JP2005301100A - 微粒子堆積方法、微粒子堆積層多層構造の形成方法、及び、表示装置用スクリーンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層であって、欠陥の少ない微粒子堆積層を形成し得る微粒子堆積方法を提供する。
【解決手段】微粒子堆積方法は、微粒子分散溶液30を基体10上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段20を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体10表面に対して微粒子31が配向した状態の微粒子堆積層32を得る。
【選択図】 図1
【解決手段】微粒子堆積方法は、微粒子分散溶液30を基体10上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段20を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体10表面に対して微粒子31が配向した状態の微粒子堆積層32を得る。
【選択図】 図1
Description
本発明は、微粒子堆積方法、微粒子堆積層多層構造の形成方法、及び、表示装置用スクリーンの製造方法に関する。
微粒子を自己組織化的に集合させて、微粒子が3次元的に規則正しく周期的に配列した微粒子集合体を作るための方法として、種々の方法が報告されている(例えば、P. Jiang et al., Chem. Mater. (1999), 11, 2132 や、Y. Xia et al., Adv. Mater. (2000), 12(10), 693 を参照)。
このような方法の1つに引き上げ法がある。引き上げ法では、例えば微粒子を分散媒に分散させて微粒子分散溶液とし、微粒子分散溶液に対して親和性のよい基板を微粒子分散溶液中に垂直に浸漬した後、この基板を微粒子分散溶液から引き上げていく。この基板の引き上げ時に、適量の微粒子分散溶液が基板表面に移し取られる。その後、移し取られた微粒子分散溶液から分散媒が蒸発していく過程で微粒子の自己組織化が起こり、微粒子が規則的に配列した微粒子集合体が基板上に形成される(例えば、K. Nagayama, J. Soc. Powder Technol. Japan (1995), 32, 476 や、J. D. Joannopoulos, Nature (2001), 414(15), 257、Yong-Hong Ye et al., Appl. Phys. Lett. (2001), 78(1), 52 を参照)。
また、他の方法として自然沈降法がある。自然沈降法では、引き上げ法と同様に、微粒子分散溶液を調製した後、基板を微粒子分散溶液の下部に静置する。微粒子は、自身の重みによって徐々に基板上に沈降し、微粒子が規則的に配列した微粒子集合体が形成される(例えば、H. Miguez et al., Adv. Mater. (1998), 10(6), 480 参照)。
更に別の方法も提案されている。この方法では、微粒子よりも大きなスペーサーを挟んだマイクロセルを、微粒子分散溶液中に垂直に浸漬し、静置する。微粒子分散溶液は、毛管現象に基づきマイクロセル内に充填される。その後、マイクロセル内に充填された微粒子分散溶液から分散媒が蒸発していく過程で微粒子の自己組織化が起こり、微粒子が規則的に配列した微粒子集合体がマイクロセル内に形成される(例えば、B. Gates, D. Qin, Y. Xia, Adv. Mater. (1999), 11, 466 参照)。
図6は、微粒子が規則的に配列した微粒子集合体が、微粒子分散溶液から自己組織化的に形成される過程を示す模式図である。即ち、シリカ微粒子等の球形の微粒子を水等の分散媒に分散させた微粒子分散溶液中に基板を浸漬すると、重力による自然沈降又は蒸発による分散媒の減少によって微粒子を徐々に基板上に堆積させることができる。ここで、微粒子の粒径が同一であれば、シリカ微粒子のような球形の微粒子が最も密に詰まった配列構造は、最密充填構造である。即ち、球形の微粒子が基板の法線方向に沿って、ABCABC・・・の状態に配列され、あるいは又、ABABAB・・・の状態に配列される。従って、微粒子を緻密に集合させることによって、少なくとも部分的に最密充填構造をとる微粒子集合体を、自己組織化的に形成させることができる。
微粒子を自己組織化に基づき規則的に配列させて、微粒子集合体における微粒子1つ1つの並びが恰も原子のように配列されているフォトニック結晶を作製する場合、上述した従来の方法を用いると、屡々、欠陥がフォトニック結晶中に多く形成され、フォトニック結晶の結晶性(微粒子の配列規則性)が低下する。このような欠陥の一例を図7に示す。この図7は、引上げ法で作製されたフォトニック結晶表面を原子間力顕微鏡(AFM)で観察した結果であり、転位に相当する欠陥が実線に沿って形成されている。
国際公開番号WO03/050612A1に開示されているように、フォトニック結晶を表示装置用スクリーンに応用する場合、このような欠陥が存在すると、図8に示すように、欠陥部分で光の散乱が生じてしまい、黒の沈みが無くなり、コントラストが低くなる結果、表示装置用スクリーン上の画像が劣化する。特に、照明下のような外光が多く存在する場所での使用において、表示装置用スクリーン上の画像の劣化が著しい。また、このような欠陥を有するフォトニック結晶を、導波路やレーザ等の光デバイスに応用した場合、欠陥部分で光が散乱する結果、光損失が大きくなる等の導波特性やデバイス特性に悪影響を及ぼす。
特に、引き上げ法においては、重力によって溶液が垂れて、塗布むらが生じる。また、基板の濡れ性が不均一な場合、塗布むらが生じる。そのため、国際公開番号WO03/050612A1に開示されているように、フォトニック結晶を表示装置用スクリーンに応用する場合、フォトニック結晶層の厚さが表示装置用スクリーン面内で不均一になってしまい、表示装置用スクリーンの輝度が不均一となり、それに付随して色むら等が生じ、画質に悪影響を及ぼす。
従って、本発明の目的は、基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層であって、欠陥の少ない微粒子堆積層を形成し得る微粒子堆積方法及び微粒子堆積層多層構造の形成方法、並びに、係る微粒子堆積方法を適用した表示装置用スクリーンの製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するための本発明の第1の態様に係る微粒子堆積方法は、微粒子分散溶液を基体上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする。
上記の目的を達成するための本発明の第2の態様に係る微粒子堆積方法は、基体の上又は上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、該メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする。
