JP2006015210A - Coating apparatus and manufacturing method for plasma display panel - Google Patents

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JP2006015210A JP2004194208A JP2004194208A JP2006015210A JP 2006015210 A JP2006015210 A JP 2006015210A JP 2004194208 A JP2004194208 A JP 2004194208A JP 2004194208 A JP2004194208 A JP 2004194208A JP 2006015210 A JP2006015210 A JP 2006015210A
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明 滝口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating apparatus that is capable of precisely molding a belt-like pattern even in use for a long term and is capable of easily processing fine discharge apertures, and to provide a manufacturing method for a plasma display panel. <P>SOLUTION: The coating apparatus forms a belt-like pattern of a material on a substrate by conducting the relative displacement of the substrate and a coating die 60 in a state in which the coating die 60 having the discharge apertures 70 to discharge the material formed is in opposition with the substrate. The coating die 60 is provided with a lengthy first block 61 and a second block 66, and a plurality of the discharge apertures 70 with a first side 63 of the trough width (a) and a second side 64 of the trough depth (b) are installed at predetermined intervals (c). The discharge apertures 70 are opposite to a recessed part 62 for the discharge apertures installed at the first block 61 and a planar face 67 for the discharge apertures installed at the second block 66 and is formed by binding these. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、塗工装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus and a method for manufacturing a plasma display panel.

従来、基板上にペースト状の材料を塗布して帯状パターンを描画形成することが行われている。これらのペースト材料のパターン描画形成法は、例えばプラズマディスプレイパネルを製造するために用いられている。
このプラズマディスプレイパネルの製造にあたり、基板上に互いに対向配置された隔壁の間に蛍光体層を帯状に形成する蛍光体層形成工程や、基板上に設けられた電極間に可視光吸収性パターンを帯状に形成するブラックストライプ(BS)層形成工程などに、帯状パターン描画形成法が応用されている。
これらのペースト材料を帯状にパターン形成する方法としては、高精細スクリーン印刷法(例えば、特許文献1参照)や高精細ディスペンサ塗布法(例えば、特許文献2参照)などが挙げられる。
Conventionally, a belt-like pattern is drawn and formed by applying a paste-like material on a substrate. These paste material pattern drawing forming methods are used, for example, to manufacture plasma display panels.
In the production of this plasma display panel, a phosphor layer forming step of forming a phosphor layer in a band shape between partitions arranged opposite to each other on a substrate, and a visible light absorbing pattern between electrodes provided on the substrate are formed. A strip pattern drawing formation method is applied to a black stripe (BS) layer forming process for forming a strip.
Examples of a method for forming a pattern of these paste materials include a high-definition screen printing method (for example, see Patent Document 1) and a high-definition dispenser application method (for example, see Patent Document 2).

特許文献1の高精細スクリーン印刷法の概略を、図1を用いて説明する。
図1において、ストライプ状の隔壁100が形成されたガラス基板101は、スクリーン印刷装置102のステージに載置される。隔壁100の頂部100Aの平面上に、乳剤でパターニング処理の施されたメッシュ材からなるスクリーン103が、所定の間隔を空けた状態で張られている。スクリーン103の上にペースト材料104が盛られ、スキージ105をスクリーン103に押し付けながら矢印X方向に動かすことにより、スクリーン上のペースト材料104が形成パターンを通過して、ストライプ状の隔壁で区画された表示セルの空間106に充填され、帯状パターン107が形成される。
The outline of the high-definition screen printing method of patent document 1 is demonstrated using FIG.
In FIG. 1, a glass substrate 101 on which a stripe-shaped partition wall 100 is formed is placed on a stage of a screen printing apparatus 102. On the plane of the top 100A of the partition wall 100, a screen 103 made of a mesh material patterned with an emulsion is stretched at a predetermined interval. The paste material 104 is stacked on the screen 103, and the squeegee 105 is moved in the direction of the arrow X while pressing the squeegee 105 against the screen 103, so that the paste material 104 on the screen passes through the formation pattern and is partitioned by the striped partition walls. The space 106 of the display cell is filled, and a strip pattern 107 is formed.

特許文献2の高精細ディスペンサ塗布法の概略を、図2を用いて説明する。
図2において、ストライプ状の隔壁100が形成されたガラス基板101は、ディスペンサ塗布装置200のステージに載置される。ディスペンサ塗布装置200はディスペンサノズル201を備えており、このディスペンサノズル201には塗布ヘッド202が突出して形成されている。この塗布ヘッド202の先端には断面形状が真円形である吐出孔203が設けられている。この吐出孔203からノズルの内部に充填されたペースト材料(図示しない)が吐出される。ペースト材料を吐出しながら、ディスペンサノズル201が矢印X方向に移動することにより、ペースト材料がストライプ状の隔壁100で区画された表示セルの空間106に充填され、帯状パターン107が形成される。
The outline of the high-definition dispenser application method of Patent Document 2 will be described with reference to FIG.
In FIG. 2, the glass substrate 101 on which the stripe-shaped partition wall 100 is formed is placed on the stage of the dispenser coating apparatus 200. The dispenser coating apparatus 200 includes a dispenser nozzle 201, and an application head 202 is projected from the dispenser nozzle 201. A discharge hole 203 having a true circular cross section is provided at the tip of the coating head 202. A paste material (not shown) filled in the nozzle is discharged from the discharge hole 203. The dispenser nozzle 201 moves in the direction of the arrow X while discharging the paste material, whereby the paste material is filled into the display cell space 106 partitioned by the stripe-shaped partition wall 100, and a band-shaped pattern 107 is formed.

特開2004−25766(図1参照)JP 2004-25766 (see FIG. 1) 特開2002−21715(図2参照)JP 2002-21715 (see FIG. 2)

しかしながら、特許文献1の高精細スクリーン印刷法では、スキージ105をスクリーン103に押し付けるので、使用していくうちにスクリーン103が伸びてしまい、所望のパターンが印刷できなくなってしまう。また、使用環境、特に使用時の周囲温度によって、スクリーン103が伸縮してしまい、所望のパターンが印刷できなくなってしまう。プラズマディスプレイパネルの製造においては、パネルが大画面であるため、スクリーン自体も大型化してしまい維持管理が困難となる、などの問題が一例として挙げられる。   However, in the high-definition screen printing method of Patent Document 1, the squeegee 105 is pressed against the screen 103, so that the screen 103 expands as it is used, and a desired pattern cannot be printed. Further, the screen 103 expands and contracts depending on the use environment, particularly the ambient temperature during use, and a desired pattern cannot be printed. In the manufacture of a plasma display panel, for example, the panel has a large screen, so that the screen itself is enlarged and difficult to maintain.

特許文献2の高精細ディスペンサ塗布法では、ディスペンサノズル201の塗布ヘッド202が突出して形成されており、その塗布ヘッド202先端にある吐出孔203の断面形状は真円形とされる。通常、この吐出孔203はドリル加工によってミクロンオーダーで形成されるが、このような高精細孔を塗布ヘッド202に設けることは非常に困難である。また、吐出孔203の孔径が小さくなる程、圧力損失差が大きくなり、高粘度流体を高速で吐出させる場合、非常に大きな加圧力を要し、装置各部に大きな負荷が生じる、などの問題が一例として挙げられる。また、吐出孔203の断面形状が真円形であるため、基板上に形成された帯状パターンの膜厚に偏りが生じる問題も懸念される。   In the high-definition dispenser application method of Patent Document 2, the application head 202 of the dispenser nozzle 201 is formed so as to protrude, and the cross-sectional shape of the discharge hole 203 at the tip of the application head 202 is a perfect circle. Normally, the discharge holes 203 are formed on the micron order by drilling, but it is very difficult to provide such high-definition holes in the coating head 202. In addition, as the hole diameter of the discharge hole 203 becomes smaller, the pressure loss difference becomes larger. When a high viscosity fluid is discharged at a high speed, a very large pressure is required and a large load is generated in each part of the apparatus. As an example. Further, since the cross-sectional shape of the discharge hole 203 is a perfect circle, there is a concern that the film thickness of the band-shaped pattern formed on the substrate is uneven.

ここで、本発明の目的は、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形することができ、微小な吐出孔を容易に加工することができる塗工装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することである。   Here, an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a plasma display panel manufacturing method that can form a strip-like pattern with high precision even after long-term use and can easily process minute discharge holes. Is to provide.

