JP2005505092A - 情報層中に染料を光吸収性化合物として含有する光学データ媒体 - Google Patents

Abstract

情報層中に光吸収性化合物としての染料を含有する光学データ媒体。場合によっては既に１つ以上の遮断層で被覆され、この遮断層の表面上には、光を用いて記録されうる情報層と場合によっては１つ以上の遮断層と放射線硬化された樹脂を含有する被覆層とが施こされている有利に透明な支持体を含み、情報層上に記録することができ、被覆層を通過するピント調節された青色光、有利に３６０ｎｍ〜４６０ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて情報層から読み取ることができ、情報層が光吸収性化合物を含有する光学データ媒体の場合に、少なくとも１つの染料が光吸収性化合物として使用されており、被覆層が１０μｍ〜１７７μｍの全厚を有し、設けられたピント調節する対物レンズの開口数ＮＡが０．８以上であることによって特徴付けられている。

Description

【技術分野】
【０００１】
技術分野
本発明は、情報層中に光吸収性化合物としての少なくとも１つの染料を含有し、全部の被覆層の定義された厚さを有し、定義された開口数を有するピント調節される光学的装置を用いて記録することができかつ読み取ることができる有利に追記型の光学データ媒体およびその製造法に関する。
【０００２】
特殊な光吸収性物質またはその混合物を用いる追記型の光学データ媒体は、殊に青色レーザーダイオード、殊にＧａＮまたはＳＨＧレーザーダイオード（３６０〜４６０ｎｍ）で操作される高密度で記録可能な光学データ媒体の場合への使用および／または赤色レーザーダイオード（６３５〜６６０ｎｍ）または赤外（７６０〜８３０ｎｍ）レーザーダイオードで操作されるＤＶＤ−ＲまたはＣＤ−Ｒディスクの場合への使用に適しており、回転塗布、蒸着またはスパッタリングにより、例えばポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリオレフィンから形成されたポリマー支持体に上記染料が塗布されている。
【０００３】
追記型のコンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ、７８０ｎｍ）は、最近、大量に増産されており、工業的に確立されたシステムである。
【０００４】
最近、光学データ記憶装置の次世代−ＤＶＤ−が市場で売り出された。短波長レーザー照射（６３５〜６６０ｎｍ）および高い開口数ＮＡを使用することによって、記憶装置の密度は、増加させることができる。この場合、追記型にフォーマットされたものは、ＤＶＤ−Ｒである。
【０００５】
高いレーザー出力を有する赤色レーザーダイオード（ＧａＮをベースとした、特開平８−１９１１７１号公報またはSecond Harmonic Generation SHG 特開平９−０５０６２９号公報）（３６０ｎｍ〜４６０ｎｍ）を使用する光学データ記憶装置のフォーマットは、現在開発されている。それ故、記録可能型の光学データ記憶装置もこの世代においては使用されている。記録可能型の記憶装置の密度は、情報平面内のレーザースポットのピント調節に依存する。スポットサイズは、レーザー波長λ／ＮＡに応じて決められる。ＮＡは、使用されたレンズの開口数である。記憶装置のできるだけ密度を得るために、できるだけ短い波長λの使用が望ましい。現在、半導体レーザーダイオードをベースに３９０ｎｍが可能である。
【０００６】
特許刊行物には、染料をベースとしかつＣＤ−ＲシステムおよびＤＶＤ−Ｒシステムにまさに適した記録可能型の光学データ記憶装置が記載されている（特開平１１−０４３４８１号公報および特開平１０−１８１２０６号公報）。それ故、高い反射率および信号を読み取る高い変調振幅ならびに記録の間の十分に高い感度に関連して、ＣＤ−ＲのＩＲ波長７８０ｎｍは、染料の吸収ピークの長波長の側面の脚部にあり、ＤＶＤ−Ｒの赤色波長６３５ｎｍまたは６５０ｎｍも染料の吸収ピークの長波長の側面の脚部にあるという事実が使用される。この概念は、吸収ピークの短波長の側面上に４５０ｎｍの動作波長の範囲が含まれることに拡大されている。
【０００７】
上記の光学特性以外に、光吸収性有機物質を有する記録可能な情報層は、記録および読取りの間に騒音信号を最少にするために、できるだけ無定形である形態を有していなければならない。この目的のために、溶液からの回転塗布、スパッタリングまたは蒸着および／または昇華による物質の塗布の間、光吸収性物質の結晶化は阻止され、その後の真空中での金属層または誘電性層での上塗りの間も阻止されるとすれば、特に好ましい。
【０００８】
光吸収性物質の無定形層は、有利に高い加熱歪み抵抗を有している。それというのも、さもなければ、スパッタリングまたは蒸着によって光吸収性情報層に塗布される有機材料または無機材料の他の層は、拡散によって不良と定義されるインターフェースを形成することになり、こうして反射率に不利な影響を及ぼす。付加的に、ポリマー支持体を有するインターフェースで低すぎる加熱歪み抵抗を有する光吸収性物質は、ポリマー支持体中に拡散する可能性があり、もう一度、反射率に不利な影響を及ぼす。
【０００９】
光吸収性物質が高すぎる蒸気圧を有する場合には、この光吸収性物質は、高い真空中で他の層の上記のスパッタリングまたは蒸着の間に昇華する可能性があり、それ故に、望ましい層厚を減少させる。これもまた、反射率に対して不利な効果をまねく。
【００１０】
できるだけ高い面密度を達成させる目的で対物レンズとして高いＮＡレンズを有する場合には、情報層にピント合わせをした際に読取りビームが透過する透過層、即ち支持体または被覆層の厚さは、斜め縁部を制限するであろう。ＣＤおよびＤＶＤの対物レンズのＮＡは、それぞれ０．４５および０．６０であり、支持体の厚さは、それぞれ１．２ｍｍおよび０．６ｍｍとして選択され、大量生産による光ドライブに十分な斜め縁部を保証する。被覆層の厚さは、大量生産にとって著しく重要なことである。それというのも、生産方法は、常用の媒体とは全く異なり、したがって媒体の記録／読取り性能は、このように新たに設計された媒体にとって最適化されていなければならないからである。このような薄手の層は、簡単に湾曲するであろうし、したがって情報層を直接に被覆層上に被覆するには、不適当であるので、情報層および保護層は、被覆層が支持体上に固定される前に、厚手の支持体上に形成されるであろう。ＣＤ−ＲおよびＤＶＤ−Ｒは、保護層の目的のため、ならびに記録特性を改善するのに十分な硬さを有する情報層を被覆するためにＵＶ樹脂硬質カバーを利用する（特開平２−８３４４２０号公報）。
【００１１】
従って、本発明の目的は、追記型の光学データ媒体中の情報層中への使用のため、殊に３６０〜４６０ｎｍのレーザー波長範囲で高密度で記録可能な光学データ記憶装置のフォーマットのために高度な要件（例えば、光安定性、有利な騒音／信号比、支持体材料に対して損傷のない塗布等）に適合する適当な化合物を提供することである。
【００１２】
意外なことに、ＮＡを伴って被覆層の厚さの特殊なパラメーターを組み合わせて染料から構成されている群からの光吸収性化合物、好ましくはフタロシアニン染料は、上記の要件プロフィールを特に十分に満たしうることが見出された。殊に、フタロシアニンは、レーザーにとって重要な３６０〜４６０ｎｍの波長範囲内、即ちＢ帯またはソーレー帯で強力な吸収を有する。
【００１３】
それ故、本発明は、場合によっては既に１つ以上の遮断層で被覆され、この遮断層の表面上には、光を用いて記録されうる情報層と場合によっては１つ以上の遮断層と放射線硬化される樹脂を含有する被覆層とが施こされている有利に透明な支持体を含み、情報層上に記録することができ、被覆層を通過するピント調節された青色光、好ましくはレーザー光、特に好ましくは３６０ｎｍ〜４６０ｎｍ、殊に３８０〜４４０ｎｍ、殊に好ましくは３９５〜４１５ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて情報層から読み取ることができ、情報層が光吸収性化合物および場合によっては結合剤を含有する光学データ媒体に関し、この場合には、少なくとも１つの染料が光吸収性化合物として使用されており、被覆層が１０μｍ〜１７７μｍの全厚を有し、設けられたピント調節する対物レンズの開口数ＮＡが０．８以上、好ましくは０．８０〜０．９５であることによって特徴付けられている。
【００１４】
好ましいのは、光吸収性化合物としてのメロシアニンであり、式
【００１５】
【化１】

で示される化合物が最も好ましく、上記式中、
Ａは、式
【００１６】
【化２】

で示される基を表わし、
Ｘ^１は、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１、ＣＯＯ−Ｒ^２、ＣＯＮＨＲ^３またはＣＯＮＲ^３Ｒ^４を表わし、
Ｘ^２は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリール、５員または６員の複素環式基、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１、ＣＯＯ−Ｒ^２、ＣＯＮＨＲ^３またはＣＯＮＲ^３Ｒ^４を表わし、
ＣＸ^１Ｘ^２は、非イオン基またはイオン基によってベンゾ融合されていてもよいかまたはナフサ融合されていてもよく、および／または、非イオン基またはイオン基によって置換されていてもよい、式
【００１７】
【化３】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ｘ^３は、ＮまたはＣＨを表わし、
Ｘ^４は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｎ−Ｒ^６またはＣＨを表わし、Ｘ^３およびＸ^４は、同時にはＣＨを表わさず、
Ｘ^５は、Ｏ、ＳまたはＮ−Ｒ^６を表わし、
Ｘ^６は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｎ−Ｒ^６またはＣＨまたはＣＨ_２を表わし、
式（ＩＩ）
【００１８】
【化４】

