JP2005338806A - クリシェの製造方法及びパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クリシェの製造方法は、透明なガラス基板を備える段階と、ガラス基板上に金属膜を蒸着する段階と、金属膜をパターニングして第1の金属パターンを形成する段階と、第1の金属パターンをマスクにしてガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、第1の金属パターンをパターニングして第2の金属パターンを形成する段階と、第2の金属パターンをマスクにして第1の凸パターンをエッチングすることにより、第2の凸パターンを形成する段階とを含む。
【選択図】図4E
Description
図1A〜図1Cは、印刷方式を用いて基板上にインキパターンを形成する方法を示す図である。印刷方式においては、まず、図1Aに示すように、凹板またはクリシェ(clich 130の特定位置に溝132を形成した後、前記溝132の内部にインキ134を充填する。前記クリシェ130に形成される溝132は、一般のフォトリソグラフィ工程により形成され、前記溝132の内部へのインキ134の充填は、前記クリシェ130の上部にパターン形成用インキ134を塗布した後、ドクターブレード(doctor blade)138を前記クリシェ130の表面に接触させた状態で押し付けて行う。従って、前記ドクターブレード138の進行により、前記溝132の内部にインキ134が充填されると共に、前記クリシェ130の表面に残っていたインキ134が除去される。
図4A〜図4Eは、本発明によるクリシェの製造方法を示す工程断面図である。まず、図4Aに示すように、透明なガラス基板330を用意した後、前記ガラス基板330上に金属膜340を蒸着し、その上部に感光膜350を塗布する。
Claims (14)
- 透明なガラス基板上に金属膜を蒸着する段階と、
前記金属膜をパターニングして第1の金属パターンを形成する段階と、
前記第1の金属パターンをマスクにして前記ガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、
前記第1の金属パターンをパターニングして第2の金属パターンを形成する段階と、
前記第2の金属パターンをマスクにして前記第1の凸パターンをエッチングすることにより、第2の凸パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とするクリシェの製造方法。 - 透明なガラス基板上に感光膜を塗布した後、回折露光により、第1の厚さを有する第1の感光パターンと第2の厚さを有する第2の感光パターンとが交互に配列される感光パターンを形成する段階と、
前記感光パターンをマスクにして前記ガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、
前記第1の感光パターンを除去した後、前記第2の感光パターンをマスクにして前記第1の凸パターンをエッチングすることにより、第2の凸パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とするクリシェの製造方法。 - 前記第2の凸パターンを前記第1の凸パターンの表面に形成することを特徴とする請求項1または2に記載のクリシェの製造方法。
- 前記第2の凸パターンの表面に接着力強化剤を塗布する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載のクリシェの製造方法。
- 前記接着力強化剤が、HMDS(Hexa Methyl Disilazane)であることを特徴とする請求項4に記載のクリシェの製造方法。
- 表面に複数の凹凸を有する凸パターンが複数個形成されたクリシェを備える段階と、
基板上にエッチング対象層を形成した後、その上部にインキを塗布する段階と、
前記凸パターンの表面と前記エッチング対象層上に塗布されたインキとが接触するように、前記クリシェと前記基板とを貼り合わせる段階と、
前記クリシェと前記基板とを分離させることにより、前記エッチング対象層上に残留するインキパターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記クリシェを備える段階が、
透明なガラス基板上に金属膜を蒸着する段階と、
前記金属膜をパターニングして第1の金属パターンを形成する段階と、
前記第1の金属パターンをマスクにして前記ガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、
前記第1の金属パターンをパターニングして第2の金属パターンを形成する段階と、
前記第2の金属パターンをマスクにして前記第1の凸パターンをエッチングすることにより、前記第1の凸パターンの表面に第2の凸パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。 - 前記クリシェを備える段階が、
透明なガラス基板上に感光膜を塗布した後、回折露光により、第1の厚さを有する第1の感光パターンと第2の厚さを有する第2の感光パターンとが交互に配列される感光パターンを形成する段階と、
前記感光パターンをマスクにして前記ガラス基板をエッチングすることにより、第1の凸パターンを形成する段階と、
前記第1の感光パターンを除去した後、前記第2の感光パターンをマスクにして前記第1の凸パターンをエッチングすることにより、前記第1の凸パターンの表面に第2の凸パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。 - 前記クリシェと前記基板とを分離させることによって、前記クリシェの凸パターンと接触する領域のインキが前記凸パターンに付着して、前記エッチング対象層から除去されることを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記エッチング対象層に形成されたインキパターンが、前記クリシェの凸パターンと接触する領域以外の領域に形成されることを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記インキパターンを硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記インキパターンを硬化させる段階が、前記インキパターンに熱を加える段階を含むことを特徴とする請求項11に記載のパターン形成方法。
- 前記インキパターンを硬化させる段階が、前記インキパターンにUVを照射する段階を含むことを特徴とする請求項11に記載のパターン形成方法。
- 前記インキパターンをマスクにして前記エッチング対象層をエッチングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
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