請求項1に記載の発明は、材料を吐出する吐出孔が形成された塗工ダイを基板と対向させた状態で前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させ前記基板上に前記材料の帯状のパターンを形成する塗工装置であって、前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、この第1の辺と交差する方向に幅を有する形状とされることを特徴とした塗工装置である。   According to the first aspect of the present invention, the substrate and the coating die are relatively moved in a state where the coating die in which the discharge holes for discharging the material are formed are opposed to the substrate, and the band of the material is formed on the substrate. In the coating apparatus for forming the pattern, the coating die faces a first block having a first surface on which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and the recesses face each other. A second block having a second surface that is a flat surface, the first surface and the second surface are brought into close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface. The discharge hole has a first side corresponding to the width of the band-shaped pattern, and has a shape having a width in a direction intersecting with the first side. .

請求項5に記載の発明は、吐出孔が形成された塗工ダイと基板とを相対移動させながら前記吐出孔から材料を吐出して基板上に帯状のパターンを形成してプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、前記塗工ダイを前記基板と対向させて前記第1の辺の方向に対して交差する方向に沿って前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, a plasma display panel is manufactured by discharging a material from the discharge holes while relatively moving the coating die having the discharge holes formed thereon and the substrate to form a strip pattern on the substrate. The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a surface facing the recesses is a flat surface. A second block having a second surface, the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface. The substrate and the coating along a direction having a first side corresponding to the width of the strip-shaped pattern and intersecting the direction of the first side with the coating die facing the substrate Plasma display characterized by moving relative to the die Is a Ipaneru method of manufacturing.

<塗工装置全体の構成>
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図3は本実施形態の塗工装置全体の斜視図であり、図4は塗工装置の概略構成図である。図3、図4において、本実施形態の塗工装置1は、基台2、ステージ部10、塗工処理部20、厚みセンサ部30、材料供給部40および制御部50を備えている。
<Configuration of the entire coating device>
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a perspective view of the entire coating apparatus of the present embodiment, and FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the coating apparatus. 3 and 4, the coating apparatus 1 according to this embodiment includes a base 2, a stage unit 10, a coating processing unit 20, a thickness sensor unit 30, a material supply unit 40, and a control unit 50.

図3において、基台2上にはステージ部10、塗工処理部20および厚みセンサ部30がそれぞれ設けられている。また、基台2上面には一対のガイド溝レール3が設けられており、このガイド溝レール3の長手方向に沿って、ステージ部10が往復動移動可能に設けられる。ここで、このステージ部10の往復動方向をX方向とし、X方向が属する水平面上においてX方向と直交する方向をY方向とし、またX方向が属する水平面に対して垂直な方向をZ方向と定義する。   In FIG. 3, a stage unit 10, a coating processing unit 20, and a thickness sensor unit 30 are provided on the base 2. A pair of guide groove rails 3 is provided on the upper surface of the base 2, and the stage portion 10 is provided along the longitudinal direction of the guide groove rails 3 so as to be reciprocally movable. Here, the reciprocating direction of the stage unit 10 is the X direction, the direction orthogonal to the X direction on the horizontal plane to which the X direction belongs is the Y direction, and the direction perpendicular to the horizontal plane to which the X direction belongs is the Z direction. Define.

ステージ部10はステージ11、移動機構14およびステージ位置センサ17から構成される。ステージ11はガイド溝レール3上にX方向に往復動移動可能に配置され、その下面にステージ脚12およびナット状のコネクタ13が設けられている。ステージ脚12は、ガイド溝レール3に対応するように、ステージ11下面から突出してX方向に往復動移動可能に設けられ、ガイド溝レール3に摺動自在に嵌合されている。
移動機構14は、ボールねじからなるフィードスクリュー15とモータ16を備えている。フィードスクリュー15は、ステージ11の下面に固定されたコネクタ13に螺合され、ガイド溝レール3に沿ってコネクタ13を貫通して延びている。また、このフィードスクリュー15の一端は図示しない軸受に回転自在に支持されており、その一端にはモータ16が連結されている。ステージ位置センサ17は、ステージ11の下面に設けられており、ステージ11の移動位置を検出する。
The stage unit 10 includes a stage 11, a moving mechanism 14, and a stage position sensor 17. The stage 11 is disposed on the guide groove rail 3 so as to be reciprocally movable in the X direction, and a stage leg 12 and a nut-like connector 13 are provided on the lower surface thereof. The stage leg 12 protrudes from the lower surface of the stage 11 so as to correspond to the guide groove rail 3 and is reciprocally movable in the X direction, and is slidably fitted to the guide groove rail 3.
The moving mechanism 14 includes a feed screw 15 composed of a ball screw and a motor 16. The feed screw 15 is screwed into a connector 13 fixed to the lower surface of the stage 11, and extends through the connector 13 along the guide groove rail 3. One end of the feed screw 15 is rotatably supported by a bearing (not shown), and a motor 16 is connected to one end of the feed screw 15. The stage position sensor 17 is provided on the lower surface of the stage 11 and detects the movement position of the stage 11.

塗工処理部20は、塗工ダイ60、ダイ支持部21および昇降機構22から構成されている。ダイ支持部21は、基台2の上面中央側に配置され、Z方向に直立する柱状体と、片持ち梁状にY方向に沿って延びた柱状体とから構成され、逆L字形をなしている。このダイ支持部21の先端には昇降機構22がZ方向に移動可能に取り付けられており、この昇降機構22の下端に塗工ダイ60が取り付けられる。昇降機構22は、図示しない水平調整機構を有しており、これにより塗工ダイ60の水平調整を行うことができる。また、昇降機構22には、図示しない吐出孔位置調整機構が設けられており、これにより、塗工ダイ60をY方向に水平移動させ、塗工ダイ60の位置を微調整できる。   The coating processing unit 20 includes a coating die 60, a die support unit 21, and an elevating mechanism 22. The die support portion 21 is disposed on the center side of the upper surface of the base 2 and is composed of a columnar body standing upright in the Z direction and a columnar body extending in the Y direction in a cantilever shape, and has an inverted L shape. ing. An elevating mechanism 22 is attached to the tip of the die support 21 so as to be movable in the Z direction, and a coating die 60 is attached to the lower end of the elevating mechanism 22. The elevating mechanism 22 has a horizontal adjustment mechanism (not shown), and thereby the horizontal adjustment of the coating die 60 can be performed. Further, the lifting mechanism 22 is provided with a discharge hole position adjusting mechanism (not shown), whereby the coating die 60 can be moved horizontally in the Y direction to finely adjust the position of the coating die 60.

前記厚みセンサ部30は、基台2上面の一端側に位置し、センサ支持部31、厚みセンサ32および昇降アクチュエータ33から構成される。センサ支持部31は、Z方向に直立する柱状体と、片持ち梁状にY方向に沿って延びた柱状体とから構成され、逆L字型をなしている。センサ支持部31の先端は、一対のガイド溝レール3間の中心上方まで延びており、この先端部に昇降アクチュエータ33が取り付けられている。さらに、この昇降アクチュエータ33には、厚みセンサ32が下向きに取り付けられている。厚みセンサ32としては、レーザ変位計、電子マイクロ変位計、超音波厚さ計などを使用することができる。   The thickness sensor unit 30 is located on one end side of the upper surface of the base 2 and includes a sensor support unit 31, a thickness sensor 32, and a lift actuator 33. The sensor support portion 31 includes a columnar body that stands upright in the Z direction and a columnar body that extends in a cantilever shape along the Y direction, and has an inverted L shape. The front end of the sensor support portion 31 extends to the upper center between the pair of guide groove rails 3, and an elevating actuator 33 is attached to the front end portion. Further, a thickness sensor 32 is attached to the lift actuator 33 downward. As the thickness sensor 32, a laser displacement meter, an electronic micro displacement meter, an ultrasonic thickness meter, or the like can be used.

図4に示すように、前記材料供給部40は、タンク41およびシリンジポンプ42を備えている。タンク41は、その内部にペースト状の材料が収納されており、この材料はシリンジポンプ42により吸引されて、前記塗工ダイ60に加圧された状態で供給される。本実施形態では、材料として、プラズマディスプレイパネル用材料、その他の材料が用いられる。   As shown in FIG. 4, the material supply unit 40 includes a tank 41 and a syringe pump 42. The tank 41 contains a paste-like material therein, and the material is sucked by the syringe pump 42 and supplied to the coating die 60 in a pressurized state. In the present embodiment, a plasma display panel material or other materials are used as the material.

