JP2006041047A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板保持回転機構2は、基板Wを遊星回転状態で保持する基板保持部材20を備えている。基板保持部材20は第1および第2基板保持部品21,22を組み合わせて構成され、これらの間に、平面視においてほぼ円形の基板保持内周面30が形成されている。基板保持部材20は、揺動駆動機構25によって揺動される。これにより、基板Wは基板保持内周面30上を転動して遊星回転状態となる。この基板Wの上下面Wa,Wbに対して、第1および第2処理液供給機構3,4から処理液が供給される。
【選択図】 図1
Description
未処理の基板Wは、基板搬送ロボットによって搬送されてきて、昇降ピン88に受け渡される。これに先立ち、制御部95は、第1および第2エアシリンダ53,54を制御して、第1および第2基板保持部品21,22を離間させ、基板保持部材20を図1に示す離間状態としている。この離間状態では、第1および第2基板保持部品21,22の間には、基板Wを上下させることができるだけの空間が確保されている。また、制御部95は、昇降駆動機構90を制御して昇降ピン88を基板受け渡し位置91に制御している。さらに、制御部95は、上面処理液バルブ10および下面処理液バルブ13ならびに不活性ガスバルブ18を閉成状態としている。また、制御部95は、遮断板昇降駆動機構15の制御により、遮断板5を基板Wの受け渡しの妨げとならない上方位置に退避させている。
こうして、基板Wが基板保持部材20に受け渡されると、制御部95は、揺動用モータ82を駆動し、基板保持部材20の揺動を開始させる。これにより、基板Wは、基板保持内周面30(大径部40)上を転動し、中心軸線Cまわりの遊星回転状態で基板保持部材20に保持される。
こうして、基板Wに対する処理液による処理を一定時間行った後に、制御部95は、上面処理液バルブ10および下面処理液バルブ13を閉じて基板Wに対する処理液の供給を停止する。そして、制御部95は、遮断板昇降駆動機構15を制御して、遮断板5を下降させる。そして、その基板対向面6を基板Wの上面Waに近接させる。遮断板5を、基板保持部材20の上側口縁部42が形成する円形開口よりも十分に小径の円盤状に形成しておくことにより、基板対向面6を基板Wの上面Waに対して、より接近させることができる。
こうして一定時間に渡って乾燥処理を行った後、制御部95は、遮断板昇降駆動機構15を制御して遮断板5を退避位置へと上昇させ、揺動用モータ82を停止させる。これにより、基板Wの遊星回転が停止し、この基板Wは静止状態で基板保持部材20に保持される。制御部95は、さらに、不活性ガスバルブ18を閉じる。
2 基板保持回転機構
3 第1処理液供給機構
4 第2処理液供給機構
5 遮断板
6 遮断板の基板対向面
8 上面処理液ノズル
9 上面処理液供給管
10 上面処理液バルブ
11 下面処理液ノズル
12 下面処理液供給管
13 下面処理液バルブ
15 遮断板昇降駆動機構
16 遮断板の保持軸
17 不活性ガス供給管
18 不活性ガスバルブ
20,20A 基板保持部材
21 第1基板保持部品
22 第2基板保持部品
23 第1進退駆動機構
24 第2進退駆動機構
25 揺動駆動機構
28 基板保持空間
30 基板保持内周面
31 第1基板保持内周面
32 第2基板保持内周面
33,34 第1当接面
35 第1連結部
36,37 第2当接面
38 第2連結部
40 大径部
41 上側脱落防止内面
42 上側口縁部
43 下側脱落防止内面
44 下側口縁部
47,48 カバー部材
49,50 摺動ブラケット
51 スプリング
53 第1エアシリンダ
54 第2エアシリンダ
55,56 ピストンロッド
59,60 開口
61,62 円筒部材
65 揺動フレーム
66 基底部
67 腕部
68 腕部
69,70 エアシリンダ取り付け面
71,72 軸受け
73,74 偏心カム
75,76 回転軸
77 上側固定フレーム
78 下側固定フレーム
79 固定フレーム
80 歯付きグベルト
81 カップリング
82 揺動用モータ
83,84 歯付きプーリ
87 処理室の底壁
88 昇降ピン
89 昇降フレーム
90 昇降駆動機構
91 基板受け渡し位置
92 処理位置
93 退避位置
95 制御部
97 転回フレーム
98 基底部
99 腕部
100 腕部
101,102 支持軸
103 転回駆動機構
111 第1処理流体供給機構
112 第2処理流体供給機構
113 第1処理流体ノズル
114 上面処理流体供給管
115 不活性ガスバルブ
116 薬液バルブ
117 純水バルブ
119 第2処理流体ノズル
120 下面処理流体供給管
121 不活性ガスバルブ
122 薬液バルブ
123 純水バルブ
125 基板対向面
126 ノズル本体
127 支持軸
128 上面ノズル昇降駆動機構
129 処理流体吐出口
130 処理流体流路
133 基板対向面
134 ノズル本体
135 支持軸
136 下面ノズル昇降駆動機構
137 処理液吐出口
138 処理流体流路
141 第1移動ノズル
142 第2移動ノズル
143,144 揺動アーム
145,146 回動駆動機構
147,148 昇降駆動機構
149,150 着液点
151 第1スクラブ部材
152 第2スクラブ部材
153 第1スクラブ面
154 第2スクラブ面
155,156 摺接部
157,158 保持部
159,160 回転軸
161,162 回転駆動機構
163,164 昇降駆動機構
165,166 処理液供給管
171 第1移動スクラブ部材
172 第2移動スクラブ部材
173 第1揺動アーム
174 第2揺動アーム
175,176 回転駆動機構
177,178 昇降駆動機構
179,180 スクラブ面
185,186 処理液供給管
187 上面処理液流入口
188 下面処理液流入口
189 処理液排出口
190 処理液貯留溝
191 処理液供給バルブ
W 基板
Wa 基板の上面
Wb 基板の下面
Wc 基板の中心軸線
Wp 基板の周端面
C 中心軸線
R 回転軸線
T 転回軸線
L1,L2 回動軸線
Claims (17)
- ほぼ円形の基板を回転状態で保持しつつ処理するための基板処理装置であって、
基板保持内周面を有し、この基板保持内周面に前記基板よりも径の大きな大径部が形成された基板保持部材と、
