JP2005322870A - 有機装置の電気性質を向上する方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 有機薄膜トランジスタの電気性質を向上するための有機装置の電気性質を向上する方法の提供。
【解決手段】 ゲート及び絶縁層が形成された装置基板を提供し、有機半導体高分子材料、有機絶縁高分子材料、導電粒子と溶剤を混合し有機溶液を形成し、該有機溶液を使用して有機半導体層を該絶縁層の上に形成する。そのうち、該有機半導体高分子材料は、ポリ−3−アルキルチオフェン(P3AT)より選択し、該有機絶縁高分子材料はポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等の相互に類似の材料より選択し、該導電粒子はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボン60及びナノ銀粒子等の相互に類似の導電材料より選択する。該溶剤はキシレン、トルエン及びTHF等の相互に類似の溶剤より選択する。
【選択図】 図1

Description

本発明は一種の有機装置の電気性質を向上する方法に係り、特に、半導体材料物理改質方式を利用することで有機薄膜トランジスタの電気性質を向上する方法に関する。
有機半導体は1940年代末期より研究開始され、その電界効果は1970年に提出された。1987年までに、有機電界効果トランジスタ(Organic Field−Effect Transistor;OFET)はKoezuka氏等により潜在力を有する電子装置として実証された。OFETが採用するのは薄膜トランジスタの構造であり、ゆえに有機薄膜トランジスタ(Organic Thin Film Transistor;OTFT)とも称される。有機装置の製造コストは比較的低く、且つ低温工程を使用し、またプラスチック基板上に製作でき、加えて有機薄膜トランジスタの電気特性はアモルファスシリコン薄膜トランジスタに迫り、且つ装置の表現上もすでに相当の成果を有しているため、有機薄膜トランジスタの低コスト、大面積電子製品への応用の機会は大幅に増している。例えば、アクティブマトリクスディスプレイ、スマートカード、プライスタグ、インベントリータグ、或いは大面積センサアレイ等である。
OTFTの操作原理は、電圧で抵抗を制御することであり、ゲート電圧を制御し、一層の絶縁層の作用により、有機半導体層と絶縁層の接触表面のキャリアに累積層(accumulation layer)を発生させることで二つのオームコンタクト間の導通電流を制御する。有機薄膜トランジスタの製造過程は構造により二種類に分けられる。その一つはトップコンタクト方式であり、もう一つはボトムコンタクト方式である。前者は先に有機半導体層を、更にソースとドレインを形成し、後者は先にソースとドレインを形成し、その上に有機半導体層を形成する。有機半導体層の材料は、小分子、モノマー或いは高分子を使用可能で、そのうち高分子有機半導体層はレジオレギュラーポリ3−ヘキシルチオフェン(rr−P3HT)を有機溶剤に溶かし、更に溶液工程方式を用いて半導体層のコーティングを完成する。周知の有機半導体層の製作のほとんどは実験段階に留まっており、ゆえにその電流のオンオフ比(on−off ratio)はいずれも非常に低く、且つほとんどはクロロホルムを有機溶剤として使用するが、クロロホルムは工業界では使用が厳格に禁止されている化学薬品である。
以上を総合すると、周知の有機薄膜トランジスタの製造方法は少なくとも以下のような欠点を有している。
1.製造完成した有機薄膜トランジスタの電流のオンオフ比がいずれも非常に低く、有機薄膜トランジスタの特性に厳重な影響を与え、有機薄膜トランジスタの実用性が大きくならない。
2.小分子及びモノマーの有機薄膜トランジスタ製造に必要なステップは無機薄膜トランジスタの煩瑣で且つ速度が遅い製造工程とは異なるが、真空設備を組合せなければ実施できず、このため大幅に製造コストが増す。
3.クロロホルムの使用は工業界の使用の標準に符合せず且つ環境保護に符合せず、将来的な量産の可能性に影響を及ぼし、間接的に研究開発の意欲を下げる。
周知の技術の欠点を鑑み、本発明の主要な目的は、一種の有機装置の電気性質を向上する方法を提供することにあり、それは有機薄膜トランジスタの電流のオンオフ比を確実に効果的に向上できる方法であるものとする。
本発明の次の目的は、一種の有機装置の電気性質を向上する方法を提供することにあり、それは、工程が急速で容易であり、且つ真空設備を必要とせず、製造コストを節約できる方法であるものとする。
本発明の別の目的は、一種の有機装置の電気性質を向上する方法を提供することにあり、それは現在の工業界の使用の標準に符合し、且つ環境保護概念に符合する方法であるものとする。
請求項1の発明は、有機薄膜トランジスタの電気性質を向上するのに用いられる有機装置の電気性質を向上する方法において、
ゲート及び絶縁層が形成された装置基板を提供する工程、
有機半導体高分子材料、有機絶縁高分子材料、導電粒子と溶剤を混合し有機溶液を形成する工程、
該有機溶液を使用して有機半導体層を該絶縁層の上に形成する工程を具え、
そのうち、該有機半導体高分子材料は、ポリ−3−アルキルチオフェン(poly3−alkylthiophene;P3AT)より選択し、該有機絶縁高分子材料はポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)より選択し、該導電粒子はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボン60及びナノ銀粒子より選択し、該溶剤はキシレン、トルエン及びTHFより選択することを特徴とする、有機装置の電気性質を向上する方法としている。
本発明の有機装置の電気性質を向上する方法は確実に有機薄膜トランジスタの電流のオンオフ比を高めることができ、且つその製造工程は速やかで容易であり、真空設備を必要とせず、製造コストが低く、現在の工業界の使用の標準に符合し、環境保護概念に符合する。本発明は周知の技術領域に関係する技術の記載がなく、新規性を有し、本発明の技術内容は確実にこの領域の問題を解決でき、且つ方法原理は周知の技術に基づき容易に完成できるものではなく、その作用効果については既に述べたとうりであり、進歩性を有しており、ゆえに本発明は特許の要件を具備する。
