JP2005322914A - トレンチキャパシタの製造方法、メモリセルの製造方法、トレンチキャパシタ、およびメモリセル - Google Patents
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Abstract
【課題】トレンチキャパシタの製造方法、メモリセルの製造方法、トレンチキャパシタ、およびメモリセルを提供する。
【解決手段】本発明は、第1キャパシタ電極(6)、第1誘電体層(7)、第2キャパシタ電極(8)、第2誘電体層(9)、および第3キャパシタ電極(10)を備えた蓄積キャパシタ(23)の製造方法に関する。第1キャパシタ電極(6)と第3キャパシタ電極とは、互いに接続されている。本発明の方法では、第1キャパシタ電極(6)と第3キャパシタ電極(10)とを、コンフォーマル堆積方法により形成する。一方、第1誘電体層(7)、第2キャパシタ電極(8)、および第2誘電体層(9)は、非コンフォーマル方法により形成する。これにより、蓄積容量を増やしたトレンチキャパシタを作ることができる。
【選択図】 図12
【解決手段】本発明は、第1キャパシタ電極(6)、第1誘電体層(7)、第2キャパシタ電極(8)、第2誘電体層(9)、および第3キャパシタ電極(10)を備えた蓄積キャパシタ(23)の製造方法に関する。第1キャパシタ電極(6)と第3キャパシタ電極とは、互いに接続されている。本発明の方法では、第1キャパシタ電極(6)と第3キャパシタ電極(10)とを、コンフォーマル堆積方法により形成する。一方、第1誘電体層(7)、第2キャパシタ電極(8)、および第2誘電体層(9)は、非コンフォーマル方法により形成する。これにより、蓄積容量を増やしたトレンチキャパシタを作ることができる。
【選択図】 図12
Description
本発明は、トレンチキャパシタの製造方法、メモリセルの製造方法、トレンチキャパシタ、およびこの種のトレンチキャパシタを備えたメモリセルに関する。
ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAMs)のメモリセルは、一般に、蓄積キャパシタと選択トランジスタとを有する。情報は、論理0または1を表す電荷の形で、蓄積キャパシタ中に格納される。ワード線を介して、読み取りトランジスタまたは選択トランジスタを駆動することにより、蓄積キャパシタ中に格納された情報が、ビット線を介して読み取られる。電荷の蓄積に信頼性を持たせ、読み取られる情報を区別するために、蓄積キャパシタは、最小限の電気容量を必要とする。現在、蓄積キャパシタの最低の電気容量は、約25fFであると考えられる。
メモリ世代毎に、蓄積密度が上昇し、1つのトランジスタメモリセルによって占有される表面領域は、世代毎に狭くならざるをえない。同時に、蓄積キャパシタの最低限の電気容量は保持せねばならない。
1MBit世代までは、読み取りトランジスタおよび蓄積キャパシタは共に、プレーナ部品として実現されていた。4MBitメモリ世代以降は、蓄積キャパシタを3次元に配置することにより、メモリセルが占有する表面領域はさらに縮小された。その1つの方法が、蓄積キャパシタをトレンチ中に実現することである。この場合、例えば、トレンチ壁に隣接する拡散領域およびトレンチ中でドーピングされた多結晶シリコン充填部が、蓄積キャパシタの電極として作用する。これゆえに、蓄積キャパシタの電極は、トレンチの表面に沿って配される。これにより、基板の表面に蓄積キャパシタの場所を取る場合、つまりトレンチの断面に相当する場所を取る場合に比べて、蓄積キャパシタの有効表面領域(容量は、この有効表面領域の大きさに依存する)を増やすことができる。トレンチの断面積をさらに小さくして、同時により深くすれば、記録密度をさらに上げることができる。
従来、トレンチキャパシタの蓄積容量を上げるために、数々の方策が取られてきた。その1つは、蓄積誘電体の厚さを変えることである。また、トレンチキャパシタ内の表面領域を、トレンチ構造をウェット化学的に拡張することにより、増やすこともできる(ボトルエッチング)。さらに、例えば、HSG多結晶シリコンで被覆して、トレンチの表面を粗面化することにより、トレンチ内の表面領域を増やすこともできる。
他の方法として、Si電極材料のドーピング量を増して、および/または、金属電極を用いて、キャパシタ電極の電子の空乏を最小限に抑えることも可能であるが、その結果、同時に電極の抵抗も著しく小さくなる。また、トレンチキャパシタの容量を増やすために、従来のNO誘電体を高誘電率誘電体(high−k誘電体)に置き換えることも可能である。
さらに、より深いキャパシタトレンチを作る試みもある。しかし、現在のトレンチキャパシタ製造におけるエッチング処理は、徐々に技術的および経済的な限界に近づいている。これは、トレンチの深さが増すに従って、例えば、エッチング速度およびエッチングの選択性が減少するからである。従って、トレンチのエッチング用ハードマスクの表面が大きくエッチングされてしまう。
国際特許WO2004/017394号には、前駆体物質の処理量を規制し、および/または堆積処理時間を規制することによるALD(原子層堆積)処理で、層を部分的にしか形成しない非コンフォーマルの誘電体層を堆積する方法が記載されている。
本発明の目的は、大容量のトレンチキャパシタを作る方法を提供することである。
さらに、本発明の目的は、この種のトレンチキャパシタを提供することである。
本発明の別の目的は、この種のトレンチキャパシタを備えたメモリセルの製造方法を提供し、この種のトレンチキャパシタを備えたメモリセルを提供することである。
本発明によれば、この目的は、以下の工程を含むトレンチキャパシタの製造方法により達成される。すなわち、
(a)半導体基板を設ける工程と、
