３ｎＷの出力は暗電流に対する修正後になお測定されることができるだろう。レーザ源の出力は１２ｍＷであり、光学濃度は８．６であった。さらにスペクトル純度は１４ｍｍの厚さを有する追加のＯＧ５９０（登録商標）フィルターの設置によって増強されたが、ＫＧ５（登録商標）フィルターはもはや要求されなかった。

フィルター組み合わせの透過率はＹａｓｃｏ（登録商標）分光光度計で測定された：上述のフィルターありで一回、なしで一回、両燐光体型の発光スペクトルの測定によって得られた結果をその計算後に以下の表３に示す。参照フィルターとして、誘電層で被覆された、着色ガラスに基づいたフィルターがとられた。

表３

表３から両タイプのフィルターについて誘電フィルターで得られた結果と比較すると透過率パーセンテージにおいてかなり低い差があること及びその透過率は誘電層で被覆された、着色されたガラスに基づいた比較誘電フィルターの透過率を超えることが明らかである。

２．誘電フィルター層とＣｏ塩フィルターの組み合わせ
誘電層で被覆された着色ガラスフィルターの透過率及び光学濃度を測定することによって、３００〜５００ｎｍの波長範囲において、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ型燐光体についてだけ、満足のいく透過率が測定され、一方それに対してＣｓＢｒ：Ｅｕ型燐光体について透過率は４４５ｎｍで既に低下することが示された。

それ以外では５００〜８００ｎｍの波長範囲において７３０ｎｍ以降の濃度の損失が見出され、染料の蛍光が十分に吸収されなかった。

誘電層で被覆された五つのガラスプレートを前述の実験で使用された染料６９でさらに被覆した：一つの実験では三つの染料層が適用され、一方第二の実験では五つの染料層が適用された。

日本のＨＡＭＡＭＡＴＳＵからのＰｈｏｔｏｎｉｃ Ｍｕｌｔｉ−Ｃｈａｎｎｅｌ分析機ＰＭＡ−１１を使用してフィルター組み合わせを通過する光の波長を測定した。スペクトルにおける最大値を１の値に設定するために全ての曲線は正規化された。前述のフィルター組み合わせを通過する狭いバンドは五つの染料層での試験について７５０ｎｍで検出され、ある場合には狭いバンドが８００ｎｍでさえ検出された。フィルター組み合わせの全てについて６１０ｎｍにおけるピークがなお出現している。

フィルター組み合わせについての光学濃度の測定はＵＤＴからのＳ３７０放射計が使用される構成で行われた。試験は１ｍｍ及び０．５ｍｍの厚さをそれぞれ有するＢＧ３９（登録商標）フィルターで行われた。光学濃度は０．５ｍｍの厚さを有するフィルターが使用されるとき６．４に制限された。７５０ｎｍにおける蛍光がなお測定された。１ｍｍの厚さを有するフィルターは使用される染料の量によって光学濃度を示し、蛍光の完全な吸収を与えた。

染料の厚い層を使用する方法ではフィルターは２００μｍ厚の染料の一つの層だけ、一つの顕微鏡スライド（１ｍｍ、通常のガラス）及び１ｍｍフィルターＢＧ３９（登録商標）を組み合わせて使用するフィルターを製造できた。これは２．５ｍｍの全厚さを有する、五つの薄層から作られたものに比肩しうる２．２ｍｍの全厚さを有するフィルターを生じた。代替例として２００μｍの厚さを有する染料層は各々０．５ｍｍの二つのＢＧ３９（登録商標）フィルターの間に被覆され、１．２ｍｍの全厚さを有するフィルターＢを生じた。

以下の表４のフィルターＡとして示された染料層配置Ａは染料層の両側に位置された各々０．５ｍｍの厚さを有するＢＧ３９（登録商標）フィルターの配置（染料層はそれらの間にはさまれかつ１００μｍの厚さを有する）を表す。

以下の表４のフィルターＢとして示された染料層配置Ｂは１ｍｍの厚さを有する無色ガラス及び１００μｍの厚さを有する染料層の一つの側に１ｍｍの厚さを有する一つのＢＧ３９（登録商標）フィルターの配置を表す。

前の実験で測定されたような光学濃度はフィルターＡについて６．４、フィルターＢについて８．１であった。

透過率はＹＡＳＣＯ（登録商標）分光光度計で測定された。両燐光体型についての透過率は表４にまとめられた結果に示されるようにフィルターＢの方が良好であることが示された。
表４