制御部50は、コンピュータ51およびシーケンサ52から構成される。コンピュータ51は、厚みセンサ32、昇降アクチュエータ33、シリンジポンプ42、シーケンサ52と電気的に接続され、これらから装置各部の作動情報が入力される。そしてこれらの作動情報を受けて、コンピュータ51は、昇降アクチュエータ33、シリンジポンプ42およびシーケンサ52に動作命令を出力する。   The control unit 50 includes a computer 51 and a sequencer 52. The computer 51 is electrically connected to the thickness sensor 32, the lift actuator 33, the syringe pump 42, and the sequencer 52, and operation information of each part of the apparatus is input from these. In response to the operation information, the computer 51 outputs an operation command to the elevating actuator 33, the syringe pump 42, and the sequencer 52.

シーケンサ52は、ステージ部モータ16、ステージ位置センサ17、昇降機構22およびコンピュータ51と電気的に接続されている。このシーケンサ52は、ステージ部モータ16および昇降機構22の作動をシーケンス制御する。シーケンサ52には、ステージ部モータ16の作動状態を示す信号、ステージ位置センサ17からの信号、昇降機構22の作動状態を示す信号、塗工ダイ60の作動状態を検出するセンサ(図示しない)からの信号などが入力される。一方、シーケンサ52からはシーケンス動作を示す信号がコンピュータ51に出力される。   The sequencer 52 is electrically connected to the stage motor 16, the stage position sensor 17, the lifting mechanism 22 and the computer 51. The sequencer 52 controls the operations of the stage motor 16 and the lifting mechanism 22 in sequence. The sequencer 52 includes a signal indicating the operating state of the stage motor 16, a signal from the stage position sensor 17, a signal indicating the operating state of the lifting mechanism 22, and a sensor (not shown) that detects the operating state of the coating die 60. Signal is input. On the other hand, a signal indicating a sequence operation is output from the sequencer 52 to the computer 51.

<塗工ダイの構成>
次に、前述した塗工ダイ60の詳細について図面に基づいて説明する。図3から明らかなように塗工ダイ60は、一対のガイド溝レール3間に亘り、Y方向に沿って延びている。図5(A)、(B)および(C)はそれぞれ、本実施形態の塗工ダイ60の正面図、分解側面図および分解底面図を示したものである。
<Configuration of coating die>
Next, the detail of the coating die 60 mentioned above is demonstrated based on drawing. As is apparent from FIG. 3, the coating die 60 extends between the pair of guide groove rails 3 along the Y direction. 5A, 5B, and 5C are respectively a front view, an exploded side view, and an exploded bottom view of the coating die 60 of the present embodiment.

図5において、塗工ダイ60は、それぞれ長尺の第1ブロック61および第2ブロック66から構成され、これらブロック61、66の接合面が鉛直面内に位置するように、互いに一体的に形成されている。また、この塗工ダイ60の底面には複数個の微細な吐出孔70が互いに等間隔に設けられ、塗工ダイ60内部には液溜り71が設けられている。なお、これらの第1ブロック61および第2ブロック66の材料としては、例えば金属を用いることができる。   In FIG. 5, the coating die 60 is composed of a long first block 61 and a second block 66, respectively, and is formed integrally with each other so that the joint surfaces of these blocks 61 and 66 are located in the vertical plane. Has been. A plurality of fine discharge holes 70 are provided at equal intervals on the bottom surface of the coating die 60, and a liquid reservoir 71 is provided inside the coating die 60. In addition, as a material of these 1st block 61 and 2nd block 66, a metal can be used, for example.

第1ブロック61には、第2ブロック66との接合面において、その面下端部に複数個の吐出孔用凹部62が形成され、面中央部には液溜り用凹部65が形成されている。また、第1ブロック61の底面は、平坦面となっている。吐出孔用凹部62は、溝幅aの第1の辺63と溝深さbの第2の辺64を有しており、鉛直方向に沿って延びた矩形状の微細な溝である。吐出孔用凹部62はそれぞれ、溝幅方向に所定の間隔cで複数並設されている。なお、吐出孔用凹部62において、第1の辺63の溝幅aは、基板上に形成する帯状パターンのパターン幅aと一致し、それぞれの吐出孔用凹部62間の間隔cは、基板上に形成する帯状パターンのパターンギャップcと一致する。   In the first block 61, a plurality of discharge hole recesses 62 are formed at the lower end portion of the joint surface with the second block 66, and a liquid pool recess 65 is formed at the center of the surface. The bottom surface of the first block 61 is a flat surface. The discharge hole recess 62 has a first side 63 having a groove width a and a second side 64 having a groove depth b, and is a fine rectangular groove extending in the vertical direction. A plurality of the discharge hole recesses 62 are arranged in parallel in the groove width direction at a predetermined interval c. In the discharge hole recess 62, the groove width a of the first side 63 coincides with the pattern width a of the belt-like pattern formed on the substrate, and the interval c between the respective discharge hole recesses 62 is determined on the substrate. This coincides with the pattern gap c of the belt-like pattern formed in the above.

液溜り用凹部65は、第2ブロック66と接合される面中央部において、長尺のブロック61の一端からその他端に亘り、長尺の直方体状に抉られて形成されている。この液溜り用凹部65の溝深さは、吐出孔用凹部62の溝深さbよりも深く形成されており、液溜り用凹部65の下部が吐出孔用凹部62の上端とテーパー状に接続されている。これにより、液溜り71に充填された材料は、液溜り用凹部65の下側面から吐出孔用凹部62の上端側にそれぞれ流入し、吐出孔用凹部62の下端側からそれぞれ均一に吐出される。   The liquid reservoir recess 65 is formed by being wound in a long rectangular parallelepiped shape from one end of the long block 61 to the other end at the center of the surface joined to the second block 66. The groove depth of the liquid reservoir recess 65 is formed deeper than the groove depth b of the discharge hole recess 62, and the lower portion of the liquid reservoir recess 65 is connected to the upper end of the discharge hole recess 62 in a tapered shape. Has been. Thereby, the material filled in the liquid reservoir 71 flows into the upper end side of the discharge hole recess 62 from the lower surface of the liquid reservoir recess 65 and is uniformly discharged from the lower end side of the discharge hole recess 62. .

第2ブロック66には、第1ブロック61との接合面において、その面下端部に吐出孔用平坦面67が設けられ、面中央部には第1ブロック61の液溜り用凹部65と対向する液溜り用凹部68が設けられる。また、第2ブロック66の底面は、平坦面となっている。第1ブロック61と第2ブロック66とを、その接合面で一体的に張り合わせると、塗工ダイ60の底面69には平坦面が形成され、吐出孔用凹部62と吐出孔用平坦面67から吐出孔70が形成され、液溜り用凹部65と液溜り用凹部68から液溜り71が形成される。   The second block 66 is provided with a discharge hole flat surface 67 at the lower end of the joint surface with the first block 61, and faces the liquid reservoir recess 65 of the first block 61 at the center of the surface. A liquid reservoir recess 68 is provided. The bottom surface of the second block 66 is a flat surface. When the first block 61 and the second block 66 are integrally bonded to each other at the joint surface, a flat surface is formed on the bottom surface 69 of the coating die 60, and the discharge hole recess 62 and the discharge hole flat surface 67 are formed. A discharge hole 70 is formed, and a liquid reservoir 71 is formed from the liquid reservoir recess 65 and the liquid reservoir recess 68.

なお、吐出孔用凹部62、液溜り用凹部65および液溜り用凹部68は、削り出し加工によって形成でき、従来あるスライサー、エンドミル、フライスなどの溝切り方法を用いることができる。このため、吐出孔用凹部62における第1の辺63の寸法aおよび第2の辺64の寸法bを任意に変更できる。したがって、基板へのパターン形成において、パターン幅aおよびパターンギャップcを所望の寸法に設定することができ、また、吐出孔70の溝深さbも変更できるため、塗料の吐出量を適宜調整できる。また、第2ブロックの吐出孔用平坦面67は単純な機械研磨により形成できる。   The discharge hole recess 62, the liquid reservoir recess 65, and the liquid reservoir recess 68 can be formed by machining, and a conventional grooving method such as a slicer, an end mill, or a milling cutter can be used. For this reason, the dimension a of the first side 63 and the dimension b of the second side 64 in the discharge hole recess 62 can be arbitrarily changed. Accordingly, in pattern formation on the substrate, the pattern width a and the pattern gap c can be set to desired dimensions, and the groove depth b of the discharge hole 70 can be changed, so that the amount of paint discharged can be adjusted as appropriate. . Further, the discharge hole flat surface 67 of the second block can be formed by simple mechanical polishing.