(b)半導体基板の表面に、半導体基板の表面から測定して深さdのトレンチをエッチングし、トレンチ壁を作る工程と、
(c)トレンチ壁に隣接する第1キャパシタ電極を形成する工程と、
(d)所定の層厚の第1誘電体層を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、誘電体層を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが少なくともd3である表面領域上には形成しないように、第1誘電体層を堆積する工程と、
(e)導電性材料層を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さがd2である表面領域上に形成し、かつ、導電性材料を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さが少なくともd2である表面領域以降には堆積せず、d2はd1より小さく、この結果第2キャパシタ電極を形成するように、導電性材料層を堆積する工程と、
(f)所定の層厚の第2誘電体層を、工程(e)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、誘電体層を、工程(e)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが少なくともd4である表面領域上には形成しないように、第2誘電体層を堆積する工程と、
(g)第1キャパシタ電極に接続される第3キャパシタ電極を形成するように、導電性材料のコンフォーマル層を形成する工程と、
を含む方法である。
(a)半導体基板を設ける工程と、
(b)半導体基板の表面に、半導体基板の表面から測定して深さdのトレンチをエッチングし、トレンチ壁を作る工程と、
(c)トレンチ壁に隣接する第1キャパシタ電極を形成する工程と、
(d)所定の層厚の第1誘電体層を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、誘電体層を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが少なくともd3である表面領域上には形成しないように、第1誘電体層を堆積する工程と、
(e)導電性材料層を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さがd2である表面領域上に形成し、かつ、導電性材料を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さが少なくともd2である表面領域以降には堆積せず、d2はd1より小さく、この結果第2キャパシタ電極を形成するように、導電性材料層を堆積する工程と、
(f)所定の層厚の第2誘電体層を、工程(e)の結果生じた表面領域中の、半導体基板の表面からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、誘電体層を、工程(e)の結果生じた表面領域中で、半導体基板の表面からの長さが少なくともd4である表面領域上には形成しないように、第2誘電体層を堆積する工程と、
(g)第1キャパシタ電極に接続される第3キャパシタ電極を形成するように、導電性材料のコンフォーマル層を形成する工程と、
を含む方法である。
本発明の方法を実施するために、まず第1にキャパシタトレンチを、半導体基板の表面にエッチングする。その後、第1キャパシタ電極を形成する。これは、例えば、コンフォーマル金属層を堆積することにより行なわれる。ここで、「コンフォーマル」とは、下地全面を均一に覆っていて、被覆表面が下地形状の相似形となっている状態を指す。
特に、このために、ALD方法(原子層堆積)処理を用いることができる。それ自体公知であるこの処理では、第1処理段階で、第1前駆体物質または第1前駆体が、基板が設置された処理室に送られる。化学吸着として知られている処理により、第1前駆体物質を、基板表面およびトレンチ壁全体に蓄積させる。この処理中、一般に、第1前駆体物質が変化する。表面領域がすべて、変化した前駆体物質で覆われたらすぐに、堆積の第1処理段階を終了し、変化した前駆体物質の個々の単分子副層が、基板表面およびトレンチ壁表面に堆積する。
その後、第1前駆体物質の堆積されなかった余剰部分が、不活性気体を用いた清浄および/または排出により、処理室から取り除かれる。
第2段階では、第2前駆体物質が処理室に入れられ、実質的には、第1前駆体物質の個々の副層のみの上に、第2前駆体物質が堆積する。この段階で、前駆体物質は、層物質に変換させられる。成長させる層の個々の層(単分子層)が形成される。第2前駆体物質の堆積されなかった部分を処理室から取り除くと、ALD処理の1周期が終了する。このALD処理の周期を繰り返し、各処理周期で堆積された個々の層から、所定の厚さの層が形成される。
コンフォーマル層を作るALD処理は、通常、自己制御特性を利用している。この場合、十分な前駆体物質があれば、前駆体物質の量に関わらず、前駆体物質の流入特性に関わらず、および前駆体物質の拡散ダイナミクスおよび反応ダイナミクスに関わらず、実質的に均一の層厚を有する完全な被覆層(コンフォーマルのライナー)ができる。前駆体物質の堆積は、実質的に化学吸着により制限され、動的な、拡散律速過程ではないので、非プレーナ型パターンの基板表面上への堆積を行う際、ALD処理により、エッジ部分のカバレッジが非常によい。
次に、第1誘電体層を非コンフォーマルに堆積する。ここで、「非コンフォーマル」とは、下地全面を均一に覆っておらず、被覆表面が下地形状の相似形となっていない状態を指す。より精確に述べると、堆積層は、規定の層厚を有し、トレンチの所望の深さまでしか延びておらず、トレンチのより深い部分には、誘電体材料は全く堆積されない。
