JP2006015210A - Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel - Google Patents
Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006015210A JP2006015210A JP2004194208A JP2004194208A JP2006015210A JP 2006015210 A JP2006015210 A JP 2006015210A JP 2004194208 A JP2004194208 A JP 2004194208A JP 2004194208 A JP2004194208 A JP 2004194208A JP 2006015210 A JP2006015210 A JP 2006015210A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- discharge hole
- coating
- block
- coating die
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、塗工装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a coating apparatus and a method for manufacturing a plasma display panel.
従来、基板上にペースト状の材料を塗布して帯状パターンを描画形成することが行われている。これらのペースト材料のパターン描画形成法は、例えばプラズマディスプレイパネルを製造するために用いられている。
このプラズマディスプレイパネルの製造にあたり、基板上に互いに対向配置された隔壁の間に蛍光体層を帯状に形成する蛍光体層形成工程や、基板上に設けられた電極間に可視光吸収性パターンを帯状に形成するブラックストライプ(BS)層形成工程などに、帯状パターン描画形成法が応用されている。
これらのペースト材料を帯状にパターン形成する方法としては、高精細スクリーン印刷法(例えば、特許文献1参照)や高精細ディスペンサ塗布法(例えば、特許文献2参照)などが挙げられる。
Conventionally, a belt-like pattern is drawn and formed by applying a paste-like material on a substrate. These paste material pattern drawing forming methods are used, for example, to manufacture plasma display panels.
In the production of this plasma display panel, a phosphor layer forming step of forming a phosphor layer in a band shape between partitions arranged opposite to each other on a substrate, and a visible light absorbing pattern between electrodes provided on the substrate are formed. A strip pattern drawing formation method is applied to a black stripe (BS) layer forming process for forming a strip.
Examples of a method for forming a pattern of these paste materials include a high-definition screen printing method (for example, see Patent Document 1) and a high-definition dispenser application method (for example, see Patent Document 2).
特許文献1の高精細スクリーン印刷法の概略を、図1を用いて説明する。
図1において、ストライプ状の隔壁100が形成されたガラス基板101は、スクリーン印刷装置102のステージに載置される。隔壁100の頂部100Aの平面上に、乳剤でパターニング処理の施されたメッシュ材からなるスクリーン103が、所定の間隔を空けた状態で張られている。スクリーン103の上にペースト材料104が盛られ、スキージ105をスクリーン103に押し付けながら矢印X方向に動かすことにより、スクリーン上のペースト材料104が形成パターンを通過して、ストライプ状の隔壁で区画された表示セルの空間106に充填され、帯状パターン107が形成される。
The outline of the high-definition screen printing method of
In FIG. 1, a
特許文献2の高精細ディスペンサ塗布法の概略を、図2を用いて説明する。
図2において、ストライプ状の隔壁100が形成されたガラス基板101は、ディスペンサ塗布装置200のステージに載置される。ディスペンサ塗布装置200はディスペンサノズル201を備えており、このディスペンサノズル201には塗布ヘッド202が突出して形成されている。この塗布ヘッド202の先端には断面形状が真円形である吐出孔203が設けられている。この吐出孔203からノズルの内部に充填されたペースト材料(図示しない)が吐出される。ペースト材料を吐出しながら、ディスペンサノズル201が矢印X方向に移動することにより、ペースト材料がストライプ状の隔壁100で区画された表示セルの空間106に充填され、帯状パターン107が形成される。
The outline of the high-definition dispenser application method of
In FIG. 2, the
しかしながら、特許文献1の高精細スクリーン印刷法では、スキージ105をスクリーン103に押し付けるので、使用していくうちにスクリーン103が伸びてしまい、所望のパターンが印刷できなくなってしまう。また、使用環境、特に使用時の周囲温度によって、スクリーン103が伸縮してしまい、所望のパターンが印刷できなくなってしまう。プラズマディスプレイパネルの製造においては、パネルが大画面であるため、スクリーン自体も大型化してしまい維持管理が困難となる、などの問題が一例として挙げられる。
However, in the high-definition screen printing method of
特許文献2の高精細ディスペンサ塗布法では、ディスペンサノズル201の塗布ヘッド202が突出して形成されており、その塗布ヘッド202先端にある吐出孔203の断面形状は真円形とされる。通常、この吐出孔203はドリル加工によってミクロンオーダーで形成されるが、このような高精細孔を塗布ヘッド202に設けることは非常に困難である。また、吐出孔203の孔径が小さくなる程、圧力損失差が大きくなり、高粘度流体を高速で吐出させる場合、非常に大きな加圧力を要し、装置各部に大きな負荷が生じる、などの問題が一例として挙げられる。また、吐出孔203の断面形状が真円形であるため、基板上に形成された帯状パターンの膜厚に偏りが生じる問題も懸念される。
In the high-definition dispenser application method of
ここで、本発明の目的は、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形することができ、微小な吐出孔を容易に加工することができる塗工装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することである。 Here, an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a plasma display panel manufacturing method that can form a strip-like pattern with high precision even after long-term use and can easily process minute discharge holes. Is to provide.