表４から両タイプのフィルターについてもし参照の着色されたガラス＋誘電層フィルターで得られた結果と比較するなら再び透過率パーセンテージに小さな差があるにすぎないこと及びその透過率が比較フィルターの透過率を明らかに越えることが明らかである。

それらのパネルＩＩ．１−ＩＩ．５の全てについて８０ｋＶｐ及び３５ｋＶｐのエネルギーを有するＸ線露光が適用された（好ましい範囲では２５〜１５０ｋＶｐのエネルギー）。貯蔵されたエネルギーは６８５ｎｍで最大透過率を有する赤色フィルターを与えられたダイオードレーザ（６８５ｎｍ）で作られた走査装置において読み出された。３０ｍＷの赤色ダイオードレーザのビームが１００μｍの小さなスポットに合焦され、青色の刺激された光は３９０ｎｍ〜４５０ｎｍの所望の波長範囲に最大透過率を有する有機コバルト染料顔料を含有する青色フィルターで濾過された。

本発明のシステムによれば、パネルの各々は結合剤材料層に被覆された結合剤のない針状結晶又は粉砕針状結晶の形であるか否かにかかわらず、また（粉砕された）針状結晶の溶融物又は主成分の溶融物の形であるか否かにかかわらず、ランダムな順序で次々と走査及び読み出しされるとき、使用される青色光透過フィルターを変更する必要はない。従って、一つだけの走査装置を使用する可能性は特に投資の観点から顕著に重要で望ましいものとして考えられるべきである。

３．染料１（テトラクロロコバルテート塩）又は染料２（ジクロロジブロモコバルテート塩）を有する本発明フィルター
１ｍｍの厚さを有するＳｃｈｏｔｔ ＢＧ３９（登録商標）フィルターは異なる厚さ（それぞれ１００μｍ及び１５０μｍ厚）を有する両染料（染料１及び染料２）の染料層で被覆された。日本のＨＡＭＡＭＡＴＳＵからのＰｈｏｔｏｎｉｃ Ｍｕｌｔｉ−Ｃｈａｎｎｅｌ分析機ＰＭＡ−１１を使用するとき前述のフィルター組み合わせを通過するいかなるレーザ放射線も検出することができなかった。この結果は７００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲内で１ｍｍの厚さを有するＳｃｈｏｔｔ ＢＧ３９（登録商標）テトラクロロ−及びジブロモジクロロコバルテートフィルターによる好適な吸収を説明している。

光学濃度の測定はＵＤＴからのＳ３７０放射計で可能であった：以下の表５に示されるような出力（ｎＷで表示）は暗電流に対する修正後、１２ｍＷのレーザ源の出力についてなお測定されることができた。測定された光学濃度はまた、以下の表にまとめられた。

表５

表５から全ての染料フィルターについて１５０μｍの染料層の透過後に測定された顕著に低下される出力及びかなり高い光学濃度があることが明らかになる。

４．誘電フィルター層とＣｏ塩フィルターのさらなる組み合わせ
図２Ｂに述べられたようなさらなる配置では、ＯＧ５９０（登録商標）の極めて厚いフィルターが各々２ｍｍ厚の七つのフィルターを使用することによって設置された。１４ｍｍの光フィルターＯＧ５９０（登録商標）実施した後、レーザのスペクトルにおいて５９０ｎｍのピークが消えた。レーザの生じた出力はなお４．２ｍＷであった。フィルターを誘電層で二重にすること（二つのフィルターＤＴシアン）は弱め効果だけの目的でさらに実施された。検出器側のフィルターＫＧ５−２ｍｍ及びＤＴシアン−フィルターによる“吸収された蛍光”と“増強された光学純度”の組み合わせは８．３の光学濃度に導いた。日本のＨＡＭＡＭＡＴＳＵからのＰｈｏｔｏｎｉｃ Ｍｕｌｔｉ−Ｃｈａｎｎｅｌ分析機ＰＭＡ−１１でフィルター組み合わせを通過する光のスペクトルは、６８５ｎｍにおいて小さなピークだけが見出され、それはＢａｌｚｅｒｓから第二のフィルターＤＴシアンを加えることによって弱められることを示した。

誘電被覆（Ａ＋Ｂ）を有するＢＧ３９（登録商標）２ｍｍフィルターと関連したさらなる実験が実施され、そこでは組み合わせでの測定に対して誘電層は燐光体と着色されたガラスフィルターの間に置かれた。

