JP2005337957A - Substrate inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、基板表面を撮像して得た画像を分析することより基板上にプリントされたパターン等の良否を判断するための基板検査装置に関する。 The present invention relates to a substrate inspection apparatus for determining the quality of a pattern printed on a substrate by analyzing an image obtained by imaging a substrate surface.
従来、このような基板検査装置として、CCDラインセンサと、CCDラインセンサにおけるCCDの配列方向に配置される線状光源とを備え、これらのCCDラインセンサと線状光源とを基板表面に対して走査方向に移動することにより、基板の画像を短冊状に読み取る構成を有する基板検査装置が公知である。このような従来の基板検査装置は、基板においてCCDラインセンサにより読み取られる領域を照明する照度分布に凹凸があった場合には、画像の正確な濃度情報を得ることができない、という問題が生じる。 Conventionally, as such a substrate inspection apparatus, a CCD line sensor and a linear light source arranged in the CCD array direction in the CCD line sensor are provided, and these CCD line sensor and linear light source are disposed on the substrate surface. A substrate inspection apparatus having a configuration that reads an image of a substrate in a strip shape by moving in the scanning direction is known. Such a conventional substrate inspection apparatus has a problem that accurate density information of an image cannot be obtained when the illuminance distribution for illuminating the area read by the CCD line sensor on the substrate is uneven.
そこで、特許文献1に記載されるように、CCDラインセンサにおけるCCDの配列方向に配置される複数のLEDによりCCDラインセンサにより読み取られる領域を照明するものであって、複数のLEDは、レンチキュラレンズを介して基板を照明することにより、CCDラインセンサにより読み取られる領域を照明する照度分布を均一にすることができる基板検査装置が提案された。
プリントされるパターンが微細化され、また、この微細化により基板表面を従来よりも平滑な平面とする処理がなされるようになった近年の基板においては、基板の表面において乱反射が起こりにくく、特許文献1に記載されるような基板検査装置によっても、CCDラインセンサにおけるCCDの配列方向において、パターンの凹凸による明確な濃度情報を得ることが困難となる場合がある。この結果、基板にプリントされたパターンを明瞭に撮像することができないという問題が生じていた。 In the recent substrate where the printed pattern is miniaturized and the substrate surface is processed to make the substrate surface smoother than before by this miniaturization, irregular reflection hardly occurs on the surface of the substrate. Even with a substrate inspection apparatus as described in Document 1, it may be difficult to obtain clear density information due to pattern irregularities in the CCD array direction of the CCD line sensor. As a result, there has been a problem that the pattern printed on the substrate cannot be clearly imaged.
例えば、CCDラインセンサが基板に対して走査移動する方向(CCDラインセンサの配列方向に対して直交する方向)に微小幅の細線パターンが複数並列して延びているような配線パターンの場合は、細線パターンと各細線パターン間の溝部(各細線の隙間にあたる凹部)との濃淡が明瞭に区別できないという問題があった。特に近年の微細化された基板または基板表面が鏡面のように平滑化された基板においては、このような問題が顕著であった。なお、このような問題は、基板表面の鏡面化による照明光の反射・散乱の相違による影響であると考えられる。 For example, in the case of a wiring pattern in which a plurality of fine line patterns having a minute width extend in parallel in the direction in which the CCD line sensor scans and moves with respect to the substrate (the direction orthogonal to the arrangement direction of the CCD line sensor) There is a problem that the density of the fine line pattern and the groove between the fine line patterns (the concave part corresponding to the gap between the fine lines) cannot be clearly distinguished. In particular, such a problem is remarkable in a recent miniaturized substrate or a substrate whose substrate surface is smoothed like a mirror surface. Such a problem is considered to be due to a difference in reflection / scattering of illumination light due to the mirror surface of the substrate.
この発明は、以上の課題を解決するためになされたものであり、基板上のパターンを明瞭に撮像することが可能な基板検査装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus capable of clearly imaging a pattern on a substrate.