この処理は、特に、上述したALD処理を変更することによって行なわれる。この種のNOLA処理(非コンフォーマルライナーALD)では、第1前駆体物質の全層がトレンチの上方領域に形成されるように、かつトレンチのより低い部分には前駆体物質が蓄積しないように、第1前駆体物質を供給する。トレンチの上記上方部分と上記下方部分との間では被覆に傾斜が生じるが、この被覆に傾斜が生じる移行領域の幅はごく短く、この幅は、一般的なトレンチの深さを有するこの場合では、約数百ナノメートルである。このようにトレンチ壁面を基板の表面から基板の裏面に向かって体系的に目的通りに被覆するには、少なくとも1つの前駆体物質の脱離係数が低く、全体を被覆するのに必要な量と比較すると、より少ない量の前駆体物質を供給するのが好ましい。
前駆体物質の脱離係数が低い場合、すでに吸着済みの前駆体物質の分子が外れる、すなわち脱離する可能性は非常に低い。ALD処理中に、脱離係数が低く、すなわち付着係数が高い前駆体物質を用いれば、例えば、基板表面中ですでにエッチングされたトレンチは、基板表面から始まって深いところまで次第に被覆される。その場所までは、短い移行領域を除いて被覆は完全であり、均一な層厚が得られる。
このための前提条件は、前駆体物質が制限された量のみ供給されるか、または完全に被覆するより十分早い段階で堆積が中断し、かつ、前駆体物質がトレンチの深い部分には十分速度を落として拡散するように、処理室中の室内圧力が選択されることである。
これは、例えば、処理室中の前駆体物質の量または濃度、堆積時間または前駆体物質の制御時間、および/または、堆積中の処理室内の処理圧力を適切に設定することによって達成される。
非コンフォーマル層は、特に、ある前駆体物質では、堆積操作の時間制御を行なうことなく作ることができる。そのある前駆体物質とは、好ましくは、完全に被覆する際に必要となる量または濃度よりも少ない量または濃度で供給される、付着係数の高い前駆体物質である。
第1誘電体層の堆積は、所定の厚さで、d1の深さまで行なわれ、d3より深い場所では誘電体層は全く堆積しない。d3とd1との間、すなわち層厚が明確に規定されていない移行領域では、層厚は0nm〜所定の層厚で、長さは一般的に数百nm、例えば100nm〜1000nmである。
その後、第2キャパシタ電極を形成するために、導電材料の非コンフォーマル層を堆積させる。これは、原則的には、上述の方法と同じ方法を用いるが、異なる前駆体を用いて導電層を形成する。
第2キャパシタ電極は、深さd2まで延びている。d2はd1よりも小さい。d2より深いところでは導電材料は堆積していない。導電性のキャパシタ電極の場合、トレンチ中の下方部分、すなわち深さd2の付近では、層の厚さは一定ではなく、この導電層が他の領域と連続的に電気的接続を保っている限り、層の厚さは薄くなっても良い。しかし、第2キャパシタ電極は、第1誘電体層および第2誘電体層の層の厚さによって完全に取り囲まれ、他のキャパシタ電極から電気的に絶縁されていることが重要である。これゆえに、第1誘電体層および第2誘電体層は、d2より大きいd1の深さまで、所定の層厚を有する必要がある。
次に、d1の深さまで所定の層厚を有するように、第2誘電体層を堆積させるが、深さd4より深い場所には誘電体層は形成されない。特にd4は第1誘電体層の場合のd3と等しくても良い。
最後に、第3キャパシタ電極を形成するために、導電材料のコンフォーマル層を堆積させ、第1キャパシタ電極と接続させる。
以上により、本発明は、コンフォーマル堆積方法といわゆる非コンフォーマル堆積方法とを適切に組み合わせて、蓄積容量を増やした蓄積キャパシタを作る方法を提供する。
より具体的には、本発明の方法では、キャパシタトレンチ中に複数のキャパシタ電極を適切に配置して、互いに接続し、キャパシタの容量を増やす。
したがって、コンフォーマル堆積方法の工程と非コンフォーマル堆積方法の工程とを適切に組み合わせることによって、キャパシタトレンチ中に多層構造を実現し、結果としてキャパシタの容量を増やす。
特に、層を非コンフォーマルに堆積させることにより、層にパターンを作らずとも、この非コンフォーマルに堆積された層の後に堆積された層が、この非コンフォーマルに堆積された層より前に堆積された層に電気的に接続できる。具体的には、これらの互いに接続される2つの層の間に位置する層を、適切な層を用いて被覆したりマスクをする必要はなく、電気コンタクトを作るためにエッチバックする必要がない。
したがって、本発明は、多くの複雑な方法が不要で、非常に簡単な製造方法を用いて製造される、容量を増やした蓄積キャパシタを提供することができる。
さらに、例えば、狭いトレンチ中で被覆層を堆積したりパターンを作る必要がないので、トレンチキャパシタのアスペクト比を大きくして作ることができる。
電極の材料としては、制御可能な方法でコンフォーマルに堆積可能な材料であれば全て含まれる。制御可能な方法とは、既定の深さまで連続層を作り、既定の深さ以降では、材料が堆積されないように制御可能という意味である。電極材料の一例は、TiN、TiHfN、HfN、TiAlN、TaN、HfAlN、およびナノ積層物またはこれらの材料の混合物である。ナノ積層物とは、数ナノメータの厚さしかない上記の材料の層を複数層有する多層構造である。しかし、電極材料には、必ずしも金属が含まれなくてもよい。例えば、ドーピングされた、特に高濃度でドーピングされた多結晶シリコンを電極材料として用いることも可能である。
金属電極用の適切な前駆体物質には、第1前駆体物質としては、TiCl4、Ti(OC2H5)、Ti(OCH(CH3)2)4、HfCl4、Hf−t−ブトキシド、Hf−ジメチル−アミド、Hf−エチル−メチル−アミド、Hf−ジエチル−アミド、またはHf(MMP)4、TaCl4、トリメチルアルミニウム(TMA)が含まれ、第2前駆体物質としては、NH3またはH2Oおよび/またはO3が含まれる。
