JP2005539147A - より高温で反応性ガスにさらした後、低温で再活性化することのできる非蒸発性ゲッター組成物 - Google Patents

より高温で反応性ガスにさらした後、低温で再活性化することのできる非蒸発性ゲッター組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2005539147A
JP2005539147A JP2004571932A JP2004571932A JP2005539147A JP 2005539147 A JP2005539147 A JP 2005539147A JP 2004571932 A JP2004571932 A JP 2004571932A JP 2004571932 A JP2004571932 A JP 2004571932A JP 2005539147 A JP2005539147 A JP 2005539147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
getter
composition
powder
getter composition
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004571932A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4044563B2 (ja
Inventor
ガリトニョッタ,アレサンドロ
トイア,ルカ
ボフィート,クラウディオ
Original Assignee
サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from ITMI20021950 external-priority patent/ITMI20021950A1/it
Priority claimed from ITMI20022280 external-priority patent/ITMI20022280A1/it
Priority claimed from ITMI20031392 external-priority patent/ITMI20031392A1/it
Application filed by サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ filed Critical サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ
Publication of JP2005539147A publication Critical patent/JP2005539147A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4044563B2 publication Critical patent/JP4044563B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/0005Reversible uptake of hydrogen by an appropriate medium, i.e. based on physical or chemical sorption phenomena or on reversible chemical reactions, e.g. for hydrogen storage purposes ; Reversible gettering of hydrogen; Reversible uptake of hydrogen by electrodes
    • C01B3/001Reversible uptake of hydrogen by an appropriate medium, i.e. based on physical or chemical sorption phenomena or on reversible chemical reactions, e.g. for hydrogen storage purposes ; Reversible gettering of hydrogen; Reversible uptake of hydrogen by electrodes characterised by the uptaking medium; Treatment thereof
    • C01B3/0031Intermetallic compounds; Metal alloys; Treatment thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/04Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of inorganic compounds, e.g. ammonia
    • C01B3/042Decomposition of water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045Alloys based on refractory metals
    • C22C1/0458Alloys based on titanium, zirconium or hafnium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C16/00Alloys based on zirconium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/14Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J7/18Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
    • H01J7/183Composition or manufacture of getters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/94Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/20Arrangements for controlling gases within the X-ray tube
    • H01J2235/205Gettering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
    • H01J2329/94Means for exhausting the vessel or maintaining vacuum within the vessel
    • H01J2329/943Means for maintaining vacuum within the vessel
    • H01J2329/945Means for maintaining vacuum within the vessel by gettering
    • H01J2329/948Means for maintaining vacuum within the vessel by gettering characterised by the material of the getter
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/32Hydrogen storage
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/36Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Thermal Insulation (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Abstract

第1の温度で反応性ガスにさらした結果として、その機能性を損失した後、次いで、第1の温度よりも低い第2の温度での熱処理によって再活性化することのできる、非蒸発性ゲッター合金を含有する組成物が記載される。