請求項1に記載の発明は、材料を吐出する吐出孔が形成された塗工ダイを基板と対向させた状態で前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させ前記基板上に前記材料の帯状のパターンを形成する塗工装置であって、前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、この第1の辺と交差する方向に幅を有する形状とされることを特徴とした塗工装置である。 According to the first aspect of the present invention, the substrate and the coating die are relatively moved in a state where the coating die in which the discharge holes for discharging the material are formed are opposed to the substrate, and the band of the material is formed on the substrate. In the coating apparatus for forming the pattern, the coating die faces a first block having a first surface on which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and the recesses face each other. A second block having a second surface that is a flat surface, the first surface and the second surface are brought into close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface. The discharge hole has a first side corresponding to the width of the band-shaped pattern, and has a shape having a width in a direction intersecting with the first side. .
請求項5に記載の発明は、吐出孔が形成された塗工ダイと基板とを相対移動させながら前記吐出孔から材料を吐出して基板上に帯状のパターンを形成してプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、前記塗工ダイを前記基板と対向させて前記第1の辺の方向に対して交差する方向に沿って前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 According to a fifth aspect of the present invention, a plasma display panel is manufactured by discharging a material from the discharge holes while relatively moving the coating die having the discharge holes formed thereon and the substrate to form a strip pattern on the substrate. The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a surface facing the recesses is a flat surface. A second block having a second surface, the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface. The substrate and the coating along a direction having a first side corresponding to the width of the strip-shaped pattern and intersecting the direction of the first side with the coating die facing the substrate Plasma display characterized by moving relative to the die Is a Ipaneru method of manufacturing.
<塗工装置全体の構成>
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図3は本実施形態の塗工装置全体の斜視図であり、図4は塗工装置の概略構成図である。図3、図4において、本実施形態の塗工装置1は、基台2、ステージ部10、塗工処理部20、厚みセンサ部30、材料供給部40および制御部50を備えている。
<Configuration of the entire coating device>
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a perspective view of the entire coating apparatus of the present embodiment, and FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the coating apparatus. 3 and 4, the
図3において、基台2上にはステージ部10、塗工処理部20および厚みセンサ部30がそれぞれ設けられている。また、基台2上面には一対のガイド溝レール3が設けられており、このガイド溝レール3の長手方向に沿って、ステージ部10が往復動移動可能に設けられる。ここで、このステージ部10の往復動方向をX方向とし、X方向が属する水平面上においてX方向と直交する方向をY方向とし、またX方向が属する水平面に対して垂直な方向をZ方向と定義する。
In FIG. 3, a
ステージ部10はステージ11、移動機構14およびステージ位置センサ17から構成される。ステージ11はガイド溝レール3上にX方向に往復動移動可能に配置され、その下面にステージ脚12およびナット状のコネクタ13が設けられている。ステージ脚12は、ガイド溝レール3に対応するように、ステージ11下面から突出してX方向に往復動移動可能に設けられ、ガイド溝レール3に摺動自在に嵌合されている。
移動機構14は、ボールねじからなるフィードスクリュー15とモータ16を備えている。フィードスクリュー15は、ステージ11の下面に固定されたコネクタ13に螺合され、ガイド溝レール3に沿ってコネクタ13を貫通して延びている。また、このフィードスクリュー15の一端は図示しない軸受に回転自在に支持されており、その一端にはモータ16が連結されている。ステージ位置センサ17は、ステージ11の下面に設けられており、ステージ11の移動位置を検出する。
The
The