上記の目的を達成するための本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法は、
第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)の微粒子分散溶液を第m番目の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする。
第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)の微粒子分散溶液を第m番目の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする。
上記の目的を達成するための本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法は、
基体の上又は上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)の微粒子堆積層の上又は上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする。
基体の上又は上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)の微粒子堆積層の上又は上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする。
上記の目的を達成するための本発明の第1の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法は、微粒子分散溶液を支持体上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、支持体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする。
上記の目的を達成するための本発明の第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法は、支持体の上又は上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、該メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を支持体上に塗布し、以て、支持体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする。
本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積方法、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法(以下、これらを総称して、単に、本発明と呼ぶ場合がある)における微粒子堆積層あるいは微粒子堆積層多層構造において、微粒子は配向した状態となっているが、ここで、微粒子が配向した状態とは、基体あるいは支持体の法線方向に沿った微粒子の並び状態(配列状態)に規則性が有ることを意味し(即ち、規則配列構造を有し)、具体的には、基体あるいは支持体の法線方向に沿って、少なくとも部分的に、ABCABC・・・の状態に配列された状態(立方最密構造を有する状態)、あるいは又、ABABAB・・・の状態に配列されている状態(六方最密構造を有する状態)を挙げることができる。
本発明において、微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されている形態とすることができる。ここで、「微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されている」とは、より具体的には、微粒子堆積層を構成する微粒子1つ1つの並びが恰も原子のように配列されており、微粒子堆積層全体としてフォトニック結晶としての挙動を示す状態にあることを意味する。そして、この場合、微粒子はSiOX(但し、0<X≦2)から成る構成とすることができるが、これに限定するものではなく、微粒子を構成する材料として、その他、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ガドリニウム、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ニオブ、酸化錫、酸化タングステン、酸化インジウム、Pb(Zr,Ti)O3といった無機酸化物材料;ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアリーレンスルフィド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカプロラクトンやポリビニルトルエン、各種液晶を含む各種の有機材料;BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs(AlGaAs等を含む)、GaSb、InN、InP(GaInAsP等を含む)、InAs、InSbといった組成式で表されるIII−V族化合物材料;ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe、HgTeといった組成式で表されるII−VI族化合物材料;炭素、ケイ素、ゲルマニウムといった半導体材料;非晶質炭素、カーボンブラック、黒鉛といった炭素系材料;金、銀、白金、パラジウム、銅、ニッケル、コバルト、鉄等の金属を挙げることができる。尚、微粒子は、一種類の微粒子から構成されていてもよいし、複数種の微粒子の混合物であってもよい。これらの微粒子は、構成する材料に依存するが、例えば、ゾル−ゲル法、分子線エピタキシー法、化学的気相成長法(CVD法)、所謂逆ミセル法、所謂ホットソープ法、燃焼方法、粉砕法、溶液からの沈殿法や、超臨界液体中での反応を利用する方法といった、種々の物理的方法や化学的方法によって得ることができる。
本発明に基づき表示装置用スクリーンを製造する場合、表示装置用スクリーンに照射される(入射する)光に対して微粒子は透明であってもよいし、不透明であってもよい。具体的には、微粒子が表示装置用スクリーンに照射される(入射する)光を透過する透過率は、50%以上、より好ましくは80%以上であることが望ましい。
微粒子分散溶液として、上述した各種の微粒子を分散媒に分散させたものを挙げることができる。ここで、分散媒として、水や純水、メチルアルコールやエチルアルコール、トルエン等の有機溶剤を例示することができる。
