JP2005336010A - 単結晶の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、結晶材料を昇華させて単結晶を効率よく成長させる単結晶の製造方法を提供するものである。
【解決手段】 かゝる本発明は、るつぼ100内に雰囲気ガスgを導入すると共に、結晶材料20を昇華させて単結晶板40を成長させる単結晶の製造方法において、るつぼのガス排出口130側をガス透過性の多孔質材で形成して、るつぼ内のガス流制御を行う単結晶の製造方法にあり、これによって、結晶材料ガスの析出・成長を効率よく行うことができる。
【選択図】 図1
【解決手段】 かゝる本発明は、るつぼ100内に雰囲気ガスgを導入すると共に、結晶材料20を昇華させて単結晶板40を成長させる単結晶の製造方法において、るつぼのガス排出口130側をガス透過性の多孔質材で形成して、るつぼ内のガス流制御を行う単結晶の製造方法にあり、これによって、結晶材料ガスの析出・成長を効率よく行うことができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造装置及び製造装置に関するものである。
AlNやSiCなどの単結晶(基板など)の製造にあたっては、一般にるつぼ内に結晶材料を入れ、このるつぼ(坩堝)内に外部から雰囲気ガスを導入しつつ、昇華した結晶材料を単結晶として成長させている。
例えば、AlNの単結晶製造では、図3に示すような、るつぼ10を用意し、その底面側に結晶材料20の充填された容器30を設置する一方、底面側のガス導入口11から窒素ガスなどの雰囲気ガスgを導入して、昇華された結晶材料20を、るつぼ10の内部上面側(単結晶設置部)の単結晶板40に析出・成長させ、使用済みの雰囲気ガスgは、るつぼ上面側のガス排出口12から排出させている。勿論、るつぼ10自体は、図示しない外部の加熱手段で、結晶材料20が昇華する温度まで加熱してある。
このような昇華法による単結晶の製造方法としては、既に種々の方法が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。
特開平10−53495号公報
特開2002−60297号公報
このような昇華法による単結晶の製造方法としては、既に種々の方法が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。
ところが、上記製造方法の場合、基本的にるつぼ10が開放型であるため、雰囲気ガスg(窒素ガス)と一緒に、昇華した結晶材料20が流出され易いという問題があった。つまり、AlNの単結晶製造では、結晶材料20のAlガスが流出されるため、収率の向上が難しいという問題があった。一方、SiCの単結晶製造では、用いるるつぼが準密閉型であるため、析出ガスであるSi2 CやSiC2 が流出し難いものの、雰囲気ガスg(通常Arガス)と一緒に流出するのを制御するのは困難であった。
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたもので、基本的には、るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成することにより、るつぼ内のガス流(ガス圧)を最適に制御するようにした、単結晶の製造方法及び製造装置を提供するものである。
請求項1記載の本発明は、るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造方法において、前記るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成して、前記るつぼ内のガス流制御を行うことを特徴とする単結晶の製造方法にある。
請求項2記載の本発明は、るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造装置において、前記るつぼ内上部側の単結晶設置部の周囲を凸状のテーパー形状とすると共に、当該テーパー形状部のガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成したことを特徴とする単結晶の製造装置にある。
請求項3記載の本発明は、るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造装置において、前記るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成したことを特徴とする単結晶の製造装置にある。
請求項4記載の本発明は、前記単結晶が、AlN、SiC、ZnSe、GaNであることを特徴とする請求項1、2又は3記載の単結晶の製造装置にある。
本発明の単結晶の製造方法、及び製造装置では、るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成してあるため、るつぼ内のガス流制御を容易に行うことができる。
つまり、雰囲気ガスのマスフローコントローラーなどを通じて、昇華させた結晶材料(結晶材料ガス)を、るつぼ内に長く滞留させるなどの調整が可能となる。これにより、昇華させた結晶材料の排出を最小限に抑えることができ、結果として、結晶材料の成長収率を大幅に向上させることができる。
つまり、雰囲気ガスのマスフローコントローラーなどを通じて、昇華させた結晶材料(結晶材料ガス)を、るつぼ内に長く滞留させるなどの調整が可能となる。これにより、昇華させた結晶材料の排出を最小限に抑えることができ、結果として、結晶材料の成長収率を大幅に向上させることができる。
また、製造装置において、るつぼのガス排出口側のガス透過性の多孔質材化と組み合わせて、るつぼ内上部側の単結晶設置部の周囲を凸状のテーパー形状とすれば、単結晶側への結晶材料ガスの集中的な滞留調整が可能となるため、より良好な結晶材料の成長収率が期待できる。
また、単結晶にあっても、AlN、SiC、ZnSe、GaNなどに広く対応することができる。
図1は、本発明の単結晶の製造方法を実施するための製造装置の最良の形態の一例を示したものである。この製造装置のるつぼ100の場合、るつぼ内上部側の単結晶設置部110の周囲を凸状のテーパー形状としてある。つまり、矩形のるつぼでは、上部側の単結晶設置部110を、一種の山形の屋根形状とする。また、筒型のるつぼでは、円錐台の屋根形状とする。