で示される環Ｂは、Ｘ^４、Ｘ^３およびその間を結合したＣ原子と一緒になって、ならびに式（Ｖ）
【００１９】
【化５】

で示される環Ｃは、Ｘ^５、Ｘ^６およびその間を結合したＣ原子と一緒になって、互いに独立に１〜４個のヘテロ原子を含有することができおよび／または非イオン基またはイオン基によってベンゾ融合されていてよいかまたはナフサ融合されていてよく、および／または非イオン基またはイオン基によって置換されていてよい５または６員の芳香族複素環または準芳香族複素環を表わし、
Ｙ^１は、ＮまたはＣ−Ｒ^７を表わし、
Ｙ^２は、ＮまたはＣ−Ｒ^８を表わし、
Ｒ^１〜Ｒ^６は、互いに独立に水素、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_３〜Ｃ_６−アルケニル、Ｃ_５〜Ｃ_７−シクロアルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１５−アラルキルを表わし、
Ｒ^７およびＲ^８は、互いに独立に水素、シアノまたはＣ_１〜Ｃ_６−アルキルを表わし、
Ｒ^９およびＲ^１０は、互いに独立にＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１５−アラルキルを表わすかまたは
ＮＲ^９Ｒ^１０は、５または６員の飽和ヘテロ環を表わす。
【００２０】
また、基Ｒ^１〜Ｒ^１０の少なくとも１個または非イオン基の少なくとも１個が橋を表わすような式（Ｉ）のオリゴマーおよびポリマーのメロシアニン染料は、好ましい。この橋は、２つ以上のメロシアニン染料を結合させることができ、オリゴマーまたはポリマーを形成させる。しかし、ポリマー鎖に対する橋を表わすこともできる。この場合には、メロシアニン染料は、櫛状でこのような鎖に結合されている。
【００２１】
適当な橋は、例えば式−（ＣＨ_２）_ｎ−または−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｚ−（ＣＨ_２）_ｐ−で示される橋であり、上記式中、
ｎは、互いに独立に１〜２０の整数を表わし、
Ｚは、−Ｏ−または−Ｃ_６Ｈ_４−を表わす。
【００２２】
重合体鎖は、例えばポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリシロキサン、ポリ−α−オキシラン、ポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレンまたはポリマレイン酸である。
【００２３】
適当な非イオン基は、例えばＣ_１〜Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシカルボニル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキルチオ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、モノ−Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキルアミノまたはジ−Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノまたはモルホリノである。
【００２４】
適当なイオン基は、例えばアンモニウム基であるかまたは直接結合またはｎが１〜６を表わすような−（ＣＨ_２）_ｎ−を介して結合しうるＣＯＯ⁻−またはＳＯ_３ ⁻−基である。
【００２５】
アルキル基、アルコキシ基、アリール基および複素環式基は、場合によっては他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯ−ＮＨ2、アルコキシ、トリアルキルシリル、トリアルキルシロキシまたはフェニルを有していてよく、アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖状または分枝鎖状であってよく、アルキル基は、部分的にハロゲン化または過ハロゲン化されていてよく、アルキル基およびアルコキシ基は、エトキシル化されていてよいし、プロポキシル化されていてよいし、シリル化されていてよく、アリール基または複素環式基上で隣接したアルキル基および／またはアルコキシ基は、一緒になって３員または４員の橋を形成することができ、複素環式基は、ベンゾ融合されていてよいしおよび／または四級化されていてよい。
【００２６】
特に好ましくは、
式（ＩＩ）の環Ｂは、フラン−２−イル、チオフェン−２−イル、ピロール−２−イル、ベンゾフラン−２−イル、ベンゾチオフェン−２−イル、チアゾール−５−イル、イミダゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジルまたは４−ピリジル、２−キノリルまたは４−キノリルを表わし、この場合個々の環は、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシ、弗素、塩素、臭素、沃素、シアノ、ニトロ、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシカルボニル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルチオ、Ｃ_１〜Ｃ_６−アシルアミノ、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールオキシ、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールカルボニルアミノ、モノ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルアミノまたはジ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルアミノ、Ｎ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル−Ｎ−Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールアミノ、ピロリジノ、モルホリノまたはピペリジノによって置換されていてよく、
式（Ｖ）の環Ｃは、ベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イソキサゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、ピラゾール−５−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−オキサジアゾール−２−イリデン、１，２，４−チアジアゾール−５−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、３Ｈ−インドール−２−イリデン、ジヒドロピリジン−２−イリデンまたはジヒドロピリジン−４−イリデン、またはジヒドロキノリン−２−イリデンまたはジヒドロキノリン−４−イリデンを表わし、この場合個々の環は、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシ、弗素、塩素、臭素、沃素、シアノ、ニトロ、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシカルボニル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルチオ、Ｃ_１〜Ｃ_６−アシルアミノ、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールオキシ、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールカルボニルアミノ、モノ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルアミノまたはジ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルアミノ、Ｎ−Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル−Ｎ−Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールアミノ、ピロリジノ、モルホリノまたはピペリジノによって置換されていてよい。
【００２７】
特に好ましい形で使用されるメロシアニンは、式（ＶＩ）
【００２８】
【化６】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１は、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わし、
Ｘ^２は、水素、メチル、エチル、フェニル、２−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾキサゾール−２−イル、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わすか、または
ＣＸ^１Ｘ^２は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェニル、
【００２９】
【化７】

を有する群からの３個までの基によって置換されていてよい、式
【００３０】
【化８】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ｘ^３は、ＣＨを表わし、
Ｘ^４は、Ｏ、ＳまたはＮ−Ｒ^６を表わし、
式（ＩＩ）の環Ｂは、フラン−２−イル、チオフェン−２−イル、ピロール−２−イルまたはチアゾール−５−イルを表わし、この場合上記の環は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、ピロリジノまたはモルホリノによって置換されていてよく、
Ｙ^１は、ＮまたはＣ−Ｒ^７を表わし、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立に水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニルまたはベンジルを表わし、
Ｒ^５は、付加的に−（ＣＨ_２）_３−Ｎ（ＣＨ_３）_２または−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_２Ａｎ⁻を表わし、
Ｒ^７は、水素またはシアノを表わす。
【００３１】
また、１つの形で特に好ましく使用されるメロシアニンは、式（ＶＩＩ）
【００３２】
【化９】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１は、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わし、
Ｘ^２は、水素、メチル、エチル、フェニル、２−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾキサゾール−２−イル、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わすか、または
ＣＸ^１Ｘ^２は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェニル、
【００３３】
【化１０】

を有する群からの３個までの基によって置換されていてよい、式
【００３４】
【化１１】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ｘ^５は、Ｎ−Ｒ^６を表わし、
Ｘ^６は、Ｓ、Ｎ−Ｒ^６またはＣＨ_２を表わし、
式（ＩＶ）の環Ｃは、ベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ジヒドロピリジン−４−イリデン、ジヒドロキノリン−４−イリデンまたは３Ｈ−インドール−２−イリデンを表わし、この場合上記の環は、それぞれメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、ピロリジノまたはモルホリノによって置換されていてよく、
Ｙ^２−Ｙ^１は、Ｎ−Ｎまたは（Ｃ−Ｒ^８）−（Ｃ−Ｒ^７）を表わし、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立に水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニルまたはベンジルを表わし、
Ｒ^５は、付加的に−（ＣＨ_２）_３−Ｎ（ＣＨ_３）_２または−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_２Ａｎ⁻を表わし、
Ｒ^７およびＲ^８は、水素を表わす。
【００３５】
また、特に好ましい形で使用されるメロシアニンは、式（ＶＩＩＩ）
【００３６】
【化１２】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１は、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わし、
Ｘ^２は、水素、メチル、エチル、フェニル、２−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾキサゾール−２−イル、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１またはＣＯＯ−Ｒ^２を表わすか、または
ＣＸ^１Ｘ^２は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェニル、
【００３７】
【化１３】

を有する群からの３個までの基によって置換されていてよい、式
【００３８】
【化１４】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
ＮＲ^９Ｒ^１０は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、ピロリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｙ^１は、ＮまたはＣ−Ｒ^７を表わし、
Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^５は、互いに独立に水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニルまたはベンジルを表わし、
Ｒ^５は、付加的に−（ＣＨ_２）_３−Ｎ（ＣＨ_３）_２または−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_２Ａｎ⁻を表わす。
【００３９】
適当なＡｎ⁻は、全ての１価陰イオンまたは多価陰イオンの１当量である。好ましい陰イオンは、無色である。適当な陰イオンは、例えば塩化物、臭化物、沃化物、テトラフルオロボレート、過塩素酸塩、ヘキサフルオロシリケート、ヘキサフルオロホスフェート、メトスルフェート、エトスルフェート、Ｃ_１〜Ｃ_１０−アルカンスルホネート、Ｃ_１〜Ｃ_１０−ペルフルオロアルカンスルホネート、場合によっては塩素、ヒドロキシルまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシによって置換されたＣ_１〜Ｃ_１０−アルカノエート、場合によってはニトロ、シアノ、ヒドロキシル、Ｃ_１〜Ｃ_２５−アルキル、ペルフルオロ−Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシカルボニルまたは塩素によって置換されたベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネートまたはビフェニルスルホネート、場合によってはニトロ、シアノ、ヒドロキシル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシカルボニルまたは塩素によって置換されたベンゼンジスルホネート、ナフタレンジスルホネートまたはビフェニルジスルホネート、場合によってはニトロ、シアノ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシカルボニル、ベンゾイル、クロロベンゾイルまたはトルオイルによって置換されたベンゾエート、ナフタレンジカルボン酸の陰イオン、ジフェニルエーテルジスルホネート、テトラフェニルボレート、シアノトリフェニルボレート、テトラ−Ｃ_１〜Ｃ_２０−アルコキシボレート、テトラフェノキシボレート、場合によってはＢ原子上および／またはＣ原子上で１または２個のＣ_１〜Ｃ_１２−アルキル基またはフェニル基によって置換された、７，８−ジカルバ−ニド−ウンデカボレート（１）または７，８−ジカルバ−ニド−ウンデカボレート（２）、または７，９−ジカルバ−ニド−ウンデカボレート（１）または７，９−ジカルバ−ニド−ウンデカボレート（２）、ドデカヒドロ−ジカルバドデカンボレート（２）またはＢ−Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル−Ｃ−フェニル−ドデカヒドロ−ジカルバドデカ−ボレート（１）である。
【００４０】
臭化物、沃化物、テトラフルオロボレート、過塩素酸塩、メタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネートおよびテトラデカンスルホネートは、好ましい。
【００４１】
適当なＭ^＋は、全ての１価陽イオンまたは多価陽イオンの１当量である。好ましい陽イオンは、無色である。適当な陽イオンは、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テチラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリメチルカプリルアンモニウムまたはＦｅ（Ｃ_５Ｈ_５）_２ ^＋（但し、Ｃ_５Ｈ_５＝シクロペンタジエニルであるものとする）である。
【００４２】
テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムおよびテチラブチルアンモニウムは、好ましい。
【００４３】
青色レーザー光によって書込まれかつ読取られる、本発明による好まし追記型の光学データキャリアについては、吸収最大λ_ｍａｘ２が４２０〜５５０ｎｍの範囲内にあるかかるメロシアニン染料が好ましく、この場合波長λ_ｍａｘ２の吸収最大の短波長の傾斜での吸光度がλ_ｍａｘ２での吸光度の値の半分である波長λ_１／２と波長λ_ｍａｘ２の吸収最大の短波長の傾斜での吸光度がλ_ｍａｘ２での吸光度の値の十分の一である波長λ_１／１０とは、それぞれ有利に互いに５０ｎｍ以下の差である。好ましくは、このようなメロシアニン染料は、３５０ｎｍ未満、特に有利に３２０ｎｍ未満、殊に好ましくは２９０ｎｍ未満の波長で短波長の最大λ_ｍａｘ１を示さない。
【００４４】
好ましいメロシアニン染料は、４１０〜５３０ｎｍの吸収最大λ_ｍａｘ２を有するメロシアニン染料である。
【００４５】
特に好ましいメロシアニン染料は、４２０〜５１０ｎｍの吸収最大λ_ｍａｘ２を有するメロシアニン染料である。
【００４６】
殊に好ましいメロシアニン染料は、４３０〜５００ｎｍの吸収最大λ_ｍａｘ２を有するメロシアニン染料である。
【００４７】
好ましくは、上記に定義されたようなλ_１／２とλ_１／１０とは、メロシアニン染料中で互いに４０ｎｍ以下、特に好ましくは３０ｎｍ以下、殊に好ましくは２０ｎｍ以下の差である。
【００４８】
メロシアニン染料は、吸収最大λ_ｍａｘ２で４００００ ｌ／ｍｏｌ ｃｍを上廻り、好ましくは６００００ ｌ／ｍｏｌ ｃｍを上廻り、特に好ましくは８００００ ｌ／ｍｏｌ ｃｍを上廻り、殊に好ましくは１０００００ ｌ／ｍｏｌ ｃｍを上廻るモル吸光係数εを有する。
【００４９】
吸収スペクトルは、例えば溶液中で測定される。
【００５０】
必要とされるスペクトル特性を有する適当なメロシアニンは、殊に双極子モーメント中での変化Δμ＝｜μ_ｇ − μ_ａｇ｜、即ち基底状態での双極子モーメントと第１の励起状態での双極子モーメントとの間の正の差ができるだけ小さく、好ましくは５Ｄ未満、特に好ましくは２Ｄ未満であるメロシアニンである。双極子モーメント中でのこのような変化Δμを測定する１つの方法は、例えばF. Wuerthner et al., Angew. Chem. 1997, 109, 2933およびその中で引用された刊行物中に記載されている。また、低いソルバトクロミズム（ジオキサン／ＤＭＦ）は、選択に対する適当な判断基準である。ソルバトクロミズムΔλ＝｜λ_ＤＭＦ − λ_{ｄｉｏｘａｎｅ}｜、即ち溶剤のジメチルホルムアミド中での吸収波長と溶剤のジオキサン中での吸収波長との間の正の差が２０ｎｍ、特に有利に１０ｎｍ未満、殊に有利に５ｎｍ未満であるメロシアニンは、好ましい。
【００５１】
本発明により特に好ましいメロシアニンは、式
【００５２】
【化１５】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０１は、ＯまたはＳを表わし、
Ｘ^１０２は、ＮまたはＣＲ^１０４を表わし、
Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、互いに独立にメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルを表わし、Ｒ^１０１は、付加的に水素を表わすか、または
ＮＲ^１０１Ｒ^１０２′は、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｒ^１０３は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニル、チエニル、塩素またはＮＲ^１０１Ｒ^１０２を表わし、
Ｒ^１０４は、水素、メチル、エチル、フェニル、塩素、シアノ、ホルミルまたは式
【００５３】
【化１６】