<プラズマディスプレイパネルの構造>
次に、本実施形態の塗工装置1を用いて製造されるプラズマディスプレイパネルの構造について、図面に基づいて説明する。図6はプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す分解斜視図である。図7はプラズマディスプレイパネルの製造工程の一部を説明する模式的断面図であり、(A)は第1の工程、(B)は第2の工程、(C)は第3の工程である。図6のプラズマディスプレイパネルは、特開平10−27550で示される構造であり、図7のプラズマディスプレイパネルの製造工程は、特開2004−95355で示されるものである。
<Plasma display panel structure>
Next, the structure of the plasma display panel manufactured using the coating apparatus 1 of this embodiment is demonstrated based on drawing. FIG. 6 is an exploded perspective view showing the internal structure of the plasma display panel. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining a part of the manufacturing process of the plasma display panel, where (A) is the first step, (B) is the second step, and (C) is the third step. . The plasma display panel of FIG. 6 has a structure shown in Japanese Patent Laid-Open No. 10-27550, and the manufacturing process of the plasma display panel of FIG. 7 is shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-95355.

図6において、プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して対向配置された背面基板300と前面基板400とを備えている。プラズマディスプレイパネルの背面基板300内面側には、所定の間隔で複数の隔壁301がそれぞれ互いに対向配置され、これらの隔壁301の間の空間からセル302R、302G、302Bが形成され、これらのセル302R、302G、302Bの底面に、列電極303がそれぞれ設けられている。
セル302R、302G、302Bには、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の帯状の蛍光体層304R、304G、304Bが順に形成されている。前記放電空間には希ガスが封入されており、この放電空間で発生した紫外光が蛍光体層304R、304G、304Bを励起することによって、可視光を発光させている。
In FIG. 6, the plasma display panel includes a back substrate 300 and a front substrate 400 that are disposed to face each other via a discharge space. On the inner surface side of the back substrate 300 of the plasma display panel, a plurality of partition walls 301 are arranged to face each other at a predetermined interval, and cells 302R, 302G, and 302B are formed from spaces between these partition walls 301, and these cells 302R are formed. , 302G, and 302B are provided with column electrodes 303 on the bottom surfaces thereof.
In the cells 302R, 302G, and 302B, strip-shaped phosphor layers 304R, 304G, and 304B of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are sequentially formed. A rare gas is sealed in the discharge space, and ultraviolet light generated in the discharge space excites the phosphor layers 304R, 304G, and 304B to emit visible light.

図6および図7において、プラズマディスプレイパネルの表示面側となる前面基板400には、その内面側に複数の透明電極対401a,401b、複数のバス電極対402a,402bおよび複数のブラックストライプ層404がそれぞれ所定の間隔で、かつ、前記背面基板300の隔壁301と直交する方向に平行に設けられる。さらに、これら複数の透明電極対401a,401b、複数のバス電極対402a,402bおよび複数のブラックストライプ層404の上を、誘電体層405および保護層406が覆っている。   6 and 7, the front substrate 400 that is the display surface side of the plasma display panel has a plurality of transparent electrode pairs 401a and 401b, a plurality of bus electrode pairs 402a and 402b, and a plurality of black stripe layers 404 on the inner surface side. Are provided at predetermined intervals and in parallel to a direction orthogonal to the partition walls 301 of the rear substrate 300. Further, the dielectric layer 405 and the protective layer 406 cover the plurality of transparent electrode pairs 401a and 401b, the plurality of bus electrode pairs 402a and 402b, and the plurality of black stripe layers 404.

図7(A)に示したプラズマディスプレイパネルの製造工程において、幅の広いITOなどの透明導電膜からなる複数の透明電極対401a,401bが、互いに空間403を挟んで基板400上に一対ずつ設けられ、この空間403に帯状のブラックストライプ層404が設けられている。次に、これら透明電極対401a,401bの導電性を補うために、幅の狭い金属膜からなる複数のバス電極対402a,402bが、空間403を挟んで、透明電極対401a,401b上に一対ずつ設けられる。ブラックストライプ層404は、黒色無機顔料などの可視光吸収性材料からなり、外光の反射により表示のコントラストが悪化することを防ぐために設けられる。   In the plasma display panel manufacturing process shown in FIG. 7A, a plurality of transparent electrode pairs 401 a and 401 b made of a transparent conductive film such as wide ITO are provided on the substrate 400 with a space 403 therebetween. In this space 403, a strip-shaped black stripe layer 404 is provided. Next, in order to supplement the conductivity of the transparent electrode pairs 401a and 401b, a plurality of bus electrode pairs 402a and 402b made of a narrow metal film are paired on the transparent electrode pairs 401a and 401b with the space 403 interposed therebetween. It is provided one by one. The black stripe layer 404 is made of a visible light absorbing material such as a black inorganic pigment, and is provided in order to prevent display contrast from being deteriorated by reflection of external light.

図7(B)に示した工程において、誘電体層405は、前面基板400内面側に設けられた透明電極対401a,401b、バス電極対402a,402bおよびブラックストライプ層404の上を、前面基板400内面側の全領域に亘り被覆する。また、図7(C)に示した工程において、この誘電体層405を保護すべく、MgOからなる保護層406が、誘電体層405上を被覆する。   In the step shown in FIG. 7B, the dielectric layer 405 is formed on the front substrate 400 on the transparent electrode pair 401a, 401b, the bus electrode pair 402a, 402b, and the black stripe layer 404 provided on the inner surface side of the front substrate 400. 400 Cover the entire area on the inner surface side. In the step shown in FIG. 7C, a protective layer 406 made of MgO covers the dielectric layer 405 in order to protect the dielectric layer 405.

<プラズマディスプレイパネルの製造方法>
次に、本実施形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。まず、背面基板300を製造する方法について、図面に基づいて説明する。
図8は、本実施形態である塗工装置1を用いてプラズマディスプレイパネルの背面基板300に赤色蛍光体層304Rを形成する工程を示した斜視図である。図9は、図8の要部拡大図である。
<Plasma display panel manufacturing method>
Next, a method for manufacturing the plasma display panel of this embodiment will be described. First, a method for manufacturing the back substrate 300 will be described with reference to the drawings.
FIG. 8 is a perspective view showing a process of forming the red phosphor layer 304R on the back substrate 300 of the plasma display panel using the coating apparatus 1 according to the present embodiment. FIG. 9 is an enlarged view of a main part of FIG.

あらかじめ、前工程として、図8、図9に示すように、所定の手順で背面基板300上に複数の隔壁301を互いに対向するよう形成し、さらにこれら隔壁301間に形成されたセル302R、302G、302Bの底面に、列電極303をそれぞれ設けた状態の背面基板300を準備しておく。
次に、これらのセル302R、302G、302Bに、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の帯状の蛍光体層304R、304G、304Bを順に形成する工程へと進む。なお、本実施形態では、前述の塗工装置1を用いて蛍光体層304R、304G、304Bを形成するが、赤(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれの蛍光体ペーストに対応した塗工ダイ60をあらかじめ3種類用意しておく。
As shown in FIGS. 8 and 9, in advance, as shown in FIGS. 8 and 9, a plurality of partition walls 301 are formed on the back substrate 300 so as to face each other by a predetermined procedure, and cells 302R and 302G formed between the partition walls 301 are formed. , 302B is prepared with a back substrate 300 provided with column electrodes 303 on the bottom surfaces thereof.
Next, the process proceeds to a step of sequentially forming strip-shaped phosphor layers 304R, 304G, and 304B of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) in these cells 302R, 302G, and 302B, respectively. . In the present embodiment, the phosphor layers 304R, 304G, and 304B are formed by using the above-described coating apparatus 1, and each of the phosphor pastes of red (R), green (G), and blue (B) is used. Three types of corresponding coating dies 60 are prepared in advance.