適切な誘電体材料としては、制御可能な方法で非コンフォーマルに堆積可能な誘電体材料であれば全て含まれる。特に、所定の層厚と堆積層がない部分との間の移行領域の長さが、一般的なトレンチの深さに対して短ければ短いほどよい。適切な誘電体材料の例としては、Al2O3、HfO2、ZrO2、SiO2、Pr2O3およびこれらの材料のナノ積層物またはこれらの材料の混合物が含まれる。
誘電体層の適切な前駆体物質としては、第1前駆体物質の場合、TMA、HfCl4、Hf−t−ブトキシド、Hf−ジメチル−アミド、Hf−エチル−メチル−アミド、Hf−ジエチル−アミド、またはHf(MMP)4、Si(NCO)4、CH3OSi(NCO)3が含まれ、第2前駆体物質の場合、H2Oおよび/またはO3およびNH3が含まれる。
第3キャパシタ電極の形成工程後に、さらに、多結晶シリコン充填物を堆積する工程を実施することも可能である。この工程は、例えば、第3キャパシタ電極の厚さが、トレンチを完全に充填しない厚さである場合に実施できる。トレンチキャパシタをさらに処理するために、特にこの後でエッチバック工程を実施するために、トレンチを(例えば、第3電極の材料でまたは多結晶シリコンで)充填しておくことが有用で、それによりエッチング化学工程で侵食する表面をうまく形成することができる。
第1キャパシタ電極の材料と、第3キャパシタ電極の材料とは同一であることが好ましい。とりわけ、第1キャパシタ電極の材料と、第2キャパシタ電極の材料と、第3キャパシタ電極の材料とが同一であることが好ましい。しかし、各導電性層について、例えば異なる熱安定性またはその他の特性を所望する場合は、異なる材料を使用することも可能である。
第1誘電体層の材料と、第2誘電体層の材料とが同一であることが好ましい。しかし、これについても、各導電性層について、例えば、異なる熱安定性またはその他の特性を所望の場合は、異なる材料を使用することも可能である。第1誘電体層および第2誘電体層の層厚も、都合に合わせて決定でき、この2つの誘電体層の厚さは同じでも、異なってもよい。
dとd1との差が、1000nmよりも小さく、かつ100nmよりも大きいことが好ましい。この差は小さい方が好ましく、これによりできあがるキャパシタの容量を最大限にしつつ、第2キャパシタ電極を、確実に第1キャパシタ電極および第3キャパシタ電極から電気的に絶縁させることができる。
d1とd2との差が、1000nmよりも小さく、かつ100nmよりも大きいことが好ましい。この場合でも、この差は小さい方が好ましく、これによりできあがるキャパシタの容量を最大限にすることができる。一方、この差により、第1誘電体層および第2誘電体層が十分な厚さを取ることが出来る深さにのみ、第2キャパシタ電極が延びていることが必要である。
さらに、上述のコンフォーマル堆積と非コンフォーマル堆積とを適切に組み合わせて繰り返し、キャパシタトレンチ内に、より多くのキャパシタ電極を設けることも考えられる。
さらに、本発明は、請求項14に記載したメモリセルの製造方法を提供する。
さらに、本発明の目的は、以下のトレンチキャパシタにより達成される。このトレンチキャパシタは、第1キャパシタ電極、第1キャパシタ誘電体層、第2キャパシタ電極、第2キャパシタ誘電体層、および第3キャパシタ電極を有し、これらが、各々少なくとも部分的にはトレンチ中に配され、第1キャパシタ電極が、トレンチの壁に隣接し、第1キャパシタ電極が、第3キャパシタ電極に電気的に導電接続され、第2キャパシタ電極が、第1キャパシタ電極と第3キャパシタ電極との間の空間に形成され、かつ、第1キャパシタ誘電体層により第1キャパシタ電極から電気的に絶縁され、第2キャパシタ誘電体層により第3キャパシタ電極から電気的に絶縁される。
トレンチは、深さと最小限の直径とを有するが、トレンチの深さと、最小限の直径との比率は、20よりも大きいことが好ましい。特に、40よりも大きいことが好ましい。
以上により、本発明は、電極を3つ有し、アスペクト比が特に高いトレンチキャパシタを提供する。換言すれば、蓄積容量の大きいトレンチキャパシタを、必要な空間を特に小さくして設けることができる。
平面図から、一般に、キャパシタトレンチが円ではなく、楕円であることがわかる。これは、トレンチが2つの断面方向で、異なる2つの直径を有することを意味する。半導体基板中でエッチングされるトレンチおよびトレンチのすべての部分が、同じ直径を有する場合、最小の直径とは、すべてのトレンチ部分の最小の直径または最小の幅のことである。一方、トレンチ部分の最上方部分の少なくとも一方向の直径が、下方のトレンチ部分の直径よりも小さければ、最小の直径とは、トレンチの最上方部分の最小の直径のことである。
本発明では、第1キャパシタ電極の材料、および/または、第2キャパシタ電極の材料が、金属または金属化合物であることが好ましい。これにより、空間電荷領域が形成されないので、対応するキャパシタ電極の導電性、さらに、蓄積キャパシタの容量を増加させることができる。
さらに、本発明は請求項20に記載のメモリセルを提供する。
本発明によれば、大容量のトレンチキャパシタを作る方法を提供することができる。
また本発明によれば、この種のトレンチキャパシタを提供することができる。
また、本発明によれば、この種のトレンチキャパシタを備えたメモリセルの製造方法を提供し、この種のトレンチキャパシタを備えたメモリセルを提供することができる。
本発明を、以下に添付の図面を参照して、より詳しく説明する。
図1〜図6は、本発明の第1実施形態に係るトレンチキャパシタの製造に関する工程を示す図である。
図7は、トレンチキャパシタを製造する他の方法中の1工程を示す。