請求項1に記載の発明は、多数のCCDが列設されたCCDラインセンサにより基板表面を撮像する基板検査装置において、前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と平行な方向に配設された略線状の光照射部を備え、前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域に向けて光を照射する第1照明手段と、前記第1照明手段における光照射部の長手方向の両側に配設され、前記CCDラインセンサにおける多数のCCDと前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域とを含む基準平面に投影した場合に、前記第1照明手段から出射された光の前記基板表面への前記基準平面への投影後の照射角度とは異なる照射角度で、前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域に向けて光を照射する第2照明手段と、前記CCDラインセンサ、前記第1照明手段、および、前記第2照明手段を、前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と垂直な方向に、前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備えることを特徴とする。 According to a first aspect of the present invention, in a substrate inspection apparatus for imaging a substrate surface by a CCD line sensor in which a number of CCDs are arranged, the CCD line sensor is arranged in a direction parallel to the CCD arrangement direction. A first illuminating unit that includes a substantially linear light irradiating unit and irradiates light toward a region imaged by the CCD line sensor on the substrate surface; and both longitudinal sides of the light irradiating unit in the first illuminating unit Of the light emitted from the first illumination means when projected onto a reference plane including a number of CCDs in the CCD line sensor and a region imaged by the CCD line sensor on the substrate surface. Photographed by the CCD line sensor on the substrate surface at an irradiation angle different from the irradiation angle after projection onto the reference plane onto the substrate surface A second illuminating means for irradiating light toward the area, the CCD line sensor, the first illuminating means, and the second illuminating means in a direction perpendicular to the CCD line-up direction in the CCD line sensor, And a moving means for moving the substrate relative to the substrate.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板検査装置において、前記第1照明手段は、前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と平行な方向に複数のLEDが列設された構成を有する。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the first aspect, the first illumination unit includes a plurality of LEDs arranged in a direction parallel to a CCD arrangement direction of the CCD line sensor. It has a configuration.
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の基板検査装置において、前記第2照明手段は、前記第1照明手段におけるLEDの列設方向と交差する方向に複数のLEDが列設された構成を有する。 According to a third aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the first or second aspect, the second illuminating unit includes a plurality of LEDs in a direction intersecting with the LED arrangement direction in the first illuminating unit. Are arranged in a row.
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の基板検査装置において、前記基板と前記第2照明手段におけるLEDとの間には、当該第2照明手段におけるLEDから出射された光の前記基板表面上での照度分布を均一にするためのレンチキュラレンズを備える。 According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the third aspect, the light emitted from the LED in the second illuminating unit is between the substrate and the LED in the second illuminating unit. A lenticular lens for making the illuminance distribution on the substrate surface uniform is provided.
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の基板検査装置において、前記第2照明手段における複数のLEDは、前記基準平面と略同一平面上に配設される。 According to a fifth aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to any one of the first to fourth aspects, the plurality of LEDs in the second illuminating means are arranged on substantially the same plane as the reference plane. The
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板検査装置において、前記第2照明手段は、前記第1照明手段とは独立して点灯可能に構成される。 According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to any one of the first to fifth aspects, the second illuminating unit is configured to be lit independently of the first illuminating unit. .
請求項7に記載の発明は、複数のCCDが列設されたCCDラインセンサを備えた撮像ヘッドを被検査基板と相対移動させて被検査基板上の配線パターンを線順次に撮像し、撮像して得た画像データに基づいてパターンの良否を検査する基板検査装置において、前記撮像ヘッドは、前記CCDラインセンサの列設方向に対して略平行に設けられた第1照明手段と、前記第1照明手段とは個別に前記CCDラインセンサの両端に配置され、前記CCDラインセンサの両端側から前記撮像領域に向かって照明を行う少なくとも一対の第2照明手段とを備えることを特徴とする。 According to the seventh aspect of the present invention, an imaging head having a CCD line sensor in which a plurality of CCDs are arranged is moved relative to the substrate to be inspected, and a wiring pattern on the substrate to be inspected is sequentially imaged and imaged. In the substrate inspection apparatus for inspecting the quality of the pattern based on the image data obtained in this manner, the imaging head includes first illumination means provided substantially parallel to the direction in which the CCD line sensors are arranged, and the first It is characterized by comprising at least a pair of second illuminating means which are disposed separately at both ends of the CCD line sensor separately from the illuminating means and illuminate from both end sides of the CCD line sensor toward the imaging region.