前記大径部の中心軸線に平行な所定の回転軸線まわりを当該中心軸線が周回するように前記基板保持部材を移動させる駆動機構とを含むことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板保持内周面は、前記中心軸線から外方に向かって窪む凹面状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材は、前記中心軸線と直交する方向に分割可能な少なくとも2つの基板保持部品を組み合わせて前記基板保持内周面を形成するものであることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材は、前記中心軸線に沿う方向に関する少なくとも一方側に、前記基板とほぼ同等の大きさか、または基板よりも径の大きな円形開口を区画する口縁部を有していることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材は、前記中心軸線に沿う方向に関する少なくとも一方側に、前記基板よりも径の小さな円形開口を区画する口縁部を有していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材の基板保持時内周面は、前記基板保持内周面の前記中心軸線に沿う方向に関する少なくとも一方側に、前記基板が離脱することを防止すべく前記中心軸線に接近する方向に向かって前記大径部から延設された脱落防止内面を有していることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材を、前記中心軸線に直交する所定の転回軸線まわりに転回させる転回機構をさらに含むことを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部材に保持された基板の一方表面に流体を供給する第1流体供給機構と、
前記基板保持部材に保持された基板の他方表面に流体を供給する第2流体供給機構とを含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記第1流体供給機構は、前記基板保持部材に保持された基板の一方表面に処理流体を供給する第1処理流体供給機構を含み、
前記第2流体供給機構は、前記基板保持部材に保持された基板の他方表面に処理流体を供給する第2処理流体供給機構を含むことを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。 - 前記第1流体供給機構は、前記基板の一方表面に近接配置可能な基板対向面に複数の流体吐出口を分散配置した第1流体ノズルを有し、
前記第2流体供給機構は、前記基板の他方表面に近接配置可能な基板対向面に複数の流体吐出口を分散配置した第2流体ノズルを有するものであることを特徴とする請求項8または9記載の基板処理装置。 - 前記第1流体供給機構は、前記基板の一方表面上で流体供給位置を変位させることができる第1移動ノズル含み、
前記第2流体供給機構は、前記基板の他方表面上で流体供給位置を変位させることができる第2移動ノズルを含み、
前記第1移動ノズルおよび第2移動ノズルからの流体が前記基板の一方表面および他方表面における対向位置に供給されるように前記第1および第2移動ノズルを同期して移動させるノズル移動機構をさらに含むことを特徴とする請求項8ないし10のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記基板保持部材に保持された基板の一方表面をスクラブする第1スクラブ部材と、
前記基板保持部材に保持された基板の他方表面をスクラブする第2スクラブ部材とを備えていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記第1スクラブ部材は、前記基板保持部材に保持されて遊星回転状態にある基板の中心から周端縁までの領域において前記一方表面に当接する第1スクラブ面を有するものであり、
前記第2スクラブ部材は、前記基板保持部材に保持されて遊星回転状態にある基板の中心から周端縁までの領域において前記他方表面に当接する第2スクラブ面を有するものであることを特徴とする請求項12記載の基板処理装置。 - 前記第1スクラブ部材は、前記基板保持部材に保持される基板よりも小さな第1スクラブ面を有し、前記第2スクラブ部材は、前記基板保持部材に保持される基板よりも小さな第2スクラブ面を有し、
前記第1および第2スクラブ面が、前記基板の一方表面および他方表面における対向位置に当接するように前記第1および第2スクラブ部材を同期して移動させるスクラブ部材移動機構をさらに含むことを特徴とする請求項12記載の基板処理装置。 - 前記基板保持部材の基板保持内周面は、前記中心軸線から離れる方向である外方に向かって窪む凹面状に形成されており、
前記凹面状の基板保持内周面内に処理液を供給する処理液供給手段をさらに含むことを特徴とする請求項1ないし14のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記基板上の液成分を振り切ることができる速度で当該基板が遊星回転するように前記基板保持部材を移動させるべく前記駆動機構を制御する手段をさらに含むことを特徴とする請求項1ないし14のいずれかに記載の基板処理装置。
- ほぼ円形の基板を回転状態で保持しつつ処理するための基板処理方法であって、
基板保持内周面を有し、この基板保持内周面に前記基板よりも径の大きな大径部が形成された基板保持部材を設け、この基板保持部材の前記基板保持内周面の内方に基板を配置するステップと、
前記大径部の中心軸線に平行な所定の回転軸線のまわりを当該中心軸線が周回するように前記基板保持部材を移動させることにより、前記基板保持内周面に前記基板の周端面を当接させ、当該基板保持内周面上で前記基板を転動させることにより、前記基板を前記中心軸線まわりの遊星回転状態で保持するステップと、
前記遊星回転状態で保持されている基板に対して処理を施す基板処理ステップとを含むことを特徴とする基板処理方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP (1) | JP4347766B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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