JP2005317930A - 磁場を用いたパターン形成方法および電子装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 任意の流動性のある物質に磁場を印加することによって、流動性のある物質を移動させて所望の形状を形成した後、この流動性のある物質を固化させることによって所望の形状のパターン(固形物)を形成するパターン形成方法を提供する。磁化率の異なる2以上の物質を含む基板に磁場を印加して、基板中で磁化率の最も高い物質に磁力線を集中させて所望の磁束密度分布パターンを有する磁場を形成し、流動性のある物質にこの所望の磁束密度分布パターンを有する磁場を印加することができる。
また、これらのパターン形成方法を用いた電子装置製造方法を提供する。
【選択図】 図8
Description
しかし、強磁場を用いると、磁場中で誘起された磁気相互作用が大きくなるため、流動性のある物質に強磁場を印加する場合には、弱磁性体であっても自身の形状を変える駆動力になる。このような強磁場を用いた技術の例として、磁気アルキメデス効果を利用した結晶成長方法(特許文献2参照。)、磁気異方性がある結晶を結晶軸がそろうように配向させる方法(特許文献3参照。)、物質界面を変化させる方法(特許文献4参照)等が提案されている。
式1 B=Φ/S (Wb/m2=T)
式2 B=μ0H
式3 K=μ/μ0
式4 K=1+χ
次に、磁化率の異なる2つの流動性のある物質に磁場を印加する場合を考える。互いに不溶の第1の流動性のある物質と第2の流動性のある物質において、もし、第1の流動性のある物質の磁化率χ1と第2の流動性のある物質の磁化率χ2がχ1>χ2の関係にある場合には、第1の流動性のある物質と第2の流動性のある物質が2層になった系に磁場を印加すると、第1の流動性のある物質は磁場に引き寄せられ、第2の流動性のある物質は磁場からはじかれる。
磁場を所定の位置に集中させる方法として、所定の形状に加工した磁石を所定の位置に設置して磁場を印加する方法や、磁力線がより磁化率χの大きい物質に集中することを利用することができる。前者の場合、永久磁石の微細加工が難しいこと、磁石の体積が小さくなると、磁場が弱くなること等が欠点として挙げられ、微細な領域に磁力線を絞るのは難しい。一方、電磁石についても、所望の磁束密度分布を微細化するには電磁石も小さくする必要があり、自ずと限界が生じる。
流動性のある物質が液体であり、かつ磁力線を集中させるために用いる磁化率が異なる物質からなる基板とこの液体が接している場合、磁場効果により液体を集めてパターンを形成する位置の表面を濡れやすく改質することが考えられる。ここでいう改質とは、磁場効果により液体を集めてパターンを形成する表面を濡れやすくする、あるいはパターンを形成しない表面を濡れにくくする、あるいはその両方を併用することを言う。また、界面自由エネルギーに関して言えば、改質とは、磁場効果により液体を集めてパターンを形成する部分と液体との間の界面自由エネルギーが、磁場効果により液体をはじく部分と液体との間の界面自由エネルギーよりも大きいことを言う。基板表面の改質方法としては、例えば、濡れやすい材質を選ぶ、任意の部分が濡れやすくなるようにプラズマ処理を行う、シランカップリング剤で任意の部分の表面をコーティングするなどの手法を行うことができる。
磁場を用いたパターン形成で用いる流動性のある物質として、磁場効果で所望の形状に流動性のある物質を動かした後、固化できる物質であればあらゆるものを用いることができる。
磁力線を集中させるためには、上述のように、パターン形成したい形の磁石を利用したり、相対的に磁化率の大きい物質に磁力線が集中する原理を利用したりすることができる。後者の場合には、磁化率の差が大きい物質を組み合わせて適宜選択することによって、選択した相対的に磁化率の大きい物質に磁力線を集中させ、任意の磁束密度分布を持つ磁場を形成しパターン形成に利用することができる。このような磁力線は、磁化率が相対的に大きいほうに集まるので、磁化率の差がある物質全てに適応できるが、特に、磁化率の差が大きい強磁性体と弱磁性体の組み合わせを用いることは好ましい形態の1つである。また、基板に磁化率の異なる物質を印刷することにより磁化率の異なる2以上の物質を含む基板を得て、パターン形成を行うことも可能である。
本発明のパターン形成方法において磁場効果を増強させる第2の流動性のある物質については、上述したように、第1の流動性のある物質に対して完全に溶解せず第1の流動性のある物質からなる層と、第2の流動性のある物質からなる層の2層が形成される任意の流動性のある物質を適宜選択することができる。また、磁場効果を増強するために、これらの流動性のある物質は磁化率の差が大きいものが好ましく、具体的には、空気よりも磁化率の差が大きくなる組み合わせが好ましい。