本発明におけるメニスカス形成手段として、多数の開口を有するシート状あるいは板状の部材であるメッシュを挙げることができる。メッシュとして、具体的には、網目状部材や篩状部材、ストライプ形状の開口を多数有するシート状あるいは板状の部材を挙げることができ、メッシュに設けられた開口の平面形状を、円形、楕円形、正方形、矩形、多角形、丸みを帯びた正方形や矩形、丸みを帯びた多角形、ストライプ形状等、任意の形状とすることができる。メッシュにおける開口率(メッシュ単位面積当たりの開口の占める面積の割合)は、本質的に、任意の値とすることができる。メッシュを構成する材料として、各種の金属や合金から成るシート状あるいは板状の部材、天然繊維や合成繊維、金属線材を例示することができ、周知の方法で製造することができる。尚、本発明におけるメニスカス形成手段としてのメッシュにあっては、開口の中心から隣接する開口の中心までの距離であるメッシュのピッチは、一定であってもよいし、メッシュの位置によって異なっていてもよいし、ランダムな値としてもよい。あるいは又、本発明におけるメニスカス形成手段として、例えばガラスから作製されたチップ状の短い糸や、チップ状の短い糸が枝分かれしたもの、表面が起毛状態にあるシート部材や板状部材を例示することができる。チップ状やチップ状の短い糸が枝分かれしたものは、最終的に、微粒子堆積層から除去されてもよいし、微粒子堆積層に残されてもよい。
本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法にあっては、より好ましくは、メニスカス形成手段はメッシュから成り、表示装置用スクリーンにおける画素ピッチをp0、メッシュのピッチをp1としたとき、p1≦0.5p0を満足する形態とすることが望ましく、あるいは又、p1≧5p0を満足する形態とすることが望ましく、これによって、表示装置用スクリーンにおけるモアレ縞の発生を確実に防止することができる。尚、この場合、メッシュのピッチp1は、メッシュのどの位置においても一定の値である構成とすることができるし、メッシュの位置によって異なる値である構成とすることもできる。
本発明の第1の態様に係る微粒子堆積方法、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法、本発明の第1の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法(以下、これらを総称して、単に、本発明の第1の態様に係る方法と呼ぶ場合がある)における塗布方法として、引き上げ法、自然沈降法、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、噴霧法等を例示することができる。
一方、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積方法、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法、本発明の第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法(以下、これらを総称して、単に、本発明の第2の態様に係る方法と呼ぶ場合がある)においては、メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を塗布するが、係る塗布方法として、引き上げ法、自然沈降法、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、噴霧法等を例示することができる。また、メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を塗布する形態には、メニスカス形成手段を介在させた状態で微粒子分散溶液を塗布する形態が包含される。
微粒子分散溶液の組成にも依るが、本発明の第1の態様に係る方法にあっては、メニスカス形成手段を微粒子分散溶液層に接触した状態とした後、あるいは又、第1番目のメニスカス形成手段を第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とした後、あるいは又、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とした後、微粒子分散溶液あるいは第1番目の微粒子分散溶液あるいは第(m+1)番目の微粒子分散溶液を乾燥させることが好ましく、本発明の第2の態様に係る方法にあっては、微粒子分散溶液を基体あるいは支持体上に塗布した後、あるいは又、第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布した後、あるいは又、第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布した後、微粒子分散溶液あるいは第1番目の微粒子分散溶液あるいは第(n+1)番目の微粒子分散溶液を乾燥させることが好ましい。尚、これらの場合、メニスカス形成手段と微粒子分散溶液とが接した状態で、微粒子分散溶液を乾燥させる。
本発明において、微粒子堆積層を構成する微粒子の平均粒径は、1.0×10-8m乃至1.0×10-6mの範囲にあることが好ましい。微粒子の径は揃っていることが望ましく、微粒子の径のばらつきの度合いを標準偏差σで表したとき、標準偏差σの値は平均粒径の±10%以内、好ましくは±8%以内の範囲内にあることが望ましい。また、微粒子堆積層における微粒子の堆積周期(積層周期)として、限定するものではないが、六方最密構造の場合、6周期〜15周期、立方最密構造の場合、4周期〜10周期を挙げることができる。
本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法においては、各微粒子堆積層を構成する微粒子の平均粒径を異ならせる構成とすることが一層好ましく、このような構成を採用することで、例えば、微粒子堆積層多層構造に入射した光の三原色を効果的に反射させることが可能となる。この場合、各微粒子堆積層を構成する微粒子の平均粒径は、微粒子をシリカから構成する場合、約1.5×10-7m乃至約3.2×10-7mの範囲にあることが好ましい。微粒子がSiOX(但し、0<X≦2)である構成を採用する場合、即ち、微粒子がシリカから構成されている場合、シリカの製造条件等にも依るが、シリカの屈折率は1.36乃至1.47の範囲にある。そして、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法を表示装置用スクリーンの製造方法に適用し、微粒子堆積層多層構造に入射した光の三原色を同時に反射させる場合、微粒子の屈折率をn0としたとき、赤色反射用の微粒子の平均粒径(D)は、269×(1.36/n0)nm乃至314×(1.36/n0)nm、好ましくは278×(1.36/n0)nm乃至305×(1.36/n0)nmであることが望ましく、緑色反射用の微粒子の平均粒径(D)は、224×(1.36/n0)nm乃至251×(1.36/n0)nm、好ましくは224×(1.36/n0)nm乃至237×(1.36/n0)nmであることが望ましく、青色反射用の微粒子の平均粒径(D)は、202×(1.36/n0)nm乃至224×(1.36/n0)nm、好ましくは208×(1.36/n0)nm乃至217×(1.36/n0)nmであることが望ましい。尚、各微粒子堆積層を構成する微粒子の材質は同じであってもよいし、異なっていてもよい。微粒子の屈折率n0は、微粒子の密度(微粒子中に含まれる空孔の割合の大小)によっても変化する。