塗工処理部20は、塗工ダイ60、ダイ支持部21および昇降機構22から構成されている。ダイ支持部21は、基台2の上面中央側に配置され、Z方向に直立する柱状体と、片持ち梁状にY方向に沿って延びた柱状体とから構成され、逆L字形をなしている。このダイ支持部21の先端には昇降機構22がZ方向に移動可能に取り付けられており、この昇降機構22の下端に塗工ダイ60が取り付けられる。昇降機構22は、図示しない水平調整機構を有しており、これにより塗工ダイ60の水平調整を行うことができる。また、昇降機構22には、図示しない吐出孔位置調整機構が設けられており、これにより、塗工ダイ60をY方向に水平移動させ、塗工ダイ60の位置を微調整できる。
The
前記厚みセンサ部30は、基台2上面の一端側に位置し、センサ支持部31、厚みセンサ32および昇降アクチュエータ33から構成される。センサ支持部31は、Z方向に直立する柱状体と、片持ち梁状にY方向に沿って延びた柱状体とから構成され、逆L字型をなしている。センサ支持部31の先端は、一対のガイド溝レール3間の中心上方まで延びており、この先端部に昇降アクチュエータ33が取り付けられている。さらに、この昇降アクチュエータ33には、厚みセンサ32が下向きに取り付けられている。厚みセンサ32としては、レーザ変位計、電子マイクロ変位計、超音波厚さ計などを使用することができる。
The
図4に示すように、前記材料供給部40は、タンク41およびシリンジポンプ42を備えている。タンク41は、その内部にペースト状の材料が収納されており、この材料はシリンジポンプ42により吸引されて、前記塗工ダイ60に加圧された状態で供給される。本実施形態では、材料として、プラズマディスプレイパネル用材料、その他の材料が用いられる。
As shown in FIG. 4, the
制御部50は、コンピュータ51およびシーケンサ52から構成される。コンピュータ51は、厚みセンサ32、昇降アクチュエータ33、シリンジポンプ42、シーケンサ52と電気的に接続され、これらから装置各部の作動情報が入力される。そしてこれらの作動情報を受けて、コンピュータ51は、昇降アクチュエータ33、シリンジポンプ42およびシーケンサ52に動作命令を出力する。
The
シーケンサ52は、ステージ部モータ16、ステージ位置センサ17、昇降機構22およびコンピュータ51と電気的に接続されている。このシーケンサ52は、ステージ部モータ16および昇降機構22の作動をシーケンス制御する。シーケンサ52には、ステージ部モータ16の作動状態を示す信号、ステージ位置センサ17からの信号、昇降機構22の作動状態を示す信号、塗工ダイ60の作動状態を検出するセンサ(図示しない)からの信号などが入力される。一方、シーケンサ52からはシーケンス動作を示す信号がコンピュータ51に出力される。
The
<塗工ダイの構成>
次に、前述した塗工ダイ60の詳細について図面に基づいて説明する。図3から明らかなように塗工ダイ60は、一対のガイド溝レール3間に亘り、Y方向に沿って延びている。図5(A)、(B)および(C)はそれぞれ、本実施形態の塗工ダイ60の正面図、分解側面図および分解底面図を示したものである。
<Configuration of coating die>
Next, the detail of the coating die 60 mentioned above is demonstrated based on drawing. As is apparent from FIG. 3, the coating die 60 extends between the pair of
図5において、塗工ダイ60は、それぞれ長尺の第1ブロック61および第2ブロック66から構成され、これらブロック61、66の接合面が鉛直面内に位置するように、互いに一体的に形成されている。また、この塗工ダイ60の底面には複数個の微細な吐出孔70が互いに等間隔に設けられ、塗工ダイ60内部には液溜り71が設けられている。なお、これらの第1ブロック61および第2ブロック66の材料としては、例えば金属を用いることができる。
In FIG. 5, the coating die 60 is composed of a long
第1ブロック61には、第2ブロック66との接合面において、その面下端部に複数個の吐出孔用凹部62が形成され、面中央部には液溜り用凹部65が形成されている。また、第1ブロック61の底面は、平坦面となっている。吐出孔用凹部62は、溝幅aの第1の辺63と溝深さbの第2の辺64を有しており、鉛直方向に沿って延びた矩形状の微細な溝である。吐出孔用凹部62はそれぞれ、溝幅方向に所定の間隔cで複数並設されている。なお、吐出孔用凹部62において、第1の辺63の溝幅aは、基板上に形成する帯状パターンのパターン幅aと一致し、それぞれの吐出孔用凹部62間の間隔cは、基板上に形成する帯状パターンのパターンギャップcと一致する。
In the
液溜り用凹部65は、第2ブロック66と接合される面中央部において、長尺のブロック61の一端からその他端に亘り、長尺の直方体状に抉られて形成されている。この液溜り用凹部65の溝深さは、吐出孔用凹部62の溝深さbよりも深く形成されており、液溜り用凹部65の下部が吐出孔用凹部62の上端とテーパー状に接続されている。これにより、液溜り71に充填された材料は、液溜り用凹部65の下側面から吐出孔用凹部62の上端側にそれぞれ流入し、吐出孔用凹部62の下端側からそれぞれ均一に吐出される。
The
第2ブロック66には、第1ブロック61との接合面において、その面下端部に吐出孔用平坦面67が設けられ、面中央部には第1ブロック61の液溜り用凹部65と対向する液溜り用凹部68が設けられる。また、第2ブロック66の底面は、平坦面となっている。第1ブロック61と第2ブロック66とを、その接合面で一体的に張り合わせると、塗工ダイ60の底面69には平坦面が形成され、吐出孔用凹部62と吐出孔用平坦面67から吐出孔70が形成され、液溜り用凹部65と液溜り用凹部68から液溜り71が形成される。
The
なお、吐出孔用凹部62、液溜り用凹部65および液溜り用凹部68は、削り出し加工によって形成でき、従来あるスライサー、エンドミル、フライスなどの溝切り方法を用いることができる。このため、吐出孔用凹部62における第1の辺63の寸法aおよび第2の辺64の寸法bを任意に変更できる。したがって、基板へのパターン形成において、パターン幅aおよびパターンギャップcを所望の寸法に設定することができ、また、吐出孔70の溝深さbも変更できるため、塗料の吐出量を適宜調整できる。また、第2ブロックの吐出孔用平坦面67は単純な機械研磨により形成できる。
The
<プラズマディスプレイパネルの構造>
次に、本実施形態の塗工装置1を用いて製造されるプラズマディスプレイパネルの構造について、図面に基づいて説明する。図6はプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す分解斜視図である。図7はプラズマディスプレイパネルの製造工程の一部を説明する模式的断面図であり、(A)は第1の工程、(B)は第2の工程、(C)は第3の工程である。図6のプラズマディスプレイパネルは、特開平10−27550で示される構造であり、図7のプラズマディスプレイパネルの製造工程は、特開2004−95355で示されるものである。
<Plasma display panel structure>
Next, the structure of the plasma display panel manufactured using the