図9(a)に示す金属電極1、3は、強磁性体であるニッケルバンプ(金属突起)であり、その大きさは、ψ(直径)5μm、10μm、20μm、50μm、100μmのいずれかであり、高さはそれぞれ5μmである。更に、パッシベーション膜として弱磁性体のSi3N4を、金属電極1、3以外の電子装置4の表面に形成した。電子装置4は弱磁性体のシリコンである。樹脂基板5には弱磁性体のエポキシ樹脂基板を使用し、チップ表面と基板表面は5μmの段差がある。ここで、図9(a)に示される電子装置は、電子装置2の表面と金属電極1との間の段差、電子装置4の表面と金属電極3との間の段差、及び、電子装置2、3と樹脂基板5との間の段差によって高低差があり、平滑ではない。図10(a)にψ20μm、高さ5μmのバンプの電子顕微鏡写真を示した。
図9(b)に示される電子装置は、下記のような方法で製造される。まず、反磁性を示す塗布液を基板全体に塗布し、基板に対して縦に磁場を印加することによって磁力線を金属バンプに集中させ、磁場効果により反磁性を持つ塗布液をはじく。次いで塗布液を硬化させることによって、金属電極1および3上に選択的に絶縁膜開口部を有する絶縁膜6を形成することができる。以下に更なる詳細を記載する。
エポキシ変性シランカップリング剤(信越化学工業株式会社製 KBM−403)100部、光カチオン開始剤(旭電化工業株式会社製 アデカオプトマーSP−170)4部、エタノール20部、アセトン50部を冷却ジャケットつきプラネタリーミキサーに投入し均一な溶液体になるまで撹拌し塗布液を得る。この際、撹拌時に発生する熱で塗布液が反応を起こさないように、液温が25℃を超えない範囲で冷却しながら撹拌し塗布液を得る。
上記で作成した塗布液を、図12(a)に示される電子装置上に、スピンコートを用いてエポキシ基板5表面から6〜8μmの液厚になるように塗布する。
磁場の印加
基板に対して垂直に10T(テスラ)の縦磁場を30秒印加して、ニッケルバンプ上の塗布液をはじいた。このとき、点線で概念的に示すように、強磁性体であるニッケルバンプの上に磁力線7が集中する。
ついで上記の磁場を印加しながら、波長365nmのUVを浜松ホトニクス社製メタルハライドランプ(LIGHTNINGCURE LC5)を用いて6000mJ/cm2照射し、塗膜を硬化させた後磁場の印加を停止し、絶縁膜として、図9(c)に示す電子装置を製造した。
図9(c)に示される平滑化された表面を利用して、金属電極1および3間にAg配線8を形成することにより電気的に接続して、図9(d)に示す電子装置を製造した。
図10(b)に示すように、上記の膜形成前と形成後の状態を示す電子顕微鏡写真を撮影した。これにより、金属電極上に開口部が形成され、金属表面が露出していることを確認することができた。図10(a)は、絶縁膜を形成する前の電子装置の電子顕微鏡写真である。
図11(a)の電子装置を、下記のように製造した。図11(a)に示された金属電極9、10は、ニッケルに金メッキを施した強磁性体からなるバンプであり、大きさはψ50μm、高さは5μmである。パッシベーション膜11として、Si3N4を金属電極9、10以外の部分に形成した。基板12にはシリコンを使用した。
反磁性を示す塗布液体を基板全体に塗布し、次いで10Tの磁場を印加しながら100℃の温度で60分間硬化させた後、磁場の印加を停止することによって、金属電極9および10上には選択的に膜開口部を有する絶縁膜13を形成して図11(b)に示される電子装置を得た。塗布液体を作成する詳細を下記に示す。
オキセタン変性シルセスキオキサン(東亞合成(株)製 OX−SQH)50部、脂環型エポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株)製 セロキサイド2021P)10部、光熱カチオン開始剤(SI-100)5部、トルエン30部を冷却ジャケットつきプラネタリーミキサーに入れ、均一な溶液体になるまで攪拌し液体を得た。この際、攪拌時に発生する熱で塗布液が反応を起こさないように、液温が25℃を超えない範囲で冷却しながら攪拌し塗布液を得た。この塗布液体の、おおよその磁化率は−0.6(10-6cm3g-1)である。
次いで、形成された第1の絶縁膜13表面を介して、弱磁性体であるAlからなる金属配線14を形成することによって、金属電極9、10と電気的に接続された配線14を基板の裏面に回して、図11(c)に示される電子装置を得た。なお、配線14は金属電極9、10どうしは電気的に接続していない。
