JP2006019438A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006019438A5 JP2006019438A5 JP2004194774A JP2004194774A JP2006019438A5 JP 2006019438 A5 JP2006019438 A5 JP 2006019438A5 JP 2004194774 A JP2004194774 A JP 2004194774A JP 2004194774 A JP2004194774 A JP 2004194774A JP 2006019438 A5 JP2006019438 A5 JP 2006019438A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004194774A JP4704702B2 (ja) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | ブランキングアパーチャアレイおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004194774A JP4704702B2 (ja) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | ブランキングアパーチャアレイおよびその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006019438A JP2006019438A (ja) | 2006-01-19 |
| JP2006019438A5 true JP2006019438A5 (enExample) | 2007-08-16 |
| JP4704702B2 JP4704702B2 (ja) | 2011-06-22 |
Family
ID=35793431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004194774A Expired - Fee Related JP4704702B2 (ja) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | ブランキングアパーチャアレイおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4704702B2 (enExample) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5048283B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-10-17 | キヤノン株式会社 | 偏向器アレイ、描画装置およびデバイス製造方法 |
| US8198601B2 (en) * | 2009-01-28 | 2012-06-12 | Ims Nanofabrication Ag | Method for producing a multi-beam deflector array device having electrodes |
| NL2007604C2 (en) * | 2011-10-14 | 2013-05-01 | Mapper Lithography Ip Bv | Charged particle system comprising a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams. |
| NL2006868C2 (en) | 2011-05-30 | 2012-12-03 | Mapper Lithography Ip Bv | Charged particle multi-beamlet apparatus. |
| JP6500383B2 (ja) | 2014-10-03 | 2019-04-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ブランキングアパーチャアレイ及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5816739B1 (ja) * | 2014-12-02 | 2015-11-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置、及びマルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置の製造方法 |
| JP6587994B2 (ja) | 2016-09-09 | 2019-10-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ブランキングアパーチャアレイ装置、荷電粒子ビーム描画装置、および電極テスト方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07142359A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置及び方法 |
| JPH11186144A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光装置 |
| JP4234242B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2009-03-04 | 株式会社東芝 | 電子ビーム描画装置 |
| JP2000114147A (ja) * | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光装置 |
| JP3494068B2 (ja) * | 1999-03-30 | 2004-02-03 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
| JP2003028999A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Ebara Corp | 荷電粒子ビーム制御装置、及びそれを用いた荷電粒子ビーム光学装置、荷電粒子ビーム欠陥検査装置、並びに荷電粒子ビーム制御方法 |
-
2004
- 2004-06-30 JP JP2004194774A patent/JP4704702B2/ja not_active Expired - Fee Related