赤色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、青色反射用の微粒子堆積層から成る微粒子堆積層多層構造にあっては、基体(支持体)上に、赤色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、青色反射用の微粒子堆積層をこの順に積層してもよいし、青色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、赤色反射用の微粒子堆積層をこの順に積層してもよい。前者の場合、レイリー散乱による影響を最小限に抑えることができる点で有利である。一方、後者の場合、即ち、小さい粒子の上に大きい粒子を積層する場合、大きな粒子の上に小さな粒子を積層する場合と比較して、凹凸が少ない平坦な下地の上に微粒子を堆積することになるので、微粒子が自己組織化に基づき規則正しく配列され易い。
本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法において、あるいは又、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法を表示装置用スクリーンの製造方法に適用する場合、微粒子堆積層における微粒子の堆積周期(積層周期)は、限定するものではないが、六方最密構造の場合、6周期〜15周期、立方最密構造の場合、4周期〜10周期であることが、波長の選択性を高めるといった観点から好ましい。
本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法において、あるいは又、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法を表示装置用スクリーンの製造方法に適用する場合、支持体あるいは基体を、微粒子堆積層を通過した可視光を吸収する材料から構成することが望ましく、具体的には、支持体あるいは基体として、カーボン層等の可視光を吸収する無機材料層が表面に形成されたポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂やポリカーボネート(PC)樹脂で例示されるプラスチックスから成るフィルムや基板、シート;カーボン等の可視光を吸収する無機材料が練り込まれたPET樹脂やPC樹脂で例示されるプラスチックスから成るフィルムや基板、シート;ブラスト処理やサンドマット加工等によって表面が粗面化(例えば、表面の凹凸の高さが0.8μm〜4μm)された可視光を吸収するPET樹脂やPC樹脂で例示されるプラスチックスから成るフィルムや基板、シート;カーボン層等の可視光を吸収する無機材料層が表面に形成されたガラス基板;可視光を透過するPET樹脂やPC樹脂で例示されるプラスチックスから成るフィルムや基板、シートあるいはガラス基板の裏面に可視光吸収層(例えば、カーボンから成る)が形成されたものを例示することができる。また、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積方法、あるいは又、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法における基体として、上述した基体の他、可視光を透過するPET樹脂やPC樹脂で例示されるプラスチックスから成るフィルムや基板、シートあるいはガラス基板を例示することができる。尚、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積方法、あるいは又、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法に基づき導波路やレーザ等の光デバイスを製造する場合、基体の屈折率は微粒子の屈折率n0よりも小さいことが、光デバイスからの光の漏れ出しを抑制するといった観点から望ましい。
本発明の第1の態様に係る方法においては、メニスカス形成手段を微粒子分散溶液層に接触した状態とし、あるいは又、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とするが、これらの状態においては、メニスカス形成手段は、基体あるいは第m番目の微粒子堆積層と接触した状態としてもよいし、接触していない状態としてもよい。そして、これらのいずれの状態にあっても、更には、必要に応じて微粒子分散溶液を乾燥させている間に、メニスカス形成手段と基体あるいは第(m+1)番目の微粒子分散溶液層との相対的な位置関係が変化しないように、メニスカス形成手段と基体とを任意の手段によって固定することが好ましい。メニスカス形成手段を、基体あるいは第m番目の微粒子堆積層と接触した状態とする場合、メニスカス形成手段を微粒子分散溶液層に接触した状態とし、あるいは又、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とした後、直ちに、あるいは、所定の時間経過後に、メニスカス形成手段と基体あるいは第m番目の微粒子堆積層との接触状態を解除してもよいし、メニスカス形成手段と基体あるいは第m番目の微粒子堆積層との接触状態を保持し続けてもよい。
一方、本発明の第2の態様に係る方法においては、基体の上にメニスカス形成手段を配置し、あるいは又、第n番目の微粒子堆積層の上に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置するが、これらの状態においては、メニスカス形成手段は基体と接触した状態である。あるいは又、基体の上方にメニスカス形成手段を配置し、あるいは又、第n番目の微粒子堆積層の上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置するが、これらの状態においては、メニスカス形成手段は基体と接触していない状態である。そして、これらのいずれの状態にあっても、微粒子分散溶液を塗布している間に、更には、必要に応じて微粒子分散溶液を乾燥させている間に、メニスカス形成手段と基体あるいは第n番目の微粒子堆積層との相対的な位置関係が変化しないように、メニスカス形成手段と基体とを任意の手段によって固定することが好ましい。また、基体の上にメニスカス形成手段を配置し、あるいは又、第n番目の微粒子堆積層の上に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した場合には、微粒子分散溶液を基体上あるいは第n番目の微粒子堆積層上に塗布した後、直ちに、あるいは、所定の時間経過後に、メニスカス形成手段と基体あるいは第n番目の微粒子堆積層との接触状態を解除してもよいし、メニスカス形成手段と基体あるいは第n番目の微粒子堆積層との接触状態を保持し続けてもよい。