図8〜図11は、本発明の第1実施形態に係るトレンチキャパシを完成させる工程を示す図である。
図12は、完成したメモリセルを示す図である。
図13は、8F2セルアーキテクチャでの配置を示した図である。
図14は、成膜した層を示す図である。
厚さ3nmのSiO2(酸化物)層3および厚さ220nmのSi3N4層4を、半導体基板2の表面1上に成膜する。その後、厚さ620nmのBPSG層(不図示)を塗布する。
フォトリソグラフィで作られたマスク(不図示)を使用し、BPSG層、Si3N4層、およびSiO2層3は、CF4/CHF3を用いたプラズマエッチング処理で、パターン化され、この結果ハードマスクが形成される。エッチングマスクとしてこのハードマスクを用いた、これ以降のプラズマエッチング処理では、主な表面1中に、HBr/NF3を用いてトレンチ5をエッチングし、各トレンチ5内のトレンチ壁11が露出する。
次に、BPSG層が、H2SO4/HFを用いたウェットエッチングにより取り除かれる。
例えば、トレンチ5の深さは6.6μmであり、トレンチ5の幅は100×250nmであり、トレンチ間の距離は100nmである。この結果の構造を図1に示す。
次の工程で、第1キャパシタ電極6を作る。第1実施形態では、第1キャパシタ電極6は、金属電極として実現される。第1キャパシタ電極6は、n+ドーピング領域25を介して、半導体基板2と接続されている。しかし、これに代えて、第1キャパシタ電極6を他の方法で実現することも可能で、例えば、n+ドーピング領域のみによって実現することも可能である。
n+ドーピング領域25を作るために、まず第1に、一般的な方法として、後に絶縁性カラーが形成される上部トレンチ領域を、適切な被覆材料により覆い、この領域中にドーパントが拡散されるのを防ぐ。
例えば、上述したような非コンフォーマル堆積処理によって堆積されたAl2O3を、被覆材料として用いることが可能である。
その後、トレンチ壁11の被覆されていない領域で、公知の方法を使用して、ドーピングが行なわれる。
このドーピングは、例えば、厚さ50nmのヒ素ドーピングケイ酸塩ガラス層、および厚さ20nmのTEOS−SiO2層を堆積し、その後1000℃で、120秒のコンディショニング工程を行うことによってなされる。この処理で、ヒ素ドーピングケイ酸塩ガラス層からの外方拡散により、半導体基板2中にn+ドーピング領域を形成する。これに代えて、例えば、900℃、3Torrのトリブチルヒ素(TBA)[33%]、および12分というパラメータを用いて、気相ドーピングを行なうことも可能である。
ヒ素ドーピングされたケイ酸塩ガラス層およびTEOS−SiO2層は、Si3N4およびシリコンに対して選択性のあるNH4F/HFを用いたエッチング工程で再び取り除かれる。
その後、絶縁性カラー領域用での被覆材料も、取り除かれる。
次に、第1キャパシタ電極6を形成する。
この電極は、例えば、上述のALD処理によるTiN(窒化チタン)により、形成される。まず第1に、例えばTiCl4などの第1前駆体ガスが、処理室中を通る。表面が飽和すると、例えば、不活性気体を入れて、および/または、処理室を真空にして、洗浄工程を実施する。次に、例えばNH3などの第2前駆体ガスを処理室に入れ、TiN層の第1原子層が形成される。この後再び、例えば、不活性気体を入れて、および/または、処理室を真空にして、洗浄工程が実施される。
この方法、すなわち第1前駆体ガスを入れ、次に第2前駆体ガスを入れる方法を繰り返し、TiN層が所望の厚さになるまで、これを続ける。
本実施例では、第1キャパシタ電極6の層の適切な厚さは、5nm〜10nmであると考えられる。
この結果の構造を、図2に示す。
次に、図3に示すように、第1誘電体層7として、厚さ約4nm〜5nmのAl2O3層を、上述した非コンフォーマル堆積方法を用いて、堆積させる。これは、例えば、TMA(テトラメチルアルミニウム)およびH2Oガス、またはO3ガスを前駆体ガスとして用いて行なう。所定の厚さのAl2O3層が下方向に伸張するが、その深さd1は約6μmである。
上記に代えて、第1誘電体層7は、Al2O3、TiO2、Ta2O5、またはこれ以外の公知の誘電体材料を含むこともでき、これらの材料は、非コンフォーマル方法により同様に堆積される。
次に、図4に示すように、第2キャパシタ電極8として、厚さ5nm〜20nmの別のTiN層を非コンフォーマル堆積方法により堆積させる。第2キャパシタ電極8が下方向に伸張する深さd2は、約5.5μmである。
次に、さらに非コンフォーマル堆積が実施され、第2誘電体層9が堆積される。この場合のパラメータには、第1誘電体層を形成したときの堆積方法と同じパラメータを用い、その結果、同じ深さ、同じ厚さの層が形成される。
この結果の構造を図5に示す。
これに続いて、図6に示すように、コンフォーマル堆積方法を用いて、第3キャパシタ電極10として、さらなるTiN層が形成される。この実施形態では、TiN層によりトレンチ5が完全に上の部分まで充填され、下部分では隙間が形成されるように、このTiN層が形成される。
これに代えて、このTiN層の厚さをより薄くして、公知の方法で、多結晶シリコン充填物12を堆積することも可能である。これに関しては、図7に図示する。
次に、成膜した層を、適切な方法でエッチバックする。エッチバックを開始する状態は、図6に示したトレンチ構造である。
まず、第3キャパシタ電極10を、例えばアンモニアおよび過酸化水素(H2O2)を用いた化学的ウェットエッチングにより、第2誘電体層9に対して選択的にかつこの第2誘電体層9より1300nm深く下方向までエッチングする。
次に、第2誘電体層9を、第2誘電体層9の下にある第2キャパシタ電極8に対して選択的に、深さ1150nmまでエッチングする。
この結果の構造を図8に示す。
