JP2006041283A - 転写方法及び電子装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】、基板上に複数の素子領域片10を配列する工程と、他の基板上に、隣接する前記素子領域片10、12同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片を転写する工程とを有する転写方法により、輝度や波長などの素子特性の段差を緩和する。
【選択図】 図1
Description
本実施の形態は、素子領域片を敷き詰めるように転写する方法において、隣接する素子領域片を反転させ、素子領域片の間の境界を挟んで線対称に素子領域片を配置する例である。
本実施の形態は、素子領域片を敷き詰めるように転写する方法において、隣接する素子領域片を反転させ、素子領域片の間の境界を挟んで線対称に素子領域片を配置すると共に、矩形状の素子領域片の対角線方向では点対称に素子領域片を配置する方法である。
以下、このような境界での特性の段差を緩和したタイリングを行なうことで、図3に示すような2次元的に展開される形態での転写が行なわれる。図3では、素子領域片31〜46で全体的な表示などを行なう表示素子が構成される。なお、各素子領域片20、2224、26などは、1つ1つ順番に転写されるようにしても良く、同じ傾向の素子領域片同士を複数個まとめて転写するようにしても良い。
本実施形態は、マトリクス状に配列された素子を間引きながら転写する際に、転写の単位となる複数の素子の組の間での特性の傾向の段差を緩和した転写方法に関する。
本実施形態は、マトリクス状に配列された素子を帯状のパターンを以って転写する際に、順番に配列方向を反転させて特性の傾向の段差を緩和した転写方法に関する。
本実施形態は、中継基板を用いた転写方法の例であり、図6を参照しながら、本実施形態について説明する。
本実施形態は、各素子に特性の分布がある状態でその特性の分布している方向を隣接する素子間で回転させながら転写を行う例であり、素子特性のばらつきの方向性を分散させることで全体的な均一化を図る例である。
20、22、24、26、31〜46 素子領域片
50、70 基板
51、52 組
60〜69 素子
71、72 素子群
80 基板
82 中継基板
81a、81b、81c 素子領域片
90〜95 素子
Claims (11)
- 基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、
他の基板上に、隣接する前記素子領域片同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片を転写する工程とを有することを特徴とする転写方法。 - 前記素子領域片は実質的に矩形状とされ、その各辺が線対称の中心の線分となるように配置されることを特徴とする請求項1記載の転写方法。
- 前記素子領域片は実質的に矩形状とされ、斜め方向に隣接する前記素子領域片同士は点対称に配置されることを特徴とする請求項1記載の転写方法。
- 前記素子領域片は実質的に線状とされることを特徴とする請求項1記載の転写方法。
- 前記素子領域片は、発光ダイオード素子、レーザー素子、有機エレクトロルミネセンス素子、無機エレクトロルミネセンス素子、カラーフィルター、薄膜トランジスタ素子、光電変換素子、電熱変換素子、圧電素子、微小機械素子、微小流路形成素子、微小光学素子、若しくはこれらの素子の組み合わせからなる素子を設けていることを特徴とする請求項1記載の転写方法。
- 基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、
他の基板上に、隣接する前記素子領域片同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片の一部を反転して転写する工程とを有することを特徴とする転写方法。 - 基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、
一時的に前記素子領域片を載置するための中継基板上に前記素子領域片を載置する工程と、
他の基板上に隣接する前記素子領域片同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片を転写する工程とを有することを特徴とする転写方法。 - 前記基板から前記中継基板への転写の際、若しくは前記中継基板から前記他の基板への転写の際に、前記素子領域片は反転されることを特徴とする請求項7記載の転写方法。
- 基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、
複数の前記素子領域片から所要間隔で間引いて複数の前記素子領域片の一部からなる組を他の基板上に転写する工程と、
複数の前記素子領域片から所要間隔で間引いて複数の前記素子領域片の他の一部からなる組を前記他の基板上に転写して、隣接する前記素子領域片の組の間の境界を挟んで前記素子領域片の特性が対称となって2次元的に並べられる工程とを有することを特徴とする転写方法。 - 基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、
他の基板上に、隣接する他の前記素子領域片よりも所要角度回転させて前記素子領域片を転写する工程とを有することを特徴とする転写方法。 - 複数の素子領域片を転写により2次元的に並べて配置した素子機能部を有する電子装置において、
前記素子領域片は、隣接する前記素子領域片同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となるように2次元的に並べられることを特徴とする電子装置。
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