本発明の第1の態様及び第2の態様に係る微粒子堆積方法若しくは微粒子堆積層多層構造の形成方法を、導波路やレーザ、色素増感太陽電池、光スイッチ等の光デバイスの製造に応用することができる他、光学干渉フィルターや光学反射膜、可変ミラー型空間光変調素子(DMD素子)を用いたDLP(Digital Light Processing:テキサス・インスツルメンツ社の登録商標)型のプロジェクターの製造に応用することができるし、本発明の第1の態様及び第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法を表示装置用スクリーンの製造に応用することができる。また、本発明の第1の態様及び第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法、本発明の第1の態様及び第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法によって得られる表示装置用スクリーンは、半導体レーザや発光ダイオード(LED)といった半導体発光素子から成る投影用光源から射出された光を反射させるための表示装置用スクリーンとして使用され、あるいは又、液晶プロジェクター用のスクリーンとして使用される。
本発明に基づき表示装置用スクリーンを製造した場合、表示装置用スクリーンで反射される光の指向性を緩和すると共に、表示装置用スクリーンに均一な輝度を持たせ、ホットスポットを発生し難くし、更には、表示装置用スクリーンの表面を保護するといった観点から、表示装置用スクリーンの表面に光拡散媒体を設けることが好ましい。ここで、光拡散媒体として、具体的には、拡散フィルム、マイクロレンズフィルム、マイクロプリズムフィルムを挙げることができる。尚、表示装置用スクリーンの表面に光拡散媒体を設けるためには、表示装置用スクリーンの表面にこれらのフィルムを貼り合わせればよい。ここで、拡散フィルムとして、例えば、光拡散性を有するポリエチレンフィルムや、光を拡散することができるように表面に凹凸が形成されたポリカーボネートフィルムやPETフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムを例示することができる。また、マイクロレンズフィルムとして、2次元マイクロレンズアレイが設けられた、ポリカーボネートフィルムやPETフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムから成るマイクロレンズフィルムを挙げることができる。ここで、マイクロレンズは、凸レンズであっても凹レンズであってもよく、レンズの直径は0.1mm程度である。また、マイクロプリズムフィルムとして、2次元マイクロプリズムアレイが設けられた、ポリカーボネートフィルムやPETフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムから成るマイクロプリズムフィルムを挙げることができる。ここで、マイクロプリズムの直径は0.1mm程度である。また、反射防止のために、光拡散媒体の表面に1/4波長コーティングを施してもよい。1/4波長コーティングとして、厚さ100nm程度の酸化ケイ素膜を塗布法や蒸着法で形成する方法を挙げることができる。
本発明においては、基本的には、微粒子分散溶液を基体上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段を微粒子分散溶液層に接触した状態とし、あるいは又、基体の上又は上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を基体上に塗布する。メニスカス形成手段を、例えば、メッシュから構成した場合の一例の模式的な一部平面図及び一部端面図を図1の(A)及び(B)に示すように、メニスカス形成手段20と微粒子分散溶液30とが接する領域においては、微粒子分散溶液にメニスカスが形成され、その結果、図1の(C)に模式図を示すように、微粒子分散溶液中の微粒子が順序よく集合する結果、基体表面に対して微粒子が配向した状態の、即ち、欠陥の少ない微粒子堆積層を得ることができる。従って、引き上げ法における重力に起因した溶液の垂れによる塗布むらや、基板の濡れ性の不均一性に起因した塗布むら等による欠陥の発生が効果的に抑制され、均一な厚さを有する微粒子堆積層を得ることが可能となる。尚、図1の(A)においては、微粒子分散溶液30を明示するために微粒子分散溶液30に斜線を付した。また、図1中、参照番号10は基体(支持体)、参照番号31は微粒子、参照番号32は微粒子堆積層を示す。
それ故、本発明を、光エレクトロニクス全般からディスプレイ等の表示用デバイスに亙り、広く応用することができ、本発明に基づき、欠陥部分が少ないが故に光の散乱が少なく、微粒子堆積層の厚さが均一であり、黒の沈みがよく、高いコントラストを有し、画像に関係のない外部光が入射したときでも画像のコントラストが劣化することがなく、輝度が均一であり、色むら等が生じ難い表示装置用スクリーンを製造することができる。また、レーザやLED等の狭い半値幅を有し、色純度の良い光を投影することで画像を形成する場合、効率よく、しかも、選択的に画像の光だけを反射させて他の波長の光をカットすることができるが故に、高コントラストを維持すると共に、黒が良く沈む表示装置用スクリーンを製造することができる。更には、液晶プロジェクター等の各三原色のスペクトル半値幅が広い光を投影しても、色度図上の色再現性が良くなり、純粋な色を表現できる表示装置用スクリーンを製造することができる。あるいは又、本発明を導波路やレーザ等の光デバイスの製造に応用した場合には、欠陥部分が少ないが故に光の散乱が少なく、光損失を低減することが可能となり、導波特性やデバイス特性が良好となる。
以下、図面を参照して、実施例に基づき本発明を説明する。
実施例1は、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積方法及び本発明の第1の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法に関する。即ち、実施例1の微粒子堆積方法あるいは表示装置用スクリーンの製造方法においては、微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段をこの微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体(支持体)表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得る。