Description

本発明は、第1の温度で反応性ガスにさらした結果として、その機能性を損失した後、次いで、第1の温度よりも低い第2の温度での熱処理によって再活性化することのできる、非蒸発性ゲッター合金を含有する組成物に向けられる。
NEG合金としても知られる非蒸発性ゲッター合金は、水素を可逆的に収着し、かつ酸素、水、炭素酸化物、及び一部の合金の場合には窒素などのガスを不可逆的に収着することができる。
これらの合金は、真空を維持することが必要な幾つかの産業用途で用いられる。これらの用途の例としては、粒子加速器、X線発生管、ブラウン管又はCRTから形成されるディスプレイ、電界放出型のフラットディスプレイ(FEDと呼ばれる)並びに熱絶縁のための排気ジャケット、例えば、保温性の高い瓶(魔法瓶)、デュワー瓶、又はオイルの抽出及び輸送のためのパイプがある。
NEG合金はまた、微量の上記ガスが他のガス、一般には希ガス中に存在する場合、上記ガスを除去するのに用いることもできる。その例としては、数十ヘクトパスカル(hPa)の圧力で希ガスを充填したランプ、特には蛍光ランプでの使用があり、その場合には、NEG合金は、ランプ操作に好適な雰囲気を保つため、微量の酸素、水、水素及び他のガスを除去する機能を有する。別の例としては、プラズマディスプレイでの使用があり、その場合には、NEG合金の機能は、蛍光ランプで実施される機能と実質的に同様である。
これらの合金は、主成分としてジルコニウム及び/又はチタンを一般に有し、遷移金属、希土類又はアルミニウムの中から選択された1つ又は複数の追加の元素を含む。
NEG合金は、幾つかの特許の主題である。米国特許第3,203,901号明細書は、Zr−Al合金、特には、商品名St101で出願人より製造販売されているZr84%−Al16%の重量%組成を有する合金を開示している。米国特許第4,071,335号明細書は、Zr−Ni合金、特には、商品名St199で出願人より製造販売されているZr75.7%−Ni24.3%の重量%組成を有する合金を開示している。米国特許第4,306,887号明細書は、Zr−Fe合金、特には、商品名St198で出願人より製造販売されているZr76.6%−Fe23.4%の重量%組成を有する合金を開示している。米国特許第4,312,669号明細書は、Zr−V−Fe合金、特には、商品名St707で出願人より製造販売されているZr70%−V24.6%−Fe5.4%の重量%組成を有する合金を開示している。米国特許第4,668,424号明細書は、1つ又は複数の他の遷移金属を任意選択で添加したジルコニウム−ニッケル−ミッシュメタル合金を開示している。米国特許第4,839,085号明細書は、Zr−V−E合金(式中、Eは、鉄、ニッケル、マンガン及びアルミニウム又はそれらの混合物の中から選択された元素である)を開示している。米国特許第5,180,568号明細書は、金属間化合物Zr1M’1M”1(式中、M’及びM”は、互いに同一であるか又は異なっており、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの中から選択される)、特には、商品名St909で出願人より製造販売されている化合物Zr1Mn1Fe1を開示している。米国特許第5,961,750号明細書は、Zr−Co−A合金(式中、Aは、イットリウム、ランタン、希土類又はそれらの混合物の中から選択された元素である)、特には、商品名St787で出願人より製造販売されているZr80.8%−Co14.2%−A5%の重量%組成を有する合金を開示している。米国特許第6,521,014号明細書は、ジルコニウム−バナジウム−鉄−マンガン−ミッシュメタル合金、特には、商品名St2002で出願人より製造販売されているZr70%−V15%−Fe3.3%−Mn8.7%−MM3%の重量%組成を有する合金を開示している。MMに関しては、ミッシュメタル、即ち、希土類の商業的な混合物、例えば、セリウム50%、ランタン30%、ネオジム15%、他の希土類5%バランスの重量%組成を有する混合物を表している。
これらの合金は単独で用いられるか、又は合金で形成された本体に特定の特性、例えば、より高い機械強度を与えることができる第2成分、一般には金属とともに混合物において用いられる。この目的で最も一般的に用いられる金属は、ジルコニウム、チタン、ニッケル及びアルミニウムである。引用したSt707合金とジルコニウム又はチタンを含む組成物が、例えば、イギリス特許第2,077,487号明細書に記載されており、一方、米国特許第5,976,723号明細書では、アルミニウムと式Zr1-xTixM’M”(式中、M’及びM”は、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの中から選択された金属であり、xは0〜1である)のNEG合金を含有する組成物が記載されている。
NEG合金の機能の本質は、合金表面の金属原子と吸収ガス間の反応であり、その結果として、金属の酸化物、窒化物又は炭化物層がその表面上に形成される。表面の被覆が完了すると、合金は更なる吸収に関して不活性になる。その機能は再活性化処理によって回復させることができ、その温度は、作業温度と少なくとも同じであり、好ましくはそれよりも高い。
しかしながら、先にガスにさらした温度よりも高い温度で合金をその活性化又は再活性化のために処理することが不可能な場合がある。真空又は制御された雰囲気下に維持すべき空間がガラス製の壁により画定されたデバイス、例えば、CRTタイプのスクリーン、電界放出ディスプレイ又はプラズマディスプレイパネルのいずれかであるフラットディスプレイ及びランプで使用される合金が特にその場合である。一般に、これらのデバイスの製造では、デバイスが依然として開放しており、その内部空間がこの雰囲気にさらされているときに、ゲッター合金をその最終的な場所に挿入することができ、その後、デバイスは、互いに溶接されるべき2つのガラス部分の間に低融点ガラスペーストを置き、約450℃にして溶融させ、そうして2つの部分を接合する、いわゆる「フリットシーリング」工程によってシールされる。