JP2005336418A - エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤及び(E)アルミニウム化合物を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、上記全エポキシ樹脂組成物中の、アルミニウム元素含有率が0.25重量%以上5重量%以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
Description
[1] (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤及び(E)アルミニウム化合物を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、上記全エポキシ樹脂組成物中の、アルミニウム元素含有率が0.25重量%以上5重量%以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、
[2] 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される半導体装置を封止するために用いられるエポキシ樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤及び(E)アルミニウム化合物を必須成分とし、上記全エポキシ樹脂組成物中の、アルミニウム元素含有率が0.25重量%以上5重量%以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、
[3] 第[1]項記載のエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置、
[4] 第[1]項記載のエポキシ樹脂組成物を用いてリードフレームや基板に金線を用いて接合された半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置、
[5] 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される
半導体装置であって、第[2]項記載のエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置、
[6] 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される半導体装置であって、第[2]項記載のエポキシ樹脂組成物を用いてリードフレームや基板に金線を用いて接合された半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置、
である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本組成物に用いられるエポキシ樹脂は、分子内にエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーであり、その分子量、分子構造は特に限定するものではないが、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、及びトリアジン核含有エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いてもよい。これらのエポキシ樹脂の中では、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂が、粘度及び弾性率が低い特長を有し、このため半田リフロー時に発生する応力が低く密着性にも優れるため、耐半田リフロー性が良好であり好ましい。
の有機リン系化合物等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いてもよい。
但し、臭素化エポキシ樹脂、三酸化アンチモンは、大量に添加すると、HTSLにおける信頼性を低下させるため、HTSLにおける信頼性を満足できる範囲内で少量添加しても良い。
本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて、半導体素子等の電子部品を封止し、半導体装置を製造するには、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクションモールド等の成形方法で成形硬化すればよい。
ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製 YX−4000K、エポキシ当量185、融点105℃) 5.65重量部
フェノールアラルキル樹脂2(三井化学(株)製XL−225、軟化点79℃、水酸基当量174) 5.35重量部
水酸化アルミニウム(平均粒径3μm) 1.5重量部
溶融シリカ(平均粒径28μm、比表面積1.2mm2/g) 86.5重量部
トリフェニルホスフィン 0.2重量部
カルナバワックス 0.2重量部
γ−グリシジルプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部
カーボンブラック 0.3重量部上記の全成分をミキサーを用いて混合した後、表面温度が90℃と45℃の2本ロールを用いて混練し、冷却後粉砕してエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を以下の方法で評価した。
スパイラルフロー:EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で測定した。単位はcm。
ガラス転移温度(Tg):トランスファー成形機を用いて金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間180秒で10mm×4mm×4mmの硬化物を成形し、ポストキュアとして175℃で8時間処理した後、昇温速度5℃/分でTMA分析した。得られたTMA曲線の60℃、及び240℃の接線の交点温度を読み取り、この温度をガラス転移温度とした。測定にはセイコーインスツルメンツ(株)製TMA−100を用いた。単位は、℃。
曲げ強さ、曲げ弾性率:トランスファー成形機を用いて成形温度175℃、圧力9.8MPa、硬化時間120秒で長さ80mm、幅10mm、厚さ4mmの試験片を成形し、ポストキュアとして175℃で8時間加熱処理した後、260℃での曲げ強さ、曲げ弾性率をJIS K 6911に準じて測定した。単位は、いずれもMPa。
高温保管特性:トランスファー成形機を用いて成形温度175℃、圧力9.8MPa、硬化時間2分で16pSOP(チップサイズ3.5mm×3.5mm)を成形し、175℃、8時間で後硬化した後、高温保管試験(185℃)を行い、配線間の電気抵抗値が初期値に対し20%増加したパッケージを不良と判定し、不良になるまでの時間を測定した。不良時間はn=4ヶの平均値。単位は時間。
高温動作特性:トランスファー成形機を用いて成形温度175℃、圧力9.8MPa、硬化時間2分で16pSOP(チップサイズ3.5mm×3.5mm)を成形し、175℃、8時間で後硬化した後、デイジーチェーンにつないだ両端に0.5Aの直流電流を流す。この状態で185℃での高温保管を行い、配線間の電気抵抗値が初期値に対し20%増加したパッケージを不良と判定し、不良になるまでの時間を測定した。不良時間はn=4ヶの平均値。単位は時間。
表1の配合に従い、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得て、実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
なお、実施例1以外で用いた成分について以下に示す。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂:日本化薬(株)製 EOCN−1020−62、軟化点62℃、水酸基当量198
アラルキル型エポキシ樹脂:式(1)に示すエポキシ樹脂、軟化点58℃、エポキシ当量272
軟化点60℃、水酸基当量263
Br化エポキシ樹脂:日本化薬(株)製 BREN−S、軟化点84℃、水酸基当量273
フェノールノボラック型樹脂:軟化点80℃、水酸基当量104
フェノールアラルキル樹脂1:式(2)に示すフェノール樹脂、軟化点73℃、水酸基当量200
水酸化マグネシウム:Mg(OH)2 平均粒径 3μm
窒化アルミニウム:AlN 平均粒径 15μm
アルミナ:Al203 平均粒径 20μm
DBU:1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7
Claims (6)
- (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤及び(E)アルミニウム化合物を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、上記全エポキシ樹脂組成物中の、アルミニウム元素含有率が0.25重量%以上5重量%以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される半導体装置を封止するために用いられるエポキシ樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤及び(E)アルミニウム化合物を必須成分とし、上記全エポキシ樹脂組成物中の、アルミニウム元素含有率が0.25重量%以上5重量%以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1記載のエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1記載のエポキシ樹脂組成物を用いてリードフレームや基板に金線を用いて接合された半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。
- 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される半導体装置であって、請求項2記載のエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。
- 150℃を超える高温環境下での動作保証を要求される電子部品に使用される半導体装置であって、請求項2記載のエポキシ樹脂組成物を用いてリードフレームや基板に金線を用いて接合された半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。
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