始めに、赤色蛍光体ペーストを塗布して蛍光体層304Rを形成する工程を説明する。
図3、図4において、塗工装置1の各作動部の原点復帰が行われると、ステージ11は、厚みセンサ32の下まで移動される。この時、タンク41内の赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42により吸引され塗工ダイ60の液溜り71まで運ばれる。
First, a process of forming the phosphor layer 304R by applying a red phosphor paste will be described.
3 and 4, the stage 11 is moved to below the thickness sensor 32 when the origin return of each operation unit of the coating apparatus 1 is performed. At this time, the red phosphor paste in the tank 41 is sucked by the syringe pump 42 and carried to the liquid reservoir 71 of the coating die 60.

背面基板300が、セル302RがX方向に対して平行となるように塗工装置1のステージ11上に載置されると、厚みセンサ32が背面基板300近傍まで下降し、背面基板300の厚さを計測する。背面基板300の厚さを計測後、厚みセンサ32は、元の位置まで上昇する。   When the back substrate 300 is placed on the stage 11 of the coating apparatus 1 so that the cells 302R are parallel to the X direction, the thickness sensor 32 descends to the vicinity of the back substrate 300, and the thickness of the back substrate 300 is increased. Measure the thickness. After measuring the thickness of the back substrate 300, the thickness sensor 32 rises to the original position.

次に、ステージはX方向に移動し、背面基板300は塗工ダイ60の下に配置され、塗工ダイ60は、背面基板300と吐出孔70との間隔が所定のクリアランスになるまで下降する。このクリアランスは、形成すべきパターンの膜厚に対して、数倍、たとえば0.05〜0.20mm程度であり、厚みセンサ32により測定した背面基板300の厚さを考慮し、ステージ11と吐出孔70との間の距離を測定する距離センサ(図示しない)からの信号に基づいて正確に決定される。   Next, the stage moves in the X direction, the back substrate 300 is disposed under the coating die 60, and the coating die 60 is lowered until the distance between the back substrate 300 and the discharge holes 70 reaches a predetermined clearance. . This clearance is several times the thickness of the pattern to be formed, for example, about 0.05 to 0.20 mm, and the thickness of the back substrate 300 measured by the thickness sensor 32 is taken into consideration and the stage 11 and the discharge. It is accurately determined based on a signal from a distance sensor (not shown) that measures the distance to the hole 70.

図8、図9において、塗工ダイ60の位置は、水平調整機構(図示しない)により、背面基板300に対して平行となるよう調整される。また、塗工ダイ60は、吐出孔位置調整機構(図示しない)によりY方向に水平移動され、背面基板300上に形成されたセル302Rと吐出孔70とが所望の位置で対向するよう微調整される。これら塗工ダイ60の微調整が行われると、ステージ11は、パターン形成開始する所望の位置まで移動され、塗工ダイ60の位置合わせが完了する。ここにおいて、背面基板300へのパターン形成が可能な状態となる。   8 and 9, the position of the coating die 60 is adjusted to be parallel to the back substrate 300 by a horizontal adjustment mechanism (not shown). The coating die 60 is horizontally moved in the Y direction by a discharge hole position adjusting mechanism (not shown), and finely adjusted so that the cells 302R formed on the back substrate 300 and the discharge holes 70 face each other at a desired position. Is done. When these fine adjustments of the coating die 60 are performed, the stage 11 is moved to a desired position where pattern formation starts, and the alignment of the coating die 60 is completed. Here, a pattern can be formed on the back substrate 300.

パターン形成が開始されると、塗工ダイ60の液溜り71に充填された赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42から加えられる一定の圧力により、吐出孔70から一定の吐出速度で吐出される。これと同時に、ステージ11は、塗工ダイ60の底面69と対向して一定の速度でX方向に相対移動する。これにより、背面基板300上にはパターン幅a、パターンギャップcの帯状の赤色蛍光体層304Rが、同時にかつ均一に形成される。ここで、赤色蛍光体ペーストの吐出速度およびステージ11の移動速度は一定であるため、ステージ移動速度を変えれば、赤色蛍光体層304Rの膜厚を、所望の寸法に調整できる。   When the pattern formation is started, the red phosphor paste filled in the liquid reservoir 71 of the coating die 60 is discharged from the discharge hole 70 at a constant discharge speed by a constant pressure applied from the syringe pump 42. At the same time, the stage 11 moves relative to the bottom surface 69 of the coating die 60 in the X direction at a constant speed. As a result, a strip-shaped red phosphor layer 304R having a pattern width a and a pattern gap c is simultaneously and uniformly formed on the back substrate 300. Here, since the discharge speed of the red phosphor paste and the moving speed of the stage 11 are constant, the film thickness of the red phosphor layer 304R can be adjusted to a desired dimension by changing the stage moving speed.

パターン形成が行われながらステージ11が移動し、吐出孔70がフィニッシュラインに位置すると、ステージ11の移動は停止し、同時にシリンジポンプ42による吐出動作が停止する。吐出動作の停止後すぐに、吐出孔70に残った赤色蛍光体ペーストは、シリンジポンプ42によりポンプ側にわずかに吸引される。これにより吐出孔70からの液だれを防ぐことができる。パターン形成の終了後、塗工ダイ60は元の位置まで上昇し、塗工ダイ60の底面に付着している赤色蛍光体ペーストがクリーナ(図示しない)により拭取られる。   When the stage 11 is moved while the pattern is being formed and the discharge hole 70 is positioned on the finish line, the movement of the stage 11 is stopped, and at the same time, the discharge operation by the syringe pump 42 is stopped. Immediately after the discharge operation is stopped, the red phosphor paste remaining in the discharge hole 70 is slightly sucked to the pump side by the syringe pump 42. Thereby, dripping from the discharge hole 70 can be prevented. After the pattern formation is completed, the coating die 60 is raised to the original position, and the red phosphor paste adhering to the bottom surface of the coating die 60 is wiped off by a cleaner (not shown).

さらに、緑色蛍光体層304Gを形成し、その後、青色蛍光体層304Bを形成するが、緑色蛍光体層304Gおよび青色蛍光体層304Bの形成工程は、前述の赤色蛍光体層304Rの形成工程と同じである。緑色蛍光体層304Gおよび青色蛍光体層304Bのそれぞれの蛍光体ペーストに対応した塗工ダイ60が塗工装置1に設置され、セル302Gおよびセル302Bへと蛍光体層304G、304Bが順に形成される。
赤、緑、青3色の蛍光体層304R、304G、304Bが背面基板300上に形成されると、次にこれら蛍光体層304R、304G、304Bの焼成工程へと移行する。この焼成工程は通常の手順で行われる。
Further, the green phosphor layer 304G is formed, and then the blue phosphor layer 304B is formed. The green phosphor layer 304G and the blue phosphor layer 304B are formed in the same manner as the red phosphor layer 304R described above. The same. A coating die 60 corresponding to each phosphor paste of the green phosphor layer 304G and the blue phosphor layer 304B is installed in the coating apparatus 1, and the phosphor layers 304G and 304B are sequentially formed on the cell 302G and the cell 302B. The
When the phosphor layers 304R, 304G, and 304B of three colors of red, green, and blue are formed on the back substrate 300, the process proceeds to a firing process for the phosphor layers 304R, 304G, and 304B. This baking process is performed by a normal procedure.

なお、蛍光体層304R、304G、304Bの膜厚は、ステージ移動速度もしくは吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を変えることによって、適宜調整できる。しかし、この膜厚はあくまで塗布後の膜厚であり、蛍光体層304R、304G、304Bの焼成工程が入ることにより、背面基板300の完成品における蛍光体層304R、304G、304Bの膜厚は、塗布後の膜厚よりも薄くなる。よって、焼成後の収縮した膜厚を考慮して、塗布後の膜厚を決定しなければならない。   The film thicknesses of the phosphor layers 304R, 304G, and 304B can be adjusted as appropriate by changing the stage moving speed or the dimension of the groove depth b of the discharge hole recess 62. However, this film thickness is the film thickness after coating, and the phosphor layers 304R, 304G, and 304B in the finished product of the back substrate 300 are formed by the firing process of the phosphor layers 304R, 304G, and 304B. It becomes thinner than the film thickness after application. Therefore, the film thickness after coating must be determined in consideration of the contracted film thickness after firing.