真空又は制御された雰囲気は、(デバイスの組立工程が真空又は制御された雰囲気下のエンクロージャー内で実施される、いわゆる「チャンバー内」プロセスにおいて)シーリング前にデバイスの内部空間で得ることができるか、又はより一般的には「テール」、即ち、この空間に通された、ポンピング系への接続に好適な小ガラス細管を用いてフリットシーリング後に得ることができる。制御された雰囲気を含有するデバイス、例えば、プラズマディスプレイ及び幾つかのランプの場合には、このテールは、所望のガスの充填にも使用される。最終的に、デバイスはテールを閉じること、通常は熱圧縮することによってシールされる。いずれにせよ、フリットシーリングの際、NEG合金は反応性ガスの雰囲気にさらされる。反応性ガスとは、「チャンバー内」プロセスの場合には低融点ガラスペーストにより放出されるガスであり、「テール」プロセスの場合にはこれらの同じガスに加え、大気ガスである。合金と反応性ガスとの接触は、プロセスに応じた温度で起こり、デバイスは、炉内で均質にフリットシーリング温度にすることができる。この場合、NEG合金は約450℃の温度で反応性ガスにさらされる。他には、局所加熱、例えば、照射によるものを使用することが可能であり、その場合、操作中のゲッターの温度は、フリットシーリングゾーンからの距離に依存している。いずれにせよ、これらの操作の際、NEG合金の表面は存在するガスと幾分強く反応し、結果として合金の少なくとも部分的な失活を招き、残りの合金の収着速度及び収着容量が、デバイスにおいて予測される操作に関して不十分なものになる場合がある。それゆえ、フリットシーリングの温度に少なくとも等しいか又は好ましくはそれよりも高い温度での再活性化処理が必要とされる。しかしながら、溶接シールを害するフリットシーリングペーストの再溶解を防ぎ、かつゲッターを含有するデバイスの壁を形成するガラス質部分の機械的安定性の損失を回避することは一般に不可能である。
本発明の目的は、第1の温度で反応性ガスにさらした結果として、その機能性を損失した後、次いで、第1の温度よりも低い第2の温度での熱処理によって再活性化することのできる、非蒸発性ゲッター合金を含有する組成物を提供することである。
本発明によれば、この目的は、第1成分と第2成分の粉末混合物から形成されたゲッター組成物であって、
・該第1成分が、チタン、場合によりニッケル及び/又はコバルトで部分的に置換されたチタンであり、
・該第2成分が、ジルコニウム、バナジウム、鉄及び少なくとも1つの更なる成分を含む非蒸発性ゲッター合金であり、該少なくとも1つの更なる成分が、マンガンと、イットリウム、ランタン及び希土類の中から選択された1つ又は複数の元素との間で選択され、これら元素の重量百分率が以下の範囲、即ち、
・ジルコニウム60〜90%
・バナジウム2〜20%
・鉄0.5〜15%
・マンガン0〜30%
・イットリウム、ランタン、希土類及びそれらの混合物0〜10%
で変化することのできるゲッター組成物を用いて達成される。
以降の明細書及び特許請求の範囲においてわかり易いように、米国特許第5,961,750号明細書において採用されている規定に従って、イットリウム、ランタン、希土類及びそれらの混合物から成る群の元素を「A」と称することにする。好ましくは、成分Aとして、ミッシュメタル、即ち、主成分としてセリウム又はランタン、及びバランスとして他の希土類の混合物を含有する商業的な混合物が用いられる。
本発明者らは、本発明の組成物が、NEG合金単独及びNEG合金と或る金属との公知組成物に反して、ガラス質部分のフリットシーリングによる溶接のために必要とされる比較的高い温度、例えば、約450℃で(大気ガスなどの)反応性ガスにさらすことができ、次いで、ガラス溶接のシール又は組成物付近にあるガラス部分の機械強度を害しないように、より低温での熱処理によって完全に再活性化できることを見出した。
本発明は、以下、図面を参照して説明される。
本発明の組成物で用いられるNEG合金は、ジルコニウム、バナジウム、鉄、及びマンガンとAとの間で選択された少なくとも1つの更なる元素を含み、マンガンと成分Aは、どちらか一方ではなく、その両方が本発明の合金中に存在することができる。
本発明の組成物で用いられるNEG合金が成分Aを含まない場合、元素の重量%は以下の範囲で変化することができる。
・ジルコニウム60〜90%
・バナジウム2〜20%
・鉄0.5〜15%
・マンガン2.5〜30%
この場合、好ましい組成物は、Zr72.2%−V15.4%−Fe3.4%−Mn9%である。
本発明の組成物で用いられるNEG合金がマンガンを含まない場合、元素の重量%は以下の範囲で変化することができる。
・ジルコニウム60〜90%
・バナジウム2〜20%
・鉄0.5〜15%
・A1〜10%
この場合、好ましい組成物は、Zr76.7%−V16.4%−Fe3.6%−A3.3%である。
最後に、本発明の組成物で用いられるNEG合金がマンガンと成分Aの両方を含む場合、元素の重量%は以下の範囲で変化することができる。
・ジルコニウム60〜85%
・バナジウム2〜20%
・鉄0.5〜10%
・マンガン2.5〜30%
・A1〜6%
この場合、好ましい組成物は、先に挙げた合金St2002に対応するZr70%−V15%−Fe3.3%−Mn8.7%−A3%である。
さらに上記NEG合金は、低い割合、一般には5%未満の他の遷移元素を含有することもできる。
これらの合金は、約10〜250μm、好ましくは約128μmの粒子サイズを有する粉末の形態で一般に用いられる。
チタンは、約0〜40μmから成る粒子サイズを有する粉末の形態で本発明の組成物中に一般に用いられる。あるいはまた、水素化チタンTiH2を使用することが可能であり、以降の熱処理の際に、水素を放出して「その場で」チタンを形成する。
NEG合金とチタンの重量比は広い範囲から成ることができ、例えば、約1:4〜4:1、好ましくは約1:2〜2:1、さらにより好ましくは約3:2の比である。
