JP2005509875A - 非球面表面および波面の走査干渉計 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、概して、干渉法に関し、特に、絶対的な方法で非球面および波面の高精度の測定に関する。
非球面は、最近の光学系において益々重要になってきた。なぜなら、これらは、システムを簡素化する一方で、性能を最適化するためのより多くのパラメータを提供するからである。これにより、システムが、(少しだけ挙げると)より少ない面、より少ない重量、より小さい寸法、および、より高レベルの補正をともなうようになり得る。これは、特に、天体望遠鏡、または可能な限り小さい数を保持することが必須であるリソグラフィツールに用いられる13.6nmのEUV波長用の法線入射反射面におけるように、光学面が多いことが実用的でない分野に当てはまる。このような場合、非球面を用いる他に選択肢がない。EUV方式で動作する完全なシステムには質の高い性能が要求されるので、このようなシステム内の表面に反射する表面誤差は、0.1nm未満に保たれなければならず、およびこのような誤差の正度および精度は、決定論的な態様で、表面を生成することができるように、より高度でなくてはならない。さらに、193nmおよび157nmの波長で動作する多素子のリソグラフィレンズにおけるレンズ面は、稀で高価な作られる素子の数を少なくするために非球面に作られる。これらの場合、ベストフィット(best fitting)球面からのずれは、1000μmの大きさであり得、このようなレンズ面の寸法は、ほぼ500mmに増大した。
本発明による非球状表面および波面を計測する方法および装置のある局面では、非球状表面が、中心および放射線上の「領域」におけるいくつかの位置でのみ表面の形状に整合する波面により照射される。これらの位置では、表面は、照射する波面と同一の傾きを有する、すなわち、光線が、法線方向入射で非球状表面に当たり、自動コリメーションによって反射して戻される。これは、計測データ点が法線方向入射の時点でサンプリングされるこれらの位置でのみ存在する。
好ましい実施形態は、関連したアルゴリズムとともに、ここでより詳細に記載される。ここで、本発明の簡単な実施形態を示す図1を参照されたい。コヒーレント光源1からの光は、レンズ2によってアパーチャ3の中に入ることによってフォーカスされて、ビームスプリッタ4に当たる。アパーチャ3は、コリメータレンズ5の焦点面に配置され、従って、平面波がコリメーティングレンズ5から現れる。この平面波は、スリット開口6に当たり、金属片の状態になるか、または、ガラスプレート上に蒸着し得る。図1において、スリット開口6は、光線を光学軸上に通過させ、この光線を光学軸の下でブロックするが、光学軸の特定の領域は、常にあいており、例えば、スリット開口6は、正確に光学軸にて終端しない(図2のスリット6aを参照)。
h=h(v,p,p’); z=z(ν,p,p’)
である。
h2+(R0+ν−z)2−(R0+ν−p)2=0 (1)
と書かれ得る(図3参照)。
h2+(R0+ν+dν−z)2−(R0+ν+dν−p−dp)2=0 (2)
である。
・屈折ヌルレンズまたは回折CGHをテストする(すなわち、ヌルレンズの最後のアプリケーションで補正修正マトリクスとして利用される波面エラーを検出する)。
・非球状表面をテストする。
・演繹的に既知の球状表面の支援により、テストセットアップを較正する。この可能性は、以下により詳細に示される。
・Carl A. Zanoniにより「METHOD FOR MEASURING ASPHERICAL OPTICAL SURFACES」と称する2001年6月20日に出願された米国仮特許出願第60/229,512号に記載されるか、またはこれらの出願に記載されるタスクに必要とされ、かつ、Carl A. Zanoniにより「APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING ASPHERICAL OPTICAL SURFACESAND WAVEFRONTS」と称する2002年5月21日に出願された米国特許出願第10/152,075号において後に変更されたように、屈折ヌルレンズを制限する。
・異なる構成の透過におけるレンズをテストする。
(R0+ν+dν−p−dp)2=h2+(R0+ν+dν−z)2 (7e)
座標hおよびzを計算するために、式(7d)および(7e)をこれらの量に対して解かなければならない。
p’=1−cosα (10c)
または、
cosα=1−p’ (10d)
z(ν,p(ν))=p(ν)+(R0+ν−p(ν))・p’(ν) (9a’)
ds=Re・dξ (11d)
によって与えられる。
・非球体の頂点SAでは、
Claims (26)
- 非球状表面を有する回転および非回転対称性テストオプティクスを計測する走査方法であって、該方法は、
走査軸に沿って既知の原点から、該既知の原点の上流の該走査軸に沿って位置付けられた球面状基準面の利用により、少なくとも部分的な球面状波面を発生させるステップと、
該走査軸についてテストオプティクスを整列させ、該既知の原点に対して該走査軸に沿って該テストオプティクスを選択的に移動させるステップであって、これにより、該球状波面は、該非球状表面の頂点、ならびに、該球状波面および該非球状表面が共通接線の点で交差する1つ以上の放射線上の位置とで該テストオプティクスと交差し、該テストオプティクスの中心と該1つ以上の放射線上の位置との間の光路長の差についての位相情報を含むインターフェログラムを発生させる、ステップと、
該インターフェログラムを検出器上にイメージングし、該位相情報を搬送する電子信号を提供するステップと、
干渉により、該テストオプティクスが該原点について移動する軸方向の距離νを計測し、該電子信号に含まれる該位相差に基づいて、該テストオプティクスの中心と該1つ以上の放射線上の位置との間の光路長差pを計算するステップであって、該軸方向の距離νは、
該曲率円が、共通の接線の点で、該非球状表面と交差するすべての該非球状表面の座標zおよびhを、該干渉により計測された距離νおよび計算された光路長pと対応して計算するステップと、
該座標値および該光路長差に基づいて、該非球状表面の形を決定するステップと
を包含する、走査方法。 - 前記電子信号に含まれる前記位相情報が、位相シフト解析のステップにより、前記光路長差を決定するように抽出される、請求項1に記載の走査方法。
- 前記位相シフト解析のステップは、前記少なくとも部分的な球状波面を発生させるソースの波長を変調することによって達成される、請求項3に記載の走査方法。
- 前記検出器は、2次元CCDカメラを備える、請求項1に記載の走査方法。
- 前記球状基準球からの前記非球状表面の計測可能なずれは、意味のある空間的詳細を有する結果のフリンジを分解する前記CCDカメラの性能にしたがって変動する、請求項5に記載の走査方法。
- 前記非球状表面は、最大およそ20マイクロメーターのオーダーだけ前記球状基準面から離れる、請求項6に記載の走査方法。
- 前記CCDカメラは、テスト非球状表面の走査中に軸方向に移動して、最適のイメージング条件を維持する、請求項6に記載の走査方法。
