JP2005303781A - 薄膜共振素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】薄膜共振素子を、両面マスクアライナを用いることなく製造する方法を実現する。
【解決手段】ウェハの表裏(おもてうら)に共通のマークとなる貫通孔を設け、このマークを基準として、ウェハの表裏を片面づつマスキングする。これにより、ウェハの表裏に形成されるパターンの相対的な位置関係を保つことができ、薄膜共振素子を、片面マスクアライナ装置によって製造することが可能となる。
【選択図】図3
【解決手段】ウェハの表裏(おもてうら)に共通のマークとなる貫通孔を設け、このマークを基準として、ウェハの表裏を片面づつマスキングする。これにより、ウェハの表裏に形成されるパターンの相対的な位置関係を保つことができ、薄膜共振素子を、片面マスクアライナ装置によって製造することが可能となる。
【選択図】図3
Description
本発明は、薄膜共振素子の製造方法に関する。
近年、携帯電話に代表される無線機器を用いたサービスが普及しつつある。このような無線機器の小型化、高性能化のために、薄膜共振素子を用いた共振器あるいはフィルタ等の高周波デバイスが用いられている。この薄膜共振素子を製造するには、ウェハの表面側の加工だけでなく、裏面側の加工も必要である。
従来、このようなウェハの両面を加工する場合、両面マスクアライナ装置が用いられている。この両面マスクアライナ装置は、ウェハ両面のマスクパターンの相対的な位置が精度良く配置されるように、ウェハの両面をマスキングする装置である(特許文献1)。このように両面がマスキングされたウェハをエッチングすることにより、ウェハの両面に位置精度の高いパターンを形成することができ、薄膜共振素子の製造が可能となる。
以上説明したように、従来は、両面マスクアライナ装置を用いる以外に薄膜共振素子を製造する方法がなかった。しかし、両面マスクアライナ装置は、片面マスクアライナ装置に比べ高価であり、少量生産かつアライメント精度をそれ程要求されない場合は、なるべく片面マスクアライナ装置を使いたいという要望がある。本発明の目的は、両面マスクアライナ装置を用いることなく片面マスクアライナ装置を用いて薄膜共振素子を製造する方法を実現することにある。
本発明は、薄膜共振素子の製造方法であって、ウェハの表面に形成された薄膜をエッチングにより部分的に除去し、第一の凹部を形成する工程と、前記ウェハの裏面に形成された薄膜を、前記第一の凹部とウェハの表裏で一致するようエッチングにより部分的に除去した第二の凹部を形成する工程と、エッチングにより、前記第一の凹部と、前記第二の凹部と、を貫通させた貫通孔を形成する工程と、を含み、前記貫通孔の位置を基準にして、薄膜共振素子を製造することを特徴とする。
また、前記ウェハの表面をエッチングから防護し、前記ウェハの裏面がエッチングに浸される治具を使用して前記第二の凹部を形成し、これと同時に前記ウェハの所定箇所をエッチングすることが望ましい。
また、前記エッチングはウェットエッチングであり、前記治具は、前記ウェハの一面を覆う表面を有する支持板と、前記ウェハと前記支持板との間を外部から遮蔽する支持部材と、前記ウェハの少なくとも一部を押圧することにより、前記支持板に固定する固定具と、を有し、前記ウェハの片面のみをエッチングすることが望ましい。
また、前記支持部材がOリングであることが望ましい。
本発明の薄膜共振素子の製造方法によれば、ウェハの表裏に共通のマークとなる貫通孔を設け、このマークを基準として、ウェハの表裏を片面ずつ加工する。これにより、ウェハの表裏に形成されるパターンの相対的な位置関係を保つことができる。従って、薄膜共振素子を、両面マスクアライナ装置を使用することなく、片面マスクアライナ装置によって製造することが可能となる。
以下、本発明を実施するための実施形態について図面を用いて説明する。図1に、本発明の実施形態に係るウェハの表面加工のプロセスを示す。図2に、本発明の実施形態に係るウェハの裏面加工のプロセスを示す。図3に、本発明の実施形態に係る貫通孔によりマークされたウェハを示す。図4に、本発明の実施形態に係るエッチング治具を示す。以下、本発明の第一の実施形態に係るウェハの加工プロセスを詳細に説明する。