本発明の他の実施態様においては、チタンは、ニッケル及び/又はコバルトで部分的に置換することができる。本発明の組成物は、フリットシーリングの際、水素を放出することが観察された。これは、フリットシーリングの際に収着した水が(任意のゲッター金属及び合金に共通の機能メカニズムに従って)この材料により酸素と水素に分解し、一方で、酸素がこの材料により完全に保持され、水素の収着は平衡現象であるので、この元素が部分的に放出されるからである可能性がある。幾つかの用途においては、水素の放出は有害ではなく、むしろフリットシーリングの際、最終デバイスの幾つかの部品が酸化するのを防ぐのに役立つ場合がある。しかしながら、水素の放出が望ましくない用途があり、その場合には、少なくとも最小限に抑えなければならない。例えば、本発明の組成物の活性化及び収着特性を評価するのにフラットスクリーン上で実施される試験の際、そうして放出された水素によってスクリーンの明るさが不均質になることが認められた。本発明らは、チタンをニッケル及び/又はコバルトの粉末で部分的に置換することにより、この現象が弱められることを見出した。これら2つの元素の粉末は、チタンに関して先に示したのと同じ粒子サイズで用いられる。チタンの約50重量%まで置換することができる。
フリットシーリング処理は、製造されるべきデバイスの種類と、任意の製造業者によって採用される具体的な加工プロセスとによって異なる場合がある。これらの処理の際、ゲッター組成物がさらされる時間、温度及び雰囲気は大きく変動する可能性がある。結果として、フリットシーリングの際に存在するガスと組成物の相互作用の程度は、広い範囲で変動する可能性があり、それにより、以降の再活性化に関して組成物のガス収着特性の再現性が得られなくなる可能性がある。この問題を避けるため、制御された条件、一般に十分厳しい条件下で本発明の組成物を予備酸化処理することが可能であり、例えば、典型的な処理は、空気中450℃で20分間実施し、そうして組成物の制御された酸化を得ることができる。予測される最も厳しいフリットシーリング処理と少なくとも同じ時間、温度及び雰囲気の条件で組成物を予備酸化することにより、確実に、実際のフリットシーリングの際、本発明の組成物の周囲環境との更なる相互作用はなくなるか又は少なくとも低減される。こうして、本発明の組成物の化学組成における「標準化」及び結果として再活性化後のガス収着特性のより高い再現性が得られる。
本発明の組成物は、支持体を有するか又は有さない様々な形状のゲッターデバイスを生成するのに使用できる。
ゲッターデバイスがこの組成物のみから形成される場合、ゲッターデバイスは、一般には、好適な型に粉末混合物を注入し、好適なパンチによりそれを圧縮することによって得られるペレットの形態であり、適用される圧力値は一般に5000Kg/cm2よりも高い。圧縮に続いて焼結工程を行うことができ、焼結工程では、ペレットは、真空又は不活性雰囲気下、約700〜1000℃の温度で熱処理を受ける。圧縮のみの場合、ゲッターデバイスは一般にペレット形状を有するが、さらに焼結が実施されると、完成した本体の機械抵抗が増し、さらに他の形状、例えば、比較的薄いタブレットを得ることができる。
変形態様として、ゲッターデバイスは、一般には金属の好適な機械的支持体上に支持された本発明による組成物の粉末を含む。この支持体は、金属のストリップ又はシートであることができ、その場合、組成物の粉末は、冷間圧延又はスクリーン印刷により堆積し、続いて焼結することができる。冷間圧延は粉末冶金分野の周知技術であるが、スクリーン印刷によるゲッター材料の堆積物の生成は、米国特許第5,882,727号明細書で開示されている。支持体は、ガス状の不純物を除去しなければならない空間と本発明の組成物が接触することのできる少なくとも開放した部分を備えた様々な形状の容器であることもでき、例えば、粉末混合物が注入され、その後この混合物が好適なパンチで圧縮される短いシリンダーである。本発明の組成物が容器に導入される場合には、焼結は一般に不要である。
本発明は以下の例によってさらに説明される。これらの限定的でない例によって、本発明の実施方法を当業者に教示しかつ本発明自体を実施するのに最もよく検討された方法を表すよう設計された幾つかの実施態様が示される。例1〜10は、ゲッター組成物を含む多数のデバイスの製造において使用されるフリットシーリングプロセスをシミュレートした処理の前後の、本発明及び先行技術の組成物のガス吸収特性に関するものである。例11は、フリットシーリング後における本発明の或る組成物からの水素の放出に関するものである。
[例1]
粒子サイズが40μm未満の粉末チタン0.10gと、重量%組成がZr70%−V15%−Fe3.3%−Mn8.7%−MM3%、粒子サイズが約125μmの粉末合金0.15gとを用いて、厚さ0.5mm、直径4mmのペレットを調製する。ペレットは、単に10,000Kg未満で圧縮することにより生成される。
こうして生成したペレットを空気中450℃で20分間処理し、フリットシーリング処理の条件をシミュレートする。次いで、ペレットを真空下350℃で2時間熱処理することにより活性化する。
室温での一酸化炭素(CO)収着試験をこのように処理したペレットに関して実施し、続いて、CO圧力4×10-5hPaで操作することにより、規格ASTM F798−82に記載される手順を実施する。試験結果は、図1の曲線1として、収着ガス量(Qとして示され、cc×hPa/g、即ち、合金1g当たりのガスのcm3×測定圧力(hPa)で測定される)の関数としての収着速度(Sとして示され、cc/s×g、即ち、合金1g当たり1秒で収着されるガスのcm3において測定される)としてグラフで示される。
[例2]
例1の試験を繰り返すが、本ケースでは、ペレットは、圧縮による形成後、不活性雰囲気下870℃で40分間焼結処理にさらす。CO収着試験をこのペレット上で実施し、その結果を曲線2として図1に示す。
[例3(比較)]
粉末チタン0.10gと、重量%組成がZr70%−V24.6%−Fe5.4%の合金粉末0.15gで形成された先行技術による組成物から得たペレットを用いて、例2の試験を繰り返す。CO収着試験をこのペレット上で実施し、その結果を曲線3として図1に示す。
[例4(比較)]
当分野で既に知られた重量%組成がZr70%−V24.6%−Fe5.4%の合金粉末のみから成る重量0.25gのペレットを用いて、例1の試験を繰り返す。CO収着試験をこのペレット上で実施する。この試験の結果は図に示さない。なぜなら、このペレットは収着容量が実際ゼロに等しいことがわかり、それにより関連した収着データが検出できなかったからである。
[例5]