実施例1においては、微粒子として、平均粒径2.9×10-7m(290nm)のシリカ(SiOXであり、具体的には、Xの値は約2である)を用い、分散媒として純水を用いた。即ち、微粒子分散溶液は、純水100グラムにシリカ25グラムを分散させたもの(20重量%の微粒子分散溶液)である。また、基体(支持体)として、サンドマット加工によって表面が粗面化された黒色のPET基板を用いた。尚、PET基板の厚さを0.05mm、PET基板の表面の凹凸の高さを、0.1μm乃至2μmとした。サンドマット加工によって表面が粗面化された黒色のPET基板の表面は、微粒子分散溶液に対する濡れ性がよいし、PET基板の表面の凹凸によって光の指向性が緩和され、ホットスポットが発生し難くなる。更には、微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布して微粒子分散溶液層を形成する方法として、引き上げ法を採用した。また、メニスカス形成手段として、太さ0.1mmのステンレス鋼線材を縦横に張架した篩状部材から成るメッシュ(メッシュのピッチp1=6mm)を用いた。このメッシュの開口形状は概ね一辺が5.5mmの正方形である。メッシュのピッチp1は、メッシュのどの位置においても一定の値である構成とした。また、表示装置用スクリーンにおける画素ピッチp0を1mmとした。即ち、p1=6p0である。
通常、得られた微粒子堆積層の表面にはメッシュの跡が残ってしまう。そして、メッシュのピッチ(周期)p1の値が、表示装置用スクリーンにおける画素ピッチp0の値に近い場合、モアレ縞が発生する虞がある。画像を考えた場合、このようなモアレ縞の出現は望ましくない。一般的には、モアレ縞のピッチをpとしたとき、以下の式(1)のような関係になる(安藤久仁夫、両角伸治監修「プロジェクションテレビの設計」177頁、株式会社トリッケプス出版 参照)。但し、k=p1/p0である。
p=p0×|k/(1−k)| (1)
従って、モアレ縞のピッチpが画像において無視できる程度であればよい。通常の画像にあっては、画素の1つ1つが肉眼では認識できないようになっている。それ故、モアレ縞のピッチpが、画素ピッチp0と等しいか、あるいは、画素ピッチp0よりも小さくなれば、モアレ縞を肉眼で認識できなくなる。即ち、以下の式(2)を満たせばよい。
0≦|k/(1−k)|≦1 (2)
式(2)を変形すると、結局、k≦0.5を満足すれば、言い換えれば、p1≦0.5p0を満足すれば、モアレ縞を肉眼で認識できなくなる。
逆に、メッシュのピッチp1が十分に大きければ、モアレ縞のピッチpが画素ピッチp0とほぼ等しくなり、モアレ縞を肉眼で認識できなくなる。具体的には、例えば、k≧5を満足すれば、言い換えれば、p1≧5p0を満足すれば、モアレ縞を肉眼で認識できなくなる。尚、以上の議論は、必ずしも表示装置用スクリーンに限定するものではなく、微粒子堆積層を適用した自発光表示装置全般に亙って適用することができる。
実施例1の微粒子堆積方法あるいは表示装置用スクリーンの製造方法において、具体的には、上述した微粒子分散溶液中に、基体(支持体)を垂直に浸漬し、次いで、基体(支持体)を微粒子分散溶液から30mm/秒の速度で垂直に引き上げた。こうして、微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布して微粒子分散溶液層を形成することができた。
次いで、室内において基体(支持体)を水平に保持し、メニスカス形成手段であるメッシュをこの微粒子分散溶液層に接触した状態とした(図1の(A)及び(B)の模式的な一部平面図及び一部端面図を参照)。具体的には、微粒子分散溶液層にメッシュを被せた。このとき、メッシュを基体(支持体)から浮かせ、メッシュと基体(支持体)とを非接触状態とした。そして、1時間、この状態を維持し、微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。
こうして、図1の(C)に模式的に示すように、基体(支持体)10の表面に対して微粒子31が配向した状態の微粒子堆積層32を得ることができた。即ち、基体あるいは支持体の法線方向に沿った微粒子の並び状態(配列状態)に規則性が有る状態を得ることができ、より具体的には、基体あるいは支持体の法線方向に沿って、少なくとも部分的に、ABCABC・・・の状態に配列された状態(立方最密構造を有する状態)と、ABABAB・・・の状態に配列されている状態(六方最密構造を有する状態)とが混在した状態を得ることができた。尚、この混在状態にあっても、ブラッグ波長は同じである。微粒子堆積層は、赤色光だけを反射させ、他の色の光を透過させる特殊な機能を有する。尚、立方最密構造を有する状態にあっては、微粒子堆積層における厚さ、及び、微粒子の堆積周期(積層周期)は、4.3μm、6周期であった。一方、六方最密構造を有する状態にあっては、微粒子堆積層における厚さ、及び、微粒子の堆積周期(積層周期)は、4.3μm、9周期であった。
尚、比較のために、実施例1と同じ方法で、微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、室内において基体(支持体)を水平に保持し、そのまま、実施例1と同じ時間だけ微粒子分散溶液層を自然乾燥させた比較試料を作製した。
実施例1にて得られた微粒子堆積層、及び、比較試料における微粒子堆積層を垂直方向から測定した反射スペクトルの結果を図2に示す。尚、図2において、「メッシュ有り」は、実施例1にて得られた微粒子堆積層の測定結果を示し、「メッシュ無し」は、比較試料における微粒子堆積層の測定結果を示す。図2からも明らかなように、実施例1にて得られた微粒子堆積層の反射スペクトルのピーク反射率は、比較試料における微粒子堆積層の反射スペクトルのピーク反射率よりも約4.6倍高い。また、反射スペクトルの半値幅FWHMも、比較試料における微粒子堆積層が77.43nmであったのに対して、実施例1にて得られた微粒子堆積層は41.96nmと狭くなっている。以上の結果から、メニスカス形成手段であるメッシュをこの微粒子分散溶液層に接触した状態とすることによって、微粒子堆積層における微粒子は配向した状態となり、微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることが判る。ここで、「微粒子堆積層がフォトニック結晶から構成されている」とは、より具体的には、微粒子堆積層を構成する微粒子1つ1つの並びが恰も原子のように配列されており、微粒子堆積層全体としてフォトニック結晶としての挙動を示す状態にあることを意味する。