次に、プラズマディスプレイパネルの前面基板400の製造方法について、図面に基づいて説明する。
図10は、本実施形態である塗工装置1を用いて、プラズマディスプレイパネルの前面基板400上にブラックストライプ層404を形成する工程を示した斜視図である。前面基板400上にブラックストライプ層404を形成する場合も、上記背面基板300の製造方法と類似であり、ここでは上記と異なる点について説明する。
Next, the manufacturing method of the front substrate 400 of a plasma display panel is demonstrated based on drawing.
FIG. 10 is a perspective view showing a process of forming the black stripe layer 404 on the front substrate 400 of the plasma display panel using the coating apparatus 1 according to this embodiment. The formation of the black stripe layer 404 on the front substrate 400 is also similar to the manufacturing method of the back substrate 300, and here, differences from the above will be described.

はじめに前工程として、図10に示すように、所定の手順で前面基板400上に所定の間隔で複数の透明電極対401a,401bおよび複数のバス電極対402a,401bのパターンを形成し、空間403が形成された前面基板400を準備しておく。なお、塗工ダイ60は、空間403のパターン幅a、およびパターンギャップcと整合したものが用いられる。   First, as a pre-process, as shown in FIG. 10, a pattern of a plurality of transparent electrode pairs 401 a and 401 b and a plurality of bus electrode pairs 402 a and 401 b is formed on the front substrate 400 at a predetermined interval by a predetermined procedure. A front substrate 400 on which is formed is prepared. Note that the coating die 60 is used in alignment with the pattern width a and the pattern gap c of the space 403.

図10において、上述のように前面基板400を塗工装置1のステージ11上に載置し、塗工ダイ60の位置合わせが行われパターン形成が開始されると、吐出孔70からは一定の吐出速度でブラックストライプ用ペーストが吐出され、同時に、ステージ11は一定の速度でX方向に塗工ダイ60に対して相対移動する。これにより、前面基板400上における空間403には複数のブラックストライプ層404の帯状パターンが、同時にかつ均一に形成される。   In FIG. 10, when the front substrate 400 is placed on the stage 11 of the coating apparatus 1 as described above, the coating die 60 is aligned, and pattern formation is started. The black stripe paste is discharged at the discharge speed, and at the same time, the stage 11 moves relative to the coating die 60 in the X direction at a constant speed. As a result, a strip-like pattern of the plurality of black stripe layers 404 is simultaneously and uniformly formed in the space 403 on the front substrate 400.

この後、ブラックストライプ層404の焼成工程へと移行し、さらに図7(B)に示したように、前面基板400内面側に設けられた透明電極対401a,401b、バス電極対402a,402bおよびブラックストライプ層404の上を、前面基板400内面側の全領域に亘り、誘電体層405および保護層406が被覆する。   Thereafter, the process proceeds to the firing process of the black stripe layer 404, and as shown in FIG. 7B, the transparent electrode pair 401a, 401b, the bus electrode pair 402a, 402b provided on the inner surface side of the front substrate 400, and The dielectric layer 405 and the protective layer 406 cover the entire surface of the front substrate 400 on the black stripe layer 404.

なお、このブラックストライプ層404の膜厚は、ステージ移動速度もしくは吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を変えることによって、適宜調整できる。しかし、この膜厚はあくまで塗布後の膜厚であって、ブラックストライプ層404の焼成工程により、完成した前面基板400におけるブラックストライプ層404の膜厚は、塗布後の膜厚より薄くなる。よって、焼成後の収縮した膜厚を考慮して、塗布後の膜厚を決定しなければならない。
以上で製造された背面基板300と前面基板400とを、従来通り、互いに対向配置させてプラズマディスプレイパネルが製造される。
The film thickness of the black stripe layer 404 can be adjusted as appropriate by changing the stage moving speed or the dimension of the groove depth b of the discharge hole recess 62. However, this film thickness is only the film thickness after application, and the film thickness of the black stripe layer 404 in the completed front substrate 400 becomes smaller than the film thickness after application by the baking process of the black stripe layer 404. Therefore, the film thickness after coating must be determined in consideration of the contracted film thickness after firing.
The plasma display panel is manufactured by arranging the rear substrate 300 and the front substrate 400 manufactured as described above so as to face each other as usual.

<実施形態の効果>
以上のように、本実施形態は、複数の吐出孔70を有した塗工ダイ60とステージ11とが互いに対向された状態で相対移動する構成であるため、基板上に複数の帯状パターンを同時にかつ均一に形成することができる。また、本実施形態の塗工装置1はスクリーンを用いずに従来の高精細スクリーン印刷法と同等以上の効果を達成でき、上述の従来の高精細スクリーン印刷法にあった問題が解消される。すなわち、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形でき、また、使用時の周囲温度によるパターン形成への影響も無く、かつ、塗工装置1の維持管理が容易である。
<Effect of embodiment>
As described above, the present embodiment is configured such that the coating die 60 having the plurality of discharge holes 70 and the stage 11 move relative to each other, so that a plurality of belt-like patterns are simultaneously formed on the substrate. And it can form uniformly. In addition, the coating apparatus 1 of the present embodiment can achieve an effect equal to or higher than that of the conventional high-definition screen printing method without using a screen, and the problems associated with the above-described conventional high-definition screen printing method are solved. In other words, even when used for a long period of time, a belt-like pattern can be formed with high accuracy, the ambient temperature during use does not affect the pattern formation, and maintenance of the coating apparatus 1 is easy.

また、本実施形態では、塗工ダイ60は、第1のブロック61と第2のブロック66とに分かれており、吐出孔70は、第1のブロック61の吐出孔用凹部62と第2のブロック66の吐出孔用平坦面67とを互いに対向させ、一体的に張り合わせることにより形成される。そのため、塗工ダイ60の加工において、第1のブロック61の吐出孔用凹部62は表に露出されるので、所望の寸法の微小な吐出孔70は、ドリル加工によらない従来の削り出し工法によって、容易に形成できる。さらに、第1のブロック61の吐出孔用凹部62は単純な削り出し加工により形成でき、第2ブロックの吐出孔用平坦面67は単純な機械研磨により形成できるため、塗工ダイ60は、機械加工を連続運転することによって量産加工できる。   Further, in the present embodiment, the coating die 60 is divided into a first block 61 and a second block 66, and the discharge hole 70 is formed with the discharge hole recess 62 of the first block 61 and the second block 61. The discharge hole flat surface 67 of the block 66 is opposed to each other and is integrally bonded. Therefore, in the processing of the coating die 60, the discharge hole recess 62 of the first block 61 is exposed to the front surface, so that the fine discharge hole 70 having a desired size is not cut by a conventional cutting method. Can be easily formed. Further, the discharge hole recess 62 of the first block 61 can be formed by a simple cutting process, and the discharge hole flat surface 67 of the second block 61 can be formed by simple mechanical polishing. Mass production processing can be performed by continuously operating the processing.

本実施形態では、プラズマディスプレイパネルを製造するにあたり、前述の構造の塗工ダイ60を用いて基板上に帯状パターンを形成したから、プラズマディスプレイに必要な微小な帯状のパターンを高精度に成形することができる。
また、
プラズマディスプレイパネルの背面基板300上に帯状のパターンとして蛍光体層を形成したので、背面基板300に蛍光体層を容易に形成することができる。
さらに、プラズマディスプレイパネルの前面基板400上に帯状のパターンとして可視光吸収性材料のブラックストライプを形成したので、前面基板400にブラックストライプを容易に形成することができる。
In the present embodiment, when manufacturing the plasma display panel, the band-shaped pattern is formed on the substrate using the coating die 60 having the above-described structure, and thus the minute band-shaped pattern necessary for the plasma display is formed with high accuracy. be able to.
Also,
Since the phosphor layer is formed as a strip pattern on the back substrate 300 of the plasma display panel, the phosphor layer can be easily formed on the back substrate 300.
Furthermore, since the black stripe of the visible light absorbing material is formed as a strip pattern on the front substrate 400 of the plasma display panel, the black stripe can be easily formed on the front substrate 400.

塗工ダイ60の吐出孔70は、溝幅aの第1の辺63と溝深さbの第2の辺64とを有した矩形状であり、所定の間隔cでそれぞれ形成されており、吐出孔70の第2の辺64の溝深さbは、吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を削り出し加工によって変更することにより適宜調整できる。そのため、プラズマディスプレイパネルの背面基板300上および前面基板400上には、所望の寸法の帯状パターンをパターン幅aを変えずに均一に形成でき、かつ、蛍光体ペーストおよびブラックストライプ用ペーストの吐出量を適宜調整することができるため、パターン形成時に生じる圧力損失差も軽減できる。   The discharge hole 70 of the coating die 60 has a rectangular shape having a first side 63 having a groove width a and a second side 64 having a groove depth b, and is formed at a predetermined interval c. The groove depth b of the second side 64 of the discharge hole 70 can be appropriately adjusted by changing the dimension of the groove depth b of the discharge hole recess 62 by machining. Therefore, on the back substrate 300 and the front substrate 400 of the plasma display panel, a strip-like pattern having a desired dimension can be uniformly formed without changing the pattern width a, and the discharge amount of the phosphor paste and the black stripe paste Therefore, it is possible to reduce the pressure loss difference that occurs during pattern formation.