「第一の実施形態」
以下、ウェハの表裏に共通のマークとなる貫通孔を設けるプロセスから説明する。図1の(a)に示すウェハ10aは、Siウェハ1の表面上に多層膜が形成されたウェハである。このウェハ10aは、Siウェハ1の両面に酸化膜2−1,2−2が予め成膜され、表面側の酸化膜2−2上に、電極となるAl膜3,Mo膜4,圧電膜となるAlN膜5,電極となるAl膜6が多層膜として形成される。このウェハ10aは、オリエンターション・フラット(OF)と、インデックス・フラット(IF)を有している。
以下、ウェハの表裏に共通のマークとなる貫通孔を設けるプロセスから説明する。図1の(a)に示すウェハ10aは、Siウェハ1の表面上に多層膜が形成されたウェハである。このウェハ10aは、Siウェハ1の両面に酸化膜2−1,2−2が予め成膜され、表面側の酸化膜2−2上に、電極となるAl膜3,Mo膜4,圧電膜となるAlN膜5,電極となるAl膜6が多層膜として形成される。このウェハ10aは、オリエンターション・フラット(OF)と、インデックス・フラット(IF)を有している。
次に、図1(b)に示すように、ウェハ10bの多層膜側(表面側)に合わせマーク検出用溝100を形成する。この合わせマーク検出用溝100の形成は、以下の通りである。まずウェハ10bの多層膜表面にレジスト液を滴下し感光膜を形成する。次に、合わせマーク検出用溝100となる箇所以外が露光されるようなフォトマスクをかけ、露光及び現像する。そして、これにより、ウェハ10b上の複数箇所に合わせマーク検出用溝100のパターニングがなされる。
このフォトマスクの位置は、後述する合わせマークパターン200aを、合わせマーク検出用溝100から検出するために、ウェハのOF又はIFを基準軸として行う。また、合わせマーク検出用溝100は、後述する合わせマークパターン200aが検出しやすくなるようマークパターン200aの外形よりも大きな形状であることが望ましい。そして、ウェハ10bの多層膜に形成された合わせマーク検出用溝100がパターニングされた箇所から酸化膜2−2の面が出るまでエッチングを行う。エッチングした後、ウェハ10bを洗浄する。これにより、ウェハ10b上に、凹部形状の合わせマーク検出用溝100が形成される。次に、ウェハ10bの裏面側の加工処理について説明する。
図2(a)に示すように、ウェハ20aの裏面側に、合わせマークパターン200aとキャビティパターン300aを形成する。この合わせマークパターン200aとキャビティパターン300aの形成は以下の通りである。まず、ウェハ20aの裏面側にレジスト液を滴下し感光膜を形成する。次に、マークパターン200aとキャビティパターン300aとなる箇所が露光されるようフォトマスクをかけ、露光及び現像する。そして、これにより、ウェハ20a上に、合わせマークパターン200aとキャビティパターン300aのパターニングがなされる。
次に、前述した、合わせマークパターン200aとキャビティパターン300aのパターニングがなされたウェハ20aの表面側に(酸化膜2−1上に)、Ti膜7,Au膜8を順次成膜する。そして、成膜されたTi膜7とAu膜8を、リフトオフする(引き剥がす)。これにより合わせマークパターン200aとキャビティパターン300aを形成する。なお、このAu膜8は、後述する強アルカリ液によって、ウェハ20aの裏面側をエッチングする際に、マークパターン200aとキャビティパターン300a以外をエッチング液により腐食させないための保護膜である。また、Au膜8は、酸化膜2−1との密着性が弱いためTi膜7を酸化膜2−1に成膜させてから、Au膜8を成膜する。
前述したフォトマスクの位置は、前述した合わせマーク検出用溝100の領域にマークパターン200aが入るように、表面側のフォトマスクとが同じ基準(OFとIF)によって位置合わせを行う(一次合わせ)。従って、裏面側のフォトマスクと、表面側のフォトマスクとが同じ基準(OFとIF)によって位置合わせされるため、表面側の合わせマーク検出用溝100の領域に裏面側の合わせマークパターン200aを入れることができる。なお、マスクアライナ装置の性能等により、OF、IFだけでは、十分な精度で表面側の合わせマーク検出用溝100の領域に裏面側の合わせマークパターン200aを入れることができない場合は、ウェハ周辺の4箇所(場合によってはそれ以上)をダイシングでカットし、ウェハ20aの裏面側フォトパターン形成の基準軸としても良い。また、後述する薄膜共振素子の電極の形成を精度良く行うために、合わせマークパターン200aは、円形よりは十字等の形状を有していることが望ましい。