図6において、プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して対向配置された背面基板300と前面基板400とを備えている。プラズマディスプレイパネルの背面基板300内面側には、所定の間隔で複数の隔壁301がそれぞれ互いに対向配置され、これらの隔壁301の間の空間からセル302R、302G、302Bが形成され、これらのセル302R、302G、302Bの底面に、列電極303がそれぞれ設けられている。
セル302R、302G、302Bには、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の帯状の蛍光体層304R、304G、304Bが順に形成されている。前記放電空間には希ガスが封入されており、この放電空間で発生した紫外光が蛍光体層304R、304G、304Bを励起することによって、可視光を発光させている。
In FIG. 6, the plasma display panel includes a
In the
図6および図7において、プラズマディスプレイパネルの表示面側となる前面基板400には、その内面側に複数の透明電極対401a,401b、複数のバス電極対402a,402bおよび複数のブラックストライプ層404がそれぞれ所定の間隔で、かつ、前記背面基板300の隔壁301と直交する方向に平行に設けられる。さらに、これら複数の透明電極対401a,401b、複数のバス電極対402a,402bおよび複数のブラックストライプ層404の上を、誘電体層405および保護層406が覆っている。
6 and 7, the
図7(A)に示したプラズマディスプレイパネルの製造工程において、幅の広いITOなどの透明導電膜からなる複数の透明電極対401a,401bが、互いに空間403を挟んで基板400上に一対ずつ設けられ、この空間403に帯状のブラックストライプ層404が設けられている。次に、これら透明電極対401a,401bの導電性を補うために、幅の狭い金属膜からなる複数のバス電極対402a,402bが、空間403を挟んで、透明電極対401a,401b上に一対ずつ設けられる。ブラックストライプ層404は、黒色無機顔料などの可視光吸収性材料からなり、外光の反射により表示のコントラストが悪化することを防ぐために設けられる。
In the plasma display panel manufacturing process shown in FIG. 7A, a plurality of transparent electrode pairs 401 a and 401 b made of a transparent conductive film such as wide ITO are provided on the
図7(B)に示した工程において、誘電体層405は、前面基板400内面側に設けられた透明電極対401a,401b、バス電極対402a,402bおよびブラックストライプ層404の上を、前面基板400内面側の全領域に亘り被覆する。また、図7(C)に示した工程において、この誘電体層405を保護すべく、MgOからなる保護層406が、誘電体層405上を被覆する。
In the step shown in FIG. 7B, the
<プラズマディスプレイパネルの製造方法>
次に、本実施形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。まず、背面基板300を製造する方法について、図面に基づいて説明する。
図8は、本実施形態である塗工装置1を用いてプラズマディスプレイパネルの背面基板300に赤色蛍光体層304Rを形成する工程を示した斜視図である。図9は、図8の要部拡大図である。
<Plasma display panel manufacturing method>
Next, a method for manufacturing the plasma display panel of this embodiment will be described. First, a method for manufacturing the
FIG. 8 is a perspective view showing a process of forming the
あらかじめ、前工程として、図8、図9に示すように、所定の手順で背面基板300上に複数の隔壁301を互いに対向するよう形成し、さらにこれら隔壁301間に形成されたセル302R、302G、302Bの底面に、列電極303をそれぞれ設けた状態の背面基板300を準備しておく。
次に、これらのセル302R、302G、302Bに、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の帯状の蛍光体層304R、304G、304Bを順に形成する工程へと進む。なお、本実施形態では、前述の塗工装置1を用いて蛍光体層304R、304G、304Bを形成するが、赤(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれの蛍光体ペーストに対応した塗工ダイ60をあらかじめ3種類用意しておく。
As shown in FIGS. 8 and 9, in advance, as shown in FIGS. 8 and 9, a plurality of
Next, the process proceeds to a step of sequentially forming strip-shaped phosphor layers 304R, 304G, and 304B of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) in these
始めに、赤色蛍光体ペーストを塗布して蛍光体層304Rを形成する工程を説明する。
図3、図4において、塗工装置1の各作動部の原点復帰が行われると、ステージ11は、厚みセンサ32の下まで移動される。この時、タンク41内の赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42により吸引され塗工ダイ60の液溜り71まで運ばれる。
First, a process of forming the
3 and 4, the
背面基板300が、セル302RがX方向に対して平行となるように塗工装置1のステージ11上に載置されると、厚みセンサ32が背面基板300近傍まで下降し、背面基板300の厚さを計測する。背面基板300の厚さを計測後、厚みセンサ32は、元の位置まで上昇する。
When the
次に、ステージはX方向に移動し、背面基板300は塗工ダイ60の下に配置され、塗工ダイ60は、背面基板300と吐出孔70との間隔が所定のクリアランスになるまで下降する。このクリアランスは、形成すべきパターンの膜厚に対して、数倍、たとえば0.05〜0.20mm程度であり、厚みセンサ32により測定した背面基板300の厚さを考慮し、ステージ11と吐出孔70との間の距離を測定する距離センサ(図示しない)からの信号に基づいて正確に決定される。
Next, the stage moves in the X direction, the