本発明の好ましい実施例は有機薄膜トランジスタの電気性質を向上するのに用いられる有機装置の電気性質を向上する方法を提供する。それは、ゲート及び絶縁層が形成された装置基板を提供する工程、有機半導体高分子材料、有機絶縁高分子材料、導電粒子と溶剤を混合し有機溶液を形成する工程、該有機溶液を使用して有機半導体層を該絶縁層の上に形成する工程を具えている。
そのうち、該有機半導体高分子材料は、ポリ−3−アルキルチオフェン(poly3−alkylthiophene;P3AT)より選択し、側鎖長の違いにより、アルキル基数は2、4、6、8、10、12及び18とされ得て、P3HTはアルキル基数が6のP3ATである。該有機絶縁高分子材料はポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等の相互に類似の材料より選択する。該導電粒子はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボン60及びナノ銀粒子等の相互に類似の導電材料より選択する。該溶剤はキシレン、トルエン及びTHF等の相互に類似の溶剤より選択する。
図1は本発明の有機装置の電気性質を向上する方法の好ましい実施例による有機薄膜トランジスタの表示図である。装置基板100の上にゲート101を形成した後、有機絶縁材料或いは無機絶縁材料を使用して絶縁層102を形成し、並びに絶縁層102の上にソース103、ドレイン104及び有機半導体層105を形成し、有機薄膜トランジスタ1を完成する。そのうち、装置基板100の材料としてシリコンウエハー、ガラス基板、金属基板或いはプラスチック基板を装置基板100の材料として使用することができ、且つ通常、ゲート101、ソース103及びドレイン104には金属材料、有機導電分子材料或いは透明導電膜(ITO)を使用する。上述の有機薄膜トランジスタ1の製造方法中、有機半導体層105はスピンコーティング、インクジェットプリンティング、ドロッププリンティング、キャスティング、マイクロコンタクト或いはマイクロスタンプの方法を使用して形成することができ、成分調合後の有機溶液をコーティングして有機半導体層105を形成する。そのうち、有機溶液の調合方式は、有機半導体高分子材料として、例えばポリ−3−アルキルチオフェン(poly3−alkylthiophene;P3AT)、これは側鎖長の違いにより、アルキル基数は2、4、6、8、10、12及び18でありP3HTはアルキル基数が6のP3ATであるが、本実施例では、レジオレギュラーポリ3−ヘキシルチオフェン(rr−P3HT)を、キシレン、トルエン或いはTHFの溶剤中に溶かし、並びにポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等の絶縁高分子材料と少量の導電粒子、例えば、カーボンナノチューブ(CNT)、カーボン60及びナノ銀粒子等をドープする。本発明の好ましい実施例では、キシレンを溶剤として使用し、rr−P3HTをそれに溶かし、並びに比例によりPMMAを混合し少量のCNTをドープして有機溶剤を形成する。この有機溶剤の比率はキシレン/PMMA/rr−P3HT/CNT=94.6%/5.2%/0.17%/0.03%である。ガラス基板上に導電ガラスをスパッタしてゲート101を形成し(〜1kÅ)、PECVDを使用して二酸化シリコンを堆積させて絶縁層102(〜1kÅ)とし、さらに導電ガラスをスパッタしてソース103とドレイン104となし(〜1kÅ)、さらに混合したrr−P3HT有機溶液でドロッププリンティング法を利用して有機半導体層105を形成する。
本発明は最もrr−P3HTに適合する溶剤すなわちクロロホルムを使用せず、セカンドレベルの溶剤であるキシレンを使用し、これはクロロホルムが工業界で使用が禁止されているためである、ただしPMMAと少量のCNTをドープすることで、有機薄膜トランジスタ1の電気性質を大幅に向上でき、有機薄膜トランジスタ1の電流オンオフ比は104 以上に達し、更に工業界の使用の標準に符合し、環境保護の概念にも符合する。
図2に示されるのは純のrr−P3HT有機薄膜トランジスタ出力特性曲線表示図であり、rr−P3HT自身は常態導通(Normal−On)の状態であるため、VG =0のときV=G で駆動され、その電流はすでに10-7 Aに達し、大気中の酸素分子と水分子がrr−P3HTに対して重大な影響を有し、キャリア遷移率と導電度の高まりをもたらし、ゆえにVG の増加に伴い、先ず、水、酸素ドープによりもたらされる逆方向電流を克服しなければならない。ゆえに純のrr−P3HT有機薄膜トランジスタで測定されるオン電流とオフ電流はそれぞれ−2.17×10-6A及び−8.22×10-7Aであり、ゆえにその電流のオンオフ比はわずかに2.64である。ゆえに図2から有機薄膜トランジスタの出力特性曲線は線形エリアしかないことが分かり、すなわち表示される純のrr−P3HT有機薄膜トランジスタの電気特性は極めて低い。
図3はrr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線図であり、rr−P3HTは比例によりPMMAを混合後、希釈と包覆の作用によりrr−P3HT分子鎖の間の距離が引き伸ばされ、並びにPMMAは水、酸素を隔離する機能があり、ゆえに水、酸素のrr−P3HTに対する作用を防止して有機薄膜トランジスタのオフ電流を−4.60×10-12 Aまで下げることができる。ただしオン電流はわずかに−2.19×10-8Aまでしか下げられない。ゆえに明らかに、rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの電流オンオフ比は4.76×103 に引き上げられる。ゆえに図3中のrr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線は線形エリアと明らかな飽和エリアで組成され、すなわちrr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの電気特性は大幅に向上されている。