そして、図2の(b)に示すように、ウェハ20bの表面に耐薬性のある保護支持部材を貼り付ける。保護支持部材としては、Au膜13が(Ti膜12と共に)成膜されたSiウェハ11を用いる。まず、Au膜13が(Ti膜12と共に)成膜されたSiウェハ11のAu膜13が成膜された面をホットプレートにより加熱する。次に、Siウェハ11の表面全体にエレクトロンワックス9が広がるように塗布する。そして、このSiウェハ11のエレクトロンワックス9が塗布された面に、ウェハ20bの表面を密着させ、保護支持部材にウェハ20bを固定する。
後述するエッチング処理では、この保護支持部材が貼り付けられたウェハ20bを70度の強アルカリ液に浸漬する。このとき、Al膜6(及び合わせマーク検出用溝100)とSiウェハ11の間(のエレクトロンワックス9)に気泡が入っていると、熱により膨らんだ気泡に、強アルカリ液が入り込みAl膜6(及び合わせマーク検出用溝100の周辺)を浸食してしまうため望ましくない。従って、Al膜6(及び合わせマーク検出用溝100)とSiウェハ11(のエレクトロンワックス9)の間に確実に気泡が入らないようにするために、前述したプロセスを、真空中で行うことが望ましい。そして、保護支持部材が取り付けられたウェハ20bは、エッチングの際、裏面のみがエッチングされ、Au膜8が成膜されていない箇所の酸化膜2−1が除去される。そして、酸化膜2−1が除去されることにより、合わせマークパターン200bとキャビティ用パターン300bが形成される。なお、エッチング液には、まず酸化膜2−1のみが除去されるようバッファード沸酸液などを用いるのが望ましい。これにより、その後のエッチングが均等に行われる。
次に図2の(c)の加工プロセスを説明する。前述した図2の(b)で保護支持部材が取り付けられたウェハ20bを、70℃に加熱した強アルカリ液の中に浸漬しエッチングする。ウェハ20bは、エッチングにより、合わせマークパターン200b及びキャビティ用パターン300bが浸食される。そして、ウェハ20bは、合わせマークパターン200bからエレクトロンワックス9の面が、キャビティ用パターン300bからMo膜4が出るまでエッチングされる。これにより、合わせマークエッチ200c及びキャビティエッチ300cが形成される。なお、この強アルカリ液には、KOH液などが用いられる。
エッチング終了後、ウェハ20cを洗浄し(エッチング液を除去し)、この保護支持部材たるSiウェハ11を取り外す。そして再度、エレクトロンワックス9を洗浄により除去する。これにより、図3に示すように、ウェハ30aには、表面に多層膜が形成され、裏面にキャビティエッチ300cが形成され、両面に合わせマーク400(貫通孔)が形成される。ウェハ30aの表面には、前述したように圧電電極たる多層膜(Al膜3,Mo膜4,AlN膜5,Al膜6)が形成されている。このウェハ30aの表面に形成された圧電電極を、ウェハ30aの裏面のキャビティエッチ300cが形成された箇所に対応する部位だけ残して、エッチングにより除去する。
まず、キャビティエッチ300cと共に形成された合わせマーク400を、片面マスクアライナ装置のフォトマスクの基準位置として用いる。これにより、多層膜は、キャビティエッチ300cが形成された箇所に対応する部位のみが、位置精度良く残るようにマスキングされる。これを、エッチングをすることにより、キャビティエッチ300cとそれに対応する圧電電極(Al膜3,Mo膜4,AlN膜5,Al膜6)を含む複数の薄膜共振素子が、ウェハ30a上に形成される。