粒子サイズが40μm未満の粉末チタン0.10gと、重量%組成がZr72.2%−V15.4%−Fe3.4%−Mn9%、粒子サイズが約125μmの合金粉末0.15gとを用いて、厚さ0.5mm、直径4mmのペレットを調製する。粉末混合物を、好適な型において10,000Kg未満で圧縮し、次いで、このペレットを真空下870℃で40分間焼結の熱処理にさらす。
空気にさらした後(ペレットを不動態化する効果がある)、こうして生成したペレットを真空下350℃の温度で2時間熱処理することにより活性化する。室温での一酸化炭素(CO)収着試験を、例1で記載したように、このペレット上で実施する。試験結果は、図2の曲線4として、収着ガス量(Q)の関数としての収着速度(S)としてグラフで示される。
[例6]
調製後にペレットを空気中450℃で20分間処理し、フリットシーリング処理の条件をシミュレートすることのみが異なる新しいペレットを用いて例5の試験を繰り返す。次いで、このペレットを真空下350℃で2時間熱処理することにより活性化する。CO収着試験を先の試験と同じ条件下でこの第2ペレットに関して実施する。試験結果は、図2の曲線5としてグラフで示される。
[例7]
本ケースでは、ペレットの調製のために重量%組成がZr76.7%−V16.4%−Fe3.6%−MM3.3%(MMは、重量%組成がセリウム50%、ランタン30%、ネオジム15%、他の希土類5%バランスの混合物を意味する)の合金粉末0.15gを用いて例5の手順を繰り返す。
このペレットに関するCO収着試験の結果は、曲線6として図3に示される。
[例8]
例7の合金で得られたペレットを用いて例6の手順を繰り返す。
このペレットに関するCO収着試験の結果は、曲線7として図3に示される。
[例9(比較)]
重量%組成がZr70%−V24.6%−Fe5.4%の合金粉末0.15gをペレットを得るために用いて例5の手順を繰り返す。
このペレットに関するCO収着試験の結果は、曲線8として図4に示される。
[例10(比較)]
例9の合金で調製したペレットを用いて例6の手順を繰り返す。
このペレットに関するCO収着試験の結果は、曲線9として図4に示される。
[例11]
この例は、フリットシーリング後における本発明の組成物からの水素放出に関する。
本発明の組成物を使用することにより、厚さが0.5mm、直径が4mmであるペレット形態の一連の試験片を例1の手順に続いて調製する。これら試験片の成分重量%及び予備酸化条件を下表に与える。
Figure 2005539147
用いたゲッター合金は、常に例1のもの、即ち、重量%組成がZr70%−V15%−Fe3.3%−Mn8.7%−MM3%の合金である。さらに、異なる成分の粉末の粒子サイズは例において与えられる通りである(存在する場合には、ニッケル及びコバルトはチタンと同じ粒子サイズを有する)。
そうして生成した試料に関し、未処理と1.33hPaの水蒸気存在下450℃で20分間処理した後の試験片に関して水素含有量の分析を実施する。この処理は、幾つかのPDP製造業者により用いられているフリットシーリングをシミュレートしており、真空下で実施され、その雰囲気はスクリーンの内部部品(特には蛍光体)によって放出される水蒸気から本質的に作られる。様々な試料の水素含有量は、アメリカ、ミシガン州、セント・ジョセフのLECO社による水素分析計モデルRH402を用いて測定する。試験結果は表2において報告される。「Hin」及び「Hfin」の段は、それぞれフリットシーリング前後の試験片に含まれる水素の重量%を与え、「ΔH」の段は各試験片に関するHfin−Hinの差の値を与える。「Δ重量」の段は水収着による試験片の重量%の増加を与える。
Figure 2005539147
[結果の考察]
図1〜図3に示される収着曲線を比較することで明らかなように、本発明の組成物で生成されたペレットは、フリットシーリングに関して優れた収着特性を示し、フリットシーリング前に示したものよりも非常に優れている。
特に、図1により、本発明の組成物で生成した2つのペレット(焼結したもの及び焼結しないもの、それぞれ曲線2及び1)が、フリットシーリングに関して、少なくとも5cc×hPa/gのガス量を既に収着した後も、100cc/s×g程度の収着速度を依然として有するので優れた収着特性を示すことが明らかである。これに反して、先行技術の組成物から得られたペレット(曲線3)は、既に0.5cc×hPa/g未満の収着で実質的に消費されてしまうようである。フリットシーリングに関して公知の合金からのみ得られたペレット(例4)はもはや全く収着容量を有さない。
図2及び図3は、非常に意外なことに、フリットシーリング後の本発明の組成物の収着特性がフリットシーリング前の同じ組成物よりも優れていることを示す。これに反して、先行技術の組成物から得られたペレットは、フリットシーリングにより収着特性が非常に悪くなることが示される(図4)。
これらの試験はまた、公知の組成物とは逆に、450℃でのフリットシーリングによる本発明に従った組成物の場合には、より低温(例では350℃)での再活性化が、優れた収着特性を再び得るのに十分である。
その代わりに、例5に記載される試験は、本発明の異なる組成物によってフリットシーリングの際に水素を保持する能力に関する。特には、関連するデータは表2に報告されるものである。全ての水素が試験片により保持される場合には、各試験片の「ΔH」値は「Δ重量」値の1/9に等しくなるはずである。実際、このようにはならならい。なぜなら、上記の通り、水素の一部が放出されるからである。「ΔH」の段の値を「Δ重量」の段の値で割り、次いで、その値に100を掛けることで、水収着に関する収着水素との比較における、試験片により保持された水素の割合が得られる。最後の段の値が高くなるほど、水素を保持するという能力の観点で試験片が優れたものになる。表の結果から、チタンの一部をニッケル及びコバルトで置換することにより、特にはチタンの10重量%をニッケルで置換することにより、本発明の組成物からの水素を相当に低減することができる。
本発明による2つの組成物と先行技術の組成物の収着曲線を示す。 フリットシーリング前後の本発明による第3組成物の収着曲線を示す。 フリットシーリング前後の本発明による第4組成物の収着曲線を示す。 フリットシーリング前後のチタンとゲッター金属との公知混合物の収着曲線を示す。

