JP2005532423A5 - - Google Patents
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Claims (62)
- （ａ）水；並びに（ｂ）少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせを含む非腐食性洗浄組成物であって、該少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、該組成物中に約１：５〜約５：１の重量比で存在する、上記組成物。
- 組成物が、基板からエッチング残留物を除去する、請求項１に記載の組成物。
- エッチング残留物が、プラズマエッチング残留物である、請求項２に記載の組成物。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、トリカルボン酸のみかまたはカルボン酸を単独で有する洗浄組成物と比較して増強された洗浄組成物を提供する、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸が、式：
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシル、メルカプ
ト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖アルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択される］
を有する、請求項１に記載の組成物。 - 請求項５に記載の式を有する少なくとも１つのトリカルボン酸が、トリカルボアリル酸、β−メチルトリカルボアリル酸、クエン酸、ニトロメタントリスプロピオン酸、および２−（カルボキシルメチルチオ）琥珀酸からなる群より選択される、請求項５に記載の組成物。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.０１重量％〜約１０重量％の量
で存在する、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.０５重量％〜約３重量％の量で
存在する、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.１重量％〜約２重量％の量で存
在する、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのカルボン酸が、約３〜約６のｐＫａを有する、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つのカルボン酸が、式：
Ｒ9−(ＣＲ7Ｒ8)qＣＯ2Ｈ
［式中、ｑは、０〜６の範囲の整数であり；Ｒ7、およびＲ8は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシル、メルカプト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖のアルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択され；そしてＲ9は、水素、カ
ルボン酸、ヒドロキシル、メルカプト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖のアルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択される］
を有する、請求項１に記載の組成物。 - 請求項１１に記載の式を有する少なくとも１つのカルボン酸が、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、トリメチル酢酸、イソ吉草酸、琥珀酸、メチル琥珀酸、グルタル酸、スベリン酸、グリコール酸、乳酸、２−ヒドロキシイソ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、リンゴ酸、シトラマル酸、酒石酸、エトキシ酢酸、テトラヒドロ−３−フロ酸、ジグリコール酸、メルカプト琥珀酸、チオ乳酸、シクロヘキシル酢酸、ジシクロヘキシル酢酸、および１，１−シクロヘキサン二酢酸からなる群より選択される、請求項１１に記載の組成物。
- 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.０１重量％〜約１０重量％の量で存
在する、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.０５重量％〜約３重量％の量で存在
する、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.１重量％〜約２重量％の量で存在す
る、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、組成物中に約１：３〜約３：１の重量比で存在する、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、組成物中に約１：１の重量比で存在する、請求項１に記載の組成物。
- 式：
ｒ(ＮＲ10Ｒ11Ｒ12ＯＨ)+(Ｘ-r）
［式中、Ｒ10、Ｒ11、およびＲ12は、水素、１〜４個の炭素原子を有する低級アルキル基、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、ヒドロキシルおよび１〜４個の炭素原子を有するヒドロキシル置換低級アルキル基から独立して選択され、但し、Ｒ10、Ｒ11、およびＲ12のうち少なくとも２つは、水素、低級アルキル基または低級アルコキシ基のいずれかであり、そして式中、Ｘは、ヒドロキシルアンモニウムカチオンまたは第四級アンモニウムカチオンと水溶性塩を形成するアニオン性部分であり、そしてｒは、Ｘの原子価であり１〜３である］