引き続いて、形成された金属配線14に金属電極を形成した。電極9と電気的に接続された配線に対しては、弱磁性体であるCu電極16を形成し、電極10と電気的に接続された配線に対しては、金属Auのメッキを施した強磁性体であるNi電極15を形成した。
次に、図12(a)、(b)に示す電子装置の製造方法を説明すると、図11(d)に示す電子装置に図11(b)の説明で示す液体を塗布して塗布膜17を形成し、次いでMnCl2を10%溶かし磁化率を大きくした水溶液を塗布して塗布膜18を形成し、次いで5Tの磁場を基板面に対して垂直に30秒印加した。引き続いて、波長365nmのUVを浜松ホトニクス社製メタルハライドランプ(LIGHTNINGCURE LC5)を用いて6000mJ/cm2照射し、上面の塗膜を硬化させた後、裏返して更にUVを6000mJ/cm2照射して硬化させて、絶縁膜を形成した後、磁場の印加を停止した。次に、塗布膜18を除去して、図12(a)、(b)で示した電子装置を製造した。図12(b)は、膜開口部を示す断面図である。
図12(b)に示す膜開口部を有する金属電極9、10、15上に、Sn-系はんだボールをリフローすることによって、はんだバンプ19を形成して、図13(a)に示す電子装置を製造した。
引き続いて、第三の塗布液を基板全体に塗布し、次いで10Tの磁場を基板面に対して垂直に30秒印加することによって、はんだ上に選択的に膜開口部を有する第三の塗布液膜20を形成した。この塗膜20は、波長365nmのUVを浜松ホトニクス社製メタルハライドランプ(LIGHTNINGCURE LC5)を用いて裏表それぞれ500mJ/cm2照射することによって、半硬化の膜を形成し、次いで磁場の印加を停止した。ここで用いた塗布液体は、先の図11(b)の説明で示す液体と同じ組成の塗布液体であり、同様の方法で調製したものである。
図13(b)にて得られた電子装置2個を、熱圧着することにより、はんだバンプ20を電気的に接合すると同時に、先に形成されていた第三の塗布液膜19を200℃で1時間加熱することにより硬化させて、図13(c)に示すような電子装置の絶縁膜を形成した。
2 電子装置
3 金属電極
4 電子装置
5 樹脂基板
6 絶縁膜
7 磁力線
8 金属配線
9 弱磁性体からなる金属電極
10 強磁性体からなる金属電極
11 パッシベーション膜
12 基板
13 絶縁膜
14 金属配線
15 強磁性体からなる金属電極
16 弱磁性体からなる金属電極
17 絶縁膜
18 磁化率を調製した水
19 はんだボールバンプ
20 絶縁膜
Claims (22)
- 磁場を流動性のある物質に印加することによって、前記流動性のある物質を移動させて所望の形状を形成した後、前記流動性のある物質を固化させることによって所望の形状のパターン(固形物)を形成することを特徴とするパターン形成方法。
- 磁化率の異なる2以上の物質を含む基板に磁場を印加して、前記基板中で磁化率の最も高い物質に磁力線を集中させて所望の磁束密度分布を有する磁場を形成し、前記流動性のある物質に前記所望の磁束密度分布を有する磁場を印加することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 基板と異なる磁化率を有する少なくとも1の物質を前記基板上に印刷して印刷されたパターンを形成することにより、前記磁化率の異なる2以上の物質を含む基板を得ることを特徴とする請求項2に記載のパターン形成方法。
- インクジェット方式により印刷を行うことを特徴とする請求項3に記載のパターン形成方法。
- 前記基板上に印刷する物質として、活性エネルギー線硬化型の塗布液を用いることを特徴とする請求項3又は4に記載のパターン形成方法。
- 前記印刷されたパターンが濡れ広がらないように、活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする請求項5に記載のパターン形成方法。
- 請求項5に記載のパターン形成方法を繰り返すことにより前記印刷されたパターンを積層させ、前記印刷されたパターンを基板面から高く形成することを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記流動性のある物質が2つの流動性のある物質を含み、前記流動性のある物質に前記磁場を印加して所望の形状のパターンを形成した後、前記2つの流動性のある物質の少なくとも一方を固化させることを特徴とする請求項1から7の何れか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記2つの流動性のある物質の磁化率の差が、何れか一方が空気である場合よりも大きいことを特徴とする請求項8に記載のパターン形成方法。