異なるフィルター構成に対して両燐光体型について前述のように透過率を計算すると表６にまとめられたような下記結果が得られた。

表６

Ｃｏ染料、染料６９を有するＣｓＢｒ：Ｅｕについての８０％の透過率の結果が好ましい。

前述の実験からフィルターの厚さは好ましくは２．５ｍｍ未満にすべきであり、安定性の理由のため、その厚さは２．０ｍｍ以上にすべきであり、その厚さの変化は９０μｍ未満にすべきであることがさらに認識された。それらの厚さの変化はフィルターの中央では臨界的であるように見えない。染料の屈折率はＢＧ３９（登録商標）ガラスフィルターのガラスのそれにできるだけ近いようにすべきであり、ある範囲内で一定にすべきである。

ゲルの熱膨張係数は、ＢＧ３９（登録商標）の熱膨張係数が９×１０^−６／°Ｋであり、一方通常のガラスに対してそれが６×１０^−６／°Ｋであることを考慮に入れて、−２５℃〜＋５５℃の温度範囲で観察されなければならない。ＢＧ３９（登録商標）と同じ熱膨張係数を持つ通常のガラスが考えられる。

染料のないフィルター（ＢＧ３９（登録商標）だけを有する（２ｍｍ及び２＊２ｍｍ））のスペクトルの測定を行い、５５０ｎｍ〜６２０ｎｍの波長を見た。フィルターは６８５ｎｍではなく６６０ｎｍのレーザで使用することが最も重要であると言われる。なぜならば粉末及び針状像燐光体はともに６６０ｎｍで刺激されることができるからである。針状像プレートは実際には６６０ｎｍのレーザでの刺激を使用することが有利である。なぜならばこの燐光体はレーザの低い強度を必要とするからである。粉末像プレートの刺激のために十分な出力を有する６８５ｎｍのレーザを見出す困難性は６６０ｎｍのレーザダイオードと組み合わせたフィルターを使用することによって解決された。

それにもかかわらず染料フィルターと組み合わせたＢＧ３９（登録商標）を有する原型は使用のために好適であったが、フィルターＢＧ３９（登録商標）はこの波長で極めて少ない程度にしか吸収せず、染料の吸収も幾分少ない。なぜならばこのような染料の吸収は６６０ｎｍで極めて高く、なお十分であるからである。結果として、染料の層の厚さを増加することは要求されない。さらに染料の蛍光スペクトルは励起されるとき同じであり、６６０ｎｍ又は６８５ｎｍの波長から独立している。結果として、ＢＧ３９（登録商標）１．５ｍｍを使用することによる蛍光信号の除去は変わらない方法で実施された。

６６０ｎｍのレーザで見出されたスペクトル純度はさらに６８５ｎｍで見出されたものと同一であった。フィルターＲＧ６４５（登録商標）２ｍｍを使用することは５５０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の全ての波長を除去した。

レーザのちょうど後にフィルターＲＧ６４５（登録商標）を加えることによって、５５０ｎｍ〜６２０ｎｍの間の範囲内のスペクトル純度の結果として出現するピークは完全に消えた。染料の蛍光による信号だけが７２０ｎｍ〜７６０ｎｍの波長範囲のバンドとして分光光度計によって検出された。

光学濃度は放射計で測定された：フィルターＲＧ６４５（登録商標）はレーザの後に設置され、光の強度が原型ありで一回、原型なしで一回測定された。フィルターＢＧ３９（登録商標）０．５ｍｍがない場合であっても、７．６０の光学濃度が測定され、それは６８５ｎｍの波長で達成される光学濃度に匹敵しうる。

これらの実験から染料６９で作られた原型フィルターが６６０ｎｍの波長のレーザで使用するために好適であることが結論づけられる。６６０ｎｍの波長で使用するために好適にするためにフィルターの設計に関していかなる変化も要求されない。結果としてフィルターはＢａＦＢｒ：Ｅｕ型燐光体粉末像プレートに対してと同様に針状像プレートのためのＣｓＢｒ：Ｅｕ型燐光体と組み合わせた使用のために好適であり、像プレートのそれらの異なるタイプの使用のために一つだけの走査装置を使用するために特に有利な効果を生じる。

本発明の好ましい例を詳細に記載したが、特許請求の範囲に規定された発明の範囲から逸脱せずに多数の変更をそこでなしうることが明らかであろう。

図１Ａ及び１ＢはＸ線露光後に貯蔵されたエネルギーを有する貯蔵燐光体スクリーンを読み出すために使用される比較実験構成を示す。 本発明の構成を示す。 図３Ａ及び３Ｂは二つのガラススライド間に薄いフィルムとして存在する染料１及び染料２の吸収スペクトル及び透過スペクトルを示す。 図４Ａ及び４Ｂは二つのガラススライド間に薄いフィルムとして存在する染料６９及び染料７０の透過スペクトルを示す。