図4はCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線図であり、rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタのオン電流を改善するため、少量のカーボンナノチューブ(CNT)が加えられ、CNTの導電特性を利用して有機薄膜トランジスタのオン電流を−1.35×10-6Aまで高めているが、有機薄膜トランジスタのオフ電流はただ−2.61×10-11 Aまでしか高められていない。ゆえにCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの電流オンオフ比は大幅に高められて5.17×104 となり、ゆえに図4中のCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線も線形エリアと明らかな飽和エリアで組成され、すなわちrr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの電気特性よりも更に向上されている。
図5はCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの変換特性曲線図であり、それはVDS=−100Vの状態下で行なわれ、図5中のA曲線は左辺の目盛り座標に対応し、図5中のA曲線よりVD =0の時の−ID 電流が何アンペアかが分かり、即ちCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタのターンオフ時のオフ電流がどれほどかが分かり、及び、VG =−100Vの時の−ID 電流が何アンペアか、即ちCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタのターンオン時のオン電流がどれほどかが分かり、これからCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの電流オンオフ比を計算できる。図5中のB曲線は右辺の目盛り座標に対応し,図5中のB曲線より我々は斜率を読み出してさらに読み出した斜率を公式にかけてCNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタのキャリア遷移率を推算でき、この推算の過程はこの技術を熟知する者であれば行なうことができるため、ここでは説明を省略する。
本発明の有機装置の電気性質を向上する方法の実施例は本発明の請求範囲を限定するものではなく、本発明から容易に思いつくことのできる変化、例えば異なる材料の導電粒子の添加、或いは異なる溶剤の使用、或いは添加の後先の順序を逆にする等はいずれも本発明に基づきなしうるものであり、本発明に基づきなしうるこのような細部の変化或いは修飾はいずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
本発明の有機装置の電気性質を向上する方法の好ましい実施例による有機薄膜トランジスタの表示図である。 純のrr−P3HT有機薄膜トランジスタ出力特性曲線表示図である。 rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線図である。 CNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタ出力特性曲線図である。 CNT/rr−P3HT/PMMA有機薄膜トランジスタの変換特性曲線図である。
符号の説明
100 装置基板 101 ゲート
102 絶縁層 103 ソース
104 ドレイン 105 有機半導体層
1 有機薄膜トランジスタ

Claims (1)

  1. 有機薄膜トランジスタの電気性質を向上するのに用いられる有機装置の電気性質を向上する方法において、
    ゲート及び絶縁層が形成された装置基板を提供する工程、
    有機半導体高分子材料、有機絶縁高分子材料、導電粒子と溶剤を混合し有機溶液を形成する工程、
    該有機溶液を使用して有機半導体層を該絶縁層の上に形成する工程を具え、
    そのうち、該有機半導体高分子材料は、ポリ−3−アルキルチオフェン(poly3−alkylthiophene;P3AT)より選択し、該有機絶縁高分子材料はポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)より選択し、該導電粒子はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボン60及びナノ銀粒子より選択し、該溶剤はキシレン、トルエン及びTHFより選択することを特徴とする、有機装置の電気性質を向上する方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756817B1 (ko) * 2006-04-06 2007-09-07 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 박막 트랜지스터의 제조 방법
JP2010010525A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Sony Corp 電子デバイス及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
WO2010071268A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing multilayered thin film through phase separation of blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
WO2010071267A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing organic semiconductor nanofibrillar network dispersed in insulating polymer using a blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
JP2014013920A (ja) * 2013-08-21 2014-01-23 Hiroshima Univ 有機半導体組成物