このウェハ30a上に形成された薄膜共振素子を用いて、共振器を製造する場合、ウェハ30a上に形成された薄膜共振素子を一つずつダイシングする。同様に、ウェハ30a上に形成された複数の薄膜共振素子を用いて、フィルタ等の高周波デバイスを製造する場合、その高周波デバイスを形成する複数の薄膜共振素子毎にダイシングする。薄膜共振素子を用いてフィルタを製造するには、ウェハ30a上に形成された薄膜共振素子を、所要のフィルタ特性が得られるような組み合わせで、その圧電電極間を薄膜電極により接続する。これによりウェハ30a上に形成されたフィルタを、ダイシングによって切り出すことにより、一つのフィルタが出来上がる。
以上説明したように、ウェハ30aの両面に位置の基準となる貫通孔を形成することにより、薄膜共振素子及びそれを用いたフィルタ等の高周波デバイスを、片面マスクアライナ装置で製造することが可能となる。
「第二の実施形態」
第一の実施形態に示した薄膜共振素子の製造方法では、ウェハの表面に保護支持部材を貼り付け、ウェハの裏面をエッチングした。この場合、ウェハ毎に保護支持部材を用意しなければならず、かつ、保護支持部材が使い捨てである。より製造コストの低廉化を図るために、このような保護支持部材の代わりにエッチング用治具を用いても良い。そこで第二の実施形態では、エッチングの際に、ウェハの片面のみがエッチングされる治具を用いた実施形態について説明する。以下、図4を用いて本発明の第二の実施形態に係る治具について詳細に説明する。
第一の実施形態に示した薄膜共振素子の製造方法では、ウェハの表面に保護支持部材を貼り付け、ウェハの裏面をエッチングした。この場合、ウェハ毎に保護支持部材を用意しなければならず、かつ、保護支持部材が使い捨てである。より製造コストの低廉化を図るために、このような保護支持部材の代わりにエッチング用治具を用いても良い。そこで第二の実施形態では、エッチングの際に、ウェハの片面のみがエッチングされる治具を用いた実施形態について説明する。以下、図4を用いて本発明の第二の実施形態に係る治具について詳細に説明する。
図4において、治具40は、支持板41、押さえ板43、ネジ47−1〜47−4、Oリング48,49を有している。この治具40は、ウェハ45の両面にOリング48,49を挟み、さらにその上から支持板41と押さえ板43によって挟みこみ、ネジ47−1〜47−4によって押圧を加えSiウェハ45を治具に固定する構造である。
支持板41は、ウェハ45の一面を覆う表面を有している。また支持板41には、Oリング48の当たる面に、Oリングが1/3程度隠れる程度の溝が掘られている。これによりOリング48をセットするときにウェハ45との位置関係が適切になると共に、シール面積が増え、エッチング液の浸漬からウェハ表面を確実に保護することが出来る。この支持板41は耐薬品性の素材であるテフロン、または、金属やセラミックにテフロンコートしたものを用いるのが望ましい。後述するネジ47−1〜47−4が通る穴は、ネジ穴が切られている。
押さえ板43は、ウェハ45の外形よりも小さな内径の空洞を有する構造である。この押さえ板43は、Oリング49を介してウェハ45を押圧し固定する。なお、この押さえ板43は、ウェハ45の一部を押圧して固定できるものであれば、どのような構成であっても良い。またこの押さえ板43についても耐薬品性の素材であるテフロン、または、金属やセラミックにテフロンコートしたものを用いるのが望ましい。後述するネジ47−1〜47−4が通る穴は、ネジを切らず、ネジ取り付け用の貫通孔とする。
ネジ47−1〜47−4は、下方から半分程度までネジが切られた蝶ネジ構造を持つ。このネジ47−1〜47−4もテフロンやテフロンコートした材料にするのが望ましい。このネジ47−1〜47−4は4箇所である必要は無く、ウェハ45を固定できるものであれば、何箇所であっても良い。
Oリング48は、ウェハ45の表面をエッチング液から保護するように、支持板41とウェハ45との間の空間を遮蔽する。Oリング48,49は、支持板41及び押さえ板43による押圧により、ウェハ45が破損しないよう弾力性があり、弱い力で変形し、シール性が高く、しかも高温の酸、アルカリ液に対する耐薬品性の高い素材を用いる。このような素材としてプロピレン系フッ素ゴム製のものを使用するのが望ましい。前述したようなウェハ45周辺をダイシングによりカットした場合は、その形状に合わせてOリング48,49の形状のものを用いればよい。
