JP2005302909A - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エリアセンサを構成する2次元画素アレイの各画素をpn接合のフォトダイオード及び複数のMOSトランジスタによって構成したCMOSイメージセンサにおいて、半導体基板上の各素子を電気的に分離する素子分離領域を、半導体基板に形成されたトレンチ内に、例えばB等のIII族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成した。また、トレンチと多結晶シリコンとの境界部に画素間リーク電流を抑えるための酸化膜を形成することにより、絶縁分離機能をさらに向上することができるようにした。
【選択図】 図1
Description
そこで、最近では、画像入力素子としてCMOS型の固体撮像素子が注目されている。このCMOS固体撮像素子は、従来のCMOS技術を用いるため、低電圧の駆動が可能となり、特に近年の携帯端末との組み合わせには低消費電力化の観点で非常に有効な固体撮像素子と考えられる。
また、同様の素子分離領域としては、半導体基板上に形成したトレンチに酸化膜を埋め込むようにしたSTI構造のものが知られている。
また、STIによる素子分離では、STIの外周に形成したいp+層はイオン注入により形成するので、深い位置では横方向に広がっていまい、フォトダイオードのn層にまでp+層が食い込んでしまう。このため、フォトダイオードのn層が小さくなるため、飽和電荷量が少なくなるという問題があった。
そこで本発明は、素子分離領域の分離機能を向上して形成面積の縮小を可能とし、その分、光電変換素子等の形成面積を大きくとることを可能とし、撮像特性を向上したり、多画素化を容易化することができる固体撮像素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の製造方法は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された光電変換素子及びトランジスタを含む複数の画素と、前記半導体基板に形成された素子分離領域とを有する固体撮像素子の製造方法であって、前記半導体基板の素子分離領域を形成する領域にトレンチを形成するトレンチ形成工程と、前記トレンチに不純物元素をドープした多結晶シリコンを埋め込む埋め込み工程と、前記多結晶シリコンを熱拡散する熱拡散工程とを有することを特徴とする。
また、本発明では、STI周辺の不純物層をイオン注入によって形成せずに、酸化膜を形成する際の熱拡散によって染み出させる方法を採用することにより、STI構造のような深い位置で不純物が横方向に広がってしまうことがなく、光電変換素子の有効面積を狭めることなく、飽和電荷量を大きくでき、受光特性を向上することができる効果がある。
また、本実施の形態による固体撮像素子の製造方法では、半導体基板の素子分離領域を形成する領域にトレンチを形成し、このトレンチに例えばB等のIII族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、この多結晶シリコンを熱拡散する。また、トレンチ形成後にトレンチと多結晶シリコンとの境界部に画素間リーク電流を抑えるための酸化膜を形成する。
図1に示すように、本例のCMOSイメージセンサは、垂直方向Vと水平方向Hの2次元アレイ状に複数の画素10が配設され、これら画素10によってCMOSイメージセンサの撮像領域11が構成されている。
また、各画素10には、光電変換素子としてのフォトダイオードと、このフォトダイオードによって生成された信号電荷を読み出して画素信号として出力するための増幅、転送、リセット等の複数のMOSトランジスタが設けられている。
さらに、半導体基板21の上面には、酸化膜26が形成され、その上層に図示しない配線層や遮光膜が形成されているものとする。
なお、このような本実施例の特徴となる素子分離領域20は、撮像領域内でフォトダイオードとその周辺を分離するために設けられており、撮像領域以外のMOS回路が設けられる周辺回路領域では、他の素子分離構造を利用することができる。例えば、この周辺回路領域のp型MOS回路の素子分離領域には、半導体基板に形成したトレンチにV族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域を用いるものとする。
図3は本実施例における素子分離領域20の形成工程を示す断面図である。
まず、図3(A)に示すトレンチ形成工程において、上面に酸化膜26Aが形成された半導体基板21の素子分離領域を形成する領域にフォトレジスト工程やエッチング工程を用いてトレンチ22を形成する。
次に、図3(B)に示す埋め込み工程及び図3(C)に示す平坦化工程で、CVDやエッチングバック、マスクパターニングやイオン注入等の技術により、例えばB等のIII族元素をドープした多結晶シリコン23を埋め込む。
そして、図3(D)では、上面に酸化膜26Bを形成し、多結晶シリコン23を埋め込んだ後、適切な段階で加熱処理を行い、熱拡散工程によって多結晶シリコン23の熱拡散を行う。
図4は図1に示すCMOSイメージセンサの素子分離領域の周辺部の構成を示す断面図である。なお、実施例1と共通の構成については同一符号を付してある。
図示のように、本実施例2では、半導体基板21に形成したトレンチ22と埋め込み多結晶シリコン23との境界部に酸化膜27を介在させて絶縁分離機能をさらに向上することができるようにしたものである。
なお、図4では、斜線領域で示すように、p+イオンが酸化膜27の外側にしみ出している状態を表している。また、その他の構成は、実施例1と同様であるので説明は省略する。
本実施例2では、図3(A)に示したトレンチ形成工程の後に、図5に示すような、酸化膜形成工程を行い、トレンチ22の内側に例えば熱酸化処理等によって酸化膜27を形成する。この後、図3(B)に示した埋め込み工程に移行し、この後は実施例1と同様の工程を実行する。