で示される基を表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００５４】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１０１を介して行なわれる。
【００５５】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００５６】
【化１７】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０１は、ＯまたはＳを表わし、
Ｘ^１０２は、ＮまたはＣＲ^１０４を表わし、
Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、互いに独立にメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルを表わし、Ｒ^１０１は、付加的に水素を表わすか、または
ＮＲ^１０１Ｒ^１０２′は、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｒ^１０３は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニル、チエニル、塩素またはＮＲ^１０１Ｒ^１０２を表わし、
Ｒ^１０４は、水素、メチル、エチル、フェニル、塩素、シアノ、ホルミルまたは式
【００５７】
【化１８】

で示される基を表わし、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
ＣＸ^１０３Ｘ^１０４は、式
【００５８】
【化１９】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ｒ^１０５は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニルまたは式
【００５９】
【化２０】

で示される基を表わし、その際、式（ＣＸ）の場合には、２個の基Ｒ^１０５は、異なっていてよく、
Ｒ^１０５は、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、−ＣＨ_２ＳＯ_３ ⁻Ｍ^＋または式
【００６０】
【化２１】

で示される基を表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００６１】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１０１またはＲ^１０５を介して行なわれる。
【００６２】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００６３】
【化２２】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０１は、ＯまたはＳを表わし、
Ｘ^１０２は、ＮまたはＣＲ^１０４を表わし、
Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、互いに独立にメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルを表わし、Ｒ^１０１は、付加的に水素を表わすか、または
ＮＲ^１０１Ｒ^１０２は、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｒ^１０３は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニル、チエニル、塩素またはＮＲ^１０１Ｒ^１０２を表わし、
Ｒ^１０４は、水素、メチル、エチル、フェニル、塩素、シアノ、ホルミルまたは式
【００６４】
【化２３】

で示される基を表わし、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
Ｘ^１０３は、シアノ、アセチル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、
Ｘ^１０４は、２−ピリジル、３−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、Ｎ−メチル−ベンズイミダゾール−２−イルまたはＮ−エチル−ベンズイミダゾール−２−イルを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってもよい。
【００６５】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｘ^１０３がエステル基を表わす場合には、Ｒ^１０１またはＸ^１０３を介して行なわれる。
【００６６】
好ましくは、式（ＣＩ）および（ＣＩＩＩ）のメロシアニンにおいて、
Ｒ^１０３は、水素、メチル、イソプロピル、第三ブチルまたはフェニルを表わし、
Ｒ^１０４は、水素またはシアノを表わす。
【００６７】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００６８】
【化２４】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０５は、ＳまたはＣＲ^１１０Ｒ^１１１を表わし、
Ｘ^１０８は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１０９は、水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、シアノ、塩素、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、Ｒ^１１０Ｒ^１１１は、互いに独立にメチルまたはエチルを表わすか、または
ＣＲ^１１０Ｒ^１１１は、式
【００６９】
【化２５】

で示される２価の基を表わし、上記式中、２個の結合は、アステリスク（＊）を有する原子から発出し、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００７０】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１０８を介して行なわれる。
【００７１】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００７２】
【化２６】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０５は、ＳまたはＣＲ^１１０Ｒ^１１１を表わし、
Ｘ^１０８は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１０９は、水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、シアノ、塩素、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、Ｒ^１１０Ｒ^１１１は、互いに独立にメチルまたはエチルを表わすか、または
ＣＲ^１１０Ｒ^１１１は、式
【００７３】
【化２７】

で示される２価の基を表わし、上記式中、２個の結合は、アステリスク（＊）を有する原子から発出し、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
ＣＸ^１０３Ｘ^１０４は、式
【００７４】
【化２８】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ｒ^１０５は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニルまたは式
【００７５】
【化２９】

で示される基を表わし、
Ｒ^１０６は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはトリフルオロメチルを表わし、
Ｒ^１０７は、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、−ＣＨ_２ＳＯ_３ ⁻Ｍ^＋または式
【００７６】
【化３０】

で示される基を表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００７７】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１０８またはＲ^１０５を介して行なわれる。
【００７８】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００７９】
【化３１】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｘ^１０５は、ＳまたはＣＲ^１１０Ｒ^１１１を表わし、
Ｘ^１０８は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１０９は、水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、シアノ、塩素、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、Ｒ^１１０およびＲ^１１１は、互いに独立にメチルまたはエチルを表わすか、または
ＣＲ^１１０Ｒ^１１１は、式
【００８０】
【化３２】

で示される２価の基を表わし、上記式中、２個の結合は、アステリスク（＊）を有する原子から発出し、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
Ｘ^１０３は、シアノ、アセチル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、
Ｘ^１０４は、２−ピリジル、３−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、Ｎ−メチル−ベンズイミダゾール−２−イルまたはＮ−エチル−ベンズイミダゾール−２−イル、好ましくは２−ピリジルを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってもよい。
【００８１】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｘ^１０３がエステル基を表わす場合には、Ｒ^１０８またはＸ^１０３を介して行なわれる。
【００８２】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００８３】
【化３３】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｒ^１１２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１１３およびＲ^１１４は、水素原子を表わすかまたは一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−橋を表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってもよい。
【００８４】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１１２を介して行なわれる。
【００８５】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００８６】
【化３４】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｒ^１１２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１１３およびＲ^１１４は、水素原子を表わすかまたは一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−橋を表わし、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
ＣＸ^１０３Ｘ^１０４は、式
【００８７】
【化３５】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ｒ^１０５は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニルまたは式
【００８８】
【化３６】

で示される基を表わし、
Ｒ^１０６は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはトリフルオロメチルを表わし、
Ｒ^１０７は、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、−ＣＨ_２ＳＯ_３ ⁻Ｍ^＋または式
【００８９】
【化３７】

で示される基を表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００９０】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１１２またはＲ^１０５を介して行なわれる。
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００９１】
【化３８】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｒ^１１２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェネチルを表わし、
Ｒ^１１３およびＲ^１１４は、水素原子を表わすかまたは一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−橋を表わし、
Ｙ^１０１は、ＮまたはＣＨを表わし、
Ｘ^１０３は、シアノ、アセチル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、
Ｘ^１０４は、２−ピリジル、３−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、Ｎ−メチル−ベンズイミダゾール−２−イルまたはＮ−エチル−ベンズイミダゾール−２−イルを表わし、この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってもよい。
【００９２】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｘ^１０３がエステル基を表わす場合には、Ｒ^１１２またはＸ^１０３を介して行なわれる。
【００９３】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【００９４】
【化３９】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｒ^１１５およびＲ^１１６は、互いに独立にメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、フェニル、ベンジルまたはフェネチルを表わすか、または
ＮＲ^１１５Ｒ^１１６は、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
ＣＸ^１０３Ｘ^１０４は、式
【００９５】
【化４０】

で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
Ｒ^１０５は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、ヒドロキシエチル、アセトキシエチル、クロロエチル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、メトキシフェニルまたは式
【００９６】
【化４１】

で示される基を表わし、
Ｒ^１０６は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはトリフルオロメチルを表わし、
Ｒ^１０７は、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、−ＣＨ_２ＳＯ_３ ⁻Ｍ^＋または式
【００９７】
【化４２】

で示される基を表わし、
Ｍ^＋は、陽イオンを表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオンを表わし、
この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってよい。
【００９８】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｒ^１１５またはＲ^１０５を介して行なわれる。
【００９９】
また、本発明により殊に好ましいメロシアニンは、式
【０１００】
【化４３】

で示されるメロシアニンであり、上記式中、
Ｒ^１１５およびＲ^１１６は、互いに独立にメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、フェニル、ベンジルまたはフェネチルを表わすか、または
ＮＲ^１１５Ｒ^１１６は、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｘ^１０３は、シアノ、アセチル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表わし、
Ｘ^１０４は、２−ピリジル、３−ピリジルまたは４−ピリジル、チアゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、Ｎ−メチル−ベンズイミダゾール−２−イルまたはＮ−エチル−ベンズイミダゾール−２−イル、好ましくは２−ピリジルを表わし、
この場合アルキル基、例えばプロピル、ブチル等は、分枝鎖状であってもよい。
【０１０１】
オリゴマーまたはポリマーの構造のための橋の結合は、Ｘ^１０３がエステル基を表わす場合には、Ｒ^１１５またはＸ^１０３を介して行なわれる。
【０１０２】
式（ＣＩＩＩ）、（ＣＸＶＩ）および（ＣＸＶＩＩＩ）において、
Ｙ^１０１は、好ましくはＣＨを表わし、
式（ＣＩＩＩ）、（ＣＸＶＩ）、（ＣＸＶＩＩＩ）および（ＣＸＩＸ）において、
ＣＸ^１０３Ｘ^１０４は、好ましくは式（ＣＶ）、（ＣＶＩＩ）および（ＣＩＸ）の環を表わすかまたは式
【０１０３】
【化４４】