- 前記2つの流動性のある物質が互いに不溶であることを特徴とする請求項8又は9に記載のパターン形成方法。
- 前記流動性のある物質として、液体を用いることを特徴とする請求項1から10の何れか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記液体として、溶融状態の固体を用いて所望の形状を形成した後、冷却することによって前記液体を固化することを特徴とする請求項11に記載のパターン形成方法。
- 前記液体として、溶融金属を用いることを特徴とする請求項12に記載のパターン形成方法。
- 前記液体として、活性エネルギー線の照射によって硬化する液体を用いることを特徴とする請求項11に記載のパターン形成方法。
- 前記液体として、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることを特徴とする請求項14に記載のパターン形成方法。
- 前記液体が前記基板に接していることを特徴とする請求項11から15の何れか1項に記載のパターン形成方法。
- 磁場効果により液を集める部分の表面と前記液体との間の接触角θaと、磁場効果により液をはじく部分の表面と前記液体との間の接触角θbとが、θa<θbの関係であることを特徴とする請求項16に記載のパターン形成方法。
- 前記液体が2つの液体を含み、第1の液体が第2の液体中にあるとき、磁場効果により前記第1の液体を集める部分と基板表面との間の接触角θcと、前記第1の液体とそれ以外の部分の基板表面との間の接触角θdとが、θc<の関係であることを特徴とする請求項16に記載のパターン形成方法。
- 請求項1から18の何れか1項に記載のパターン形成方法を繰り返すことによって、2以上の層を有するパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
- 電子装置の製造法であって、請求項1から18の何れか1項に記載のパターン形成方法を用いて電子製品に所望のパターンを形成することを特徴とする電子装置の製造方法。
- 同一基板上に磁化率が異なる物質を含む電子装置の製造方法であって、
前記電子装置に磁場を印加して、最も磁化率の大きい物質の位置に磁力線を集中させて所望の磁束密度分布を有する磁場を形成し、前記電子装置上の流動性のある物質に前記所望の磁束密度分布を有する磁場を印加することによって、前記流動性のある物質を移動させて所望の形状を形成した後、前記流動性のある物質を固化させることによって、前記電子装置上に所望の形状のパターンを形成することを特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項20又は21に記載のパターン形成方法を繰り返すことによって、2以上の層を有するパターンを形成することを特徴とする電子装置の製造方法。
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11111720A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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Patent Citations (1)
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JPH11111720A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009227923A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | ネガパターンを有する物品を製造する方法 |
JP2010000419A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | パターン形成方法 |
JP2011527106A (ja) * | 2008-06-30 | 2011-10-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | パターン形成された基板の形成方法 |
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