この屋根形状部120にあって、単結晶設置部110の近傍には、ガス排出口130が設けてあり、この部分は、ガス透過性の多孔質材により形成してある。この多孔質材としては、特に限定されないが、るつぼ内が相当な高温状態に置かれるため、耐熱性の優れたカーボン質やガラス質、セラミック質などの多孔質材の使用が望ましい。この多孔質材の孔径調整により、雰囲気ガスの排出量調整が可能となる。つまり、るつぼ内の流速調整、即ち、ガス流制御(ガス圧制御)などが自在にできるようになる。
このるつぼ100の内部底面側には、結晶材料20の充填された容器30を設置する一方、底面側には窒素ガスやArガスなどの雰囲気ガスgを導入するためのガス導入口140が設け、また、単結晶設置部110の内側には、種基板である単結晶板40が取り付けてある。
このるつぼ100を備えた製造装置では、昇華法の実施にあって、外部の加熱手段(図示省略)により、るつぼ100を、内部の結晶材料20が昇華する温度まで加熱する一方、ガス導入口140側から対応する雰囲気ガスgを導入する。この雰囲気ガスgは、結局多孔質材のガス排出口130から排出されるわけであるが、この雰囲気ガスgの流れに沿って、昇華された結晶材料20、即ち、結晶材料ガスは、単結晶板40側に集中的に導かれて、その表面に析出し、成長する。
このため、結晶材料ガスの析出・成長を効率よく行うためには、結晶材料ガス種に対応して、最適の長さ(時間)で結晶材料ガスが滞留できるように、るつぼ100の流速を調整することが極めて重要である。
本発明のるつぼ100では、上述のように、ガス排出口130がガス透過性の多孔質材により形成してあるため、開放型のガス排出口や隙間の狭いガス排出口に比較して、多孔質材の孔径調整によって、雰囲気ガスgの排出量を自在に調整することが可能となる。この結果として、るつぼ100内の流速調整、即ち、ガス流制御(ガス圧制御)などが自在にできることとなる。従って、結晶材料ガス種に合わせて、結晶材料ガスの滞留長さを調整することができ、結晶材料ガスの析出・成長を効率よく行うことができる。
なお、結晶材料ガスは、基本的に結晶材料の微細な粒子からなるため、多孔質材の孔径設定にあたっては、目詰まり防止の点に留意する必要がある。このため、継続的に使用するるつぼ100のガス排出口130の構造にあっては、多孔質材を交換自在な構造とすればよい。
本発明の場合、析出・成長させる単結晶の種類は、特に問わないが、例えばAlNやSiCの他に、ZnSe、GaNなどの単結晶を挙げることができる。そして、これらの結晶材料としては、それぞれ粉末多結晶体を用い、また、雰囲気ガスgとしては、AlNでは窒素ガスを、SiCではArガスを、ZnSeではArガスを、GaNでは窒素ガスを用いればよい。
因みに、図1の本発明のるつぼ100を備えた製造装置と、図3に示した従来のるつぼ10を備えた製造装置を用いて、AlNの単結晶の析出・成長を比較したところ、表1の如くであった。なお、表1中、本発明のるつぼ100よる場合は実施例1〜2、従来のるつぼ10による場合は比較例1〜4として表記してある。
この表1から、本発明のるつぼ100よる場合、従来のるつぼ10による場合に比較して、単結晶の成長速度が著しく向上していることが判る。
また、本発明のるつぼ100よる場合(実施例1〜2)、結晶材料の容器部分の温度は2150℃、単結晶板の析出部表面温度は1950℃、るつぼ内圧力400(Torr)において、得られたロッキングカーブ(秒)は、実施例1で65秒、実施例2で80秒であった。これらの値は、半導体基板用の材料として、十分満足できる結果であった。
本発明の単結晶の製造方法を実施するための製造装置としては、上記図1のものが、るつぼ内上部側を凸状のテーパー形状(一種の山形の屋根形状や円錐台の屋根形状)としてあるため、結晶材料ガスの析出・成長が集中し易く、最良の形態の一つであるが、本発明は、これに限定されない。つまり、るつぼのガス排出口を、ガス透過性の多孔質材とすることにより、るつぼ内の流速調整、即ち、ガス流制御(ガス圧制御)などが得られるため、図2に示すように、るつぼ100aの上部側が平板状であっても、ガス排出口130を多孔質材とした製造装置にも適用可能である。
20・・・結晶材料、30・・・容器、40・・・単結晶板、100、100a・・
・るつぼ、110・・・単結晶設置部、120・・・屋根形状部、130・・・ガス排出口、140・・・ガス導入口、g・・・雰囲気ガス、
・るつぼ、110・・・単結晶設置部、120・・・屋根形状部、130・・・ガス排出口、140・・・ガス導入口、g・・・雰囲気ガス、
Claims (4)
- るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造方法において、前記るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成して、前記るつぼ内のガス流制御を行うことを特徴とする単結晶の製造方法。
- るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造装置において、前記るつぼ内上部側の単結晶設置部の周囲を凸状のテーパー形状とすると共に、当該テーパー形状部のガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成したことを特徴とする単結晶の製造装置。
- るつぼ内に雰囲気ガスを導入すると共に、結晶材料を昇華させて単結晶を成長させる単結晶の製造装置において、前記るつぼのガス排出口側をガス透過性の多孔質材で形成したことを特徴とする単結晶の製造装置。
- 前記単結晶が、AlN、SiC、ZnSe、GaNであることを特徴とする請求項1、2又は3記載の単結晶の製造装置。
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JP2004157089A JP2005336010A (ja) | 2004-05-27 | 2004-05-27 | 単結晶の製造方法及び製造装置 |
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2004
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