JP2005333444A - 電力半導体スイッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 薄型コンデンサおよび薄型MOSFETを備えた電力半導体スイッチング装置を提供する。電力半導体スイッチング装置はアノードと、カソードと、ゲートとを備えたGCTを有する。このGCTをターンオンするために順バイアスドライバが設けられるとともに、GCTをターンオフするために逆バイアスドライバが設けられる。逆バイアスドライバは複数の薄型コンデンサと薄型MOSFETとを有する。前記電力半導体スイッチング素子のターンオフ後、所定の短時間tCmin内でその薄型コンデンサを充電するために充電器が設けられる。
【選択図】 図1e
Description
アノードと、カソードと、ゲートとを有する圧接型パッケージに収容された電力半導体スイッチング素子と、
順バイアスドライバ手段と、
互いに並列に接続された複数のコンデンサと前記ゲートと前記コンデンサの間にそれぞれ直列に接続された複数のMOSFETとを有する逆バイアスドライバ手段と、
所定の短時間tCmin内に前記コンデンサを充電する高速充電回路と、
前記電力半導体スイッチング素子と、前記コンデンサと、前記MOSFETとを支持する実装基板とを含み、
前記コンデンサと前記MOSFETがそれぞれ薄型パルスコンデンサと薄型MOSFETであるとともに、上記スイッチング素子のカソードの表面により規定される平面から測定したコンデンサとMOSFETの高さが上記電力半導体スイッチング素子の高さより低くなるように上記電力半導体スイッチング素子の周囲に配置されており、
さらに最高特定ターンオフ電流および電圧条件で前記スイッチング素子のターンオフ中にコンデンサの電圧が1V以上の電圧降下を示すように前記コンデンサの合計静電容量が選択されている。
図1a、1b、1c、1d、および1eを参照すると、第1の実施形態による電力半導体スイッチング装置が示されている。この電力半導体スイッチング装置は上に電力半導体スイッチング素子1が実装された実装基板7を有する。この電力半導体スイッチング素子1は、例えばGCT(ゲート転流型ターンオフ)サイリスタ、GTO(ゲートターンオフ)サイリスタ、あるいは静電誘導サイリスタ(SITH)などのサイリスタである。この電力半導体スイッチング素子1はドラム状圧接型パッケージに収容されている。図1eに最も分かりやすく図示されているように、この電力半導体スイッチング素子1は一端のアノード18と、他端のカソード19と、パッケージの中央部から延出するゲート20とを有する。アノードとカソードの間で測定したこの電力半導体スイッチング素子1の全高HGCTは22mm〜27mmである。
Tt=1.5×DV/1000
6500ボルトを遮断するためにはエアギャップは約9.75mmでなければならない。従って安全のためエアギャップTtは10mm〜15mmでなければならい。Ttはアノード18の表面からトランジスタ5またはコンデンサ4のどちらか高い方の測定距離である。
電力半導体スイッチング装置を様々なタイプの電力半導体スイッチング回路、例えばDCチョッパ、電流源インバータおよび電圧源インバータに搭載することができる。時刻tCminは2つの連続ターンオフ時点8、13の間の最小時間より短いが、そうであればこのような電子回路の制御アルゴリズムに強く依存することになる。
図3a、3bおよび3cを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第3の実施形態が示されている。図1a、1bおよび1cでは、薄型タンタル電解コンデンサ4を用いたが、図3a、3bおよび3cではセラミック多層大容量コンデンサ22を用いる。
図4a、4b、4c、4d、4eおよび4fを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第4の実施形態が示されている。第4の実施形態では、薄型MOSFET5が実装基板7の上側に実装されている一方、薄型パルスコンデンサ4は同基板の下側に実装されている。
図5a、5b、5cおよび5dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第5の実施形態が示されている。第5の実施形態では、充電器6の入力線17間にエネルギー蓄積手段23が接続されている。
図6a、6b、6cおよび6dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第6の実施形態が示されている。この実施形態では充電器6の詳細を説明する。
図7a、7b、7cおよび7dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第7の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6が変形されている。
図8a、8b、8cおよび8dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第8の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6がさらに変形されている。
図9a、9b、9c、9dおよび9eを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第9の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6がなおさらに変形されている。
図10a、10b、10cおよび10dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第10の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6が変形されている。
図11a、11b、11cおよび11dを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第11の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6が変形されている。
