JP2005537654A - イメージセンサ、イメージセンサを備えたカメラシステム、及び、そのような装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
感光素子の領域上において保護マスクを使用し、その後、第1の導電型を有するイオンを半導体基板に注入することによりウェル領域を形成するステップと、
ゲート材料の層を堆積して当該層をパターニングすることにより、ゲート領域を形成するステップと、
を含む、CMOSイメージセンサの製造方法に関する。
Vsense=Vdd’−(Iphoto×Tilluminate/CN1)
の値により減少させる。この式中、Iphotoは入射光によって誘導された光電流であり、Tilluminateは照明時間間隔であり、CN1はノードN1上の容量である。Vdd’及びVsenseは、両方ともに原理的に行選択トランジスタ25を動作させることによりソースフォロワトランジスタ16によって画素から読み出される。セルの2次元アレイには、典型的には行選択トランジスタ及び列選択トランジスタが存在し、セルを順次にサンプリングすることが可能になる。行選択トランジスタ25は、行選択信号を操作することにより動作させられる。セル上の照明は、従って、
Vdd’−Vsense=Iphoto×Tilluminate/CN1
に比例する。当業者は、この操作をダブルサンプリングと称する。サンプリングは、Tilluminateの前の時刻T2と、Tilluminate中の時刻T3とにおいて行われる。セルは、時刻T4においてリセットされるが、それはVresetがハイ状態へ到達させられるからである。
Claims (12)
- 第1の導電型を有し且つ表面を有する半導体本体を備え、前記表面に多数のセルが配設され、前記各セルは感光素子及びリセットトランジスタを備え、前記リセットトランジスタは、ソース領域、ドレイン領域及びゲート領域を備え、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記第1の導電型とは逆の第2の導電型を有し、前記リセットトランジスタの前記ソース領域は、前記感光素子に電気的に接続されているイメージセンサであって、
前記表面から前記半導体本体内部に延在し、少なくとも部分的に前記ゲート領域の下に延在し、前記第1の導電型を有するウェル領域が存在し、
前記ソース領域は、実質的に少なくとも前記感光素子のドープ領域内に延在し、
前記ドープ領域は、前記第2の導電型を有する、
ことを特徴とするイメージセンサ。 - 前記ソース領域は、前記半導体本体によって少なくとも部分的に輪郭が決定された底部を有していることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサ。
- 前記ドレイン領域は、前記ウェル領域内に延在し、前記ウェル領域と前記ソース領域との間に間隙が存在していることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサ。
- 前記ゲート領域は、前記ウェル領域の側壁上に延在していることを特徴とする請求項3に記載のイメージセンサ。
- 前記ゲートは、前記感光素子の端部に沿って位置していることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサ。
- 前記リセットトランジスタの前記ソースに接続されたゲートを有するソースフォロワトランジスタが存在し、前記リセットトランジスタの前記ゲートは、前記ソースフォロワトランジスタの前記ゲートの長さよりも長い長さを有することを特徴とする請求項5に記載のイメージセンサ。
- 請求項1乃至6のいずれか一項に記載のイメージセンサを備えていることを特徴とするカメラシステム。
- 第1の導電型とは逆の第2の導電型を有するドーパント原子を、前記第1の導電型を有する半導体基板のある領域に導入することにより、前記半導体基板に感光素子を形成するステップと、
前記感光素子の領域上において保護マスクを使用し、その後、前記第1の導電型を有するイオンを前記半導体基板に注入することによりウェル領域を形成するステップと、
ゲート材料の層を堆積して当該層をパターニングすることにより、ゲート領域を形成するステップと、
を含み、
前記ゲート領域は、前記ウェル領域の側壁上に形成され、前記側壁は、前記感光素子の前記領域と前記ウェル領域との間に存在することを特徴とするCMOSイメージセンサの製造方法。 - ソース領域が、前記第2の導電型のイオンを前記ゲートに自己整合的に注入することにより形成され、前記ソース領域は、実質的に少なくとも前記感光素子の前記領域に形成されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記ソース領域と前記ウェル領域との間に間隙が形成されることを特徴とする請求項8又は9に記載の方法。
- フィールドアイソレーションが前記半導体基板上に形成され、前記感光素子は、前記フィールドアイソレーションを貫通して前記第2の導電型の前記イオンを注入することにより形成されることを特徴とする請求項8又は9に記載の方法。
- 前記感光素子は、前記フィールドアイソレーションにより形成された端部を有し、前記ゲートは、前記端部に沿って位置していることを特徴とする請求項11に記載の方法。
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