で示される基を表わし、この場合二重結合は、アステリスク（＊）を有するＣ原子から発出する。
【０１０４】
−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_３−、−（ＣＨ_２）_４−、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−および−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−は、好ましい橋である。
【０１０５】
ポリアクリレートおよびポリメタクリレートならびにこれらとアクリルアミドとのコポリマーは、好ましい重合体鎖である。更に、例えば上記基Ｒ101、Ｒ105、Ｒ108、Ｒ112およびＲ115は、式
【０１０６】
【化４５】

で示されるモノマー単位を表わし、上記式中、
Ｒは、水素またはメチルを表わし、メロシアニン染料のＮ原子に対する単結合は、ティルデ（〜）で示された原子から発出し、アステリスク（＊）を有する原子は、鎖の存続を表わす。
【０１０７】
式（Ｉ）のメロシアニンの幾つかは、例えばF. Wuerthner, Synthesis 1999, 2103; F. Wuerthner, R. Sens, K.-H. Etzbach, G. Seybold, Angew. Chem. 1999, 111, 1753;ドイツ連邦共和国特許出願公開第４３４４１１６号明細書；ドイツ連邦共和国特許出願公開第４４４００６６号明細書；WO 98/23688；特開昭５２−９９３７９号公報；特開昭５３−１４７３４号公報の記載から公知である。
【０１０８】
また、フタロシアニンも光吸収性化合物として好ましい。
【０１０９】
１つの好ましい実施態様において、使用されるフタロシアニンは、式（Ｉ）
ＭＰｃ[Ｒ^３]_ｗ[Ｒ^４]_ｘ[Ｒ^５]_ｙ[Ｒ^６]_ｚ （Ｉ）
で示される化合物であり、上記式中、
Ｐｃは、フタロシアニンまたはナフトシアニンを表わし、これら双方の場合に芳香環は複素環式化合物、例えばテトラピリジノポルフィラジンであってもよく、
Ｍは、２個の独立したＨ原子を表わすか、２価金属原子を表わすか、または式（Ｉａ）
【０１１０】
【化４６】

で示される３価の軸方向にモノ置換された金属原子を表わすか、または式（Ｉｂ）
【０１１１】
【化４７】

で示される４価の軸方向にジ置換された金属原子を表わすか、または式（Ｉｃ）
【０１１２】
【化４８】

〔式中、荷電された配位子Ｘ^２またはＸ^１の場合には、電荷は、対イオン、例えば陰イオンＡｎ-または陽イオンＫａｔ+によって補償されている〕で示される３価の軸方向にモノ置換されかつ軸方向に単座配位された金属原子を表わし、
基Ｒ^３〜Ｒ^６は、フタロシアニン環の置換基に相当し、
Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立にハロゲン、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ヒドロキシル、酸素、シアノ、チオシアナト、シアナト、アルケニル、アルキニル、アリールチオ、ジアルキルアミノ、アルキル、アルコキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アリール、アリールオキシ、−Ｏ−ＳＯ_２Ｒ^８、−Ｏ−ＰＲ^１０Ｒ^１１、−Ｏ−Ｐ（Ｏ）Ｒ^１２Ｒ^１３、−Ｏ−ＳｉＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６、ＮＨ_２、アルキルアミノおよび複素環式アミンの基を表わし、
Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立にハロゲン、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、シアノ、ニトロ、アルキル、アリール、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_２ＮＲ^１Ｒ^２、ＣＯ_２Ｒ^９、ＣＯＮＲ^１Ｒ^２、ＮＨ−ＣＯＲ^７または式−（Ｂ）_ｍ−Ｄで示される基を表わし、
Ｂは、直接結合、ＣＨ_２、ＣＯ、ＣＨ（アルキル）、Ｃ（アルキル）_２、ＮＨ、Ｓ、Ｏまたは−ＣＨ＝ＣＨ−から構成されている群からの橋員を表わし、（Ｂ）_ｍは、橋員Ｂの化学的に適した配列を表わし、この場合ｍは、１〜１０であり、ｍは、好ましくは１、２、３または４であり、
Ｄは、式
【０１１３】
【化４９】

で示される酸化還元系の１価基を表わすかまたはメタロセニル基またはメタロセニルカルボニル基を表わし、この場合チタン、マンガン、鉄、ルテニウムまたはオスミウムは、金属中心として適しており、
Ｚ^１およびＺ^２は、互いに独立にＮＲ'Ｒ''、ＯＲ''またはＳＲ''を表わし、
Ｙ^１は、ＮＲ'、ＯまたはＳを表わし、Ｙ^２は、ＮＲ'を表わし、
ｎは、１〜１０を表わし、
Ｒ'およびＲ''は、互いに独立に水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘタリールを表わすかまたは直接結合または
【０１１４】
【化５０】

のＣ原子の１個に対する橋を形成し、
ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、互いに独立に０〜４を表わし、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚは、１６以下であり、
Ｒ^１およびＲ^２は、互いに独立に水素、アルキル、ヒドロキシアルキルまたはアリールを表わすかまたはＲ^１とＲ^２は、これらに結合しているＮ原子と共に、場合によっては殊にＯ、ＮおよびＳから構成されている群からの他のヘテロ原子も参加して複素環式５員環、６員環または７員環を形成し、ＮＲ^１Ｒ^２は、殊にピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
Ｒ^７〜Ｒ^１６は、互いに独立にアルキル、アリール、ヘタリールまたは水素、殊にアルキル、アリールまたはヘタリールを表わし、
Ａｎ⁻は、陰イオン、殊にハロゲン化物、Ｃ_１〜Ｃ_２０−アルキルＣＯＯ⁻、ホルメート、オキサレート、ラクテート、グリコラート、シトレート、ＣＨ_３ＯＳＯ_３ ⁻、ＮＨ_２ＳＯ_３ ⁻、ＣＨ_３ＳＯ_３ ⁻、１／２ＳＯ_４ ^２−または１／３ＰＯ_４ ^３−を表わす。
【０１１５】
Ｍが殊に金属原子としてのＣｏ（ＩＩＩ）を有する式（Ｉｃ）の基を表わす場合には、Ｘ^１およびＸ^２の意味における好ましい複素環式アミンの配位子または置換基は、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、ピリジン、２，２−ビピリジン、４，４−ビピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、イソキサゾール、ベンズイソキサゾール、オキサゾール、ベンゾキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、ピロール、インドールおよび３，３−ジメチルインドールであり、これらは、それぞれ窒素原子上で金属原子と一緒に配位されているかまたは窒素原子上で金属原子によって配位されている。
【０１１６】
アルキル基、アルコキシ基、アリール基および複素環式基は、場合によっては他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、ＣＯ−ＮＨ_２、アルコキシ、アルコキシカルボニル、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピロリドノ、トリアルキルシリル、トリアルキルシロキシ、またはフェニルを有することができる。アルキル基およびアルコキシ基は、飽和されていてもよいし、不飽和であってもよいし、直鎖状であってもよいし、分枝鎖状であってもよく、アルキル基は、部分的にハロゲン化されていてもよいし、過ハロゲン化されていてもよいし、アルキル基およびアルコキシ基は、エトキシル化されていてもよいし、プロポキシル化されていてもよいし、シリル化されていてもよい。アリール基または複素環式基上の隣接するアルキル基および／またはアルコキシ基は、一緒になって３員または４員の橋を形成することができる。
【０１１７】
式（Ｉ）の好ましい化合物は、以下のものが基Ｒ^１〜Ｒ^１６、Ｒ′Ｒ′′ならびに配位子または置換基Ｘ^１およびＸ^２に適用される化合物である：
”アルキル”で示される置換基は、好ましくはＣ_１〜Ｃ_１６−アルキル、殊にＣ_１〜Ｃ_６−アルキルを意味し、これは、場合によってはハロゲン、例えば塩素、臭素または弗素、ヒドロキシル、シアノおよび／またはＣ_１〜Ｃ_６−アルコキシによって置換されており；
”アルコキシ”で示される置換基は、好ましくはＣ_１〜Ｃ_１６−アルコキシ、殊にＣ_１〜Ｃ_６−アルコキシを意味し、これは、場合によってはハロゲン、例えば塩素、臭素または弗素、ヒドロキシル、シアノおよび／またはＣ_１〜Ｃ_６−アルキルによって置換されており；
”シクロアルキル”で示される置換基は、好ましくはＣ_４〜Ｃ_８−シクロアルキル、殊にＣ_５〜Ｃ_６−シクロアルキルを意味し、これは、場合によってはハロゲン、例えば塩素、臭素または弗素、ヒドロキシル、シアノおよび／またはＣ_１〜Ｃ_６−アルキルによって置換されており、
”アルケニル”で示される置換基は、好ましくはＣ_６〜Ｃ_８−アルケニルを意味し、これは、場合によってはハロゲン、例えば塩素、臭素または弗素、ヒドロキシル、シアノおよび／またはＣ_１〜Ｃ_６−アルキルによって置換されており、この場合アルケニルは、殊にアリルを意味し、
”ヘタリール”を意味する置換基は、好ましくは５〜７員の環を有する複素環式基を表わし、これは、好ましくはＮ、Ｓおよび／またはＯから構成されている群からのヘテロ原子を含有し、場合によっては芳香環と融合されているかまたは場合によってはさらに置換基、例えばハロゲン、ヒドロキシル、シアノおよび／またはアルキルを有し、この場合には、特に次のもの：ピリジル、フリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、キノリル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリルおよびベンズイミダゾリルが好ましく、
”アリール”で示される置換基は、好ましくはＣ_６〜Ｃ_１０−アリール、殊にフェニルまたはナフチルであり、これは、場合によってはハロゲン、例えばＦまたはＣｌ、ヒドロキシル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシ、ＮＯ_２および／またはＣＮによって置換されている。
【０１１８】
Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立に、好ましくは塩素、弗素、臭素、沃素、シアノ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三ブチル、ペンチル、第三アミル、ヒドロキシエチル、３−ジメチルアミノプロピル、３−ジエチルアミノプロピル、フェニル、ｐ−第三ブチルフェニル、ｐ−メトキシフェニル、イソプロピルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ナフチル、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、第三ブチルアミノ、ペンチルアミノ、第三アミルアミノ、ベンジルアミノ、メチルフェニルヘキシルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、アミノエチルアミノ、３−ジメチルアミノプロピルアミノ、３−ジエチルアミノプロピルアミノ、ジエチルアミノエチルアミノ、ジブチルアミノプロピルアミノ、モルホリノプロピルアミノ、ピペリジノプロピルアミノ、ピロリジノプロピルアミノ、ピロリドノプロピルアミノ、３−（メチルヒドロキシエチルアミノ）プロピルアミノ、メトキシエチルアミノ、エトキシエチルアミノ、メトキシプロピルアミノ、エトキシプロピルアミノ、メトキシエトキシプロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、イソプロピルオキシプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジエタノールアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ−第三ブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジ−第三アミルアミノ、ビス（２−エチルヘキシル）アミノ、ビス（アミノプロピル）アミノ、ビス（アミノエチル）アミノ、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミノ、ビス（３−ジエチルアミノプロピル）アミノ、ビス（ジエチルアミノエチル）アミノ、ビス（ジブチルアミノプロピル）アミノ、ジ（モルホリノプロピル）アミノ、ジ（ピペリジノプロピル）アミノ、ジ（ピロリジノプロピル）アミノ、ジ（ピロリジノプロピル）アミノ、ビス（３−（メチル−ヒドロキシエチルアミノ）プロピル）アミノ、ジメトキシエチルアミノ、ジエトキシエチルアミノ、ジメトキシプロピルアミノ、ジエトキシプロピルアミノ、ジ（メトキシエトキシエチル）アミノ、ジ（メトキシエトキシプロピル）アミノ、ビス（３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル）アミノ、ジ（イソプロピルオキシイソプロピル）アミノ、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、イソブチルオキシ、第三ブチルオキシ、ペンチルオキシ、第三アミルオキシ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メトキシプロピルオキシ、エトキシプロピルオキシ、メトキシエトキシプロピルオキシ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルオキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、第三ブチルチオ、ペンチルチオ、第三アミルチオ、フェニル、メトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ナフチル、ＣＯ_２Ｒ^７、ＣＯＮＲ^１Ｒ^２、ＮＨ−ＣＯＲ^７、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_２ＮＲ^１Ｒ^２を表わすかまたは好ましくは、式
【０１１９】
【化５１】