Claims (11)

1. Ｘ線への露光後に刺激性燐光体スクリーン、プレート又はパネルを読み出すためのシステムであって、それらの燐光体が燐光体層中の支持体上に被覆され、前記システムが刺激放射線の少なくとも一つの源、刺激すると放出される光を検出するため及び前記光を前記像の信号表示に変換するために配置された変換器要素の配列、及び刺激放射線の前記源によって放出される光が前記変換器要素によって検出されることを防止するためのフィルタリング手段を含むものにおいて、刺激放射線の前記源の刺激放出波長における透過率と３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲における刺激された光の透過率の比が１０^−６未満であり、前記比が下記式（１）によって規定されることを特徴とするシステム：
   Ｔｒ（λ_ｓｔ（ｎｍ））／Ｔｒ（λ_ｘ（ｎｍ））＜１０^−６ （１）
   式中、λ_ｓｔは刺激波長であり、３５０ｎｍ＜λ_ｘ＜５００ｎｍ。
2. 前記フィルタリング手段が少なくとも一つの有機遷移金属染料を含む請求項１に記載のシステム。
3. 刺激すると放出される光を検出するため及び前記光を前記像の信号表示に変換するための前記変換器要素が電荷結合素子である請求項１又は２に記載のシステム。
4. 前記有機遷移金属染料が下記一般式（Ｉ）による化合物である請求項３に記載のシステム：
   

   

   式中、ｎ≧１，ｍ≧１，Σ（＋）≧１，−２ｎ＝ｍΣ（＋），Ｘ＝Ｎ又はＰ，Ｍ＝Ｃｏ又はＮｉであり、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は同じであっても異なってもよく、各々は独立して置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキル基、置換又は非置換、飽和又は不飽和脂肪族基、置換又は非置換脂環式炭化水素基、置換又は非置換芳香族基、置換又は非置換複素芳香族基、置換又は非置換過剰枝分かれポリマー基、置換又は非置換樹状基を表すか又はＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及びＲ^４は各々独立して互いに環系を形成するために必要な原子を表し、Ｌ^１，Ｌ^２，Ｌ^３及びＬ^４は各々独立して、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩの一つを表し、ｍ＝１であるときにΣ（＋）＝２ｎであり、結果として２ｎ正電荷中心がカチオン中に存在し、ｎ＝１でΣ（＋）＝１であるときにｍ＝２であり、結果として二つのカチオン（Ｘ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４）及び（Ｘ^＋Ｒ^５Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８）が分子中に存在し、Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８は同じであっても異なってもよく、各々独立して置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキル基、置換又は非置換、飽和又は不飽和脂肪族基、置換又は非置換脂環式炭化水素基、置換又は非置換芳香族基、置換又は非置換複素芳香族基、置換又は非置換過剰枝分かれポリマー基、置換又は非置換樹状基を表すか又はＲ^５，Ｒ^６，Ｒ^７及びＲ^８は各々独立して互いに環系を形成するために必要な原子を表す。
5. 前記有機遷移金属染料が粘稠な深青色の油として存在する請求項２〜４のいずれかに記載のシステム。
6. 前記粘稠な深青色の油が着色又は非着色ガラスプレート又はプラスチック箔の間で適用される請求項５に記載のシステム。
7. 前記粘稠な深青色の油がＵＶ硬化マトリックス中に埋め込まれる請求項５又は６に記載のシステム。
8. 前記粘稠な深青色の油がポリマーホスト中に埋め込まれる請求項７に記載のシステム。
9. 前記ポリマーホストがＵＶ硬化又は熱硬化マトリックス中に存在する請求項８に記載のシステム。
10. 前記フィルタリング手段が少なくとも一つの誘電フィルター層をさらに与えられる請求項１〜９のいずれかに記載のシステム。
11. １）前記刺激性燐光体スクリーンを刺激光で刺激し、
    ２）刺激で前記燐光体スクリーンによって放出された、刺激された放出光を検出し、
    ３）検出された光信号を放射線像のデジタル表示に変換し、
    ４）前記燐光体スクリーンを消去エネルギーに暴露することによって前記燐光体スクリーンを消去する、
    工程に前記燐光体スクリーンの各々を連続的に供し、前記スクリーンの各々の刺激スペクトルの最大吸収波長における差が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、前記スクリーンの刺激された放出スペクトルの最大放出における差が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であり、フィルタリング手段が、刺激放射線が検出手段によって検出されることを防止するため、及び刺激で放出された放射線を透過するために与えられる請求項１〜１０のいずれかに記載のシステム。

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