KR100950134B1 - 레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 - Google Patents
레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100950134B1 KR100950134B1 KR1020020085630A KR20020085630A KR100950134B1 KR 100950134 B1 KR100950134 B1 KR 100950134B1 KR 1020020085630 A KR1020020085630 A KR 1020020085630A KR 20020085630 A KR20020085630 A KR 20020085630A KR 100950134 B1 KR100950134 B1 KR 100950134B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- resist
- substrate
- pattern
- glass paste
- screen plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F3/00—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed
- B41F3/18—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed of special construction or for particular purposes
- B41F3/30—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed of special construction or for particular purposes for lithography
- B41F3/34—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed of special construction or for particular purposes for lithography for offset printing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
Claims (13)
- 기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 레지스트층을 도포하는 단계;상기 레지스트층을 현상하여 상기 기판 상에 선택적으로 잔류하는 레지스트패턴을 형성하는 단계;상기 레지스트패턴 상에 이격거리를 두고 스크린판을 올려놓는 단계;상기 스크린판 상에 글라스페이스트를 도포하는 단계;상기 글라스페이스트가 도포된 스크린판의 표면을 스퀴즈로 압력을 가하면서 밀어줌으로써, 상기 기판 중에서 레지스트패턴 사이에 노출된 영역에 글라스페이스트를 충진하되, 상기 기판 상의 레지스트패턴과 스크린판 사이의 이격거리를 일정하게 유지하는 단계;상기 글라스페이스트가 레지스트 패턴의 높이까지 충진되면 스크린판을 제거하는 단계; 및상기 레지스트패턴을 제거함으로써 홈을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 패턴형성용 인쇄장치의 클리체 제조방법.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 유리나 플라스틱 또는 웨이퍼로 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴형성용 인쇄장치의 클리체 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 니켈(Ni) 또는 스틸(steel)과 같은 금속물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴형성용 인쇄장치의 클리체 제조방법.
- 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 상에 레지스트층을 도포하는 단계와, 상기 레지스트층을 현상하여 상기 기판 상에 선택적으로 잔류하는 제1레지스트패턴을 형성하는 단계와, 상기 제1레지스트패턴 상에 이격거리를 두고 스크린판을 올려놓는 단계와, 상기 스크린판 상에 글라스페이스트를 도포하는 단계와, 상기 글라스페이스트가 도포된 스크린판의 표면을 스퀴즈로 압력을 가하면서 밀어줌으로써 상기 기판 중에서 제1레지스트패턴 사이에 노출된 영역에 글라스페이스트를 충진하되 상기 기판 상의 레지스트패턴과 스크린판 사이의 이격거리를 일정하게 유지하는 단계와, 상기 글라스페이스트가 레지스트패턴의 높이까지 충진되면 스크린판을 제거하는 단계와, 상기 제1레지스트패턴을 제거하여 홈을 형성하는 단계를 수행함으로써, 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계;상기 클리체의 홈 내부에 레지스트를 충진하는 단계;상기 클리체의 홈 내부에 충진된 레지스트를 인쇄롤의 표면에 전사시키는 단계;상기 인쇄롤의 표면에 전사된 레지스트를 식각대상층에 재전사시켜 제2레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제2레지스트를 마스크로 하여 식각대상층을 선택적으로 식각하여 원하는 패턴을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 액정표시소자의 패턴형성방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020085630A KR100950134B1 (ko) | 2002-12-27 | 2002-12-27 | 레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020085630A KR100950134B1 (ko) | 2002-12-27 | 2002-12-27 | 레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040059096A KR20040059096A (ko) | 2004-07-05 |
KR100950134B1 true KR100950134B1 (ko) | 2010-03-30 |
Family
ID=37351135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020020085630A KR100950134B1 (ko) | 2002-12-27 | 2002-12-27 | 레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100950134B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101468814B1 (ko) * | 2012-07-11 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 디스플레이 기판의 베젤 패턴 형성 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07240523A (ja) * | 1994-02-25 | 1995-09-12 | G T C:Kk | オフセット印刷法による薄膜トランジスタ回路の形成方法 |
KR20000004378A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체층 형성방법 |
KR20000010821A (ko) * | 1996-05-17 | 2000-02-25 | 모리시타 요이찌 | 인쇄방법 및 인쇄장치 |
KR20010001230A (ko) * | 1999-06-02 | 2001-01-05 | 구자홍 | 표시소자용 스페이서 부재 및 그 제조방법 |
-
2002
- 2002-12-27 KR KR1020020085630A patent/KR100950134B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07240523A (ja) * | 1994-02-25 | 1995-09-12 | G T C:Kk | オフセット印刷法による薄膜トランジスタ回路の形成方法 |
KR20000010821A (ko) * | 1996-05-17 | 2000-02-25 | 모리시타 요이찌 | 인쇄방법 및 인쇄장치 |
KR20000004378A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체층 형성방법 |
KR20010001230A (ko) * | 1999-06-02 | 2001-01-05 | 구자홍 | 표시소자용 스페이서 부재 및 그 제조방법 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101468814B1 (ko) * | 2012-07-11 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 디스플레이 기판의 베젤 패턴 형성 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040059096A (ko) | 2004-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4330158B2 (ja) | パターン形成方法 | |
KR100825315B1 (ko) | 잉크인쇄용 클리체 및 그 제조방법 | |
JP4322226B2 (ja) | 印刷方式を利用したパターン形成方法 | |
US8186271B2 (en) | Method for manufacturing printing plate | |
US8291820B2 (en) | Intaglio printing plate, production method for intaglio printing plate, production method for electronic substrate, and production method for display device | |
US20030084796A1 (en) | Method for forming pattern using printing process | |
US6759348B1 (en) | Pattern and its forming method of liquid crystal display device | |
KR100652217B1 (ko) | 인쇄방식을 이용한 패턴 형성방법 | |
KR100631016B1 (ko) | 인쇄방식에 의한 패턴 형성시 사용되는 인쇄롤의 제조방법및 이를 이용한 패턴 형성방법 | |
KR100950134B1 (ko) | 레지스트인쇄용 클리체 및 그 제조방법 | |
US7520220B2 (en) | Cliché unit, printing apparatus, and printing method using the same | |
KR20080062952A (ko) | 인쇄롤, 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 | |
KR100950133B1 (ko) | 인쇄방식에 의한 패턴형성방법 | |
JPH04239684A (ja) | 微細パターン形成方法 | |
US20030124865A1 (en) | Method for forming pattern using printing process | |
KR100492729B1 (ko) | 인쇄방식에 의한 패턴형성방법 | |
US20030124260A1 (en) | Method for forming metal pattern | |
KR100631015B1 (ko) | 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법 | |
KR100914198B1 (ko) | 레지스트인쇄용 클리체의 제조방법 | |
KR100724480B1 (ko) | 패턴형성을 위한 인쇄장치 및 이를 이용한 패턴형성방법 | |
KR20030034975A (ko) | 그라비아인쇄장치 및 이를 이용한 패턴형성방법 | |
KR100817126B1 (ko) | 자성레지스트 인쇄장치 및 이를 이용한 패턴형성방법 | |
KR101477299B1 (ko) | 그라비아 오프셋 인쇄장치용 요판 및 이의 제조방법 | |
KR20080062953A (ko) | 인쇄방식에 의한 패턴 형성방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131227 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160226 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180213 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200219 Year of fee payment: 11 |