を有する少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物をさらに含む、請求項１に記載の組成物。 - 少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物が、ヒドロキシルアンモニウム塩、硝酸ヒドロキシルアンモニウム、硫酸ヒドロキシルアンモニウム、リン酸ヒドロキシルアンモニウム、塩化ヒドロキシルアンモニウム、蓚酸ヒドロキシルアンモニウム、クエン酸ヒドロキシルアンモニウム、フッ化ヒドロキシルアンモニウム、硫酸Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアンモニウム、および硝酸Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも１つである、請求項１８に記載の組成物。
- 少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物は、組成物中に存在する場合、約０.００１重量％〜約１０重量％の量で存在する、請求項１８に記載の組成物。
- 少なくとも１つの塩基化合物をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つの塩基化合物が、アミン、水酸化第四級アンモニウム、およびそのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、請求項２１に記載の組成物。
- 少なくとも１つの塩基が、組成物中に約０.００１重量％〜約１重量％の量で存在する
、請求項２１に記載の組成物。 - 少なくとも１つの溶媒をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つの溶媒が、ポリオール化合物、グリコールエーテル、およびそのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、請求項２４に記載の組成物。
- 少なくとも１つの溶媒が、組成物中に約０.１重量％〜約３０重量％の量で存在する、
請求項２４に記載の組成物。 - キレート化合物、界面活性剤、およびそのいずれかの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの添加剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
- 少なくとも１つの添加剤が、組成物中に約０.００１重量％〜約１０重量％の量で存在
する、請求項２７に記載の組成物。 - 基板上のプラズマエッチング残留物を除去するための、水；ならびに乳酸およびクエン酸の相乗的組み合わせを含む非腐食性洗浄組成物であって、クエン酸および乳酸の相乗的
組み合わせが、該組成物中に約３：１〜約１：３の重量比で存在する、上記組成物。 - 水が、組成物中に約９０重量％〜約９９.９８重量％の量で存在する、請求項２９に記
載の組成物。 - クエン酸および乳酸の相乗的組み合わせが、組成物中に約１：１の重量比で存在する、請求項２９に記載の組成物。
- 乳酸が、組成物中に約０.４重量％〜約１.５重量％の量で存在する、請求項２９に記載の組成物。
- クエン酸が、組成物中に約０.５重量％〜約１.６重量％の量で存在する、請求項２９に記載の組成物。
- 組成物中に約０.００１重量％〜約１０重量％の量で存在する少なくとも１つのヒドロ
キシルアンモニウム化合物をさらに含む、請求項２９に記載の組成物。 - 少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物が、硫酸ヒドロキシルアンモニウムである、請求項３４に記載の組成物。
- 約０.００１重量％〜約１重量％の量の少なくとも１つの塩基化合物をさらに含む、請
求項３５に記載の組成物。 - 少なくとも１つの塩基化合物が、水酸化テトラメチルアンモニウムである、請求項３６に記載の組成物。
- 水；ならびに少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせを含む洗浄組成物と基板とを接触させる工程を含む基板から残留物を除去するための方法であって、該少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが該組成物中に約１：５〜約５：１の重量比で存在し、ここで残留物が該基板から除去される、上記方法。
- 基板が、新らしい基板または古い基板である、請求項３８に記載の方法。
- 洗浄組成物が、約２０℃〜約６０℃の温度を有する、請求項３８に記載の方法。
- 約１０秒〜約３０分の洗浄時間を有する、請求項３８に記載の方法。
- 浸漬、スプレーリンス、流動、およびそのいずれかの組み合わせからなる群より選択される手段により洗浄組成物と基板とを接触させる、請求項３８に記載の方法。
- ドライストリッピング、Ｏ2プラズマアッシング、オゾン気相処理、フッ素プラズマ処
理、熱Ｈ2ガス処理、およびそのいずれかの組み合わせからなる群より選択される少なく
とも１つのフォトレジストストリッピングプロセスと組み合わせて実施される、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つの有機ウェットストリッピングプロセスと組み合わせて実施される、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つの有機ウェットストリッピングプロセスが、オゾン水を用いる処理であ
る、請求項４４に記載の方法。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、トリカルボン酸のみかまたはカルボン酸を単独で有する洗浄組成物と比較して、基板の増強された洗浄を提供する、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸が、式：
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシル、メルカプ