請求項1に記載の発明によれば、第1照明手段における光照射部の長手方向の両側に配設された第2照明手段を備えることから、基板上のパターンを明瞭に撮像することが可能となる。特に、この第2照明手段を備えることにより、CCDラインセンサの列設方向と直交する方向に複数の細線パターンが並列しているような配線パターンを備える基板においても、細線パターンと各細線パターン間の溝部とを良好に撮像することができ、基板表面が比較的平滑に鏡面化された基板であっても良好に検査を行うことができる。 According to the first aspect of the present invention, since the second illumination unit disposed on both sides in the longitudinal direction of the light irradiation unit in the first illumination unit is provided, the pattern on the substrate can be clearly imaged. It becomes. In particular, by providing the second illuminating means, even in a substrate having a wiring pattern in which a plurality of fine line patterns are arranged in parallel in a direction orthogonal to the direction in which the CCD line sensors are arranged, the fine line pattern and each fine line pattern are not connected. Thus, even a substrate having a relatively smooth mirror surface can be inspected satisfactorily.
請求項2に記載の発明によれば、第1照明手段は、CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と平行な方向に複数のLEDが列設された構成を有することから、基板表面におけるCCDラインセンサにより撮像される領域に対して、制御が容易で安定性の高い光を照射することが可能となる。 According to the second aspect of the present invention, the first illumination means has a configuration in which a plurality of LEDs are arranged in a direction parallel to the CCD arrangement direction in the CCD line sensor. The region imaged by the sensor can be irradiated with light that is easy to control and highly stable.
請求項3に記載の発明によれば、第2照明手段は、第1照明手段におけるLEDの列設方向と交差する方向に複数のLEDが列設された構成を有することから、基板表面におけるCCDラインセンサにより撮像される領域に対して、制御が容易で安定性の高い光を照射することが可能となる。 According to the invention described in claim 3, since the second illumination means has a configuration in which a plurality of LEDs are arranged in a direction intersecting with the LED arrangement direction in the first illumination means, the CCD on the substrate surface is provided. The region imaged by the line sensor can be irradiated with light that is easy to control and highly stable.
請求項4に記載の発明によれば、基板と前記第2照明手段におけるLEDとの間には、レンチキュラレンズを備えることから、第2照明手段におけるLEDから出射された光の基板表面上での照度分布を均一にすることが可能となる。 According to the invention described in claim 4, since a lenticular lens is provided between the substrate and the LED in the second illumination means, the light emitted from the LED in the second illumination means on the substrate surface. The illuminance distribution can be made uniform.
請求項5に記載の発明によれば、第2照明手段における複数のLEDは、基準平面と略同一平面上に配設されることから、基板上のパターンをより明瞭に撮像することが可能となる。 According to the invention described in claim 5, since the plurality of LEDs in the second illuminating means are arranged on substantially the same plane as the reference plane, the pattern on the substrate can be imaged more clearly. Become.
請求項6に記載の発明によれば、第2照明手段は、第1照明手段とは独立して点灯可能に構成されることから、撮像される基板上のパターンに応じて、当該パターンを明瞭に撮像することが可能となる。 According to the invention described in claim 6, since the second illumination means is configured to be lit independently of the first illumination means, the pattern is clearly defined according to the pattern on the substrate to be imaged. It becomes possible to pick up images.
請求項7に記載の発明によれば、撮像ヘッドは、CCDラインセンサの列設方向に対して略平行に設けられた第1照明手段と、第1照明手段とは個別にCCDラインセンサの両端に配置され、CCDラインセンサの両端側から撮像領域に向かって照明を行う少なくとも一対の第2照明手段とを備えることから、基板上のパターンを明瞭に撮像することが可能となる。特に、この第2照明手段を備えることにより、CCDラインセンサの列設方向と直交する方向に複数の細線パターンが並列しているような配線パターンを備える基板においても、細線パターンと各細線パターン間の溝部とを良好に撮像することができ、基板表面が比較的平滑に鏡面化された基板であっても良好に検査を行うことができる。 According to the seventh aspect of the present invention, the imaging head includes a first illuminating unit provided substantially parallel to the direction in which the CCD line sensors are arranged, and the first illuminating unit separately from both ends of the CCD line sensor. And at least a pair of second illumination means for illuminating from both ends of the CCD line sensor toward the imaging region, it is possible to clearly image the pattern on the substrate. In particular, by providing the second illuminating means, even in a substrate having a wiring pattern in which a plurality of fine line patterns are arranged in parallel in a direction orthogonal to the direction in which the CCD line sensors are arranged, the fine line pattern and each fine line pattern are not connected. Thus, even a substrate having a relatively smooth mirror surface can be inspected satisfactorily.