次に、トレンチ5に絶縁性充填部13が導入される。絶縁性充填部13の導入は、例えばTEOSまたはHDP方法または誘電体物質を成膜する他の方法を用いて、例えばSiO2を堆積させる。その後、化学的ドライエッチバックまたは化学的ウェットエッチバックを行なう。絶縁性充填部13のエッチバックは、例えば、半導体基板2であるシリコン基板の表面1から下に向かって、約1000nmの深さまで行われる。
この結果の構造を図9に示す。
次に、第2キャパシタ電極8、第1誘電体層7、および第1キャパシタ電極6をエッチングする。いずれの場合でも、お互いに対して選択的に、順次行なう。第2キャパシタ電極8は、選択トランジスタの第1ソース/ドレイン領域と接続されるが、この第2キャパシタ電極8は、第1キャパシタ電極6および第1誘電体層7と比較して、エッチング量はずっと少ない。具体的には、第2キャパシタ電極8は、900nmの深さまでエッチバックされるが、第1キャパシタ電極6および第1誘電層7は、絶縁性充填部13の上端と同じ高さまで、すなわち、半導体基板2の表面1から下方向に約1000nmの深さまでエッチバックされる。
この結果の構造を図10に示す。
以降の工程は、従来のメモリセル構造に対する蓄積キャパシタおよびこの蓄積キャパシタに接続された選択トランジスタの製造方法に含まれるものであるが、次にこれについて説明する。この方法工程およびメモリセル構造は、一般に知られており、以下の説明は、説明を完全にし終えるためにのみ行なうものである。本発明のトレンチキャパシタを、他の所望のセル概念を用いても完成できることは明らかである。
絶縁性カラー14を形成するために、25nmの厚さの層のSiO2層をコンフォーマルに堆積させる。その後、堆積されたSiO2層を、異方性エッチングし、これにより、トレンチ5の上部にSiO2の絶縁性カラー14を作る。絶縁性カラー14は、この時点でもし絶縁性カラー14がなかった場合に形成されてしまう寄生トランジスタを、形成されないようにするために設けられる。
次に、n+多結晶シリコン層15を堆積させ、これによって、蓄積キャパシタのトレンチ5におけるカラー領域を埋める。続いて埋め込みコンタクト層を作ることに備え、n+多結晶シリコン層15を、半導体基板2の表面1から下方向約120nmまでエッチバックする。
埋め込みコンタクト層の表面が覆われないようにするために、SiO2の絶縁性カラー14の上部を、エッチングし取り除く。
この結果の構造を図11に示す。
埋め込みコンタクト層を完成するために、覆われていないシリコン表面を窒化した後で、n+多結晶シリコン層を再び堆積し、化学的機械研磨により、Si3N4層4の表面まで、平坦化する。堆積した多結晶シリコン層を、表面1の下約40nmまでエッチバックする(リセス3エッチ)。
次に、活性領域を形成するために、横方向に活性領域の範囲を定める絶縁構造16を作る。このために、(不図示の)フォトリソグラフィで作成されたマスクを形成し、活性領域を覆う。この後、CHF3/N2/NF3を用いた非選択的なエッチングを行う工程を実施し、Si3N4、SiO2、および多結晶シリコンをエッチングする。この工程でのエッチングの深さは、トレンチ分離の深さに相当する。続いてフォトレジストマスクを取り除く。その後、酸化により、シリコンの上に薄い熱SiO2層を作る。
続いて、250nmの厚さのSiO2を、HDP(高密度プラズマ処理)を用いて堆積させる。続いて、Si3N4層4の表面まで、化学的機械研磨を行い、Si3N4を侵食するH3PO4でエッチングを行い、続いてSiO2を侵食するDHF(希フッ化水素酸)を用いてエッチングし、これにより、ハードマスク、Si3N4層4、およびSiO2層3が取り除かれ、絶縁構造16が完成する。
続いて、犠牲酸化により酸化物遮蔽層が形成される。フォトリソグラフィで作られたマスクおよび注入を用いて、n−ドーピンウェル、およびp−ドーピングウェルを形成し、セルアレイの周辺領域および選択トランジスタ領域に閾値電圧注入を実行する。さらに、高エネルギーでイオン注入を行い、n+ドーピング領域22を形成する。このn+ドーピング領域22は、隣接する低い位置にある第1キャパシタ電極6に対応する基板のn+ドーピング領域25を互いに接続する(これは、「埋め込みウェル注入」として知られている)。
続いて、一般に知られている方法を用いて、トランジスタを完成する。すなわち、ゲート酸化膜、ゲート電極17、対応する配線部、ソース/ドレイン電極18・19をそれぞれ形成する。さらに、公知の方法で金属処理面を形成することにより、メモリセルは完成する。
図12は、この結果作られたメモリセルの概略図である。第1キャパシタ電極6、第1誘電体層7、第2キャパシタ電極8、第2誘電体層9、および第3キャパシタ電極10を有するトレンチキャパシタである蓄積キャパシタ23は、各々トレンチ5中に配されている。第3キャパシタ電極10は、第1キャパシタ電極6と電気的に接続されている。これにより、電極表面領域、従って蓄積容量を、従来の蓄積キャパシタに比べて著しく増加させることができる。
第2キャパシタ電極8は、多結晶シリコン領域20およびn+ドーピング領域21を介して、選択トランジスタ24の第1ソース/ドレイン電極18と接続されている。第1および第2ソース/ドレイン電極18・19の間に形成される導電性チャネルの導電率は、ゲート電極17により制御される。