- 位相の差を決定するために、Δcentre(r)およびΔz(r)の最小値が評価され、この最小値の位相の値の両方の差がとられる、請求項98に記載の走査方法。
- 前記最小値の近隣で前記計測された位相値を利用するステップをさらに包含する、請求項10に記載の走査方法。
- 式(A)および(B)からの前記位相差からpは、前記走査長vならびに前記hおよびzの値の関数として評価される、請求項10に記載の走査方法。
- 非球状表面を有する回転および非回転対称性テストオプティクスを計測する走査装置であって、該装置は、
走査軸に沿って既知の原点から、少なくとも部分的な球面状波面を発生させる手段であって、該発生手段は、該既知の原点の上流の該走査軸に沿って位置付けられた球面状基準面を含む、手段と、
該走査軸についてテストオプティクスを整列させ、該既知の原点に対して該走査軸に沿って該テストオプティクスを選択的に移動させる手段であって、これにより、該球状波面は、該非球状表面の頂点、ならびに、該球状波面および該非球状表面が共通接線の点で交差する1つ以上の放射線上の位置とで該テストオプティクスと交差し、該テストオプティクスの中心と該1つ以上の放射線上の位置との間の光路長の差についての位相情報を含むインターフェログラムを発生させる、手段と、
エリア検出器と、
該位相情報を搬送する電子信号を提供するように、該インターフェログラムを該エリア検出器上にイメージングする手段と、
干渉により、該テストオプティクスが該原点について移動する軸方向の距離νを計測し、該電子信号に含まれる該位相差に基づいて、該テストオプティクスの中心と該1つ以上の放射線状の位置との間の光路長差pを計算する手段であって、該軸方向の距離νは、
該曲率円が、共通の接線の点で、該非球状表面と交差するすべての該非球状表面の座標zおよびhを、該干渉により計測された距離νおよび計算された光路長pと対応して計算し、該座標値および該光路長差に基づいて、該非球状表面の形を決定する手段と
を備える、走査装置。 - 前記計算および決定手段は、前記電子信号に含まれる前記位相情報を抽出し、前記光路長差を位相シフト解析により決定するように構造化される、請求項14に記載の走査方法。
- 前記少なくとも部分的な球状波面を発生させるソースの波長を変調し、前記位相シフト解析手段を達成する手段をさらに備える、請求項16に記載の走査装置。
- 前記エリア検出器は、2次元CCDカメラを備える、請求項14に記載の走査装置。
- 前記球状基準球からの前記非球状表面の計測可能なずれは、意味のある空間的詳細を有する結果のフリンジを分解する前記CCDカメラの性能にしたがって変動する、請求項18に記載の走査装置。
- 前記非球状表面は、最大およそ20マイクロメーターのオーダーだけ前記球状基準面から離れる、請求項19に記載の走査装置。
- 前記CCDカメラをテスト非球状表面の走査中に軸方向に移動して、最適のイメージング条件を維持する、請求項19に記載の走査装置。
- 前期計算および決定手段は、Δcentre(r)およびΔz(r)の最小値を評価することによって位相の差を決定し、この最小値の位相の値の両方の差がとられる、請求項22に記載の走査装置。
- 前記計算および決定手段は、さらに、前記最小値の近隣で前記計測された位相値を利用するように動作可能である、請求項23に記載の走査装置。
- 式(A)および(B)からの前記位相差pは、前記走査長vならびに前記hおよびzの値の関数として評価される、請求項23に記載の走査装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010145184A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
JP2015519547A (ja) * | 2012-04-16 | 2015-07-09 | ライカ・ジオシステムズ・アクチェンゲゼルシャフトLeica Geosystems Ag | 電気光学距離測定装置 |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8668735B2 (en) | 2000-09-12 | 2014-03-11 | Revision Optics, Inc. | Corneal implant storage and delivery devices |
US6972849B2 (en) * | 2001-07-09 | 2005-12-06 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
WO2003044456A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-30 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
US7218403B2 (en) * | 2002-06-26 | 2007-05-15 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
JP4062606B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2008-03-19 | フジノン株式会社 | 低可干渉測定/高可干渉測定共用干渉計装置およびその測定方法 |
GB2404014B (en) * | 2003-07-18 | 2006-06-28 | Taylor Hobson Ltd | Surface profiling method and apparatus |
JP4963231B2 (ja) | 2003-10-20 | 2012-06-27 | ザイゴ コーポレイション | 再構成可能干渉計システム |
WO2005060677A2 (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Zygo Corporation | Interferometric microscopy using reflective optics for complex surface shapes |
GB0402941D0 (en) * | 2004-02-11 | 2004-03-17 | Qinetiq Ltd | Surface shape measurement |
US10835371B2 (en) | 2004-04-30 | 2020-11-17 | Rvo 2.0, Inc. | Small diameter corneal inlay methods |
US7776086B2 (en) * | 2004-04-30 | 2010-08-17 | Revision Optics, Inc. | Aspherical corneal implant |
US8057541B2 (en) | 2006-02-24 | 2011-11-15 | Revision Optics, Inc. | Method of using small diameter intracorneal inlays to treat visual impairment |
