JP2005525548A5

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Publication number: JP2005525548A5
Application number: JP2004503890A
Authority: JP
Filing date: 2003-05-13
Publication date: 2006-06-29

Claims

方法であって、
２つのビームの経路間の光路差に関係する位相を含む出力ビームを干渉計システムの干渉計を用いて生成することであって、該２つのビームのうちの少なくとも一方は前記干渉計システムの測定対象物に接触するように前記干渉計によって方向付けられ、前記２つのビームは入力ビームから導出され、前記干渉計は前記測定対象物から離間した干渉計光学部品を備える、生成すること、
少なくとも１つの前記干渉計光学部品における欠陥または前記入力ビームを生成するために使用される光源における欠陥に起因する少なくとも一方の前記ビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮に入れた事前較正情報を提供すること、
前記出力ビームから得られる情報および事前較正情報に基づいて、少なくとも１つの自由度について前記測定対象物の位置を判定すること、
を備える、方法。
請求項１記載の方法において、前記干渉計の少なくとも１つの光学部品における前記欠陥は、前記光学部品の表面における欠陥を含む、方法。
請求項１記載の方法において、前記干渉計の少なくとも１つの光学部品における前記欠陥は、前記光学部品における全体的欠陥を含む、方法。
請求項１記載の方法において、前記光源における欠陥は、前記入力ビームが前記干渉計に至る入力ビーム経路から偏差する原因となる、方法。
請求項１記載の方法において、前記事前較正情報は、前記干渉計に対する前記測定対象物の角度方向、前記測定対象物と前記干渉計との間の距離、および前記入力ビームの前記干渉計に対する方向の内の少なくとも１つに関してパラメータ化される、方法。
請求項５記載の方法において、前記事前較正情報は、前記干渉計に対する前記測定対象物の角度方向、前記測定対象物と前記干渉計との間の距離、および前記入力ビームの前記干渉計に対する方向の内の少なくとも２つに関してパラメータ化される、方法。
請求項６記載の方法において、前記事前較正情報は、前記干渉計に対する前記測定対象物の角度方向、前記測定対象物と前記干渉計との間の距離、および前記入力ビームの前記干渉計に対する方向に関してパラメータ化される、方法。
請求項５記載の方法において、前記予備較正情報を、電子格納媒体に、ある表現として格納する、方法。
請求項８記載の方法において、前記表現は、参照表を備える、方法。
請求項８記載の方法において、前記表現は、関数表現を備える、方法。
請求項１記載の方法において、前記測定対象物の少なくとも１つの自由度に対して判定した位置は、前記干渉計に対する前記測定対象物の変位に関係する、方法。
請求項１１記載の方法において、前記測定対象物の少なくとも１つの自由度に対して判定した位置は、前記測定対象物の前記干渉計に対する変位である、方法。
請求項１記載の方法において、前記測定対象物の少なくとも１つの自由度に対して判定した位置は、前記測定対象物の角度方向に関係する、方法。
請求項１３記載の方法において、前記測定対象物の少なくとも１つの自由度に対して判定した位置は、前記測定対象物の角度方向である、方法。
請求項１記載の方法において、前記測定対象物の位置を判定することは、前記出力ビームの前記位相を測定すること、所定の情報から得られた１つ以上の値に基づいて、前記測定対象物の位置に前記位相を関係付けること、を含む、方法。
請求項１５記載の方法において、前記所定の情報から得られた前記値は、前記位相に基づいて選択される、方法。
請求項１５記載の方法において、前記所定の情報から得られた前記値は、前記測定対象物の角度方向に基づいて選択される、方法。
請求項１５記載の方法において、前記所定の情報から得られた前記値は、前記標準経路に関連して、前記光源から前記干渉計まで得られた入力ビームの経路に基づいて選択される、方法。
請求項１８記載の方法であって、前記入力ビーム経路の前記標準経路からの偏差を監視することを更に備える、方法。
請求項１５記載の方法において、前記位相Φ、および前記光路差間の関係は、次の式
Φ＝２ｐｋＬζ（１−（θ−η） ^２）