Claims (26)

  1. 第1成分と第2成分の粉末混合物から形成された、先の反応性ガスへの暴露温度よりも低い温度で処理することにより再活性化することのできるゲッター組成物であって、
    ・該第1成分が、チタン又はチタンとニッケル及びコバルトのうち少なくとも1つとの混合物であり、ニッケル及び/又はコバルトが該第1成分の最大50%存在し、
    ・該第2成分が、ジルコニウム、バナジウム、鉄及び少なくとも1つの更なる成分を含む非蒸発性ゲッター合金であり、該少なくとも1つの更なる成分が、マンガンと、イットリウム、ランタン及び希土類の中から選択された1つ又は複数の元素との間で選択され、これら元素の重量百分率が以下の範囲、即ち、
    ・ジルコニウム60〜90%
    ・バナジウム2〜20%
    ・鉄0.5〜15%
    ・マンガン0〜30%
    ・A0〜10%(Aはイットリウム、ランタン、希土類及びそれらの混合物を意味する)
    で変化することのできる、ゲッター組成物。
  2. 前記ゲッター合金が、最大5重量%の他の遷移元素をさらに含有する、請求項1に記載のゲッター組成物。
  3. 前記ゲッター合金が、ジルコニウム、バナジウム、鉄及びマンガンを含み、これら元素の重量百分率が以下の範囲、即ち、
    ・ジルコニウム60〜90%
    ・バナジウム2〜20%
    ・鉄0.5〜15%
    ・マンガン2.5〜30%
    で変化することのできる、請求項1に記載のゲッター組成物。
  4. 前記ゲッター合金が、Zr72.2%−V15.4%−Fe3.4%−Mn9%の重量%組成を有する、請求項3に記載のゲッター組成物。
  5. 前記ゲッター合金が、ジルコニウムと、バナジウムと、鉄と、イットリウム、ランタン及び希土類の中から選択された1つ又は複数の元素とを含み、これら元素の重量百分率が以下の範囲、即ち、
    ・ジルコニウム60〜90%
    ・バナジウム2〜20%
    ・鉄0.5〜15%
    ・A1〜10%
    で変化することのできる、請求項1に記載のゲッター組成物。
  6. 前記ゲッター合金が、Zr76.7%−V16.4%−Fe3.6%−A3.3%の重量%組成を有する、請求項5に記載のゲッター組成物。
  7. 前記ゲッター合金が、ジルコニウムと、バナジウムと、鉄と、マンガンと、イットリウム、ランタン及び希土類の中から選択された1つ又は複数の元素とを含み、これら元素の重量百分率が以下の範囲、即ち、
    ・ジルコニウム60〜85%
    ・バナジウム2〜20%
    ・鉄0.5〜10%
    ・マンガン2.5〜30%
    ・A1〜6%
    で変化することのできる、請求項1に記載のゲッター組成物。
  8. 前記ゲッター合金が、Zr70%−V15%−Fe3.3%−Mn8.7%−A3%の重量%組成を有する、請求項7に記載のゲッター組成物。
  9. 前記第1成分の粉末が40μm未満の粒子サイズを有する、請求項1に記載のゲッター組成物。
  10. 前記第2成分の粉末が10〜250μmの粒子サイズを有する、請求項1に記載のゲッター組成物。
  11. 前記第2成分の粉末が約128μmの粒子サイズを有する、請求項10に記載のゲッター組成物。
  12. 前記第1成分の粉末と前記第2成分の粉末の重量比が1:4〜4:1である、請求項1に記載のゲッター組成物。
  13. 前記比が1:2〜2:1である、請求項12に記載のゲッター組成物。
  14. 前記比が3:2である、請求項13に記載のゲッター組成物。
  15. 請求項1〜14のいずれか1項に記載の組成物を酸化処理にさらすことで得ることのできるゲッター組成物。
  16. 前記酸化処理が、前記組成物を含むデバイスの製造に関して予測されるフリットシーリング処理と同等である、請求項15に記載のゲッター組成物。
  17. 前記酸化処理が、450℃で20分間空気にさらすことにある、請求項16に記載のゲッター組成物。
  18. 請求項1〜17に記載の組成物のいずれか1つを用いたゲッターデバイス。
  19. 前記ゲッター組成物の粉末のみから形成された、請求項18に記載のデバイス。
  20. 前記ゲッター組成物の粉末を5000Kg/cmよりも高い圧力値で圧縮することにより得られた、請求項19に記載のデバイス。
  21. 前記圧縮された粉末を、真空又は不活性雰囲気下、700〜1000℃の温度での熱処理により焼結するという更なる工程によって得られた、請求項20に記載のデバイス。
  22. 機械的な支持体により支持される前記ゲッター組成物の粉末から形成された、請求項18に記載のデバイス。
  23. 前記支持体が金属のストリップ又はシートである、請求項22に記載のデバイス。
  24. 前記粉末を前記金属のストリップ又はシート上で冷間圧延することにより得られた、請求項23に記載のデバイス。
  25. 前記ゲッター組成物の粉末をスクリーン印刷することにより得られた、請求項23に記載のデバイス。
  26. 前記支持体が、ガス状の不純物を除去しなければならない空間と前記ゲッター組成物の粉末との接触を可能にする少なくとも開放した部分を備えた容器である、請求項22に記載のデバイス。
JP2004571932A 2002-09-13 2003-08-28 より高温で反応性ガスにさらした後、低温で再活性化することのできる非蒸発性ゲッター組成物 Expired - Lifetime JP4044563B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ITMI20021950 ITMI20021950A1 (it) 2002-09-13 2002-09-13 Composizioni getter non evaporabili riattivabili a bassa temperatura dopo esposizione a gas reattivi a temperatura superiore.
ITMI20022280 ITMI20022280A1 (it) 2002-10-25 2002-10-25 Composizioni getter non evaporabili riattivabili a bassa temperatura dopo esposizione a gas reattivi a temperatura superiore
ITMI20031392 ITMI20031392A1 (it) 2003-07-08 2003-07-08 Composizioni getter non evaporabili riattivabili a bassa temperatura dopo esposizione a gas reattivi a temperatura superiore.
PCT/IT2003/000522 WO2004024965A2 (en) 2002-09-13 2003-08-28 Getter compositions reactivatable at low temperature after exposure to reactive gases at higher temperature