で示される基を表わし、上記式中、
（Ｂ）_ｍは、
【０１２０】
【化５２】

を表わし、
この場合アステリスク（＊）は、５員環を有する結合を表わす。
【０１２１】
Ｍ_１は、ＭｎまたはＦｅ陽イオンを表わし、
ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、互いに独立に０〜４を表わし、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚは、１２以下であり、
ＮＲ^１Ｒ^２は、好ましくはアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、第三ブチルアミノ、ペンチルアミノ、第三アミルアミノ、ベンジルアミノ、メチルフェニルヘキシルアミノ、２−エチル−１−ヘキシルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、アミノエチルアミノ、３−ジメチルアミノプロピルアミノ、３−ジエチルアミノプロピルアミノ、モルホリノプロピルアミノ、ピペリジノプロピルアミノ、ピロリジノプロピルアミノ、ピロリジノプロピルアミノ、３−（メチル−ヒドロキシエチルアミノ）プロピルアミノ、メトキシエチルアミノ、エトキシエチルアミノ、メトキシプロピルアミノ、エトキシプロピルアミノ、メトキシエトキシプロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、イソプロピルオキシイソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ−第三ブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジ−第三アミルアミノ、ビス（２−エチルヘキシル）アミノ、ジヒドロキシエチルアミノ、ビス（アミノプロピル）アミノ、ビス（アミノエチル）アミノ、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミノ、ビス（３−ジエチルアミノプロピル）アミノ、ジ（モルホリノプロピル）アミノ、ジ（ピペリジノプロピル）アミノ、ジ（ピロリジノプロピル）アミノ、ジ（ピロリドノプロピル）アミノ、ビス（３−（メチル−ヒドロキシエチルアミノ）プロピル）アミノ、ジメトキシエチルアミノ、ジエトキシエチルアミノ、ジメトキシプロピルアミノ、ジエトキシプロピルアミノアミノ、ジ（メトキシエトキシプロピル）アミノ、ビス（３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル）アミノ、ジ（イソプロピルオキシイソプロピル）アミノ、アニリノ、ｐ−トルイジノ、ｐ−第三ブチルアニリノ、ｐ−アニシジノ、イソプロピルアニリノまたはナフチルアミノを表わすかまたはＮＲ^１Ｒ^２は、好ましくはピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノまたはモルホリノを表わし、
Ｒ^７およびＲ^１６は、互いに独立に、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三ブチル、ペンチル、第三アミル、フェニル、ｐ−第三ブチルフェニル、ｐ−メトキシフェニル、イソプロピルフェニル、ｐ−トリフルオロメチルフェニル、シアノフェニル、ナフチル、４−ピリジル、２−ピリジル、２−キノリニル、２−ピロリルまたは２−インドリルを表わし、
この場合、アルキル基、アルコキシ基、アリール基および複素環式は、場合によっては他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、ＣＯ−ＮＨ^２、アルコキシ、アルコキシカルボニル、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピロリドノ、トリアルキルシリル、トリアルキルシリルオキシまたはフェニルを有することができ、アルキル基および／またはアルコキシ基は、飽和であってもよいし、不飽和であってもよいし、直鎖状であってもよいし、分枝鎖状であってもよく、アルキル基は、部分的にハロゲン化されていてもよいし、過ハロゲン化されていてもよく、アルキル基および／またはアルコキシ基は、エトキシル化されていてもよいし、プロポキシル化されていてもよいし、シリル化されていてもよく、アリール基または複素環式基上の隣接したアルキル基および／またはアルコキシ基は、一緒になって３員または４員の橋を形成させることができる。
【０１２２】
本明細書の記載内容において、酸化還元系は、殊にAngew. Chem. 1978, 第927頁およびTopics of Current Chemistry, 第92巻, 第1頁(1980)に記載の酸化還元系を意味する。
【０１２３】
ｐ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、ジヒドロフェナジン、ビピリジニウム塩（ビオロゲン）およびキノジメタンは、好ましい。
【０１２４】
１つの実施態様においては、
Ｍが２個の独立したＨ原子を表わすか、またはＣｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｂａ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＰｂおよびＳｎから構成されている群からの２価金属原子Ｍｅを表わすか、または
Ｍは、金属ＭｅがＡｌ、Ｇａ、Ｔｉ、Ｉｎ、ＦｅまたはＭｎから構成されている群から選択されているような式（Ｉａ）の３価の軸方向にモノ置換された金属原子を表わすか、またはＭは、金属ＭｅがＳｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＣｏまたはＶから構成されている群から選択されているような式（Ｉｂ）の４価の軸方向にジ置換された金属原子を表わす、式（Ｉ）のフタロシアニンが使用される。
【０１２５】
Ｘ^１およびＸ^２は、特に好ましくはハロゲン、殊に塩素、アリールオキシ、殊にフェノキシ、またはアルコキシ、殊にメトキシである。
【０１２６】
Ｒ^３〜Ｒ^６は、殊にハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキルまたはＣ_１〜Ｃ_８−アルコキシを表わす。
【０１２７】
Ｍが式（Ｉａ）または（Ｉｂ）の基を表わすような式Ｉのフタロシアニンは、特に好ましい。特に好ましいｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ０を表わす。式（Ｉａ）または（Ｉｂ）中のＸ^１および／またはＸ^２は、それぞれ極めて有利にハロゲンを表わす。
【０１２８】
本発明により使用されるフタロシアニンは、公知方法、例えば：
− 相応する金属、金属ハロゲン化物または金属酸化物の存在での相応する置換されたフタロジニトリルからの核の合成によって製造されることができ、
− フタロシアニンの化学的変性、例えばフタロシアニンのスルホ塩素化または塩素化および後反応、例えば前記塩素化により生じる生成物の縮合または置換によって製造されることができ、
− 軸方向の置換基Ｘ1およびＸ2は、通常、相応するハロゲン化物から交換によって製造される。
【０１２９】
下記の同定された、異なる特許出願から公知の付加的に特殊な染料は、光吸収性化合物として可能である。
【０１３０】
次の特許出願は、それぞれの染料の定義に関連して参考のために含まれている：
ＷＯ−Ａ−０１／７５８７３には、全ての染料、好ましくは（ＣＩ）、（ＣＩＩ）、（ＣＸ）、（ＣＣＩ）、（ＣＣＩＩＩ）、（ＣＣＩＶ）、（ＣＣＶ）、（ＣＣＶＩＩＩ）、（ＣＣＩＸ）、（ＣＣＸＩＩ）、（ＣＣＸＩＩＩ）、（ＣＣＸＩＶ）、（ＣＣＸＶ）、（ＣＣＸＶＩＩＩ）、（ＣＣＣＩＩ）、（ＣＣＣＸＩＩ）、（ＣＣＣＸＩＩＩ）および（ＣＤＸＩＸ）が引用されている。
【０１３１】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０７１には、全ての染料、好ましくは式（ＣＩ）〜（ＣＸＸＩ）、（ＣＣＩ）〜（ＣＣＸＸＶＩ）、（ＣＣＣＩＸ）、有利に式（ＣＩ）、（ＣＩＩ）、（ＣＶＩ）、（ＣＶＩＩ）、（ＣＩＸ）、（ＣＸＩ）、（ＣＸＩＩ）、（ＣＸＩＩＩ）、（ＣＸＩＶ）、（ＣＣＩ）、（ＣＣＩＩＩ）、（ＣＣＩＶ）、（ＣＣＶ）、（ＣＣＶＸＩＩ）、（ＣＣＸＶＩＩＩ）、（ＣＣＸＩＸ）、（ＣＣＣＩＸ）のポリマー染料が引用されている。
【０１３２】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０６６には、全ての染料、好ましくは式（Ｖ）〜（ＸＩＩ）の染料が引用されている。
【０１３３】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０８８には、全ての染料、好ましくは式（ＩＩＩａ）、（ＩＶａ）、（Ｖ）〜（ＩＸ）、特に好ましくは式（Ｖ）、（ＶＩＩ）〜（ＩＸ）の染料が引用されている。
【０１３４】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０８１には、全ての染料が引用されている。
【０１３５】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０７０には、全ての染料、好ましくは式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）の染料が引用されている。
【０１３６】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０６５には、全ての染料、好ましくは式（ＩＶ）〜（ＸＩＩ）および式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＸＶ）の染料が引用されており、この場合式（ＸＩＩＩ）〜（ＸＸＶ）について、置換基Ｙは、Ｃ−ＣＮまたはＮを表わす。
【０１３７】
ＰＴＣ出願Ｎｏ．０２／０３０８６には、全ての染料、好ましくは式（ＶＩＩＩ）、（ＸＩＩ）および（ＸＩＶ）〜（ＸＶＩＩ）の染料が引用されている。
【０１３８】
光吸収性化合物は、好ましくは熱的に変性可能であるべきである。熱的変性は、好ましくは７００℃未満の温度で行なわれる。このような変性は、例えば光吸収性化合物の発色中心の分解、形態的変化または化学的変性であることができる。
【０１３９】
記載された光吸収性物質は、好ましくは３６０〜４６０ｎｍの範囲内の光波長を有するピント調節された青色光、殊にレーザー光を有する個所での記録されていない状態での光学データ媒体の十分に高い反射率および情報層の熱的崩壊に対する十分に高い吸収率を可能にする。データ媒体上の記録された部分と記録されていない部分とのコントラストは、振幅による反射率の変化ならびに記録後の情報層の変化された光学的性質の結果としての入射光の位相によって実現される。殊に、光吸収性物質は、記録されたマーク中での反射率の低下を伴ないながら読取り信号の十分に定義された形状を保証する。
【０１４０】
換言すれば、光学データ媒体は、好ましくは３６０〜４６０ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて記録および読取りされることができる。
【０１４１】
フタロシアニンを用いての被覆は、好ましくは回転塗布、スパッタリングまたは真空蒸着によって行なわれる。真空蒸着またはスパッタリングの場合には、殊に有機媒体または水性媒体中で不溶性であるフタロシアニン、好ましくはｗ、ｘ、ｙおよびｚが、それぞれ０を表わし、Ｍが、
【０１４２】
【化５３】