以下、この発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、この発明に係る基板検査装置における撮像ヘッド10を示す側断面図である。また、図2は、この発明に係る基板検査装置を図1におけるA−A方向から示す断面図である。
FIG. 1 is a side sectional view showing an
この発明に係る基板検査装置は、多数のCCDが列設されたCCDラインセンサ20により基板表面を撮像し、撮像した基板表面の画像データと所定の基準となる画像データとを比較することにより、基板表面にプリントされたパターンの良否を判断するための装置である。この基板検査装置は、基板を撮像するための撮像ヘッド10と、撮像ヘッド10を基板に対して相対的に移動させる移動手段50(図3参照)とを備える。この移動手段は、撮像ヘッド10を、基板に対して相対的にCCDラインセンサ20におけるCCDの列設方向(図1において紙面に垂直方向)と垂直な方向(図1において紙面の左右方向)に移動させる。
The substrate inspection apparatus according to the present invention images a substrate surface by a
撮像ヘッド10は、基板に向かう下面が開口した中空の筐体11と、筐体11内に備えられ、下面の開口部から入射した走査光を集光するレンズなどの光学系12と、筐体11内に備えられ、光学系12で集光された光を受光するCCDラインセンサ20と、基板表面におけるCCDラインセンサ20により撮像される領域に向けて光を照射する6個の第1照明手段30と、基板表面におけるCCDラインセンサ20により撮像される領域に向けて光を照射する一対の第2照明手段40とを備える。
The
図3は、この発明に係る基板検査装置の主要な電気的構成を示すブロック図である。この基板検査装置は、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたROM61と、制御時にデータ等が一時的にストアされるRAM62と、CPU63とからなる制御部60を備える。この制御部60は、インタフェース64を介して、移動手段50、CCDラインセンサ20、第1照明手段30、および、第2照明手段40と接続されており、これらの動作を制御する。なお、第2照明手段40は、制御部60の制御により、第1照明手段30とは独立して点灯可能である。
FIG. 3 is a block diagram showing the main electrical configuration of the substrate inspection apparatus according to the present invention. The board inspection apparatus includes a
なお、基板検査装置において、撮像ヘッド10を複数個列設することにより、一回の移動で基板の全体を撮像するようにしてもよく、また、単一の撮像ヘッド10を使用して、短冊状の領域を繰り返し複数回撮像するようにしてもよい。後者は、移動手段5が撮像ヘッド10をCCDラインセンサ20におけるCCDの列設方向に相対的に副走査移動させる機構である場合を含む。
In the substrate inspection apparatus, a plurality of
図4は、上述した第1照明手段30および第2照明手段40を拡大して示す斜視図である。 FIG. 4 is an enlarged perspective view showing the first illumination means 30 and the second illumination means 40 described above.
第1照明手段30は、第1支持部材34上において、CCDラインセンサ20におけるCCDの列設方向と平行な方向に複数のLED31が列設された構成を有する。そして、検査すべき基板に対して、CCDラインセンサ20におけるCCDの列設方向と平行な方向に向けて略線状に光を照射する。
The first illumination means 30 has a configuration in which a plurality of
また、第1照明手段30は、基板とLED31との間に、レンチキュラレンズ33を備える。このレンチキュラレンズ33は、第1支持部材34上に立設される一対の柱部材36により第1支持部材34に固定される。このレンチキュラレンズ33の作用により、LED31から出射された光の基板表面上での照度分布を均一にすることが可能となる。さらに、図1および図2において示すように、第1照明手段30は、基板とレンチキュラレンズ33との間に、リニアフレネルレンズ32を備える。このリニアフレネルレンズ32は、LED31から基板への照射光軸上にあればよく、この実施形態では、レンチキュラレンズ33に接合して固定されている。このリニアフレネルレンズ32の作用により、LED31から出射された光を基板表面におけるCCDラインセンサ20により撮像される領域に対して集光することが可能となる。なお、図4においては、リニアフレネルレンズ32の図示を省略している。
The
図5は、CCDラインセンサ20、第1照明手段30、および、第2照明手段40の位置関係を模式的に示す説明図である。また、図6は、第1照明手段30および第2照明手段40から出射された光を、図5における基準平面abcd(CCDラインセンサ20の列設方向を表す線分adと撮像領域を表す線分bcとを含む平面)に投影した場合の光の照射角度を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a positional relationship among the
なお、図5および図6において、第1照明手段30における列設されるLED31および第2照明手段40において列設されるLED41を模式的に表している。また、線分adに平行な方向をY軸、線分abに平行な方向をZ軸、平面abcdに垂直な方向をX軸としている。
5 and 6, the