また、本実施形態によれば、吐出孔用凹部62の溝深さbの寸法を大きくし、かつ、ステージ移動速度を上昇することにより、所望の厚さのパターンを迅速に作成することができる。つまり、作業時間の短縮化が図れる。
さらに、第1のブロック61に液溜り用凹部65を形成し、第2のブロック67に液溜り用凹部68を形成し、これらの液溜り用凹部65と液溜り用凹部68から液溜り71を構成した。そのため、多量のペースト状材料を液溜り71で安定状態で収納することができるとともに、吐出孔70の寸法を短くすることで、多量のペースト状材料を安定状態を維持して吐出することができる。
Further, according to the present embodiment, a pattern having a desired thickness can be quickly created by increasing the dimension of the groove depth b of the discharge hole recess 62 and increasing the stage moving speed. . That is, the working time can be shortened.
Further, a liquid reservoir recess 65 is formed in the first block 61, and a liquid reservoir recess 68 is formed in the second block 67, and the liquid reservoir 71 is formed from the liquid reservoir recess 65 and the liquid reservoir recess 68. Configured. Therefore, a large amount of paste-like material can be stored in a stable state in the liquid reservoir 71, and a large amount of paste-like material can be discharged while maintaining a stable state by reducing the dimensions of the discharge holes 70. .

<実施形態の変形>
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、吐出孔70の先端開口部が矩形状に形成されたが、本発明では、吐出孔70の形状は前記実施形態に限定されるものではなく、例えば、図11に示される形状でもよい。
つまり、図11(A)に示される通り、塗工ダイ60の吐出孔70の先端開口を半円形としてもよく、図11(B)に示される通り、塗工ダイ60の吐出孔70の先端開口を三角形としてもよい。これら変形例も前記実施形態と同様に、吐出孔70は、帯状パターンの幅aに対応した溝幅aの第1の辺と、その辺と交差する方向に幅bを有している。このため、これらの塗工ダイ60においても、基板へ形成するパターンのパターン幅aおよびパターンギャップcを所望の寸法に設定することができ、また、吐出孔70の幅bも変更できるため、塗料の吐出量を適宜調整できる。
また、前記実施形態では、塗工ダイ60の底面69を平面状に形成したが、本発明では、図12に示される通り、底面69において隣り合う吐出孔70の間に三角状の切り込み等から形成される段差72をそれぞれ設ける構造であってもよい。この構造では、粘性の低いペースト状材料を吐出する場合であっても、段差72があることで隣接する吐出孔70から吐出される材料が接触する虞れがなくなり、材料の正確な吐出を確保することができる。
<Modification of Embodiment>
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the above-described embodiment, the tip opening of the discharge hole 70 is formed in a rectangular shape. However, in the present invention, the shape of the discharge hole 70 is not limited to that in the above-described embodiment. It may be a shape.
That is, as shown in FIG. 11A, the tip opening of the discharge hole 70 of the coating die 60 may be semicircular, and the tip of the discharge hole 70 of the coating die 60 is shown in FIG. The opening may be a triangle. In these modified examples as well, the discharge hole 70 has a first side having a groove width a corresponding to the width a of the belt-like pattern and a width b in a direction intersecting the side. For this reason, also in these coating dies 60, the pattern width a and the pattern gap c of the pattern formed on the substrate can be set to desired dimensions, and the width b of the discharge hole 70 can be changed. The discharge amount can be adjusted as appropriate.
Moreover, in the said embodiment, although the bottom face 69 of the coating die 60 was formed in planar shape, in this invention, as shown in FIG. 12, from the triangular notch etc. between the discharge holes 70 adjacent in the bottom face 69. A structure may be provided in which each step 72 is formed. In this structure, even when a paste-like material having a low viscosity is discharged, there is no possibility that the material discharged from the adjacent discharge hole 70 will be in contact with the stepped portion 72, thereby ensuring accurate discharge of the material. can do.

前記実施形態では、塗工ダイ60を固定し、ステージ11を移動させる構成であるが、本発明では、ステージ11を固定し、塗工ダイ60を移動させる構成や、ステージ11と塗工ダイ60をともに移動させる構成を採用することができる。
また、本発明では、塗工ダイ60の内部には液溜り71がなく、塗工ダイ60の外部に液溜り71が設けられる構成でもよい。
また、前記実施形態では、第1ブロック61の液溜り用凹部65と第1ブロック61の液溜り用凹部68から液溜り71が形成される構成であるが、本発明では、これに限らず、第1ブロック61もしくは第2ブロック66のいずれか一方のみに液溜り用凹部が形成される構成でもよい。例えば、第1ブロック61のみに吐出孔用凹部62および液溜まり用凹部65が形成されて、第2ブロック66は、第1ブロック61との接合面において平坦となった構成などが挙げられる。
In the embodiment, the coating die 60 is fixed and the stage 11 is moved. However, in the present invention, the stage 11 is fixed and the coating die 60 is moved, or the stage 11 and the coating die 60 are moved. It is possible to adopt a configuration in which both are moved together.
Further, in the present invention, there may be a configuration in which the liquid reservoir 71 is not provided inside the coating die 60 but the liquid reservoir 71 is provided outside the coating die 60.
In the embodiment, the liquid reservoir 71 is formed from the liquid reservoir recess 65 of the first block 61 and the liquid reservoir recess 68 of the first block 61. However, the present invention is not limited to this. A configuration may be adopted in which a liquid reservoir recess is formed in only one of the first block 61 and the second block 66. For example, a configuration in which the discharge hole recess 62 and the liquid pool recess 65 are formed only in the first block 61 and the second block 66 is flat on the joint surface with the first block 61 is exemplified.

前記実施形態では、背面基板300上の蛍光体層304R、304G、304Bは、それぞれ別の塗工装置1を用いて順に形成する構成であったが、一台の塗工装置1に3色それぞれの塗工ダイ60、塗工処理部20および材料供給部40を取り付け、3つの塗工ダイ60はステージ11の移動方向において前後に張り合わせ、それぞれの帯状パターン形成動作を制御部50にて適宜調整して制御することにより、一回のステージ移動で3色の蛍光体層304R、304G、304Bが同時に形成される構成でもよい。   In the above-described embodiment, the phosphor layers 304R, 304G, and 304B on the back substrate 300 are configured to be sequentially formed using different coating apparatuses 1, but each of the three colors is formed on one coating apparatus 1. The coating die 60, the coating processing unit 20, and the material supply unit 40 are attached, and the three coating dies 60 are attached to each other in the moving direction of the stage 11, and each strip pattern forming operation is appropriately adjusted by the control unit 50. Thus, the three-color phosphor layers 304R, 304G, and 304B may be simultaneously formed by moving the stage once.