または
【０１４３】
【化５４】

但し、Ｘ1およびＸ2は、上記の意味を有するものとする、を表わす式（Ｉ）のフタロシアニンを塗布することが可能である。
【０１４４】
殊に、有機媒体または水性媒体中で可溶性であるフタロシアニンは、回転塗布によっての塗布にも適している。フタロシアニンは、互いを混合することができるかまたは同様のスペクトル特性を有する他の染料と混合することができる。情報層は、添加剤、例えば結合剤、湿潤剤、安定剤、希釈剤および増感剤、ならびにフタロシアニン以外の他の成分を含有することができる。
【０１４５】
メロシアニン染料ならびに（上記に）参考のために引用されている他の染料は、好ましくは回転塗布または真空蒸着によって光学データキャリアに塗布される。このような染料は、互いに混合されてもよいし、同様のスペクトル特性を有する他の染料と混合されてもよい。前記染料以外に、情報層は、添加剤、例えば結合剤、湿潤剤、安定剤、希釈剤および増感剤、ならびに他の成分を含有することができる。
【０１４６】
放射線硬化される樹脂は、好ましくはＵＶ硬化される樹脂である。
【０１４７】
１つの好ましい実施態様において、被覆層は、他の層上に上塗りとしての放射線硬化可能な樹脂を、殊に回転塗布によって塗布し、次にこの上塗りを放射線、殊にＵＶ線によって硬化させることによって形成される。
【０１４８】
このような放射線硬化可能な樹脂、好ましくは液体塗料は、公知であり、例えばP.K.T.Oldring(編), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, Vol. 2, 1991, SITA Technology, London, pp. 31 - 235に記載されている。挙げることができる例は、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、アクリル化ポリアクリレート、アクリル化油、シリコーンアクリレートならびにアミン変性されたポリエーテルアクリレートおよび変性されていないポリエーテルアクリレートである。アクリレート以外に、メタクリレートは、部分的に使用されてもよいし、全部が使用されてもよい。アクリレートおよびメタクリレート以外に、ビニル基、ビニルエーテル基、プロペニル基、アリル基、マレイニル基、フマリル基、マレイミド基、ジシクロペンタジエニル基および／またはアクリルアミド基を重合可能な成分として含有するポリマー生成物を得ることもできる。しかし、アクリレートおよびメタクリレートは、好ましい。このような樹脂は、商業的に得ることができ、樹脂の組成に応じて、有利に約１００ｍＰａｓ〜約１０００００ｍＰａｓの変動する粘度を有する。このような樹脂は、単独で使用されるかまたは混合物の形で使用される。特に好ましい樹脂は、７５０〜３００ｎｍ、好ましくは６００〜３００ｎｍの範囲内の高度に透過性である樹脂である。
【０１４９】
このような樹脂の例は、脂肪族ウレタンアクリレートであり、これは、例えば脂肪族ジイソシアネートおよび／または脂肪族ポリイソシアネートおよび／または脂環式ジイソシアネートおよび／または脂環式ポリイソシアネートを、ヒドロキシアルキルアクリレートおよび二官能価ヒドロキシ化合物および／または多官能価ヒドロキシ化合物、および／または例えば脂肪族ジカルボン酸および／またはポリカルボン酸またはこれらの無水物と二官能価ヒドロキシ化合物および／または多官能価ヒドロキシ化合物およびアクリル酸との反応によって得ることができる脂肪族ポリエステルアクリレートと反応させることによって得ることができる脂肪族ウレタンアクリレートである。脂肪族ウレタンアクリレートは、特に好ましい。
【０１５０】
特に好ましい樹脂は、効果の間に体積が僅かにのみ収縮する樹脂である。それ故に、二重結合の低い密度、二重結合の低い官能価および比較的高い分子量は、好ましい。それ故、好ましい樹脂は、３ｍｏｌ／ｋｇ未満の二重結合密度、３未満、特に好ましくは２．５未満の官能価および１０００を上廻る、特に好ましくは３０００ｇ／ｍｏｌを上廻る分子量Ｍｎを有する。
【０１５１】
上記生成物の粘度を減少させるために、高いエネルギー照射量を用いての硬化の間に（共）重合する、所謂反応性シンナーが通常使用される。このような反応性シンナーは、例えばP.K.T.Oldring(編), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, Vol. 2, 1991, SITA Technology, London, pp. 237 - 285に記載されている。挙げることができる例は、アクリル酸またはメタクリル酸のエステル、好ましくはアクリル酸と次のアルコールとのエステルである。１価アルコールは、異性体ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノールおよびデカノールならびに脂環式アルコール、例えばイソボルネオール、シクロヘキサノールおよびアルキル化シクロヘキサノール、ジシクロペンタノール、アリール脂肪族アルコール、例えばフェノキシエタノールおよびノニルフェニルエタノール、ならびにテトラヒドロフルフリルアルコールである。前記アルコールのアルコキシル化誘導体を使用することもできる。２価アルコールは、例えばアルコール、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、異性体ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−エチルヘキサンジオールおよびトリプロピレングリコールまたは前記アルコールのアルコキシル化誘導体である。好ましい２価アルコールは、１，６−ヘキサンジオール、ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコールである。３価アルコールは、グリセロールまたはトリメチロールプロパンまたはこれらのアルコキシル化誘導体である。３５０ｎｍを上廻って透過性である脂肪族反応性シンナーは、好ましい。例は、ヘキサンジオールジアクリレート、異性体ブタンジオールジメタクリレートならびにイソボルニルアクリレートおよびイソボルニルメタクリレートである。
【０１５２】
硬化をＵＶ光または可視光線で実施する場合には、光開始剤は、有利に塗料に添加される。光開始剤は、公知の商業的に市販されている化合物であり、この場合単分子系（型Ｉ）開始剤と二分子系（型ＩＩ）開始剤との間には、差異がある。適当な（型Ｉ）系は、芳香族ケトン化合物、例えば第３アミン、アルキルベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（Michler's Ketone）、アントロンおよびハロゲン化ベンゾフェノンと組み合わせたベンゾフェノンまたは上記型の混合物である。また、（型ＩＩ）開始剤、例えばベンゾインおよびその誘導体、ベンジルケタール、アシルホスフィンオキシド、例えば２，４，６−トリメチル−ベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシル−ホスフィンオキシド、フェニルグリオキシル酸エステル、ショウノウキノン、α−アミノアルキル−フェノン、α,α−ジアルコキシアセトフェノンおよびα−ヒドロキシアルキルフェノンである。
【０１５３】
光開始剤は、好ましくはラッカー結合剤の質量に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％の量で使用され、単独の物質として使用されることができるかまたはしばしば好ましい相乗効果のために、互いの組合せで使用されることもできる。
【０１５４】
放射線硬化は、高いエネルギー照射量、即ちＵＶ光または日光、例えば１７０〜７００ｎｍの光に晒すことによって実施されるかまたは高いエネルギー電子を照射すること（１５０〜３００ｋｅＶでの電子放射）によって実施される。
【０１５５】
ＵＶ線の代わりに電子ビームを使用する場合には、光開始剤は、必要とされない。当業者に公知であるように、電子線は、熱イオン放出によって得られ、電位差により加速される。更に、高いエネルギー電子量は、チタン箔を透過し、硬化されることができる結合剤に向けられている。電子線硬化の一般的な原理は、例えば”Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints”, Vol. １, P K T Oldering (Ed.), SITA Technology, London, England, pp. 101 - 157, 1991に詳細に記載されている。
【０１５６】
光またはＵＶ光に使用される照射源は、例えば高圧水銀蒸気灯または中圧水銀蒸気灯であり、この場合、水銀蒸気は、他の元素、例えばガリウムまたは鉄でのドーピングによって変性されることができる。レーザー、パルス化されたランプ（ＵＶフラッシュライトエミッタとして公知である）、ハロゲン灯またはエキシマー放射器も使用されることができる。この放射器は、放出された放射器スペクトルの一部分の射出を阻止するフィルターを装備していてよい。例えば、工業衛生学のために、ＵＶ−ＣまたはＵＶ−ＣおよびＵＶ−Ｂ範囲で放射線をフィルターリングすることが可能である。
【０１５７】
放射器は、固定法で取り付けることができ、したがって照射されることができる生成物は、機械的装置により照射源を通過して運搬されるかまたは放射器は、移動可能であることができ、照射されることができる生成物は、その位置を硬化の間変化させない。通常、ＵＶ硬化の間の架橋に十分な放射線量は、８０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内にある。
【０１５８】
照射は、場合によっては酸素の遮断下に、例えば不活性ガスの雰囲気下または酸素減圧の雰囲気下で実施されてもよい。適当な不活性ガスは、好ましくは窒素、二酸化炭素、希ガスまたは燃焼ガスである。付加的に、照射は、放射に対して透過性の媒体で被覆物を被覆することによって実施されることができる。この媒体の例は、例えばプラスチックフィルム、ガラスまたは液体、例えば水である。
【０１５９】
放射線量および硬化条件に応じて、使用されると予想される開始剤の型および濃度は、当業者に公知の方法で変動されなければならない。
【０１６０】
特に好ましくは、固定装置中での水銀高圧放射器が使用される。更に、光開始剤は、被覆物の固体含量に対して、０．１〜１０質量％、好ましくは０．２〜３．０質量％の濃度で使用される。この被覆物の硬化のためには、２００〜６００ｎｍの波長範囲内で測定された２００〜３０００ｍＪ／ｃｍ^２の線量が有利に使用される。
【０１６１】
ＵＶ樹脂カバーは、好ましくは３６０〜４６０ｎｍの波長で高い透過率を有し、最も好ましくは、このＵＶ樹脂カバーの透過率は、９０％を超える。
【０１６２】
更に、光学データ記憶装置は、情報層以外に層、例えば金属層、誘電性層、遮断層および保護層を有することができる。金属層および誘電性層および／または遮断層は、なかんずく反射率および熱平衡を調節するために役立つ。金属は、レーザー波長に依存して金、銀、アルミニウム、合金等であることができる。誘電性層は、例えばシリカおよび窒化珪素である。遮断層は、誘電性層または金属層から構成されていてよい。
【０１６３】
図１に示されているように、光学データ記憶装置は、好ましくは支持体（１）、場合によっては遮断層（２）、情報層（３）、場合によっては他の遮断層（４）および被覆層（６）を含む。
【０１６４】
好ましくは、光学データ媒体の構造は、
・ 光を用いて記録することができる少なくとも１つの情報層（３）、場合によっては遮断層（４）および被覆層（６）が表面上に塗布された、好ましくは透明の支持体（１）を含むことができ、
・ 場合によっては遮断層（２）、光を用いて記録することができる少なくとも１つの情報層（３）および透明の被覆層（６）が表面上に塗布された、好ましくは透明の支持体（１）を含むことができ、
・ 場合によっては遮断層（２）、光を用いて記録することができる少なくとも１つの情報層（３）、場合によって遮断層（４）および透明の被覆層（６）が表面上に塗布された、好ましくは透明の支持体（１）を含むことができ、
・ 光を用いて記録することができる少なくとも１つの情報層（３）および透明の被覆層（６）が表面上に塗布された、好ましくは透明の支持体（１）を含むことができる。
【０１６５】
更に、本発明は、青色光、殊にレーザー光、特に好ましくは３６０〜４６０ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて記録することができる、本発明による光学データ媒体に関する。
【０１６６】
次の実施例は、本発明の対象を詳説する。
【０１６７】
実施例
例１（放射線硬化可能な樹脂およびその塗布）
表面塗布
Roskydal（登録商標）UA VP LS 2308１００質量部（Bayer AG, Leverkusen, Germanyからの２３℃で３４ｐａ．ｓの粘度を有するヘキサメチレンジイソシアネート三量体を基礎とする、ヘキサンジオールジアクリレート中での濃度８０％の脂肪族ウレタンアクリレート）、イソボルニルアクリレート４０質量部（UCB GmbH, Kerpen, GermanyからのIBOA）、Irgacure（登録商標）184 ３質量部（α−ヒドロキシアセトフェノン、Ciba Spezialitaetenschemie GmbH, LampertheimからのNorrish型Ｉの光開始剤）およびByk（登録商標）306 ０．９質量部（Byk-Chemie GmbH, Wesel, Germanyからのレベリング添加剤）を互いに緊密に混合し、酢酸ブチルで２３℃で５００ｍＰａ．ｓの動的粘度に調節する。
【０１６８】
塗布：回転塗布条件は、それぞれの実施例に帰因する。
硬化：溶剤をフラッシング除去した（室温で６０分間または６０℃で３０分間）後、被覆物を水銀高圧放射器（型ＣＫ、ランプ１２０Ｗ／長さｃｍ、Nuertigen, GermanyのISTから）を用いての照射によって硬化する。
【０１６９】
例２
【０１７０】
【化５５】