一対の第2照明手段40は、第1照明手段30におけるLED31の列設方向の両側に配設される。第2照明手段40は、図6において示すように、第2照明手段20から出射された光を基準平面abcdに投影した場合の当該光の基板表面に対する照射角度(以下、「第2投影後照射角度」という)θ2が、第1照明手段30から出射された光を基準平面abcdに投影した場合の当該光の基板表面に対する照射角度(以下、「第1投影後照射角度」という)θ1と異なるように配置される。(なお、この実施形態において、θ1は0°、すなわち照射面に対して垂直である。)このため、複数の微細な細線がCCDラインセンサ20の列設方向と直交する方向(図6において紙面に垂直方向)に並列するような配線パターンであっても、細線と各細線間の溝部とを良好に照明することができる。特に、平滑な平面処理がなされた基板であっても、基板にプリントされたパターンを明瞭に撮像することが可能となる。
The pair of second illumination means 40 are disposed on both sides of the first illumination means 30 in the row direction of the
また、第2照明手段40は、図4や図6において示すように、第1照明手段30におけるLED31の列設方向と交差する方向に複数のLED41が第2支持部材44上に列設された構成を有する。なお、第2照明手段40は、その照明により基板上の撮像領域に対し均一な光量分布となるように配設されることが好ましい。また、第2照明手段40におけるLED41は、基準平面abcdと略同一平面上に配設されることが好ましい。
Further, as shown in FIGS. 4 and 6, the second illumination means 40 has a plurality of
また、図2および図4において示すように、第2照明手段40は、基板とLED41との間に、レンチキュラレンズ43を備える。このレンチキュラレンズ43は、図示しない固定部材を介して第2支持部材44に固定される。このレンチキュラレンズ43の作用により、LED41から出射された光の基板表面上での照度分布を均一にすることが可能となる。さらに、図2において示すように、第2照明手段40は、基板とレンチキュラレンズ43との間に、リニアフレネルレンズ42を備える。このリニアフレネルレンズ42は、LED41から基板への照射光軸上にあればよく、この実施形態では、レンチキュラレンズ43に接合して固定されている。このリニアフレネルレンズ42の作用により、LED41から出射された光を基板表面におけるCCDラインセンサ20により撮像される領域に対して集光することが可能となる。
2 and 4, the
なお、この実施形態において、第1照明手段30および第2照明手段40がLED31、41により光を照射しているのは、制御が容易で安定性の高い光を照射することができるためである。ただし、多数のLED31、LED41を列設して線状の光源を構成する代わりに、単一の線状の光源を使用することも可能である。
In this embodiment, the reason why the
以上のような基板検査装置を用いて基板を撮像する場合には、撮像ヘッド10を移動手段60により基板表面と平行に移動させる。このとき、基板に対して第1照明手段30および第2照明手段40とにより照明を行いながら走査をする。この両照明手段30、40により照明された光は基板により反射し、この反射光は筐体11の下方に設けられた開口部を通過して光学系12に入射する。そして、光学系12に入射した光は、CCDラインセンサ20に対して集光される。CCDラインセンサ20は、このようにして受光した光を光電変換し、基板上の撮像領域を線順次で画像データとして取り込む。この実施形態では、基板表面に対して第1照明手段30および第2照明手段40により光を照射することにより、微小幅の細線パターンが複数並列して延びているような配線パターンである場合や、基板表面が比較的平滑に鏡面化された場合であっても、基板上のパターンを明瞭に撮像することが可能となる。なお、基板上のパターンの線間隔が大きい場合や基板表面があまり平滑でない等の場合には、第2照明手段40を消灯して従来どおり第1照明手段30のみで撮像してもよい。
When imaging the substrate using the substrate inspection apparatus as described above, the
図7は、第2照明手段40を点灯せずに基板表面を撮像した場合と、第2照明手段40を点灯して基板表面を撮像した場合とを比較するための説明図である。これらの図のうち、図7(a)は第2照明手段40を点灯せずに撮像した画像の一部を、図7(b)は第2照明手段40を点灯して撮像した画像の一部を模式的に示している。なお、パターンPは、いずれもCCDの列設方向と直交する方向に延びているものとする。 FIG. 7 is an explanatory diagram for comparing the case where the substrate surface is imaged without turning on the second illumination means 40 and the case where the second illumination means 40 is turned on and the substrate surface is imaged. Among these figures, FIG. 7A shows a part of an image taken without turning on the second illumination means 40, and FIG. 7B shows an image taken with the second illumination means 40 turned on. The part is shown schematically. Note that all the patterns P extend in a direction orthogonal to the CCD arrangement direction.