図8、図9において、塗工ダイ60の位置は、水平調整機構(図示しない)により、背面基板300に対して平行となるよう調整される。また、塗工ダイ60は、吐出孔位置調整機構(図示しない)によりY方向に水平移動され、背面基板300上に形成されたセル302Rと吐出孔70とが所望の位置で対向するよう微調整される。これら塗工ダイ60の微調整が行われると、ステージ11は、パターン形成開始する所望の位置まで移動され、塗工ダイ60の位置合わせが完了する。ここにおいて、背面基板300へのパターン形成が可能な状態となる。
8 and 9, the position of the coating die 60 is adjusted to be parallel to the
パターン形成が開始されると、塗工ダイ60の液溜り71に充填された赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42から加えられる一定の圧力により、吐出孔70から一定の吐出速度で吐出される。これと同時に、ステージ11は、塗工ダイ60の底面69と対向して一定の速度でX方向に相対移動する。これにより、背面基板300上にはパターン幅a、パターンギャップcの帯状の赤色蛍光体層304Rが、同時にかつ均一に形成される。ここで、赤色蛍光体ペーストの吐出速度およびステージ11の移動速度は一定であるため、ステージ移動速度を変えれば、赤色蛍光体層304Rの膜厚を、所望の寸法に調整できる。
When the pattern formation is started, the red phosphor paste filled in the
パターン形成が行われながらステージ11が移動し、吐出孔70がフィニッシュラインに位置すると、ステージ11の移動は停止し、同時にシリンジポンプ42による吐出動作が停止する。吐出動作の停止後すぐに、吐出孔70に残った赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42によりポンプ側にわずかに吸引される。これにより吐出孔70からの液だれを防ぐことができる。パターン形成の終了後、塗工ダイ60は元の位置まで上昇し、塗工ダイ60の底面に付着している赤色蛍光体ペーストがクリーナ(図示しない)により拭取られる。
When the
さらに、緑色蛍光体層304Gを形成し、その後、青色蛍光体層304Bを形成するが、緑色蛍光体層304Gおよび青色蛍光体層304Bの形成工程は、前述の赤色蛍光体層304Rの形成工程と同じである。緑色蛍光体層304Gおよび青色蛍光体層304Bのそれぞれの蛍光体ペーストに対応した塗工ダイ60が塗工装置1に設置され、セル302Gおよびセル302Bへと蛍光体層304G、304Bが順に形成される。
赤、緑、青3色の蛍光体層304R、304G、304Bが背面基板300上に形成されると、次にこれら蛍光体層304R、304G、304Bの焼成工程へと移行する。この焼成工程は通常の手順で行われる。
Further, the
When the phosphor layers 304R, 304G, and 304B of three colors of red, green, and blue are formed on the
なお、蛍光体層304R、304G、304Bの膜厚は、ステージ移動速度もしくは吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を変えることによって、適宜調整できる。しかし、この膜厚はあくまで塗布後の膜厚であり、蛍光体層304R、304G、304Bの焼成工程が入ることにより、背面基板300の完成品における蛍光体層304R、304G、304Bの膜厚は、塗布後の膜厚よりも薄くなる。よって、焼成後の収縮した膜厚を考慮して、塗布後の膜厚を決定しなければならない。
The film thicknesses of the phosphor layers 304R, 304G, and 304B can be adjusted as appropriate by changing the stage moving speed or the dimension of the groove depth b of the
次に、プラズマディスプレイパネルの前面基板400の製造方法について、図面に基づいて説明する。
図10は、本実施形態である塗工装置1を用いて、プラズマディスプレイパネルの前面基板400上にブラックストライプ層404を形成する工程を示した斜視図である。前面基板400上にブラックストライプ層404を形成する場合も、上記背面基板300の製造方法と類似であり、ここでは上記と異なる点について説明する。
Next, the manufacturing method of the
FIG. 10 is a perspective view showing a process of forming the
はじめに前工程として、図10に示すように、所定の手順で前面基板400上に所定の間隔で複数の透明電極対401a,401bおよび複数のバス電極対402a,401bのパターンを形成し、空間403が形成された前面基板400を準備しておく。なお、塗工ダイ60は、空間403のパターン幅a、およびパターンギャップcと整合したものが用いられる。
First, as a pre-process, as shown in FIG. 10, a pattern of a plurality of transparent electrode pairs 401 a and 401 b and a plurality of bus electrode pairs 402 a and 401 b is formed on the
図10において、上述のように前面基板400を塗工装置1のステージ11上に載置し、塗工ダイ60の位置合わせが行われパターン形成が開始されると、吐出孔70からは一定の吐出速度でブラックストライプ用ペーストが吐出され、同時に、ステージ11は一定の速度でX方向に塗工ダイ60に対して相対移動する。これにより、前面基板400上における空間403には複数のブラックストライプ層404の帯状パターンが、同時にかつ均一に形成される。
In FIG. 10, when the
この後、ブラックストライプ層404の焼成工程へと移行し、さらに図7(B)に示したように、前面基板400内面側に設けられた透明電極対401a,401b、バス電極対402a,402bおよびブラックストライプ層404の上を、前面基板400内面側の全領域に亘り、誘電体層405および保護層406が被覆する。
Thereafter, the process proceeds to the firing process of the
なお、このブラックストライプ層404の膜厚は、ステージ移動速度もしくは吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を変えることによって、適宜調整できる。しかし、この膜厚はあくまで塗布後の膜厚であって、ブラックストライプ層404の焼成工程により、完成した前面基板400におけるブラックストライプ層404の膜厚は、塗布後の膜厚より薄くなる。よって、焼成後の収縮した膜厚を考慮して、塗布後の膜厚を決定しなければならない。
以上で製造された背面基板300と前面基板400とを、従来通り、互いに対向配置させてプラズマディスプレイパネルが製造される。
The film thickness of the
The plasma display panel is manufactured by arranging the