最大(VES−VC)/最小(VES−VC)≦2
よって第10の実施形態ではVESおよびVCの狭い範囲しか満足に取り扱うことができない。
ton≒k1×1/(VES−VC)
ここでk1は定数である。
ton1<ton2<ton3<ton4<ton5
Ipeak=dIL/dt×ton
によって算出することができる。
第1の充電パルスのピーク電流60
≒第2の充電パルスのピーク電流64
≒最終充電パルスのピーク電流68
図12aおよび12bを参照すると、電力半導体スイッチングの第12の実施形態が示されている。この実施形態では、充電器6およびエネルギー蓄積手段23がそれぞれ別々の区画69および70に設けられている。
図14a、14bおよび14cを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第13の実施形態が示されている。この実施形態では、抵抗102に連結された薄型MOSFET5のアレイが2つの半分部72および74に分割されている。第1の半アレイ72は電力半導体スイッチング素子1の周囲の第1の半円に沿って一列に並んでおり、第2の半アレイ74は同周囲の第2の半円に沿って一列に並んでいる。順バイアスドライバ2に含まれるプリドライバを順バイアスドライバ2の区画から取り出されて各半分部の端部に設けられている。第1の半アレイ72用のプリドライバ71および第2の半アレイ74用のプリドライバ73がそれぞれ反対側に沿って基板7上に設けられる。
図15a、15b、15c、15dおよび15eを参照すると、電力半導体スイッチング装置の第14の実施形態が示されているが、これは第13の実施形態の変形例である。ねじ込み式のGCT1が採用されている。実装基板7はねじ込み式のGCT1を収容する穴を有する。ゲートリング77およびカソードリング76はGCT1のそれぞれゲートおよびカソードに固着されている。半径方向に延びるリング切断部78がカソードリング77の周囲に形成されている。また半径方向に延びるリング切断部78がゲートリング76の周囲に形成されている。
図16を参照すると、電力半導体スイッチング装置の第15の実施形態が示されている。この実施形態では順バイアスドライバ2および高速充電器6が、GCT1および逆バイアスドライバユニット90を実装した実装基板7とは離れた実装基板80に実装されている。2つの基板の接続のために低インピーダンス接続81が設けられている。
1)GCTの定格電流ITGQMは4kAまたは6kA以上である。
2)GCTのターンオフ中、ゲートピーク電流IGpeakは、IGpeak≧1.1×ITGQMである。
3)ゲートを介する充電率QGは2.5μC/A×ITGQ以上である。
4)ゲートドライバは、定格電流ITGQMで最大許容パルス周波数で少なくとも3回ターンオフすることができる。これは合計ΔVC≦1Vを意味する。
5)GCTは平面ヒートシンクを収容することが可能である。
6)ゲート電流IGの開始直後のゲート電流変化dIG/dtは、dIG/dt≧2×ITGQM/500nsであり、ここでITGQMはGCTの定格アノードターンオフ電流である。
7)主としてコンデンサの抵抗およびMOSFETの抵抗により構成されるゲートドライバの抵抗素子、Rinternalは、2V/Ipeak以下である。
8)ターンオフ電流の回路不均質性は±5%未満である。
9)GCTの寿命は50℃の温度で20年を超える。
2:順バイアス駆動回路および制御部
3:逆バイアス駆動回路
4:薄型パルスコンデンサ
5:薄型MOSFET
6:高速充電回路
7:実装基板
8:第1のターンオフ・スイッチング時点
9:第1のターンオフゲート電流パルス
10:第1のパルスコンデンサ放電
11:第1のパルスコンデンサ電圧リセット
12:第1のパルスコンデンサ電圧リセットプロセスの終了
13:第2のターンオフ・スイッチング時点
14:第2のターンオフゲート電流パルス
15:第2のパルスコンデンサ放電
16:第2のパルスコンデンサ電圧リセット
17:充電器電源接続
18:アノード端末
19:カソード端末
20:ゲート端末
21:ヒートシンクのエッジ
22:セラミック多層大容量コンデンサ
23:エネルギー蓄積手段
24:第3のターンオフ・スイッチング時点
25:第3のターンオフゲート電流パルス
26:第3のパルスコンデンサ放電
27:第3のパルスコンデンサ電圧リセット
28:第3のリセット後のパルスコンデンサ電圧
29:トランジスタ
30:レギュレータ
31:エネルギー蓄積手段の始動電圧
32:薄型パルスコンデンサの始動電圧
33:ブースト・インダクタ
34:ブースト・スイッチング・トランジスタ
35:ブースト・ダイオード
36:第3のブーストリセット動作後のエネルギー蓄積の電圧
37:バック・スイッチング・制御部
38:バック・スイッチング・トランジスタ
39:バック・ダイオード
40:バック・インダクタ
41:第3のバックリセット動作後のエネルギー蓄積の電圧
42:電流感知抵抗
43:第1のスイッチングサイクルの開始
44:第1のターンオフ
45:ゼロインダクタ電流
46:既定時間
47:固定タイミングコントローラ
48:第1の充電パルス
49:オンタイム
50:オフタイム
51:第1の充電パルスでのVES−VC
52:第1の充電パルスのピーク電流
53:第2の充電パルス
54:第2の充電パルスでのVES−VC
55:第2の充電パルスのピーク電流
56:電圧制御タイミングコントローラ
57:第1の充電パルス
58:第1の充電パルスでのVES−VC
59:第1の充電パルスのオンタイム
60:第1の充電パルスのピーク電流
61:第2の充電パルス
62:第2の充電パルスでのVES−VC
63:第2の充電パルスのオンタイム
64:第2の充電パルスのピーク電流
65:第1のパルスコンデンサ電圧リセットの最終充電パルス
66:最終充電パルスでのVES−VC
67:最終充電パルスのオンタイム
68:最終充電パルスのピーク電流
69:充電コンバータ
70:入力コンデンサバンク
71:左側プリドライバ
72:左側MOSFET半円