図7(a)と図7(b)とを比較すると、図7(a)はパターンがプリントさている部分Pとパターンがプリントされていない部分(溝部)Nとの濃度差が小さく、境界が不明瞭であるのに対して、図7(b)はパターンがプリントされている部分Pとパターンがプリントされていない部分Nとの境界が明瞭となっている。これにより、第2照明手段40を点灯して撮像したときの方が第2照明手段40を点灯せずに撮像したときよりも、基板にプリントされたパターンを明瞭に撮像していることが明らかとなり、この画像を2値化して比較検査する場合に、パターンPの輪郭が明瞭に判別される。
Comparing FIG. 7 (a) and FIG. 7 (b), FIG. 7 (a) shows a small density difference between the portion P where the pattern is printed and the portion (groove portion) N where the pattern is not printed. Whereas it is unclear, in FIG. 7B, the boundary between the portion P where the pattern is printed and the portion N where the pattern is not printed is clear. Thus, it is clear that the pattern printed on the board is clearly captured when the
なお、実験結果から、第1投影後照射角度θ1と第2投影後照射角度θ2との差をθとすると、10°<|θ|<60°であるときに、基板にプリントされたパターンをより明瞭に撮像することができ、また、20°<|θ|<45°であるときに、基板にプリントされたパターンをさらに明瞭に撮像することができることが判っている。なお、第1投影後照射角度θ1は、略0°であることが好ましい。 From the experimental results, if the difference between the first post-projection irradiation angle θ1 and the second post-projection irradiation angle θ2 is θ, the pattern printed on the substrate is 10 ° <| θ | <60 °. It has been found that a clearer image can be taken, and that a pattern printed on the substrate can be taken more clearly when 20 ° <| θ | <45 °. The first post-projection irradiation angle θ1 is preferably approximately 0 °.
以上に説明した実施形態においては、第2照明手段40は、第1照明手段30におけるLED31の列設方向と交差する方向に複数のLED41が第2支持部材44上に列設された構成により、第1投影後照射角度θ1と第2投影後照射角度θ2とを異ならせているが、第2照明手段にプリズムや光ファイバ等の導光手段を備えてもよい。この場合には、第1照明手段30における線状の光源と第2照明手段40における線状の光源とを平行に配置し、導光手段により、第1投影後照射角度θ1と第2投影後照射角度θ2とを異ならせてもよい。
In the embodiment described above, the
また、以上に説明した実施形態においては、6個の第1照明手段を備えているが、第1照明手段は、単数であってもよく、また、6個以外の複数であってもよい。 In the embodiment described above, six first illumination units are provided. However, the first illumination unit may be a single unit or a plurality other than six units.