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7563711B1 (en) * 2001-07-25 2009-07-21 Nantero, Inc. Method of forming a carbon nanotube-based contact to semiconductor
GB2416428A (en) * 2004-07-19 2006-01-25 Seiko Epson Corp Method for fabricating a semiconductor element from a dispersion of semiconductor particles
JP2007129007A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Hitachi Ltd 有機半導体膜を有する半導体装置の製造方法
WO2007089322A2 (en) * 2005-11-23 2007-08-09 William Marsh Rice University PREPARATION OF THIN FILM TRANSISTORS (TFTs) OR RADIO FREQUENCY IDENTIFICATION (RFID) TAGS OR OTHER PRINTABLE ELECTRONICS USING INK-JET PRINTER AND CARBON NANOTUBE INKS
US20070275498A1 (en) * 2006-05-26 2007-11-29 Paul Beecher Enhancing performance in ink-jet printed organic semiconductors
KR101206661B1 (ko) * 2006-06-02 2012-11-30 삼성전자주식회사 동일 계열의 소재로 형성된 반도체층 및 소스/드레인전극을 포함하는 유기 전자 소자
CN101689607A (zh) * 2007-06-28 2010-03-31 3M创新有限公司 结合界面导电簇的薄膜晶体管
US8319206B2 (en) * 2007-11-29 2012-11-27 Xerox Corporation Thin film transistors comprising surface modified carbon nanotubes
JP4730623B2 (ja) * 2008-07-24 2011-07-20 ソニー株式会社 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法、および電子機器
US8164089B2 (en) * 2009-10-08 2012-04-24 Xerox Corporation Electronic device
CN103236442B (zh) 2013-04-23 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、电子装置
CN103730574A (zh) * 2013-12-30 2014-04-16 合肥工业大学 一种有机薄膜晶体管及其制备方法
CN113193115B (zh) * 2021-05-19 2023-05-12 电子科技大学 一种悬空碳纳米管场效应晶体管及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003029354A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-10 Toray Industries, Inc. Organic semiconductor material and organic semiconductor element employing the same
WO2003030278A2 (en) * 2001-10-01 2003-04-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Composition, method and electronic device
WO2003089515A1 (fr) * 2002-04-22 2003-10-30 Konica Minolta Holdings, Inc. Composition de semi-conducteur organique, element semi-conducteur organique et procede pour les produire
JP2004006827A (ja) * 2002-04-22 2004-01-08 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ素子
JP2004015062A (ja) * 2002-06-11 2004-01-15 Xerox Corp 有機半導体層の形成方法
JP2004128124A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタの製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002502128A (ja) * 1998-02-02 2002-01-22 ユニアックス コーポレイション X−yアドレス指定可能な電気的マイクロスイッチアレイとこれを使用したセンサマトリックス
US6692662B2 (en) * 2001-02-16 2004-02-17 Elecon, Inc. Compositions produced by solvent exchange methods and uses thereof
EP1291932A3 (en) * 2001-09-05 2006-10-18 Konica Corporation Organic thin-film semiconductor element and manufacturing method for the same
JP4951834B2 (ja) * 2001-09-19 2012-06-13 日本電気株式会社 薄膜トランジスタ
US6621099B2 (en) * 2002-01-11 2003-09-16 Xerox Corporation Polythiophenes and devices thereof