US8900296B2 (en) | 2007-04-20 | 2014-12-02 | Revision Optics, Inc. | Corneal inlay design and methods of correcting vision |
US7405830B2 (en) * | 2004-08-20 | 2008-07-29 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology (Kaist) | Vibration-insensitive interferometer |
US7405833B2 (en) * | 2004-11-05 | 2008-07-29 | Zygo Corporation | Method for calibration and removal of wavefront errors |
US7522292B2 (en) | 2005-03-11 | 2009-04-21 | Carl Zeiss Smt Ag | System and method for determining a shape of a surface of an object and method of manufacturing an object having a surface of a predetermined shape |
US20070129797A1 (en) * | 2005-12-01 | 2007-06-07 | Revision Optics, Inc. | Intracorneal inlays |
US8018602B1 (en) | 2006-01-13 | 2011-09-13 | Applied Science Innovations, Inc. | Metrology of optics with high aberrations |
US8743373B1 (en) | 2006-01-13 | 2014-06-03 | Applied Science Innovations, Inc. | Metrology of optics with high aberrations |
US7545511B1 (en) | 2006-01-13 | 2009-06-09 | Applied Science Innovations, Inc. | Transmitted wavefront metrology of optics with high aberrations |
US10555805B2 (en) | 2006-02-24 | 2020-02-11 | Rvo 2.0, Inc. | Anterior corneal shapes and methods of providing the shapes |
DE102006035022A1 (de) | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen einer optischen Komponente, Interferometeranordnung und Beugungsgitter |
US7612893B2 (en) * | 2006-09-19 | 2009-11-03 | Zygo Corporation | Scanning interferometric methods and apparatus for measuring aspheric surfaces and wavefronts |
DE102006057606B4 (de) * | 2006-11-24 | 2008-12-11 | Universität Stuttgart | Verfahren und Messvorrichtung zur Vermessung einer optisch glatten Oberfläche |
US9549848B2 (en) | 2007-03-28 | 2017-01-24 | Revision Optics, Inc. | Corneal implant inserters and methods of use |
US9271828B2 (en) | 2007-03-28 | 2016-03-01 | Revision Optics, Inc. | Corneal implant retaining devices and methods of use |
US8162953B2 (en) | 2007-03-28 | 2012-04-24 | Revision Optics, Inc. | Insertion system for corneal implants |
WO2009006919A1 (en) | 2007-07-09 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape |
US9539143B2 (en) | 2008-04-04 | 2017-01-10 | Revision Optics, Inc. | Methods of correcting vision |
US8469948B2 (en) | 2010-08-23 | 2013-06-25 | Revision Optics, Inc. | Methods and devices for forming corneal channels |
AU2012325705B2 (en) | 2011-10-21 | 2017-07-20 | Revision Optics, Inc. | Corneal implant storage and delivery devices |
JP6000578B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2016-09-28 | キヤノン株式会社 | 非球面計測方法、非球面計測装置、光学素子加工装置および光学素子の製造方法 |
JP6000577B2 (ja) | 2012-03-09 | 2016-09-28 | キヤノン株式会社 | 非球面計測方法、非球面計測装置、光学素子加工装置および光学素子の製造方法 |
EP2926082B1 (en) * | 2012-11-30 | 2018-02-21 | QED Technologies International, Inc. | Integrated wavefront sensor and profilometer |
US9435640B2 (en) | 2013-12-04 | 2016-09-06 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring non-rotationally symmetric surface topography having unequal curvatures in two perpendicular principal meridians |
WO2016016675A1 (en) * | 2014-07-29 | 2016-02-04 | Umm Al-Qura University | Oled multi-use intelligent curtain and method |
