JP2006027929A - 電気光学的単結晶薄膜成長用基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 Si(001)基板2上にBTO単結晶薄膜6等をエピタキシャル成長させるための電気光学的単結晶薄膜成長用基板1であって、Si(001)基板上にSiとBTOとの格子不整合を緩衝する緩衝層3,4,5が2層以上形成されている。
【選択図】 図4
Description
上記BTO単結晶としては、Si(001)(シリコン、(001)面)基板上に、SiとBTOの格子不整合を緩衝する緩衝層としてのMgO(マグネシウムオキサイド)単結晶層を介在してBTO単結晶薄膜を形成したものが知られている(非特許文献1参照)。
J.Mater.Res.,Vol.12,No.4, Apr 1997 p.1152〜1159
ただし、電気光学的単結晶薄膜がBTOの場合は含まない。
ただし、電気光学的単結晶薄膜がBTOの場合は含まない。
ただし、電気光学的単結晶薄膜がBTOの場合は含まない。
ただし、電気光学的単結晶薄膜がBTOの場合は含まない。
STO単結晶層の厚さが、2nm未満であると、さらに積層される結晶膜が下地の影響を受け、面内で結晶方位が45°回転のみでなく、90°回転する結晶が発生し、多結晶になる場合がある。一方、100nmを超えても構わないが、結晶性に大きな変化はない。
なお、、立方晶であるSTOは、格子定数が0.3905nmで、Siの1×1ユニットセル長0.384nmと近い値を有するために、Si上にSTOのエピタキシャル成長をすると、Siに対して45°面内回転をした方位で成長することが知られている。
BTO単結晶層の厚さが、5nm未満であると、STOの格子定数のまま変化しない。一方、15nmを超えると、BTO本来の格子定数に近づくため、ここで大きな格子歪みが生じ、結晶欠陥が発生する。
たとえば、立方晶単結晶薄膜の基板として用いる場合は、BTOの膜厚は5〜15nmとして、STOと超格子構造を作製するべきである。
ただし、活性層としてBTOを使用する場合は、この限りではなく、STOとの超格子構造作製の後、必要な膜厚を得ることができる。
STOとBTO混晶層の厚さが、100nm未満であると、格子定数の傾斜が激しくなるために、格子欠陥が誘起される。一方、1000nmを超えると、ウエハの反りが激しくなる。
STOとBTOの混晶層は、格子定数をSTO単結晶層側ではそれに近い値とし、BTO単結晶層側ではそれに近い値となるように変化させることが好ましい。
3C−SiC単結晶層の厚さが、5nm未満であると、さらに積層される結晶膜が単結晶とならない。一方、1000nmを超えると、ウエハの反りが激しくなる。
なお、立方晶である3C−SiCは、格子定数(0.436nm)がSiの格子定数(0.543nm)と比較して約20%の違いがあるものの、Si表面を炭化することにより、Si上にヘテロエピタキシャル成長できることが知られている。
MgO単結の厚さが、5nm未満であると、SiCの格子定数の影響を受け、MgOの格子が歪んだ状態のままとなり、MgO自体の格子定数にならない。一方、1000nmを超えると、ウエハの反りが激しくなる。
なお、立方晶であるMgOは、格子定数(0.421nm)が3C−SiCの格子定数に近く、ミスフィット転位を抑制した状態で3C−SiC上にヘテロエピタキシャル成長ができる。
又、MgOは、格子定数が、BTOのそれに近く、その上へのBTOのヘテロエピタキシャル成長が可能となる。
原料には、焼結STOターゲットを採用し(図2(a)参照)、スパッタガスには、Ar(アルゴン)とO2の混合気体を用いる。
原料には、焼結STO及び焼結BTOターゲットを採用し(図2(b)参照)、スパッタガスには、ArとO2の混合気体を用いる。
原料には、焼結STOターゲットを採用し(図2(c)参照)、スパッタガスには、ArとO2の混合気体を用いる。
その時は、最後に形成する単結晶層を1000nm以上の厚さに成長させるとよい。
を供給し(図4(b)参照)、3C−SiC単結晶層10(図4(c)参照)を500nm程度の厚さに成長させる。
原料には、MgOターゲットを採用し(図4(c)参照)、スパッタガスには、ArとO2の混合気体を用いる。
原料には、焼結STOターゲットを採用し(図6(a)参照)、スパッタガスには、ArとO2の混合気体を用いる。
原料には、焼結STO及び焼結BTOターゲットを採用し(図6(b)参照)、スパッタガスには、ArとO2の混合気体を用いる。
2 Si(001)基板
3 STO単結晶層(緩衝層)
4 STOとBTOの混晶層(緩衝層)
5 BTO単結晶層(緩衝層)
7 電気光学的単結晶薄膜成長用基板
8 Si(001)基板
10 3C−SiC単結晶層(緩衝層)
11 MgO単結晶層(緩衝層)
13 電気光学的単結晶薄膜成長用基板
14 Si(001)基板
15 STO単結晶層(緩衝層)
16 STOとBTOの混晶層(緩衝層)
17 BTO単結晶薄膜
Claims (13)
- Si(001)基板上に電気光学的単結晶薄膜をエピタキシャル成長させるための基板であって、Si(001)基板上にSiと電気光学的単結晶薄膜との格子不整合を緩衝する緩衝層が2層以上形成されていることを特徴とする電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記緩衝層が、Si(001)基板上に順に形成したSrTiO3(STO)単結晶層及びBaTiO3(BTO)単結晶層であることを特徴とする請求項1記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記STO単結晶層とBTO単結晶層との間にSTOとBTOの混晶層が介在されていることを特徴とする請求項2記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記緩衝層が、Si(001)基板上に順に形成した3C−SiC単結晶層及びMgO単結晶層であることを特徴とする請求項1記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記電気光学的単結晶薄膜が、BTOであることを特徴とする請求項1記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記緩衝層が、Si(001)基板上に順に形成したSTO単結晶層及びSTOとBTOの混晶層であることを特徴とする請求項1又は5記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- 前記緩衝層が、Si(001)基板上に順に形成した3C−SiC単結晶層及びMgO単結晶層であることを特徴とする請求項1、5又は6記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板。
- Si(001)基板上に電気光学的単結晶薄膜をエピタキシャル成長させるための基板の製造方法であって、Si(001)基板上にSiと電気光学的単結晶薄膜との格子不整合を緩衝する緩衝層を2層以上エピタキシャル成長により順に積層することを特徴とする電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
- 前記緩衝層を、Si(001)基板上にエピタキシャル成長により順に積層するSTO単結晶層及びBTO単結晶層とすることを特徴とする請求項8記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
- 前記BTO単結晶層のエピタキシャル成長の前に、STO単結晶層上にSTOとBTOの混晶層をエピタキシャル成長により積層することを特徴とする請求項9記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
- 前記緩衝層を、Si(001)基板上にエピタキシャル成長により順に積層する3C−SiC単結晶層及びMgO単結晶層とすることをことを特徴とする請求項8記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
- 前記緩衝層を、Si(001)基板上にエピタキシャル成長により順に積層するSTO単結晶層及びSTOとBTOの混晶層とすることを特徴とする請求項8記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
- 前記緩衝層を、Si(001)基板上にエピタキシャル成長により順に積層する3C−SiC単結晶層及びMgO単結晶層とすることを特徴とする請求項8記載の電気光学的単結晶薄膜成長用基板の製造方法。
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