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005539147A true JP2005539147A (ja) 2005-12-22
JP4044563B2 JP4044563B2 (ja) 2008-02-06

Family

ID=31998607

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004571932A Expired - Lifetime JP4044563B2 (ja) 2002-09-13 2003-08-28 より高温で反応性ガスにさらした後、低温で再活性化することのできる非蒸発性ゲッター組成物

Country Status (12)

Country Link
EP (1) EP1537250B1 (ja)
JP (1) JP4044563B2 (ja)
KR (1) KR100732258B1 (ja)
CN (1) CN1681952B (ja)
AT (1) ATE384805T1 (ja)
AU (1) AU2003265148A1 (ja)
DE (1) DE60318865T2 (ja)
ES (1) ES2298613T3 (ja)
MX (1) MXPA05002666A (ja)
RU (1) RU2321650C2 (ja)
TW (1) TWI245308B (ja)
WO (1) WO2004024965A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008513934A (ja) * 2004-09-15 2008-05-01 セ−ジョン マテリアルズ リミテッド Lcdゲッター
JP2009541928A (ja) * 2006-06-19 2009-11-26 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 放電灯
JP2015501509A (ja) * 2011-10-14 2015-01-15 サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア より高い温度での反応性ガスへの暴露の後で、低い温度で再活性化され得る非蒸発性ゲッター組成物