で表すことができ、ここで、ｐは整数、ｋは波数、Ｌは干渉計と測定対象物との間の相対距離、θは測定対象物の干渉計に対する角度方向、ζおよびηは、少なくとも１つの前記ビーム経路の前記標準ビーム経路からの偏差に依存する項である、方法。
請求項１記載の方法において、前記干渉計を用いて前記出力ビームを生成することは、前記測定対象物を前記干渉計に対して移動させつつ前記出力ビームを生成することを含み、前記測定対象物の位置を判定することは、相対的移動中前記測定対象物の位置を監視することを含む、方法。
請求項１記載の方法において、前記干渉計を用いて前記出力ビームを生成することは、前記入力ビームを少なくとも２つのビームに分離すること、該２つのビームを２つのビーム経路に沿って方向付けること、前記ビームの少なくとも一方が前記測定対象物に接触した後に、前記２つのビームを再結合すること、を含む、方法。
請求項２２記載の方法において、双方のビーム経路が前記測定対象物に接触する、方法。
請求項２３記載の方法において、前記光路差は、前記測定対象物の前記干渉計に対する角度方向に関係する、方法。
方法であって、
２つのビーム経路間の光路差に関係する位相を含む出力ビームを干渉計を用いて生成することであって、該２つのビーム経路のうちの少なくとも一方が測定対象物に接触し、前記干渉計は前記測定対象物から離間した干渉計光学部品を備える、生成すること、
前記干渉計の光源および少なくとも１つの前記干渉計光学部品のうちの少なくとも一方における欠陥に起因する少なくとも一方の前記ビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮に入れた事前較正情報を提供すること、
前記事前較正情報および前記出力ビームから得られる情報に基づいて、前記干渉計に対する前記測定対象物の変位を判定すること、
を備える、方法。
方法であって、
干渉計システムによって行われる測定対象物の位置の干渉測定を補正すること、を備え、前記干渉計システムは、干渉計光学部品を備える干渉計を含み、前記補正することは、少なくとも１つの前記干渉計光学部品のおける欠陥またはビームの発生源である光源における欠陥に起因する少なくとも１つのビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮した事前較正情報に基づいて行なわれ、前記干渉計は、前記干渉計光学部品から離間した測定対象物により反射される少なくとも１つのビーム経路に沿ってビームを方向付けるように構成されている、方法。
方法であって、
干渉計光学部品を含む干渉計を備える干渉計システムを較正すること、
を備え、前記較正することは、少なくとも１つの前記干渉計光学部品のおける欠陥またはビームの発生源である光源における欠陥に起因する少なくとも１つのビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮した情報を決定することによって行なわれ、前記干渉計は、前記干渉計光学部品から離間した測定対象物により反射される少なくとも１つのビーム経路に沿ってビームを方向付けるように構成されている、方法。
請求項２７記載の方法において、前記較正することは、前記光路差を変化させながら、前記干渉計システムにおける１つ以上の中間ビームの方向変化を監視することを含む、方法。
請求項２８記載の方法において、前記光路差を変化させることは、前記干渉計システムにおいて測定対象物を干渉計に対して変位させることを含む、方法。
請求項２８記載の方法において、前記光路差を変化させることは、前記干渉計システムにおいて測定対象物の干渉計に対する角度方向を変化させることを含む、方法。
装置であって、
２つのビーム経路間の光路差に関係する位相を含む出力ビームを生成するように構成されている干渉計であって、該２つのビーム経路のうちの少なくとも一方は測定対象物に接触し、前記干渉計は、前記干渉計から離間した干渉計光学部品を備える、干渉計と、
前記干渉計に接続されている電子コントローラであって、動作の間、出力ビームから得られた情報と、前記干渉計の光源または少なくとも１つの前記干渉計光学部品のうちの少なくとも一方における欠陥に起因する少なくとも１つの前記ビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮した事前較正情報とに基づいて、少なくとも１つの自由度について前記測定対象物の位置を判定する電子コントローラと、