図13は、例えば、上述のメモリセルの8F2セルアーキテクチャでの配置を示す図である。このメモリセル配置では、各メモリセルに、トレンチ5のうちの1つの中に配された蓄積キャパシタおよびプレーナ型の選択トランジスタが備えられている。各メモリセルには、8F2のスペースが必要である。ここで、Fは各技術で作ることができる最小の形状寸法である。ビット線BLは、この平面図中、帯状で互いに平行に伸びている。ビット線BLの幅は各々Fであり、各ビット線間の距離も同様にFである。ワード線WLの幅も同様にFであり、ワード線間の距離もFである。ワード線は、この平面図中では上下に伸びている。活性領域Aは、ワード線WLおよびビット線BLの下に配され、各活性領域の上を2本のワード線WLが横切っている。各活性領域Aはビット線BLの下に配され、この結果、隣接するビット線BLの下に配されている活性領域Aどうしは互いに離れている。各ビット線BLと活性領域Aとの間の電気接続を行なうビット線コンタクト部BLKは、活性領域Aの中央に配されている。各トレンチ5は、ワード線WLの下に配されている。対応する選択トランジスタの各ゲート電極17は、活性領域内で、かつ、ビット線BLのうちの1つとワード線WLのうちの1つとの間の交差点に形成されている。
各活性領域Aは、2つのトレンチ5の間に広がっている。各活性領域Aは、2つの選択トランジスタを備え、この2つの選択トランジスタは、共通のビット線コンタクト部BLKを介して対応するビット線BLに接続されている。どのワード線WLが駆動されるかに応じて、トレンチ5中の一方または他方に位置する蓄積キャパシタから情報が読み取られる。
図14は、非コンフォーマルに堆積された各層が延びている深さを示す図である。
トレンチ5は、半導体基板2中で深さdまでエッチングされている。すなわち、半導体基板2の底部と表面1との垂直方向の距離はdである。第1誘電体層7および第2誘電体層9は所定の層厚を有し、深さはd1である。層厚は、その前に形成された層の厚さに応じて決定される。換言すると、第1誘電体層7および第2誘電体層9は、深さd1までコンフォーマルに堆積される。第1誘電体層7の材料が、深さd3より深く堆積されることはなく、第2誘電体層9の材料が、深さd4より深く堆積されることはない。d3とd4とは等しいことが好ましい。導電材料層である第2キャパシタ電極8は、深さd2まで延びるように堆積される。第2キャパシタ電極8が完全に誘電体材料により囲まれるように、変数d1・d2は設定される。換言すれば、d2はd1より小さい。
1 表面
2 半導体基板
3 SiO2層
4 Si3N4層
5 トレンチ
6 第1キャパシタ電極
7 第1誘電体層
8 第2キャパシタ電極
9 第2誘電体層
10 第3キャパシタ電極
11 トレンチ壁
12 多結晶シリコン充填部
13 絶縁性充填部
14 絶縁性カラー
15 n+多結晶シリコン層
16 絶縁構造
17 ゲート電極
18 第1ソース/ドレイン電極
19 第2ソース/ドレイン電極
20 多結晶シリコン領域
21 n+ドーピング領域
22 n+ドーピング領域
23 蓄積キャパシタ
24 選択トランジスタ
25 n+ドーピング領域
2 半導体基板
3 SiO2層
4 Si3N4層
5 トレンチ
6 第1キャパシタ電極
7 第1誘電体層
8 第2キャパシタ電極
9 第2誘電体層
10 第3キャパシタ電極
11 トレンチ壁
12 多結晶シリコン充填部
13 絶縁性充填部
14 絶縁性カラー
15 n+多結晶シリコン層
16 絶縁構造
17 ゲート電極
18 第1ソース/ドレイン電極
19 第2ソース/ドレイン電極
20 多結晶シリコン領域
21 n+ドーピング領域
22 n+ドーピング領域
23 蓄積キャパシタ
24 選択トランジスタ
25 n+ドーピング領域
Claims (22)
- (a)半導体基板(2)を設ける工程と、
(b)半導体基板(2)の表面(1)に、半導体基板(2)の表面から深さdのトレンチをエッチングし、トレンチ壁(11)を作る工程と、
(c)トレンチ壁(11)に隣接する第1キャパシタ電極(6)を形成する工程と、
(d)所定の層厚さの第1誘電体層(7)を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板(2)の表面(1)からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、この第1誘電体層(7)を、工程(c)の結果生じた表面領域中で、半導体基板(2)の表面からの長さが少なくともd3である表面領域上には形成しないように、第1誘電体層(7)を堆積する工程と、
(e)導電性材料層(8)を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板(2)の表面(1)からの長さが最大限d2である表面領域上に作り、かつ、導電性材料を、工程(d)の結果生じた表面領域中の、半導体基板(2)の表面からの長さが少なくともd2である表面領域以降には形成せず、d2はd1より小さく、この結果第2キャパシタ電極(8)を形成するように、導電性材料層(8)を堆積する工程と、
(f)所定の層厚の第2誘電体層(9)を、工程(e)の結果生じた表面領域中の、半導体基板(2)の表面(1)からの長さが最大限d1である表面領域上に作り、かつ、この第2誘電体層(9)を、工程(e)の結果生じた表面領域中で、半導体基板(2)の表面(1)からの長さが少なくともd4である表面領域上には形成しないように、第2誘電体層(9)を堆積する工程と、
(g)第1キャパシタ電極に接続される第3キャパシタ電極を形成するように、導電材料のコンフォーマル層(10)を形成する工程と、
を含むトレンチキャパシタの製造方法。 - 第1キャパシタ電極(6)を形成する工程(c)は、トレンチ壁に隣接する基板部分(25)をドーピングする工程を含む請求項1に記載の方法。
- 第1キャパシタ電極(6)を形成する工程(c)は、金属層をコンフォーマル堆積する工程を含む請求項1または2に記載の方法。
- 工程(g)後に、さらに、多結晶シリコン充填物を堆積する工程を含む請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。