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20042271A1 (it) * 2004-11-23 2005-02-23 Getters Spa Leghe getter non evaporabili per assorbimento di idrogeno
ITMI20060361A1 (it) * 2006-02-28 2007-09-01 Getters Spa Assorbimento di idrogeno mediante l'impiego di leghe getter non evaporabili metodo ed applicazioni
BRPI0923861B8 (pt) 2008-12-31 2021-05-25 Ardelyx Inc compostos e composições farmacêuticas para inibir o antiporte nhe-mediado no tratamento de distúrbios associados com a retenção de fluido ou com a sobrecarga de sal e distúrbios do trato gastrointestinal
CN101721969B (zh) * 2009-12-21 2011-12-14 北京有色金属研究总院 一种以钛为基的烧结型吸气材料及其制备方法
CN102284268B (zh) * 2011-06-14 2013-03-20 杭州家爽包装材料有限公司 一种真空绝热板用的吸气剂组合物
CN102758101B (zh) * 2012-08-07 2013-12-18 南京盖特电子有限公司 一种非蒸散型低温激活锆基吸气剂合金及其制法
RU2513563C2 (ru) * 2012-08-17 2014-04-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток") Спеченный неиспаряющийся геттер
ITMI20122092A1 (it) 2012-12-10 2014-06-11 Getters Spa Leghe getter non evaporabili riattivabili dopo l'esposizione a gas reattivi
CN103055798A (zh) * 2013-01-15 2013-04-24 北京联创宏业真空科技有限公司 一种吸气剂
ITMI20131921A1 (it) 2013-11-20 2015-05-21 Getters Spa Leghe getter non evaporabili particolarmente adatte per l'assorbimento di idrogeno e monossido di carbonio
ITUB20152829A1 (it) * 2015-08-04 2017-02-04 Getters Spa Dosaggio di idrogeno in lampadine di illuminazione a LED
ITUA20163861A1 (it) * 2016-05-27 2017-11-27 Getters Spa Non-evaporable getter alloys particularly suitable for hydrogen and carbon monoxide sorption
CN106571281A (zh) * 2016-11-04 2017-04-19 北京有色金属研究总院 一种新型气体吸收元件的批量化制备方法
CN108149069A (zh) * 2016-12-02 2018-06-12 北京有色金属研究总院 一种吸气合金材料及其应用
CN109680249A (zh) * 2019-01-25 2019-04-26 苏州大学 非蒸散型薄膜吸气剂及其制备方法
KR102588567B1 (ko) * 2021-07-16 2023-10-16 주식회사 원익홀딩스 Zr계 게터의 표면 불순물 제거 방법
CN114015905B (zh) * 2021-11-04 2022-05-10 安徽有研吸气材料有限公司 纳米级锆基非蒸散型吸气材料制备工艺
CN114160786B (zh) * 2021-11-25 2022-07-26 有研工程技术研究院有限公司 一种混合粉末型吸气剂及其制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1198325B (it) * 1980-06-04 1988-12-21 Getters Spa Struttura e composizione getteranti,particolarmente adatti per basse temperature
TW287117B (ja) * 1994-12-02 1996-10-01 Getters Spa
CN1053476C (zh) * 1996-06-21 2000-06-14 吕镇和 多元非蒸散型低温激活锆基吸气剂合金及其制法
IT1317951B1 (it) * 2000-05-30 2003-07-21 Getters Spa Leghe getter non evaporabili

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008513934A (ja) * 2004-09-15 2008-05-01 セ−ジョン マテリアルズ リミテッド Lcdゲッター
JP2009541928A (ja) * 2006-06-19 2009-11-26 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 放電灯
JP2015501509A (ja) * 2011-10-14 2015-01-15 サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア より高い温度での反応性ガスへの暴露の後で、低い温度で再活性化され得る非蒸発性ゲッター組成物

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003265148A1 (en) 2004-04-30
ATE384805T1 (de) 2008-02-15
DE60318865D1 (de) 2008-03-13
CN1681952B (zh) 2010-04-28
MXPA05002666A (es) 2005-05-05
WO2004024965A3 (en) 2004-06-03
TW200415669A (en) 2004-08-16
DE60318865T2 (de) 2009-01-22
TWI245308B (en) 2005-12-11
KR100732258B1 (ko) 2007-06-25
AU2003265148A8 (en) 2004-04-30
EP1537250A2 (en) 2005-06-08
KR20050043954A (ko) 2005-05-11
JP4044563B2 (ja) 2008-02-06
RU2321650C2 (ru) 2008-04-10
ES2298613T3 (es) 2008-05-16
EP1537250B1 (en) 2008-01-23
RU2005110943A (ru) 2005-09-20
WO2004024965A2 (en) 2004-03-25
CN1681952A (zh) 2005-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4044563B2 (ja) より高温で反応性ガスにさらした後、低温で再活性化することのできる非蒸発性ゲッター組成物
JP5944512B2 (ja) より高い温度での反応性ガスへの暴露の後で、低い温度で再活性化され得る非蒸発性ゲッター組成物
EP0716772B1 (en) Method for creating and keeping a controlled atmosphere in a field emitter device by using a getter material
US6506319B1 (en) Getter materials capable of being activated at low applied temperatures
US5830026A (en) Mercury dispensing device
CN101437972B (zh) 用于氢气吸收的基于钇的非蒸发性吸气合金
KR101597083B1 (ko) 반응성 가스에 노출 후 재활성화될 수 있는 비-증발성 게터 합금
US20050169766A1 (en) Getter compositions reactivatable at low temperature after exposure to reactive gases at higher temperature

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061002

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061010

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20070110

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20070118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071016

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4044563

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101122

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101122

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111122

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111122

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121122

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121122

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131122

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term