WO2016144404A1 (en) | 2015-03-12 | 2016-09-15 | Revision Optics, Inc. | Methods of correcting vision |
CN106813594B (zh) * | 2017-01-03 | 2019-02-01 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 大口径掠入射反射聚焦镜高精度面形检测方法 |
CN109448081B (zh) * | 2018-11-16 | 2023-04-14 | 武汉华工图像技术开发有限公司 | 无点阵全息曲线光栅计算方法及装置 |
CN113091637B (zh) * | 2021-03-22 | 2022-06-28 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种超高精度平面镜全口径中频面形测量装置及方法 |
DE102022207884B4 (de) | 2022-07-29 | 2024-02-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung, Verfahren zur interferometrischen Vermessung, Bearbeitungsverfahren, optisches Element und Lithografiesystem |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4697927A (en) * | 1985-11-29 | 1987-10-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for measuring a forming error of an object |
DE3836564A1 (de) * | 1988-10-27 | 1990-05-03 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zur pruefung von optischen elementen |
US5187539A (en) * | 1991-09-23 | 1993-02-16 | Rockwell International Corporation | Mirror surface characteristic testing |
US5416586A (en) * | 1993-10-15 | 1995-05-16 | Tropel Corporation | Method of testing aspherical optical surfaces with an interferometer |
US5548403A (en) * | 1994-11-28 | 1996-08-20 | The Regents Of The University Of California | Phase shifting diffraction interferometer |
US5625454A (en) * | 1995-05-24 | 1997-04-29 | Industrial Technology Research Institute | Interferometric method for optically testing an object with an aspherical surface |
US5844670A (en) * | 1995-07-28 | 1998-12-01 | Ricoh Co., Ltd. | Method of and systems for measuring eccentricity of an aspherical lens surface |
WO1999052004A1 (fr) * | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
US6312373B1 (en) * | 1998-09-22 | 2001-11-06 | Nikon Corporation | Method of manufacturing an optical system |
US6222621B1 (en) * | 1998-10-12 | 2001-04-24 | Hoyo Corporation | Spectacle lens evaluation method and evaluation device |
US6781700B2 (en) * | 2001-06-20 | 2004-08-24 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
WO2003021184A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Zygo Corporation | Rapid in-situ mastering of an aspheric fizeau |
WO2003044456A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-30 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
-
2002
- 2002-11-15 WO PCT/US2002/036733 patent/WO2003044456A1/en active Application Filing
- 2002-11-15 EP EP02789681A patent/EP1444482B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-11-15 US US10/295,479 patent/US6879402B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-11-15 JP JP2003546042A patent/JP4312602B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-11-15 DE DE60236532T patent/DE60236532D1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010145184A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
JP2015519547A (ja) * | 2012-04-16 | 2015-07-09 | ライカ・ジオシステムズ・アクチェンゲゼルシャフトLeica Geosystems Ag | 電気光学距離測定装置 |
US9405007B2 (en) | 2012-04-16 | 2016-08-02 | Leica Geosystems Ag | Electro-optic distance-measuring device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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