<実施形態の効果>
以上のように、本実施形態は、複数の吐出孔70を有した塗工ダイ60とステージ11とが互いに対向された状態で相対移動する構成であるため、基板上に複数の帯状パターンを同時にかつ均一に形成することができる。また、本実施形態の塗工装置1はスクリーンを用いずに従来の高精細スクリーン印刷法と同等以上の効果を達成でき、上述の従来の高精細スクリーン印刷法にあった問題が解消される。すなわち、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形でき、また、使用時の周囲温度によるパターン形成への影響も無く、かつ、塗工装置1の維持管理が容易である。
<Effect of embodiment>
As described above, the present embodiment is configured such that the coating die 60 having the plurality of discharge holes 70 and the
また、本実施形態では、塗工ダイ60は、第1のブロック61と第2のブロック66とに分かれており、吐出孔70は、第1のブロック61の吐出孔用凹部62と第2のブロック66の吐出孔用平坦面67とを互いに対向させ、一体的に張り合わせることにより形成される。そのため、塗工ダイ60の加工において、第1のブロック61の吐出孔用凹部62は表に露出されるので、所望の寸法の微小な吐出孔70は、ドリル加工によらない従来の削り出し工法によって、容易に形成できる。さらに、第1のブロック61の吐出孔用凹部62は単純な削り出し加工により形成でき、第2ブロックの吐出孔用平坦面67は単純な機械研磨により形成できるため、塗工ダイ60は、機械加工を連続運転することによって量産加工できる。
Further, in the present embodiment, the coating die 60 is divided into a
本実施形態では、プラズマディスプレイパネルを製造するにあたり、前述の構造の塗工ダイ60を用いて基板上に帯状パターンを形成したから、プラズマディスプレイに必要な微小な帯状のパターンを高精度に成形することができる。
また、
プラズマディスプレイパネルの背面基板300上に帯状のパターンとして蛍光体層を形成したので、背面基板300に蛍光体層を容易に形成することができる。
さらに、プラズマディスプレイパネルの前面基板400上に帯状のパターンとして可視光吸収性材料のブラックストライプを形成したので、前面基板400にブラックストライプを容易に形成することができる。
In the present embodiment, when manufacturing the plasma display panel, the band-shaped pattern is formed on the substrate using the coating die 60 having the above-described structure, and thus the minute band-shaped pattern necessary for the plasma display is formed with high accuracy. be able to.
Also,
Since the phosphor layer is formed as a strip pattern on the
Furthermore, since the black stripe of the visible light absorbing material is formed as a strip pattern on the
塗工ダイ60の吐出孔70は、溝幅aの第1の辺63と溝深さbの第2の辺64とを有した矩形状であり、所定の間隔cでそれぞれ形成されており、吐出孔70の第2の辺64の溝深さbは、吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を削り出し加工によって変更することにより適宜調整できる。そのため、プラズマディスプレイパネルの背面基板300上および前面基板400上には、所望の寸法の帯状パターンをパターン幅aを変えずに均一に形成でき、かつ、蛍光体ペーストおよびブラックストライプ用ペーストの吐出量を適宜調整することができるため、パターン形成時に生じる圧力損失差も軽減できる。
The
また、本実施形態によれば、吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を大きくし、かつ、ステージ移動速度を上昇することにより、所望の厚さのパターンを迅速に作成することができる。つまり、作業時間の短縮化が図れる。
さらに、第1のブロック61に液溜り用凹部65を形成し、第2のブロック67に液溜り用凹部68を形成し、これらの液溜り用凹部65と液溜り用凹部68から液溜り71を構成した。そのため、多量のペースト状材料を液溜り71で安定状態で収納することができるとともに、吐出孔70の寸法を短くすることで、多量のペースト状材料を安定状態を維持して吐出することができる。
Further, according to the present embodiment, a pattern having a desired thickness can be quickly created by increasing the dimension of the groove depth b of the
Further, a
<実施形態の変形>
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、吐出孔70の先端開口部が矩形状に形成されたが、本発明では、吐出孔70の形状は前記実施形態に限定されるものではなく、例えば、図11に示される形状でもよい。
つまり、図11(A)に示される通り、塗工ダイ60の吐出孔70の先端開口を半円形としてもよく、図11(B)に示される通り、塗工ダイ60の吐出孔70の先端開口を三角形としてもよい。これら変形例も前記実施形態と同様に、吐出孔70は、帯状パターンの幅aに対応した溝幅aの第1の辺と、その辺と交差する方向に幅bを有している。このため、これらの塗工ダイ60においても、基板へ形成するパターンのパターン幅aおよびパターンギャップcを所望の寸法に設定することができ、また、吐出孔70の幅bも変更できるため、塗料の吐出量を適宜調整できる。
また、前記実施形態では、塗工ダイ60の底面69を平面状に形成したが、本発明では、図12に示される通り、底面69において隣り合う吐出孔70の間に三角状の切り込み等から形成される段差72をそれぞれ設ける構造であってもよい。この構造では、粘性の低いペースト状材料を吐出する場合であっても、段差72があることで隣接する吐出孔70から吐出される材料が接触する虞れがなくなり、材料の正確な吐出を確保することができる。
<Modification of Embodiment>
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the above-described embodiment, the tip opening of the
That is, as shown in FIG. 11A, the tip opening of the
Moreover, in the said embodiment, although the