さらに、以上に説明した実施形態においては、第1照明手段30におけるLED31の列設方向の両側に一対の第2照明手段40が配設されているが、複数対の第2照明手段40が配設されてもよい。
Furthermore, in the embodiment described above, a pair of second illumination means 40 is disposed on both sides of the first illumination means 30 in the direction in which the
10 撮像ヘッド
11 筐体
12 光学系
20 CCDラインセンサ
30 第1照明手段
31 LED
32 リニアフレネルレンズ
33 レンチキュラレンズ
34 第1支持部材
35 カバー部材
36 柱部材
40 第2照明手段
41 LED
42 リニアフレネルレンズ
43 レンチキュラレンズ
44 第2支持部材
45 カバー部材
50 移動手段
60 制御部
61 ROM
62 RAM
63 CPU
64 インターフェース
θ1 第1投影後照射角度
θ2 第2投影後照射角度
P パターンがプリントされている部分
N パターンがプリントされていない部分
DESCRIPTION OF
32
42
62 RAM
63 CPU
64 Interface θ1 Irradiation angle after the first projection θ2 Irradiation angle after the second projection P The part where the pattern is printed N The part where the pattern is not printed
Claims (7)
前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と平行な方向に配設された略線状の光照射部を備え、前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域に向けて光を照射する第1照明手段と、
前記第1照明手段における光照射部の長手方向の両側に配設され、前記CCDラインセンサにおける多数のCCDと前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域とを含む基準平面に投影した場合に、前記第1照明手段から出射された光の前記基板表面への投影後の照射角度とは異なる照射角度で、前記基板表面における前記CCDラインセンサにより撮像される領域に向けて光を照射する第2照明手段と、
前記CCDラインセンサ、前記第1照明手段、および、前記第2照明手段を、前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と垂直な方向に、前記基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。 In a substrate inspection apparatus that images a substrate surface by a CCD line sensor in which a large number of CCDs are arranged,
A substantially linear light irradiation unit disposed in a direction parallel to the CCD line-up direction in the CCD line sensor, and irradiates light toward a region imaged by the CCD line sensor on the substrate surface. 1 lighting means;
Projected on a reference plane that is disposed on both sides of the light irradiating portion in the first illumination means in the longitudinal direction and includes a number of CCDs in the CCD line sensor and a region imaged by the CCD line sensor on the substrate surface Further, the light emitted from the first illuminating means is irradiated toward a region imaged by the CCD line sensor on the substrate surface at an irradiation angle different from an irradiation angle after the projection onto the substrate surface. A second illumination means;
Moving means for moving the CCD line sensor, the first illuminating means, and the second illuminating means relative to the substrate in a direction perpendicular to the CCD line-up direction in the CCD line sensor;
A board inspection apparatus comprising:
前記第1照明手段は、前記CCDラインセンサにおけるCCDの列設方向と平行な方向に複数のLEDが列設された構成を有する基板検査装置。 The board inspection apparatus according to claim 1,
The first illumination means is a substrate inspection apparatus having a configuration in which a plurality of LEDs are arranged in a direction parallel to a CCD arrangement direction in the CCD line sensor.
前記第2照明手段は、前記第1照明手段におけるLEDの列設方向と交差する方向に複数のLEDが列設された構成を有する基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus of Claim 1 or Claim 2,
The second illuminating means is a substrate inspection apparatus having a configuration in which a plurality of LEDs are arranged in a direction intersecting with an arrangement direction of the LEDs in the first illuminating means.
前記基板と前記第2照明手段におけるLEDとの間には、当該第2照明手段におけるLEDから出射された光の前記基板表面上での照度分布を均一にするためのレンチキュラレンズを備える基板検査装置。 The substrate inspection apparatus according to claim 3,
A substrate inspection apparatus provided with a lenticular lens for uniforming the illuminance distribution on the substrate surface of the light emitted from the LED in the second illumination unit between the substrate and the LED in the second illumination unit .
前記第2照明手段における複数のLEDは、前記基準平面と略同一平面上に配設される基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claim 1 thru | or 4,
The plurality of LEDs in the second illuminating means is a substrate inspection apparatus disposed on substantially the same plane as the reference plane.
前記第2照明手段は、前記第1照明手段とは独立して点灯可能に構成される基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claim 1 thru | or 5,
The second illuminating means is a substrate inspection apparatus configured to be lit independently of the first illuminating means.
前記撮像ヘッドは、前記CCDラインセンサの列設方向に対して略平行に設けられた第1照明手段と、前記第1照明手段とは個別に前記CCDラインセンサの両端に配置され、前記CCDラインセンサの両端側から前記撮像領域に向かって照明を行う少なくとも一対の第2照明手段とを備えることを特徴とする基板検査装置。
An image pickup head having a CCD line sensor in which a plurality of CCDs are arranged is moved relative to the substrate to be inspected, and a wiring pattern on the substrate to be inspected is line-sequentially imaged. In board inspection equipment that inspects the quality of
The imaging head includes first illuminating means provided substantially parallel to the line-up direction of the CCD line sensors, and the first illuminating means are individually disposed at both ends of the CCD line sensor, and the CCD line A substrate inspection apparatus comprising: at least a pair of second illuminating units that illuminate toward the imaging region from both ends of the sensor.
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