US7193237B2 (en) * 2002-03-27 2007-03-20 Mitsubishi Chemical Corporation Organic semiconductor material and organic electronic device
US6890868B2 (en) * 2002-10-17 2005-05-10 Xerox Corporation Process for depositing gelable composition that includes dissolving gelable composition in liquid with agitating to disrupt gelling
ATE359545T1 (de) * 2003-01-28 2007-05-15 Koninkl Philips Electronics Nv Elektronische vorrichtung
JP4586334B2 (ja) * 2003-05-07 2010-11-24 ソニー株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
US7351606B2 (en) * 2004-06-24 2008-04-01 Palo Alto Research Center Incorporated Method for forming a bottom gate thin film transistor using a blend solution to form a semiconducting layer and an insulating layer

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003029354A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-10 Toray Industries, Inc. Organic semiconductor material and organic semiconductor element employing the same
WO2003030278A2 (en) * 2001-10-01 2003-04-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Composition, method and electronic device
WO2003089515A1 (fr) * 2002-04-22 2003-10-30 Konica Minolta Holdings, Inc. Composition de semi-conducteur organique, element semi-conducteur organique et procede pour les produire
JP2004006827A (ja) * 2002-04-22 2004-01-08 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ素子
JP2004015062A (ja) * 2002-06-11 2004-01-15 Xerox Corp 有機半導体層の形成方法
JP2004128124A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタの製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756817B1 (ko) * 2006-04-06 2007-09-07 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 박막 트랜지스터의 제조 방법
JP2010010525A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Sony Corp 電子デバイス及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
WO2010071268A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing multilayered thin film through phase separation of blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
WO2010071267A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing organic semiconductor nanofibrillar network dispersed in insulating polymer using a blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
US8692236B2 (en) 2008-12-18 2014-04-08 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing organic semiconductor nanofibrillar network dispersed in insulating polymer using a blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
US8828793B2 (en) 2008-12-18 2014-09-09 Postech Academy-Industry Foundation Method of manufacturing multilayered thin film through phase separation of blend of organic semiconductor/insulating polymer and organic thin film transistor using the same
JP2014013920A (ja) * 2013-08-21 2014-01-23 Hiroshima Univ 有機半導体組成物

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