更には、光散乱輝度を評価した。具体的には、サンプルを垂直に立てた状態で光を斜めから入射させてサンプル表面の法線方向から輝度を測定した。この方法は、図3に示すように、鏡面反射を避けることで、散乱光の輝度だけ(等方的で球状の光度分布になる)を測定する方法である。具体的には、垂直に立てた状態のサンプルにおいて、測定箇所の中心を原点とし、原点を通る水平線をY軸、原点を通る垂直線をZ軸、原点を通る法線の方向をX軸としたときの極座標(r,φ,θ)を用いると、φ=30度、θ=45度の方向から、ハロゲンランプ及び光ファイバーを用いてサンプルに白色光を入射させる。ここで、サンプル表面上で600ルクスの照度とする。そして、X軸上に置かれた輝度計にて輝度の測定を行った。その結果、比較試料における微粒子堆積層の輝度が28.9カンデラ/cm2であったのに対して、実施例1にて得られた微粒子堆積層の輝度が14.9カンデラ/cm2と、約半分まで下がることが確認された。このことは、実施例1にて得られた微粒子堆積層における微粒子はより一層高く配向した状態となっているが故に、光散乱が一層減少したことを意味する。
更には、実施例1にて得られた微粒子堆積層、及び、比較試料における微粒子堆積層のそれぞれの表面を走査型電子顕微鏡で観察した結果を、図4の(A)及び(B)に示す。図4の(A)及び(B)からも、実施例1にて得られた微粒子堆積層の方が、比較試料における微粒子堆積層に比べて、微粒子が配向した状態であることが明らかである。
この表示装置用スクリーンにフロントプロジェクターで映像を映したところ、モアレ縞が肉眼では観察されなかった。また、表示装置用スクリーンの光散乱も少なく、コントラスト比の高い画像が得られた。更には、画像の均一性にも全く問題を認められなかった。
尚、室内において基体(支持体)を水平に保持し、微粒子分散溶液層にメッシュを被せたとき、メッシュと基体(支持体)とを接触状態として、微粒子堆積層を形成した。こうして得られた微粒子堆積層も、メッシュを基体(支持体)から浮かせてメッシュと基体(支持体)とを非接触状態として得られた上述の微粒子堆積層と、同じ特性を示した。
また、メッシュの代わりに、長さ1mm乃至2mmのガラス製のチップ状の短い糸をメニスカス形成手段として使用して、微粒子堆積層を形成した。具体的には、微粒子分散溶液中に基体(支持体)を垂直に浸漬し、次いで、基体(支持体)を微粒子分散溶液から垂直に引き上げた後、室内において基体(支持体)を水平に保持し、メニスカス形成手段であるチップ状の短い糸をこの微粒子分散溶液層上にばらまいた。そして、所定の時間、この状態を維持し、微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。こうして得られた微粒子堆積層も、メッシュを使用して得られた上述の微粒子堆積層と、同じ特性を示した。
実施例2は、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法に関する。即ち、実施例2の微粒子堆積層多層構造の形成方法においては、
第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目[第1層目]の微粒子堆積層を得た後、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液を第m番目[第m層目]の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目[第m層目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得る。
第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目[第1層目]の微粒子堆積層を得た後、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液を第m番目[第m層目]の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目[第m層目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目[第(m+1)層目]の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得る。
実施例2においては、具体的には、M=3とした。また、第1番目の微粒子分散溶液、第2番目の微粒子分散溶液、及び、第3番目の微粒子分散溶液の組成を以下の表1のとおりとした。尚、「シリカ含有量」とは、純水100グラムに含まれるシリカの重量(単位:グラム)である。
[表1]
シリカ平均粒径 分散媒 シリカ含有量
第1番目の微粒子分散溶液 290nm 純水 25
第2番目の微粒子分散溶液 240nm 純水 25
第3番目の微粒子分散溶液 210nm 純水 25
シリカ平均粒径 分散媒 シリカ含有量
第1番目の微粒子分散溶液 290nm 純水 25
第2番目の微粒子分散溶液 240nm 純水 25
第3番目の微粒子分散溶液 210nm 純水 25
また、基体として、実施例1と同じ基体を使用した。第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液を塗布して第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液層を形成する方法として、実施例1にて説明したと同様の引き上げ法を採用し、第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液層の乾燥時間も実施例1と同様とした。更には、第1番目、第2番目及び第3番目のメニスカス形成手段として、太さ0.1mmのステンレス鋼線材を縦横に張架した篩状部材から成るメッシュ(メッシュのピッチp1=0.5mm)を用いた。このメッシュの開口形状は概ね一辺が0.4mmの正方形である。メッシュのピッチp1は、メッシュのどの位置においても一定の値である構成とした。横縦比16:9の公称80インチの表示装置用スクリーンにおいて、XGA(1024×768画素)の画素ピッチp0は1.3mmである。従って、p1=0.380である。実施例2における第1番目の微粒子堆積層は赤色反射用であり、第2番目の微粒子堆積層は緑色反射用であり、第3番目の微粒子堆積層は青色反射用であり、M層から成る微粒子堆積層多層構造と基体とによって表示装置用スクリーンが構成される。
実施例2においては、具体的には、上述した第1番目の微粒子分散溶液中に、基体を垂直に浸漬し、次いで、基体を第1番目の微粒子分散溶液から垂直に引き上げた。こうして、第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成することができた。次いで、室内において基体(支持体)を水平に保持し、メニスカス形成手段であるメッシュをこの微粒子分散溶液層に接触した状態とした。具体的には、微粒子分散溶液層にメッシュを被せた。このとき、メッシュを基体(支持体)から浮かせ、メッシュと基体(支持体)とを非接触状態とした。そして、所定の時間、この状態を維持し、第1番目の微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。こうして、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得ることができた。尚、第1番目の微粒子堆積層の厚さを3μmとした。