このような酸化膜27を設けることにより、画素間のリーク電流を抑えることができるとともに、逆バイアスリーク電流を防ぐことができ(酸化膜を形成しない場合、シリコン基板と多結晶シリコンとの間に界面準位ができてしまい、逆バイアスリーク電流が生じるので、これを酸化膜で防ぐことができる)、この結果、混色などを低減し、画像特性を向上させることが可能となる。
なお、以上の実施例では、フォトダイオードの側面に設けられる素子分離領域を例に説明したが、本発明は、他の素子を分離する領域にも同様に適用できるものである。
Claims (17)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された光電変換素子及びMOSトランジスタを含む複数の画素と、
前記半導体基板に形成された素子分離領域とを有し、
少なくとも一部の前記素子分離領域は、前記半導体基板に形成されたトレンチ内に、不純物元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成されている、
ことを特徴とする固体撮像素子。 - 前記MOSトランジスタはn型MOSトランジスタであり、前記不純物元素はIII族元素であることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記MOSトランジスタはp型MOSトランジスタであり、前記不純物元素はV族元素であることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記光電変換素子はpn接合のフォトダイオードであることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記トレンチと多結晶シリコンとの境界部に画素間リーク電流を抑えるための酸化膜が形成されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記素子分離領域の多結晶シリコンの電位が接地されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記半導体基板上には、前記複数の画素によって構成された撮像領域の周辺に、各種回路が配置された周辺回路領域が設けられ、前記トレンチにIII族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域は、前記撮像領域の素子分離領域として設けられていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記周辺回路領域にはn型MOS回路が設けられ、前記n型MOS回路の素子分離領域には、半導体基板に形成したトレンチにIII族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域が設けられていることを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子。
- 前記周辺回路領域にはp型MOS回路が設けられ、前記p型MOS回路の素子分離領域には、半導体基板に形成したトレンチにV族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域が設けられていることを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子。
- 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された光電変換素子及びMOSトランジスタを含む複数の画素と、
前記半導体基板に形成された素子分離領域とを有する固体撮像素子の製造方法であって、
前記半導体基板の素子分離領域を形成する領域にトレンチを形成するトレンチ形成工程と、
前記トレンチに不純物元素をドープした多結晶シリコンを埋め込む埋め込み工程と、
前記多結晶シリコンを熱拡散する熱拡散工程と、
を有することを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記MOSトランジスタはn型MOSトランジスタであり、前記不純物元素はIII族元素であることを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記MOSトランジスタはp型MOSトランジスタであり、前記不純物元素はV族元素であることを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記光電変換素子はpn接合のフォトダイオードであることを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記トレンチ形成工程と埋め込み工程の間に前記トレンチと多結晶シリコンとの境界部に画素間リーク電流を抑えるための酸化膜を形成する酸化膜形成工程を有することを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記固体撮像素子は、前記複数の画素によって構成された撮像領域と、各種回路が配置された周辺回路領域とが半導体基板上に設けられ、
前記撮像領域の素子分離領域を前記トレンチ形成工程、埋め込み工程、及び熱拡散工程によって形成することを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記周辺回路領域にはn型MOS回路が設けられ、前記n型MOS回路の素子分離領域には、半導体基板に形成したトレンチにIII族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域が設けられていることを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記周辺回路領域にはp型MOS回路が設けられ、前記p型MOS回路の素子分離領域には、半導体基板に形成したトレンチにV族元素をドープした多結晶シリコンを埋め込み、熱拡散することで形成された素子分離領域が設けられていることを特徴とする請求項10記載の固体撮像素子の製造方法。
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