を備える、装置。
装置であって、
干渉計の光源または前記干渉計の光学部品のうちの少なくとも一方における欠陥に起因する少なくとも１つのビーム経路の標準ビーム経路からの偏差によって生ずる光路差に対する影響を考慮した事前較正情報を格納する電子格納媒体を備え、前記干渉計は、前記干渉計光学部品から離間した測定対象物により反射される前記ビーム経路のうちの１つに沿ってビームを方向付けるように構成されている、装置。
ウェハ上に集積回路を製造する際に用いるリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するステージと、
前記ウェハ上に、空間的にパターン化した放射光を結像する照明システムと、
前記ステージの結像放射光に対する位置を調節する位置決めシステムと、
前記結像放射光に対する前記ウェハの位置を監視する請求項３１記載の装置と、
を備える、システム。
ウェハ上に集積回路を製造する際に用いるリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するステージと、
放射光源と、マスクと、位置決めシステムと、レンズ・アセンブリと、請求項３１記載の装置とを含む照明システムと、
を備え、
動作の間、前記光源は、前記マスクを通過するように光を射出して空間的にパターン化された放射光を生成し、前記位置決めシステムは、前記光源からの放射光に対する前記マスクの位置を調節し、前記レンズ・アセンブリは、前記ウェハ上に、前記空間的にパターン化された放射光を結像し、前記装置は、前記光源からの放射光に対する前記マスクの位置を監視する、リソグラフィ・システム。
リソグラフィ・マスクを製造する際に用いるビーム書き込みシステムであって、
基板をパターニングする書き込みビームを供給する光源と、
前記基板を支持するステージと、
前記書き込みビームを前記基板へ導くビーム誘導アセンブリと、
前記ステージおよびビーム誘導アセンブリを互いに対して位置決めする位置決めシステムと、
前記ビーム誘導アセンブリに対する前記ステージの位置を監視する請求項３１記載の装置と、
を備える、システム。
ウェハ上に集積回路を製造する際に用いるリソグラフィ方法であって、
可動ステージ上に前記ウェハを支持すること、
空間的にパターン化した放射光を前記ウェハ上に結像すること、
前記ステージの位置を調節すること、
請求項２６記載の方法を用いて、前記ステージの位置を監視すること、
を備える、方法。
集積回路の製造に用いるリソグラフィ方法であって、
マスクを通過するように入力放射光を方向付けて、空間的にパターン化した放射光を生成すること、
前記入力放射光に対してマスクを位置決めすること、
請求項２６記載の方法を用いて、前記入力放射光に対する前記マスクの位置を監視すること、
前記空間的にパターン化した放射光をウェハ上に結像すること、
を備える、方法。
ウェハ上に集積回路を製造するリソグラフィ方法であって、
リソグラフィ・システムの第１構成要素を、リソグラフィ・システムの第２構成要素に対して位置決めして、空間的にパターン化した放射光で前記ウェハを露光すること、
請求項２６記載の方法を用いて、前記第１構成要素の前記第２構成要素に対する位置を監視すること、
を備える、方法。
集積回路の製造方法であって、
ウェハにレジストを塗布すること、
請求項３６記載のリソグラフィ方法を用いて、放射光で前記ウェハを露光することにより、前記レジストにおけるマスク・パターンを形成すること、
前記ウェハから集積回路を生産すること、
を備える、方法。
集積回路の製造方法であって、
ウェハにレジストを塗布すること、
請求項３７記載のリソグラフィ方法を用いて、放射光で前記ウェハを露光することにより、前記レジストにおけるマスク・パターンを形成すること、
前記ウェハから集積回路を生産すること、
を備える、方法。
集積回路の製造方法であって、
ウェハにレジストを塗布すること、
請求項３８記載のリソグラフィ方法を用いて、放射光で前記ウェハを露光することにより、前記レジストにおけるマスク・パターンを形成すること、
前記ウェハから集積回路を生産すること、
を備える、方法。
リソグラフィ・マスクの製造方法であって、
書き込みビームを基板へと方向付けて、前記基板にパターニングを行うこと、
前記書き込みビームに対して前記基板を位置決めすること、
請求項２６記載の干渉方法を用いて、前記書き込みビームに対する前記基板の位置を監視すること、
を備える、方法。