73:右側プリドライバ
74:右側MOSFET半円
75:ねじ込み式の筐体内の電力半導体素子
76:カソードリング
77:ゲートリング
78:リング切断部
79:実装基板切断部
80:第2の実装基板
81:低インピーダンス接続
90:逆バイアスドライバユニット
100:パルスコンデンサバンク
101:MOSFETバンク
102:MOSFETゲート抵抗
103:MOSFETゲートバス
104:順バイアス出力
105:制御部入力
106:電圧電源線
107、107a:カソード接触バイア
108、108a、108b:ソースバス接触バイア
109:MOSFETゲートバス接触バイア
110:カソード接続板
111:ソースバス
112:カソードバス
113:電流感知抵抗
114:ブースト・コンバータ・コントローラ
115:バックタイミング電流コントローラ
210:基板
211:サイリスタ
222:コンデンサ
223:MOSFET
Claims (17)
- アノードと、カソードと、ゲートとを有する圧接型パッケージに収容された電力半導体スイッチング素子(1)と、
前記電力半導体スイッチング素子をターンオンする順バイアスドライバ手段(2)と、
互いに並列に接続された複数のコンデンサ(4)と前記ゲートと前記コンデンサの間にそれぞれ直列に接続された複数のMOSFETとを有する、前記電力半導体スイッチング素子をターンオフする逆バイアスドライバ手段(3)と、
前記電力半導体スイッチング素子のターンオフの後に所定の短時間tCmin内に前記コンデンサを充電する充電器手段(6)と、
前記電力半導体スイッチング素子と、前記コンデンサと、前記MOSFETとを支持する実装基板(7)とを含み、
前記コンデンサと前記MOSFETは、それぞれ薄型パルスコンデンサと薄型MOSFETであるとともに、前記スイッチング素子のカソードの表面により規定される平面から測定したコンデンサとMOSFETの高さが前記電力半導体スイッチング素子の高さより低くなるように前記電力半導体スイッチング素子の周囲に配置されており、
さらに、前記スイッチング素子のターンオフ中にコンデンサの電圧が1V以上の電圧降下を示すように前記コンデンサの合計静電容量が設定されている電力半導体スイッチング装置。 - 前記所定の短時間tCminが500μs以下である、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記所定の短時間tCminが50μs〜200μsである、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記薄型パルスコンデンサおよび前記薄型MOSFETが、前記薄型MOSFETが内輪に配置されるとともに前記薄型パルスコンデンサが外輪に配置されるように前記電力半導体スイッチング素子の周囲に同心円状にアレイに配置されている、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記薄型パルスコンデンサがセラミック多層型コンデンサである、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記薄型パルスコンデンサが前記実装基板の一方側に配置されるとともに、前記薄型MOSFETが前記実装基板の他方側に配置されている、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記充電器手段に接続されたエネルギー蓄積手段(23)をさらに含む、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記充電器手段が高電流低ドロップアウト線形レギュレータ(29、30)を含む、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記充電器手段がブースト・コンバータ(113、114、33、34、35)を含む、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記充電器手段がバック・コンバータ(38、39、40、42)を含む、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記バック・コンバータが電流感知抵抗(42)とオフタイム時間(46)を計時するタイマ(115)とを含む、請求項10に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記バック・コンバータがオンタイム時間(49)とオフタイム時間(50)とを計時するタイマ(47)を含む、請求項10に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記オンタイム時間が、前記充電器手段への入力電圧(VES)と前記充電器手段の出力電圧との間の電圧差(VES−VC)に反比例して設定されている、請求項12に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記エネルギー蓄積手段が実装基板に着脱可能に設けられている、請求項7に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記薄型MOSFETおよび前記薄型パルスコンデンサの前記アレイが第1の半アレイ(72)と第2の半アレイ(74)とに分割され、前記第1の半アレイには第1のプリドライバ(71)が設けられ、前記第2の半アレイには第2のプリドライバ(73)が設けられている、請求項4に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記実装基板が穴と該穴から前記実装基板の縁部へ延びる切断部とを有する、請求項15に記載の電力半導体スイッチング装置。
- 前記順バイアスドライバ手段(2)および前記充電器手段(6)が前記実装基板(7)から離れた実装基板(80)上に実装されている、請求項1に記載の電力半導体スイッチング装置。
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