- 第1キャパシタ電極(6)の材料と、第3キャパシタ電極(10)の材料とが同一である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
- 第1キャパシタ電極(6)の材料と、第2キャパシタ電極(8)の材料と、第3キャパシタ電極(10)の材料とが同一である請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。
- 第1キャパシタ電極(6)と、第2キャパシタ電極(8)と、第3キャパシタ電極(10)とのうちの1つのキャパシタ電極の材料が、少なくとも他の1つのキャパシタ電極の材料とは異なる請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。
- 第1誘電体層(7)の材料と、第2誘電体層(9)の材料とが同一である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の方法。
- 第1誘電体層(7)の材料と、第2誘電体層(9)の材料とが異なる請求項1ないし7のいずれか1項に記載の方法。
- 長さdと長さd1との差が、1000nmよりも小さい請求項1ないし9のいずれか1項に記載の方法。
- 長さdと長さd1との差が、100nmよりも大きい請求項1ないし10のいずれか1項に記載の方法。
- 長さd1と長さd2との差が、1000nmよりも小さい請求項1ないし11のいずれか1項に記載の方法。
- 長さd1と長さd2との差が、100nmよりも大きい請求項1ないし12のいずれか1項に記載の方法。
- トレンチキャパシタとして設計された蓄積キャパシタ(23)と、選択トランジスタ(24)とを備えたメモリセルを製造する方法であって、
請求項1ないし11のいずれか1項に記載の方法を実行する工程と、
第1ソース/ドレイン電極(18)、第2ソース/ドレイン電極(19)、導電性チャネル、およびゲート電極(17)を有し、第1ソース/ドレイン電極(18)が第2キャパシタ電極(8)に電気的に導電接続されている選択トランジスタ(24)を形成する工程とを、
含む方法。 - 第1キャパシタ電極(6)、第1キャパシタ誘電体層(7)、第2キャパシタ電極(8)、第2キャパシタ誘電体層(9)、および第3キャパシタ電極(10)を有し、
これらが、少なくとも部分的には、半導体基板(2)中に形成されたトレンチ(5)中に配され、
第1キャパシタ電極(6)が、トレンチ(5)の壁(11)に隣接し、
第1キャパシタ電極(6)が、第3キャパシタ電極(10)に電気的に導電接続され、
第2キャパシタ電極(8)が、第1キャパシタ電極(6)と第3キャパシタ電極(10)との間の空間に形成され、かつ、第1キャパシタ誘電体層(7)により第1キャパシタ電極(6)から電気的に絶縁され、第2キャパシタ誘電体層(9)により第3キャパシタ電極から電気的に絶縁され、
第1キャパシタ誘電体層は、第1誘電体層(7)から形成され、この第1誘電体層(7)は、半導体基板(2)の表面(1)から長さd1に渡って延びている表面領域上で、所定の層厚を有し、かつ、この第1キャパシタ誘電体層は、半導体基板(2)の表面(1)中の、長さd3を越えては形成されず、
第2キャパシタ電極(8)は導電材料層から形成され、この導電材料層は、半導体基板(2)の表面(1)から長さd2に渡って延びている領域上に形成され、かつ、この導電材料は、半導体基板(2)の表面(1)からの長さがd2を越えた領域上には形成されず、d2はd1より小さく、
第2キャパシタ誘電体層は第2誘電体層(9)から形成され、この第2誘電体層(9)は、半導体基板(2)の表面(1)から長さd1に渡って延びている表面領域で、所定の層厚さを有し、かつ、この第2キャパシタ誘電体層は、半導体基板(2)の表面(1)からの長さがd4を越えては形成されない、
トレンチキャパシタ(23)。 - トレンチは、深さと最小限の直径とを有し、トレンチの深さと、最小限の直径との比率は、20よりも大きい請求項15に記載のトレンチキャパシタ。
- トレンチの深さと最小限の直径との比率は、40よりも大きい請求項16に記載のトレンチキャパシタ。
- 第1キャパシタ電極(6)の材料と、第3キャパシタ電極(10)の材料とが同一である請求項15ないし17のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。
- 第1キャパシタ電極(6)の材料と、第2キャパシタ電極(8)の材料と、第3キャパシタ電極(10)の材料とが同一である請求項15ないし18のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。
- 第1キャパシタ電極(6)の材料が、金属または金属化合物である請求項15ないし19のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。
- 第2キャパシタ電極(8)の材料が、金属または金属化合物である請求項15ないし20のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。
- 請求項15ないし21のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ(23)として設計されたキャパシタと、
第1ソース/ドレイン電極(18)、第2ソース/ドレイン電極(19)、導電性チャネル、およびゲート電極(17)を有する選択トランジスタ(24)であって、第2キャパシタ電極(8)が選択トランジスタ(24)の第1ソース/ドレイン電極(18)に電気的に導電接続されている選択トランジスタ(24)とを、
備えたメモリセル。
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