【０１７１】
染料ジクロロ−シリコン−フタロシアニン（ＳｉＣｌ_２Ｐｃ）を情報層のために塗布した。使用されたディスク構造体は、図２に図示されたものと同様のものであった。
【０１７２】
ポリカーボネート支持体を射出成形によって成形し、ピッチ０．３２μｍおよび深さ２０ｎｍの溝構造を形成させた。溝を付けた表面の上面上に直接に４０ｎｍの情報層を、染料の真空蒸着法によって塗布した。次に、例１によるＵＶ硬化可能な樹脂を８００ｒｍｐの回転速度で回転塗布によって塗布し、ＵＶ光によって媒体の入射ビーム側で硬化させ、被覆層を形成させた。硬化した被覆層の全厚を１００μｍとして設定した。他のＵＶ硬化可能な樹脂を同様に使用することができる。
【０１７３】
読取り／記録の設定のパラメーターは、以下の通りであった（Sonyで確認して欲しい）：
レーザーの波長＝４０５ｎｍ
対物レンズの開口数＝０．８５、２個の構成成分のレンズ
読取りレーザー出力＝０．４０ｍＷ
書込みレーザー出力＝７．０ｍＷ
ディスク回転の線形速度＝５．２８ｍ／ｓ
書込みマークおよびスペースの長さ＝０．６４μｍ、周期的
パルスストラテジー：５０％の仕事率での内側の１つのマークを用いての７回のパルス。
【０１７４】
記録を溝上で実施した。
【０１７５】
結果は、極めて低い騒音および高い変調比を有する前記媒体中で鋭く縁取られた矩形の波形が記録されたことを示す（図３）。キャリア対騒音比は、ＲＢＷ３０ｋＨｚで５９．３ｄＢであった。
【０１７６】
この媒体は、記録および読取りの安定性の高い性能のために、高い記録密度に対して過度に高い電位を示した。（１．７）ＲＬＬ変調を有するランダムなパターン記録は、０．１６μｍの最も小さなマークの長さで実施された。片面での直径１２ｃｍのディスク上でのデータ能力により、２３．３ＧＢとの相関関係が算定されるであろう。明らかなアイパターンは、図４に示されているように、常用のイコライザーによって得られ、この場合１０％のジッターレベルは、漏話を含む。
【０１７７】
同様に、例３〜２３の染料は、使用されてよい。
【０１７８】
例３〜２３
【０１７９】
【表１】

【０１８０】
【表２】

【０１８１】
例２４
１−ブチル−３−シアノ−４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ピリドン２．１ｇおよび１，３，３−トリメチルインドール−２−メチレン−ω−アルデヒド２．０ｇを９０℃で２時間無水酢酸５ｍｌ中に攪拌混入した。冷却後、混合物を氷水１００ｍｌ上に流出させ、吸引漏斗で濾別し、残留物を水で洗浄した。次に、この残留物を水／メタノール３：１ ２０ｍｌ中に攪拌混入し、吸引漏斗で濾別し、乾燥させた。式
【０１８２】
【化５６】

で示される赤色粉末３．３ｇ（理論値の８５％）を得た。
融点：２４９〜２５１℃
ＵＶ（ジオキサン）：λ_ｍａｘ＝５２０ｎｍ
ＵＶ（ＤＭＦ）：λ_ｍａｘ＝５２２ｎｍ
ε＝１１３１００ ｌ／ｍｏｌ ｃｍ
Δλ＝２ｎｍ
λ_１／２−λ_１／１０（長波長の傾斜）＝１２ｎｍ
可溶度：ＴＦＰ（２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール）中で２％を上廻る。
【０１８３】
例２５
同様の方法を行ない、式
【０１８４】
【化５７】

で示される赤色粉末２．６ｇ（理論値の７９％）を、１−プロピル−３−シアノ−４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ピリドン１．７ｇおよびＮ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−アクロレイン１．７ｇを用いて得た。
融点：２０６〜２１６℃
ＵＶ（ジオキサン）：λ_ｍａｘ＝４８２ｎｍ
ＵＶ（ＤＭＦ）：λ_ｍａｘ＝４７７ｎｍ
ε＝７３０１３ ｌ／ｍｏｌ ｃｍ
Δλ＝５ｎｍ
λ_１／２−λ_１／１０（短波長の傾斜）＝３３ｎｍ
可溶度：ＴＦＰ中で２％を上廻る。
【０１８５】
例２６
３−ピリジニオ−４−メチル−６−ヒドロキシ−ピリドン−クロリド２．０３ｇおよび１，３，３−トリメチルインドール−２−メチレン−ω−アルデヒド２．０ｇを９０℃で２時間無水酢酸１０ｍｌ中に攪拌混入した。冷却後、混合物を水２００ｍｌ上に流出させた。テトラフルオロ硼酸ナトリウム２．８ｇをオレンジ色の溶液に添加した。この混合物を一晩中、攪拌した後、この混合物を吸引漏斗で濾別し、残留物を水２０ｍｌで洗浄し、乾燥させた。式
【０１８６】
【化５８】

で示される赤色がかったオレンジ色の粉末３．３ｇ（理論値の７４％）を得た。
融点：３００℃を上廻る
ＵＶ（メタノール）：λ_ｍａｘ＝５１３ｎｍ
ε＝８６５１０ ｌ／ｍｏｌ ｃｍ
λ_１／２−λ_１／１０（短波長の傾斜）＝３８ｎｍ
可溶度：ＴＦＰ中で２％を上廻る。
【０１８７】
例２７
５−ジメチルアミノフラン−２−カルボアルデヒド０．７ｇおよびＮ−メチル−Ｎ′−ドデシルバルビツール酸１．５ｇを９０℃で３０分間無水酢酸１５ｍｌ中に攪拌混入した。冷却後、混合物を氷水１００ｍｌ上に流出させ、吸引漏斗で濾別し、残留物を水で洗浄した。式
【０１８８】
【化５９】

で示されるオレンジ色の粉末１．７ｇ（理論値の７９％）を得た。
融点：１１８〜１２０℃
ＵＶ（ジオキサン）：λ_ｍａｘ＝４８３ｎｍ
ε＝５３３６０ ｌ／ｍｏｌ ｃｍ
λ_１／２−λ_１／１０（短波長の傾斜）＝３２ｎｍ
可溶度：ベンジルアルコール中で１％を上廻る。
【０１８９】
本発明による他の例は、次の表中に記載されている：
【０１９０】
【表３】

【０１９１】
【表４】

【０１９２】
【表５】

【０１９３】
【表６】

【０１９４】
【表７】

【０１９５】
【表８】

【０１９６】
【表９】

【０１９７】
【表１０】

【０１９８】
【表１１】

【０１９９】
【表１２】

【０２００】
例８７
式
【０２０１】
【化６０】

を有する、例７６中の上記染料を情報層のために塗布した。使用されたディスク構造は、図２ａに図示されたものと同様のものであった。
【０２０２】
ポリカーボネート支持体を射出成形法によって成形し、ピッチ０．６４μｍおよび深さ４０ｎｍのランド／溝構造を形成させた。溝を付けた表面の上面上に直接に情報層を、回転塗布法によって塗布した。回転塗布のためのパラメーターは、次の通りであった。
溶剤：テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）
溶液：１．０質量％
溶剤を塗布するためのディスクの回転速度：２２０ｒｐｍ、１２秒
スピン・オフおよび乾燥のためのディスク回転速度：１２００ｒｐｍ、３０秒。
【０２０３】
溝内およびランド上の染料層の厚さは、それぞれ８０ｎｍおよび６０ｎｍであった。情報層が被覆層中に拡散することを回避させるために、情報層をＲＦ反応性スパッタリング法によって厚さ４０ｎｍのＳｉＮ緩衝層で被覆した。次に、例１に記載のＵＶ硬化可能な樹脂を回転塗布によって８００ｒｐｍの回転速度で塗布し、ＵＶ光によって媒体の入射ビーム側で硬化させ、被覆層を形成させた。硬化した被覆層の全厚を１００μｍとして設定した。他のＵＶ硬化可能な樹脂を同様に使用することができる。
【０２０４】
読取り／記録の設定のパラメーターは、以下の通りであった：
レーザーの波長＝４０５ｎｍ
対物レンズの開口数＝０．８５、２個の構成成分のレンズ
読取りレーザー出力＝０．３０ｍＷ
書込みレーザー出力＝６．０ｍＷ
ディスク回転の線形速度＝５．７２ｍ／ｓ
書込みマークおよびスペースの長さ＝０．６９μｍ、周期的
パルスストラテジー：５０％の仕事率での内側の１つのマークを用いての７回のパルス。
【０２０５】
結果は、溝状トラック上への記録後に、明らかに騒音のない波形が図５に図示されているように得られた。キャリア対騒音比（Ｃ／Ｎ）の測定は、Takeda Riken TR4171を用いて実施され、分解能バンド幅（ＲＢＷ）３０ｋＨｚで６２．８ｄＢを生じた。この高いＣ／Ｎは、高密度の記録のための媒体の高い性能を証明している。それというのも、この媒体は、ランド／溝の双方で記録可能であり、このランド／溝は、実質的に二重のトラックピッチ、即ち０．３２μｍを生じるからである。また、変調比（マーク／ＲInitからの反射率）は殆んど６６％に到達していたことを指摘することができる。このように極めて大きな変調比を用いた場合には、この媒体は、理想的な信号の品質および極限のキャリアレベルを示す。
【図面の簡単な説明】
【０２０６】
【図１】本発明による光学データ記憶装置のディスク構造の１実施態様を示すブロック図。
【図２】本発明による光学データ記憶装置のディスク構造の１実施態様を示すブロック図。
【図２ａ】本発明による光学データ記憶装置のディスク構造の１実施態様を示すブロック図。
【図３】極めて低い騒音および高い変調比を有する本発明による媒体中で鋭く縁取られた矩形の波形の記を示す線図。
【図４】常用のイコライザーによって得られたアイパターンを示す線図。
【図５】溝状トラック上への記録後に、キャリア対騒音比（Ｃ／Ｎ）の測定により明らかに騒音のない波形を示す線図。

