JP2006004826A - イオンビーム引出電極およびイオン注入装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 イオン注入装置1は、引出電極20を備えている。引出電極20は、接地電極21および加速減速電極22を有している。接地電極21は、接地電位が与えられる電極であり、接地電極21a(第1接地電極)と接地電極21b(第2接地電極)とを有して構成されている。接地電極21aの材質は、ステンレス(SUS304)である。接地電極21bは、接地電極21aよりもイオンビームBの上流側に設けられており、材質はカーボンである。加速減速電極22は、接地電位に対して負電位が与えられる電極であり、接地電極21に対してイオンビームBの上流側に設けられている。
【選択図】 図1
Description
接地電極71(SS400)
加速減速電極72(カーボン)
電極スペーサ73(セラミック)
電極支持板74(SUS304)
加速減速電極支持棒75(SUS304)
接地電極76(SS400)
10 イオンビーム発生器
20 引出電極
21 接地電極
21a 接地電極
21b 接地電極
22 加速減速電極
23 電極支持板
24 加速減速電極支持棒
25 電極スペーサ
26 インライナー
27 カラー
28 インライナー
31 電極支持金具
32 真空チャンバ
33 ベローズ
34 電極駆動部
70 引出電極
71 接地電極
72 加速減速電極
73 電極スペーサ
74 電極支持板
75 加速減速電極支持棒
76 接地電極
81 電極支持金具
82 真空チャンバ
83 ベローズ
84 電極駆動部
Claims (5)
- イオンビームを引き出す引出電極であって、
接地電位が与えられる接地電極と、
前記接地電極よりも前記イオンビームの上流側に設けられ、前記接地電位に対して負電位が与えられる加速減速電極と、を備え、
前記接地電極は、第1の材質をもつ第1接地電極と、前記第1接地電極の前記上流側に設けられ、前記第1の材質とは異なる第2の材質をもつ第2接地電極と、を有して構成されていることを特徴とするイオンビーム引出電極。 - 請求項1に記載のイオンビーム引出電極において、
前記第1の材質は金属であり、前記第2の材質はカーボンであるイオンビーム引出電極。 - 請求項1または2に記載のイオンビーム引出電極において、
前記イオンビームに面する、前記第1接地電極の内面に設けられ、当該内面に前記イオンビームが照射されるのを防止する第1保護部材を備え、
前記第1保護部材の材質はカーボンであるイオンビーム引出電極。 - 請求項1〜3の何れか一項に記載のイオンビーム引出電極において、
前記接地電極と前記加速減速電極とを電気的に絶縁する絶縁部材と、
前記絶縁部材の少なくとも一部を囲むように設けられ、当該絶縁部材に前記イオンビームが照射されるのを防止する、絶縁性の第2保護部材と、を備えるイオンビーム引出電極。 - 請求項1〜4の何れか一項に記載のイオンビーム引出電極と、前記イオンビームを発生させるイオンビーム発生手段と、を備えることを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2006004826A true JP2006004826A (ja) | 2006-01-05 |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP4502191B2 (ja) |
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