ト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖アルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択される］
を有する、請求項３８に記載の方法。 - 請求項４７に記載の式を有する少なくとも１つのトリカルボン酸が、トリカルボアリル酸、β−メチルトリカルボアリル酸、クエン酸、ニトロメタントリスプロピオン酸、および２−（カルボキシルメチルチオ）琥珀酸からなる群より選択される、請求項４７に記載の方法。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.０１重量％〜約１０重量％の量
で存在する、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.０５重量％〜約３重量％の量で存在する、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸が、組成物中に約０.１重量％〜約２重量％の量で存在する、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つのカルボン酸が、約３〜約６の間のｐＫａを有する、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つのカルボン酸が、式：
Ｒ9−(ＣＲ7Ｒ8)qＣＯ2Ｈ
［式中、ｑは、０〜６の範囲の整数であり；Ｒ7、およびＲ8は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシル、メルカプト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖のアルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択され；そしてＲ9は、水素、カルボン酸、ヒドロキシル、メルカプト、１〜６個の炭素原子を有する脂環式または環状のチオエーテル、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、１〜４個の炭素原子を有する低級の分枝鎖または直鎖のアルキル基、３〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基
、フェニル、アリール、ニトロおよびハロゲンからなる群より選択される］
を有する、請求項３８に記載の方法。 - 請求項５３に記載の式を有する少なくとも１つのカルボン酸が、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、トリメチル酢酸、イソ吉草酸、琥珀酸、メチル琥珀酸、グルタル酸、スベリン酸、グリコール酸、乳酸、２−ヒドロキシイソ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、リンゴ酸、シトラマル酸、酒石酸、エトキシ酢酸、テトラヒドロ−３−フロ酸、ジグリコール酸、メルカプト琥珀酸、チオ乳酸、シクロヘキシル酢酸、ジシクロヘキシル酢酸、および１，１−シクロヘキサン二酢酸からなる群より選択される、請求項５３に記載の方法。
- 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.０１重量％〜約１０重量％の量で存
在する、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.０５重量％〜約３重量％の量で存在
する、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つのカルボン酸が、組成物中に約０.１重量％〜約２重量％の量で存在す
る、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、組成物中に約１：３〜約３：１の重量比で存在する、請求項３８に記載の方法。
- 少なくとも１つのトリカルボン酸および少なくとも１つのカルボン酸の相乗的組み合わせが、組成物中に約１：１の重量比で存在する、請求項３８に記載の方法。
- 式：
ｒ(ＮＲ10Ｒ11Ｒ12ＯＨ)+(Ｘ-r）
［式中、Ｒ10、Ｒ11、およびＲ12は、水素、１〜４個の炭素原子を有する低級アルキル基、１〜４個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、ヒドロキシルおよび１〜４個の炭素原子を有するヒドロキシル置換低級アルキル基から独立して選択され、但し、Ｒ10、Ｒ11、およびＲ12のうち少なくとも２つは、水素、低級アルキル基または低級アルコキシ基のいずれかであり、そして式中、Ｘは、アニオン性部分であり、該アニオン性部分が、ヒドロキシルアンモニウムカチオンまたは第四級アンモニウムカチオンと水溶性塩を形成し、そしてｒは、Ｘの原子価であり１〜３である］
を有する少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物をさらに含む、請求項３８に記載の方法。 - 少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物が、ヒドロキシルアンモニウム塩、硝酸ヒドロキシルアンモニウム、硫酸ヒドロキシルアンモニウム、リン酸ヒドロキシルアンモニウム、塩化ヒドロキシルアンモニウム、蓚酸ヒドロキシルアンモニウム、クエン酸ヒドロキシルアンモニウム、フッ化ヒドロキシルアンモニウム、硫酸Ｎ,Ｎ−ジエチルヒドロキシルアンモニウム、および硝酸Ｎ,Ｎ−ジエチルヒドロキシルアンモニウムからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項６０に記載の方法。
- 少なくとも１つのヒドロキシルアンモニウム化合物が、組成物中に存在する場合、約０.００１重量％〜約１０重量％の量で存在する、請求項６０に記載の方法。
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