この治具40は、図4に示すようにウェハ45を取り付け、ネジ47−1〜47−4でOリング48,49を締め付けることにより、ウェハ45の表面をエッチング液から保護する。なお、ウェハ45を固定できるのであれば、一部のみを押圧するような構造であっても良い。
後の工程は第一の実施形態に示したとおりである。すなわち図2の(a)で示したウェハ20aの裏面を上側にして、治具40に固定し、これをエッチングすることにより、図3の(a)に示す合わせマーク400が形成される。そして、合わせマーク400が形成されたら、ウェハ45が取り付けられた治具40をエッチング液から取り出し、直ぐに洗浄することにより、Al膜6がアルカリ液による浸食を防ぐことができる。
以上説明したように、本実施形態に示した薄膜共振素子の製造方法を用いることにより、高価な両面マスクアライナを用いることなく、容易に片面マスクアライナで薄膜共振素子を製造することが可能となる。
1,11 Siウェハ、2−1,2−2 酸化膜、3,6 Al膜、4 Mo膜、5 AlN膜、7,12 Ti膜、8,13 Au膜、9 エレクトロンワックス、10a,10b,20a,20b,20c,30a ウェハ、40 治具、41 支持板、43 押さえ板、45 ウェハ、47−1,47−2,47−3,47−4 ネジ、48,49 Oリング、100 マーク検出用溝、200a,200b 合わせマークパターン、200c マークエッチ、300a,300c キャビティパターン、400 合わせマーク。
Claims (4)
- 薄膜共振素子の製造方法であって、
ウェハの表面に形成された薄膜をエッチングにより部分的に除去し、第一の凹部を形成する工程と、
前記ウェハの裏面に形成された薄膜を、前記第一の凹部とウェハの表裏で一致するようエッチングにより部分的に除去し、第二の凹部を形成する工程と、
エッチングにより、前記第一の凹部と、前記第二の凹部と、を貫通させた貫通孔を形成する工程と、
を含み、
前記貫通孔の位置を基準にして、薄膜共振素子を製造することを特徴とする薄膜共振素子の製造方法。 - 請求項1記載の薄膜共振素子の製造方法において、
前記ウェハの表面をエッチングから防護し、前記ウェハの裏面がエッチングに浸される治具を使用して前記第二の凹部を形成し、
これと同時に前記ウェハの所定箇所をエッチングすることを特徴とする薄膜共振素子の製造方法。 - 請求項2記載の薄膜共振素子の製造方法において、
前記エッチングはウェットエッチングであり、
前記治具は、
前記ウェハの一面を覆う表面を有する支持板と、
前記ウェハと前記支持板との間を外部から遮蔽する支持部材と、
前記ウェハの少なくとも一部を押圧することにより、前記支持板に固定する固定具と、
を有し、前記ウェハの裏面のみをエッチングすることを特徴とする薄膜共振素子の製造方法。 - 請求項3記載の薄膜共振素子の製造方法において、
前記支持部材がOリングであることを特徴とする薄膜共振素子の製造方法。
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WO2007119643A1 (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-25 | Ube Industries, Ltd. | 圧電薄膜共振子、圧電薄膜デバイスおよびその製造方法 |
JP2009194745A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | 圧電振動片の製造方法、圧電振動片、圧電振動子、発振器、電子機器、電波時計、ウエハ及びウエハ用治具 |
WO2016067924A1 (ja) * | 2014-10-27 | 2016-05-06 | 株式会社村田製作所 | 圧電デバイス、及び圧電デバイスの製造方法 |
-
2004
- 2004-04-14 JP JP2004118783A patent/JP2005303781A/ja active Pending
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