<実施形態の作用効果>
本実施形態では、材料を吐出する吐出孔70が形成された塗工ダイ60を基板と対向させた状態で前記基板と塗工ダイ60とを相対移動させ前記基板上に前記材料の帯状パターンを形成する塗工装置1であって、塗工ダイ60は、それぞれ所定の間隔cをあけて複数個の吐出孔用凹部62が形成された第1のブロック61と、この吐出孔用凹部62と対向する面に吐出孔用平坦面67が設けられた第2のブロック66とを備え、吐出孔用凹部62と吐出孔用平坦面67とで吐出孔70を形成し、吐出孔70は、前記帯状のパターンの幅aに対応した第1の辺63を有し、この第1の辺と交差する方向に幅bの第2の辺64を有した形状とされるから、基板上に複数の帯状パターンを同時にかつ均一に形成することができ、長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形できる。また、使用時の周囲温度によるパターン形成への影響も無く、かつ、塗工装置1の維持管理が容易である。また、吐出孔70は、ドリル加工によらない従来の削り出し工法によって、所望の寸法に容易に形成できる。また、吐出孔70は溝深さbの第2の辺64を有しており、この溝深さbを変更することにより材料の吐出量を適宜調整でき、パターン形成時に生じる圧力損失差も軽減できる。
<Effects of Embodiment>
In the present embodiment, the substrate and the coating die 60 are moved relative to each other in a state where the coating die 60 in which the discharge holes 70 for discharging the material are formed are opposed to the substrate, and a belt-like pattern of the material is formed on the substrate. In the coating apparatus 1 to be formed, the coating die 60 includes a first block 61 in which a plurality of discharge hole recesses 62 are formed at predetermined intervals c, and the discharge hole recesses 62. A second block 66 provided with a flat surface 67 for discharge holes on the opposite surface, and a discharge hole 70 is formed by the concave portion 62 for discharge holes and the flat surface 67 for discharge holes. Since the first side 63 corresponding to the width a of the band-shaped pattern is provided and the second side 64 having the width b is formed in a direction intersecting with the first side, a plurality of patterns are formed on the substrate. A band-like pattern can be formed simultaneously and uniformly, and even when used for a long time. It can be molded to the pattern with high precision. Moreover, there is no influence on pattern formation by the ambient temperature at the time of use, and maintenance of the coating apparatus 1 is easy. Further, the discharge hole 70 can be easily formed in a desired dimension by a conventional cutting method that does not use drilling. The discharge hole 70 has a second side 64 having a groove depth b. By changing the groove depth b, the discharge amount of the material can be adjusted as appropriate, and the pressure loss difference that occurs during pattern formation is reduced. it can.

従来の高精細スクリーン印刷法の概略図。Schematic of the conventional high-definition screen printing method. 従来の高精細ディスペンサ塗布法の概略図。Schematic of the conventional high-definition dispenser application method. 本発明の一実施形態にかかる塗工装置全体を示す斜視図。The perspective view which shows the whole coating apparatus concerning one Embodiment of this invention. 前記実施形態の塗工装置の概略構成図。The schematic block diagram of the coating apparatus of the said embodiment. 前記実施形態の塗工ダイを示すもので、(A)は正面図、(B)は分解側面図、(C)は分解底面図。The coating die | dye of the said embodiment is shown, (A) is a front view, (B) is an exploded side view, (C) is an exploded bottom view. プラズマディスプレイパネルの内部構造を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows the internal structure of a plasma display panel. プラズマディスプレイパネルの前面基板の形成工程を説明する模式的断面図。The typical sectional view explaining the formation process of the front substrate of a plasma display panel. 前記実施形態の塗工装置を用いて、プラズマディスプレイパネルの背面基板に赤色蛍光体層を形成する工程を説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating the process of forming a red fluorescent substance layer in the back substrate of a plasma display panel using the coating apparatus of the said embodiment. 図8の塗工装置の要部を拡大した図。The figure which expanded the principal part of the coating apparatus of FIG. 前記実施形態の塗工装置を用いて、プラズマディスプレイパネルの前面基板にブラックストライプ層を形成する工程を説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating the process of forming a black stripe layer in the front substrate of a plasma display panel using the coating apparatus of the said embodiment. 本発明の変形例を示すもので、(A)は吐出孔形状が半円形の場合の分解底面図、(B)は吐出孔形状が三角形の場合の分解底面図。9A and 9B show modified examples of the present invention, in which FIG. 9A is an exploded bottom view when the discharge hole shape is semicircular, and FIG. 5B is an exploded bottom view when the discharge hole shape is triangular. 本発明の異なる変形例を示す塗工ダイの正面図。The front view of the coating die which shows the different modification of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 塗工装置
11 ステージ
60 塗工ダイ
61 第1のブロック
62 吐出孔用凹部
65 液溜り用凹部
66 第2のブロック
67 吐出孔用平坦面
68 液溜り用凹部
70 吐出孔
71 液溜り(充填部)
300 背面基板
301 隔壁
304R 赤色蛍光体層
304G 緑色蛍光体層
304B 青色蛍光体層
400 前面基板
403 空間
404 ブラックストライプ層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating apparatus 11 Stage 60 Coating die 61 1st block 62 Discharge hole recessed part 65 Liquid reservoir recessed part 66 2nd block 67 Flat surface for discharge hole 68 Liquid reservoir recessed part 70 Discharge hole 71 Liquid reservoir (filling part) )
300 Rear substrate 301 Partition 304R Red phosphor layer 304G Green phosphor layer 304B Blue phosphor layer 400 Front substrate 403 Space 404 Black stripe layer

Claims (7)

材料を吐出する吐出孔が形成された塗工ダイを基板と対向させた状態で前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させ前記基板上に前記材料の帯状のパターンを形成する塗工装置であって、
前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、この第1の辺と交差する方向に幅を有する形状とされることを特徴とした塗工装置。
A coating apparatus for forming a strip pattern of the material on the substrate by moving the substrate and the coating die relative to each other in a state where the coating die having a discharge hole for discharging the material is opposed to the substrate. There,
The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a second surface in which the surface facing the recesses is a flat surface. A second block, wherein the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface, and the discharge hole has a width of the band-shaped pattern. The coating apparatus is characterized by having a first side corresponding to, and having a width in a direction intersecting with the first side.
請求項1に記載された塗工装置において、
前記塗工ダイの前記基板と対向する部分には複数の前記吐出孔の間に段差部がそれぞれ設けられていることを特徴とした塗工装置。
In the coating apparatus according to claim 1,
A coating apparatus, wherein a step portion is provided between the plurality of ejection holes in a portion of the coating die facing the substrate.
請求項1または請求項2に記載された塗工装置において、
前記吐出孔は矩形状であり、この矩形状の一辺が前記第1の辺とされることを特徴とした塗工装置。
In the coating apparatus according to claim 1 or claim 2,
The discharge hole has a rectangular shape, and one side of the rectangular shape is the first side.
請求項1から請求項3のいずれかに記載された塗工装置において、
前記第1のブロックと前記第2のブロックとの少なくとも一方には凹部が形成され、この凹部を含む空間は、前記吐出孔に連通するとともに前記材料が充填される充填部とされたことを特徴とした塗工装置。
In the coating apparatus described in any one of Claims 1-3,
A recess is formed in at least one of the first block and the second block, and a space including the recess is a filling portion that communicates with the discharge hole and is filled with the material. Coating equipment.
吐出孔が形成された塗工ダイと基板とを相対移動させながら前記吐出孔から材料を吐出して基板上に帯状のパターンを形成してプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記塗工ダイは、それぞれ所定の間隔をあけて複数個の凹部が形成された第1の面を有する第1のブロックと、前記凹部が対向する面が平坦面である第2の面を有する第2のブロックとを備え、前記第1の面と前記第2の面とを密接するとともに前記凹部と前記平坦面とで前記吐出孔を形成し、前記吐出孔は、前記帯状のパターンの幅に対応した第1の辺を有し、前記塗工ダイを前記基板と対向させて前記第1の辺の方向に対して交差する方向に沿って前記基板と前記塗工ダイとを相対移動させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A method of manufacturing a plasma display panel by forming a strip-shaped pattern on a substrate by discharging material from the discharge holes while relatively moving a coating die and a substrate in which discharge holes are formed,
The coating die has a first block having a first surface in which a plurality of recesses are formed at predetermined intervals, and a second surface in which the surface facing the recesses is a flat surface. A second block, wherein the first surface and the second surface are in close contact with each other, and the discharge hole is formed by the concave portion and the flat surface, and the discharge hole has a width of the band-shaped pattern. The substrate and the coating die are relatively moved along a direction intersecting the direction of the first side with the coating die facing the substrate. A method of manufacturing a plasma display panel.
請求項5に記載されたプラズマディスプレイの製造方法において、
前記帯状のパターンは蛍光体層であり、前記基板上に設けられた隔壁の間に前記帯状のパターンが形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In the manufacturing method of the plasma display according to claim 5,
The method for manufacturing a plasma display panel, wherein the band-shaped pattern is a phosphor layer, and the band-shaped pattern is formed between partitions provided on the substrate.
請求項5に記載されたプラズマディスプレイの製造方法において、
前記帯状のパターンは可視光吸収性材料のパターンであり、前記基板上に設けられた電極間に前記帯状のパターンが形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In the manufacturing method of the plasma display according to claim 5,
The method for manufacturing a plasma display panel, wherein the band-shaped pattern is a pattern of a visible light absorbing material, and the band-shaped pattern is formed between electrodes provided on the substrate.
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