前記実施形態では、塗工ダイ60を固定し、ステージ11を移動させる構成であるが、本発明では、ステージ11を固定し、塗工ダイ60を移動させる構成や、ステージ11と塗工ダイ60をともに移動させる構成を採用することができる。
また、本発明では、塗工ダイ60の内部には液溜り71がなく、塗工ダイ60の外部に液溜り71が設けられる構成でもよい。
また、前記実施形態では、第1ブロック61の液溜り用凹部65と第1ブロック61の液溜り用凹部68から液溜り71が形成される構成であるが、本発明では、これに限らず、第1ブロック61もしくは第2ブロック66のいずれか一方のみに液溜り用凹部が形成される構成でもよい。例えば、第1ブロック61のみに吐出孔用凹部62および液溜まり用凹部65が形成されて、第2ブロック66は、第1ブロック61との接合面において平坦となった構成などが挙げられる。
In the embodiment, the coating die 60 is fixed and the
Further, in the present invention, there may be a configuration in which the
In the embodiment, the
前記実施形態では、背面基板300上の蛍光体層304R、304G、304Bは、それぞれ別の塗工装置1を用いて順に形成する構成であったが、一台の塗工装置1に3色それぞれの塗工ダイ60、塗工処理部20および材料供給部40を取り付け、3つの塗工ダイ60はステージ11の移動方向において前後に張り合わせ、それぞれの帯状パターン形成動作を制御部50にて適宜調整して制御することにより、一回のステージ移動で3色の蛍光体層304R、304G、304Bが同時に形成される構成でもよい。
In the above-described embodiment, the phosphor layers 304R, 304G, and 304B on the
<実施形態の作用効果>
本実施形態では、材料を吐出する吐出孔70が形成された塗工ダイ60を基板と対向させた状態で前記基板と塗工ダイ60とを相対移動させ前記基板上に前記材料の帯状パターンを形成する塗工装置1であって、塗工ダイ60は、それぞれ所定の間隔cをあけて複数個の吐出孔用凹部62が形成された第1のブロック61と、この吐出孔用凹部62と対向する面に吐出孔用平坦面67が設けられた第2のブロック66とを備え、吐出孔用凹部62と吐出孔用平坦面67とで吐出孔70を形成し、吐出孔70は、前記帯状のパターンの幅aに対応した第1の辺63を有し、この第1の辺と交差する方向に幅bの第2の辺64を有した形状とされるから、基板上に複数の帯状パターンを同時にかつ均一に形成することができ、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形できる。また、使用時の周囲温度によるパターン形成への影響も無く、かつ、塗工装置1の維持管理が容易である。また、吐出孔70は、ドリル加工によらない従来の削り出し工法によって、所望の寸法に容易に形成できる。また、吐出孔70は溝深さbの第2の辺64を有しており、この溝深さbを変更することにより材料の吐出量を適宜調整でき、パターン形成時に生じる圧力損失差も軽減できる。
<Effects of Embodiment>
In the present embodiment, the substrate and the coating die 60 are moved relative to each other in a state where the coating die 60 in which the discharge holes 70 for discharging the material are formed are opposed to the substrate, and a belt-like pattern of the material is formed on the substrate. In the
1 塗工装置
11 ステージ
60 塗工ダイ
61 第1のブロック
62 吐出孔用凹部
65 液溜り用凹部
66 第2のブロック
67 吐出孔用平坦面
68 液溜り用凹部
70 吐出孔
71 液溜り(充填部)
300 背面基板
301 隔壁
304R 赤色蛍光体層
304G 緑色蛍光体層
304B 青色蛍光体層
400 前面基板
403 空間
404 ブラックストライプ層
DESCRIPTION OF
300
Claims (7)
前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、この第1の辺と交差する方向に幅を有する形状とされることを特徴とした塗工装置。 A coating apparatus for forming a strip pattern of the material on the substrate by moving the substrate and the coating die relative to each other in a state where the coating die having a discharge hole for discharging the material is opposed to the substrate. There,
The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a second surface in which the surface facing the recesses is a flat surface. A second block, wherein the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface, and the discharge hole has a width of the band-shaped pattern. The coating apparatus is characterized by having a first side corresponding to, and having a width in a direction intersecting with the first side.
前記塗工ダイの前記基板と対向する部分には複数の前記吐出孔の間に段差部がそれぞれ設けられていることを特徴とした塗工装置。 In the coating apparatus according to claim 1,
A coating apparatus, wherein a step portion is provided between the plurality of ejection holes in a portion of the coating die facing the substrate.
前記吐出孔は矩形状であり、この矩形状の一辺が前記第1の辺とされることを特徴とした塗工装置。 In the coating apparatus according to claim 1 or claim 2,
The discharge hole has a rectangular shape, and one side of the rectangular shape is the first side.