Claims (15)

1. 場合によっては既に１つ以上の遮断層で被覆され、この遮断層の表面上には、光を用いて記録されうる情報層と場合によっては１つ以上の遮断層と放射線硬化される樹脂を含有する被覆層とが施こされている有利に透明な支持体を含み、情報層上に記録することができ、被覆層を通過するピント調節された青色光、有利に３６０ｎｍ〜４６０ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて情報層から読み取ることができ、情報層が光吸収性化合物を含有する光学データ媒体において、少なくとも１つの染料が光吸収性化合物として使用されており、被覆層が１０μｍ〜１７７μｍの全厚を有し、設けられたピント調節する対物レンズの開口数ＮＡが０．８以上であることを特徴とする、有利に透明な支持体を含む光学データ媒体。
2. 被覆層がＵＶ硬化される樹脂である、請求項１記載の光学データ媒体。
3. 被覆層が３６０〜４６０ｎｍの波長で９０％を上廻る透過率を有する、請求項１記載の光学データ媒体。
4. 光吸収性化合物として使用される染料がフタロシアニンまたはナフタロシアニンであり、これら双方の場合に芳香環は複素環式化合物であってもよい、請求項１記載の光学データ媒体。
5. 情報層の上面上の遮断層が少なくとも１つの誘電性層を含む、請求項１記載の光学データ媒体。
6. 遮断層が直接に情報層の上面上に誘電性層を含み、誘電性層上に放射線硬化される樹脂を含有する被覆層を含む、請求項１記載の光学データ媒体。
7. 被覆層が脂肪族ウレタンアクリレート硬化性樹脂を基礎とするＵＶ硬化される樹脂を含有する、請求項１記載の光学データ媒体。
8. 染料が式（Ｉ）
   ＭＰｃ[Ｒ^３]_ｗ[Ｒ^４]_ｘ[Ｒ^５]_ｙ[Ｒ^６]_ｚ （Ｉ）
   に対応し、式中、
   Ｐｃは、フタロシアニンまたはナフタロシアニンを表わし、これら双方の場合に芳香環は複素環式化合物であってもよく、
   Ｍは、２個の独立したＨ原子を表わすか、２価金属原子を表わすか、または式（Ｉａ）
   

   

   で示される３価の軸方向にモノ置換された金属原子を表わすか、または式（Ｉｂ）
   

   

   で示される４価の軸方向にジ置換された金属原子を表わすか、または式（Ｉｃ）
   

   

   〔式中、荷電された配位子または置換基Ｘ^１またはＸ^２の場合には、電荷は、対イオンによって補償されている〕で示される３価の軸方向にモノ置換されかつ軸方向に単座配位された金属原子を表わし、
   基Ｒ^３〜Ｒ^６は、フタロシアニンの置換基に相当し、
   Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立にハロゲン、ヒドロキシル、酸素、シアノ、チオシアナト、シアナト、アルケニル、アルキニル、アリールチオ、ジアルキルアミノ、アルキル、アルコキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アリール、アリールオキシ、−Ｏ−ＳＯ_２Ｒ^８、−Ｏ−ＰＲ^１０Ｒ^１１、−Ｏ−Ｐ（Ｏ）Ｒ^１２Ｒ^１３、−Ｏ−ＳｉＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６、ＮＨ_２、アルキルアミノおよび複素環式アミンの基を表わし、
   Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立にハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アリール、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_２ＮＲ^１Ｒ^２、ＣＯ_２Ｒ^９、ＣＯＮＲ^１Ｒ^２、ＮＨ−ＣＯＲ^７または式−（Ｂ）_ｍ−Ｄで示される基を表わし、
   Ｂは、直接結合、ＣＨ_２、ＣＯ、ＣＨ（アルキル）、Ｃ（アルキル）_２、ＮＨ、Ｓ、Ｏまたは−ＣＨ＝ＣＨ−から構成されている群からの橋員を表わし、（Ｂ）_ｍは、橋員Ｂの化学的に適した配列を表わし、この場合ｍは、１〜１０であり、ｍは、好ましくは１、２、３または４であり、
   Ｄは、式
   

   

   で示される酸化還元系の１価基を表わすかまたはメタロセニル基またはメタロセニルカルボニル基を表わし、この場合チタン、マンガン、鉄、ルテニウムまたはオスミウムは、金属中心として適しており、
   Ｚ^１およびＺ^２は、互いに独立にＮＲ'Ｒ''、ＯＲ''またはＳＲ''を表わし、
   Ｙ^１は、ＮＲ'、ＯまたはＳを表わし、Ｙ^２は、ＮＲ'を表わし、
   ｎは、１〜１０を表わし、
   Ｒ'およびＲ''は、互いに独立に水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘタリールを表わすかまたは直接結合または
   

   

   のＣ原子の１個に対する橋を形成し、
   ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、互いに独立に０〜４を表わし、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚは、１６以下であり、
   Ｒ^１およびＲ^２は、互いに独立にアルキル、ヒドロキシアルキルまたはアリールを表わすかまたはＲ^１とＲ^２は、これらに結合しているＮ原子と共に、場合によっては殊にＯ、ＮおよびＳから構成されている群からの他のヘテロ原子も参加して複素環式５員環、６員環または７員環を形成し、ＮＲ^１Ｒ^２は、殊にピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、
   Ｒ^７およびＲ^１６は、互いに独立にアルキル、アリール、ヘタリールまたは水素を表わす、請求項１記載の光学データ媒体。
9. Ｍが２個の独立したＨ原子を表わすか、またはＣｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｂａ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＰｂおよびＳｎから構成されている群からの２価金属原子を表わすか、またはＭｅがＡｌ、Ｇａ、Ｔｉ、Ｉｎ、ＦｅまたはＭｎを表わすような式（Ｉａ）の３価の軸方向にモノ置換された金属原子を表わすか、またはＭｅがＳｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＣｏまたはＶを表わすような式（Ｉｂ）の４価の金属原子を表わす、請求項８記載の光学データ媒体。
10. Ｍが式（Ｉａ）または（Ｉｂ）の基を表わし、この場合Ｍｅは、ＡｌまたはＳｉを表わし、
    Ｘ^１およびＸ^２がハロゲン、殊に塩素、アリールオキシ、殊にフェノキシ、またはアルコキシ、殊にメトキシを表わし、
    ｗ、ｘ、ｙおよびｚが０を表わす、請求項６記載の光学データ媒体。
11. 光吸収性化合物がメロシアニンである、請求項１記載の光学データ媒体。
12. 光吸収性化合物が式（１）
    

    

    に対応し、有利であり、式中、
    Ａは、式
    

    

    で示される基を表わし、
    Ｘ^１は、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１、ＣＯＯ−Ｒ^２、ＣＯＮＨＲ^３またはＣＯＮＲ^３Ｒ^４を表わし、
    Ｘ^２は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリール、５員環または６員環の複素環式基、ＣＮ、ＣＯ−Ｒ^１、ＣＯＯ−Ｒ^２、ＣＯＮＨＲ^３またはＣＯＮＲ^３Ｒ^４を表わし、
    ＣＸ^１Ｘ^２は、非イオン基またはイオン基によってベンゾ融合されていてもよいかまたはナフサ融合されていてもよく、および／または、非イオン基またはイオン基によって置換されていてもよい、式
    

    

    で示される環を表わし、この場合アステリスク（＊）は、二重結合が発出する環内原子を表わし、
    Ｘ^３は、ＮまたはＣＨを表わし、
    Ｘ^４は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｎ−Ｒ^６またはＣＨを表わし、Ｘ^３およびＸ^４は、同時にはＣＨを表わさず、
    Ｘ^５は、Ｏ、ＳまたはＮ−Ｒ^６を表わし、
    Ｘ^６は、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｎ−Ｒ^６、ＣＨまたはＣＨ_２を表わし、
    式（ＩＩ）
    

    

    で示される環Ｂは、Ｘ^４、Ｘ^３およびその間を結合したＣ原子と一緒になって、ならびに式（Ｖ）
    

    

    で示される環Ｃは、Ｘ^５、Ｘ^６およびその間を結合したＣ原子と一緒になって、互いに独立に１〜４個のヘテロ原子を含有することができおよび／または非イオン基またはイオン基によってベンゾ融合されていてよいかまたはナフサ融合されていてよく、および／または非イオン基またはイオン基によって置換されていてよい５または６員の芳香族複素環または準芳香族複素環を表わし、
    Ｙ^１は、ＮまたはＣ−Ｒ^７を表わし、
    Ｙ^２は、ＮまたはＣ−Ｒ^８を表わし、
    Ｒ^１〜Ｒ^６は、互いに独立に水素、Ｃ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_３〜Ｃ_６−アルケニル、Ｃ_５〜Ｃ_７−シクロアルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１５−アラルキルを表わし、
    Ｒ^７およびＲ^８は、互いに独立に水素、シアノまたはＣ_１〜Ｃ_６−アルキルを表わし、
    Ｒ^９およびＲ^１０は、互いに独立にＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１５−アラルキルを表わすかまたは
    ＮＲ^９Ｒ^１０は、５または６員の飽和ヘテロ環を表わす、請求項１記載の光学データ媒体。
13. 請求項１記載の光学データ媒体の製造法において、場合によっては既に遮断層で被覆された、有利に透明な支持体を、染料で、場合によっては適当な結合剤および添加剤ならびに場合によっては適当な溶剤と組み合わせて塗布し、次に場合によっては遮断層を備えさせ、さらに中間層およびその後に放射線で硬化される放射線硬化可能な樹脂を含有する被覆層を備えさせることを特徴とする、請求項１記載の光学データ媒体の製造法。
14. 染料を用いての塗布を回転塗布、スパッタリングまたは蒸着により行なう、請求項１３記載の光学データ媒体の製造法。
15. 青色光、好ましくはレーザー光、殊に３６０ｎｍ〜４６０ｎｍの波長を有するレーザー光を用いて請求項１記載の光学データ媒体上に記録することによって得ることができる、記録可能型の情報層を有する光学データ媒体。

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