前記第1のブロックと前記第2のブロックとの少なくとも一方には凹部が形成され、この凹部を含む空間は、前記吐出孔に連通するとともに前記材料が充填される充填部とされたことを特徴とした塗工装置。 In the coating apparatus described in any one of Claims 1-3,
A recess is formed in at least one of the first block and the second block, and a space including the recess is a filling portion that communicates with the discharge hole and is filled with the material. Coating equipment.
前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、前記塗工ダイを前記基板と対向させて前記第1の辺の方向に対して交差する方向に沿って前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 A method of manufacturing a plasma display panel by forming a strip-shaped pattern on a substrate by discharging material from the discharge holes while relatively moving a coating die and a substrate in which discharge holes are formed,
The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a second surface in which the surface facing the recesses is a flat surface. A second block, wherein the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface, and the discharge hole has a width of the band-shaped pattern. The substrate and the coating die are relatively moved along a direction intersecting the direction of the first side with the coating die facing the substrate. A method of manufacturing a plasma display panel.
前記帯状のパターンは蛍光体層であり、前記基板上に設けられた隔壁の間に前記帯状のパターンが形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 In the manufacturing method of the plasma display according to claim 5,
The method for manufacturing a plasma display panel, wherein the band-shaped pattern is a phosphor layer, and the band-shaped pattern is formed between partitions provided on the substrate.
前記帯状のパターンは可視光吸収性材料のパターンであり、前記基板上に設けられた電極間に前記帯状のパターンが形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In the manufacturing method of the plasma display according to claim 5,
The method for manufacturing a plasma display panel, wherein the band-shaped pattern is a pattern of a visible light absorbing material, and the band-shaped pattern is formed between electrodes provided on the substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004194208A JP2006015210A (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004194208A JP2006015210A (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006015210A true JP2006015210A (en) | 2006-01-19 |
Family
ID=35789922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004194208A Abandoned JP2006015210A (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006015210A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012220739A (en) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing optical sheet having pressure-sensitive adhesive layer in contact with micro-louver layer |
JP2014008504A (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | National Taiwan Univ | Coating module |
WO2023218833A1 (en) * | 2022-05-10 | 2023-11-16 | 東レエンジニアリング株式会社 | Coating device |
-
2004
- 2004-06-30 JP JP2004194208A patent/JP2006015210A/en not_active Abandoned
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012220739A (en) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing optical sheet having pressure-sensitive adhesive layer in contact with micro-louver layer |
JP2014008504A (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | National Taiwan Univ | Coating module |
US9492836B2 (en) | 2012-06-29 | 2016-11-15 | National Taiwan University | Coating module |
WO2023218833A1 (en) * | 2022-05-10 | 2023-11-16 | 東レエンジニアリング株式会社 | Coating device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4055580B2 (en) | Cap and coating liquid coating apparatus and coating method | |
EP1600218B1 (en) | Slit die, and method and device for producing base material with coating film | |
US8366232B2 (en) | Method of measuring landed dot, measuring apparatus for landed dot, liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electro-optic apparatus, electro-optic apparatus, and electronic apparatus | |
JP2010279944A (en) | Paste application method and substrate having paste pattern formed by the method | |
JP4389607B2 (en) | Slit die, and method and apparatus for producing substrate having coating film | |
JP2006015210A (en) | Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel | |
US9527285B2 (en) | Nozzle plate, liquid droplet discharge head, and liquid droplet discharge apparatus | |
JP3199239B2 (en) | Manufacturing method and apparatus for plasma display member | |
JPH11300257A (en) | Coating device for applying coating liquid to uneven base material and manufacturing equipment of plasma display | |
JP4840299B2 (en) | Coating liquid coating method, plasma display panel substrate manufacturing method | |
KR101501123B1 (en) | Slot-die coating method and apparatus for making thin-film | |
JP3728109B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON NOZZLE, CONCRETE SUBSTRATE AND PRODUCTION APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA DISPLAY | |
JP4760807B2 (en) | Die and coating liquid coating apparatus and coating method, and plasma display panel manufacturing method | |
JP2004000928A (en) | Coating head and apparatus and method of applying coating liquid | |
JP2000033289A (en) | Nozzle, method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, and method and apparatus for producing plasma display | |
KR20050031381A (en) | Color-filter substrate and method and apparatus for manufacturing color-filter substrate | |
JP5146177B2 (en) | Die coating method and plasma display panel manufacturing method | |
JP4894842B2 (en) | Color filter manufacturing method, display device manufacturing method, coating method | |
JP2005190999A (en) | Mask plate for printing plasma display fluorescence material and method of filling and supplying plasma display fluorescence material using same | |
JP2007033589A (en) | Manufacturing method for display device, and coating apparatus | |
KR101631527B1 (en) | Method for repairing paste pattern and substrate having paste pattern repaired by using the method | |
JP2010113071A (en) | Method for producing flat display device | |
JPH11314061A (en) | Device and method for coating recessed and projected base with coating liquid, plasma display and device and method for manufacturing plasma display member | |
JP2006181418A (en) | Sealant drawing method, sealant drawing machine, manufacturing method of liquid crystal apparatus and manufacturing apparatus of liquid crystal apparatus | |
JP2015526861A (en) | Slot die coater member, movable member for slot die coater, and slot die coater for electrode production using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070517 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070705 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070814 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20081010 |