次に、第(m+1)番目[但し、m=1であり、具体的には第2番目]の微粒子分散溶液を第m番目[具体的には第1番目]の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目[具体的には第2番目]のメニスカス形成手段をこの第(m+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目[具体的には第1番目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層を得る。第(m+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層を得る具体的な方法は、第1番目の微粒子堆積層を得るために先に説明したと同様の方法とすればよい。尚、第2番目の微粒子堆積層の厚さも3μmとした。
次に、第(m+1)番目[但し、m=2であり、具体的には第3番目]の微粒子分散溶液を第m番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目[具体的には第3番目]のメニスカス形成手段をこの第(m+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子堆積層を得る。第(m+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子堆積層を得る具体的な方法は、第1番目の微粒子堆積層を得るために先に説明したと同様の方法とすればよい。尚、第3番目の微粒子堆積層の厚さも3μmとした。
こうして、微粒子が配向した状態のM層(実施例2においては3層)から成る微粒子堆積層多層構造を得ることができた。尚、このような構成にすることで、レイリー散乱による影響を最小限に抑えることができる。
その後、第3番目の微粒子堆積層の表面に拡散フィルムを貼り、公称80インチの表示装置用スクリーンを完成させた。この状態を図5の模式的な一部断面図に示す。
第1番目〜第3番目の微粒子堆積層においては、図4の(A)に示したと同様に、基体の法線方向に沿った微粒子の並び状態(配列状態)に規則性が有る状態を得ることができ、微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることが判った。
この表示装置用スクリーンにフロントプロジェクターで映像を映したところ、モアレ縞が肉眼では観察されなかった。また、表示装置用スクリーンの光散乱も少なく、黒が沈んだコントラスト比の高い画像が得られた。更には、画像の均一性にも全く問題を認められなかった。
尚、室内において基体(支持体)を水平に保持し、第1番目〜第3番目の微粒子分散溶液層にメッシュを被せたとき、メッシュと基体あるいは微粒子堆積層とを接触状態として、第1番目〜第3番目の微粒子堆積層を形成した。こうして得られた第1番目〜第3番目の微粒子堆積層も、メッシュと基体あるいは微粒子堆積層とを非接触状態として得られた上述の第1番目〜第3番目の微粒子堆積層と、同じ特性を示した。
また、メッシュの代わりに、長さ1mm乃至2mmのガラス製のチップ状の短い糸をメニスカス形成手段として使用して、第1番目〜第3番目の微粒子堆積層を形成した。具体的には、微粒子分散溶液中に基体を垂直に浸漬し、次いで、基体を微粒子分散溶液から垂直に引き上げた後、室内において基体を水平に保持し、メニスカス形成手段であるチップ状の短い糸をこの微粒子分散溶液層(第1番目の微粒子分散溶液層、第2番目の微粒子分散溶液層及び第3番目の微粒子分散溶液層)上にばらまいた。そして、所定の時間、この状態を維持し、微粒子分散溶液層(第1番目の微粒子分散溶液層、第2番目の微粒子分散溶液層及び第3番目の微粒子分散溶液層)を自然乾燥させた。こうして得られた3層の微粒子堆積層多層構造も、メッシュを使用して得られた上述の3層の微粒子堆積層多層構造と、同じ特性を示した。
尚、赤色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、青色反射用の微粒子堆積層から成る微粒子堆積層多層構造において、基体上に、青色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、赤色反射用の微粒子堆積層をこの順に積層してもよい。具体的には、第3番目の微粒子分散溶液、第2番目の微粒子分散溶液、第1番目の微粒子分散溶液の順序に微粒子分散溶液を用いて、3層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることもできる。このような構成にすることで、微粒子が配向した状態の3層の微粒子堆積層多層構造を一層確実に得ることができる。
実施例3は、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積方法及び本発明の第2の態様に係る表示装置用スクリーンの製造方法に関する。即ち、実施例3の微粒子堆積方法あるいは表示装置用スクリーンの製造方法においては、基体(支持体)の上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、このメニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布し、以て、基体(支持体)表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得る。実施例3においては、基体(支持体)とメニスカス形成手段とを非接触状態とする。
実施例3において使用した微粒子分散溶液、基体(支持体)、メニスカス形成手段、表示装置用スクリーンにおける画素ピッチp0を、実施例1と同様とした。
実施例3の微粒子堆積方法あるいは表示装置用スクリーンの製造方法にあっては、具体的には、室内において基体(支持体)を水平に保持し、基体(支持体)の上方0.1mm乃至0.5mmのところにメニスカス形成手段であるメッシュを適切な方法で配置する。即ち、メッシュを、基体(支持体)から浮き上がった状態とする。
そして、この状態で、引き上げ法法に基づき、メニスカス形成手段を介して、即ち、メニスカス形成手段を介在させた状態でメニスカス形成手段の上方から微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布した。次いで、1時間、この状態を維持し、微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。
こうして、図1の(C)に模式的に示したと同様に、基体(支持体)10の表面に対して微粒子31が配向した状態の微粒子堆積層32を得ることができ、微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることが判った。即ち、基体あるいは支持体の法線方向に沿った微粒子の並び状態(配列状態)に規則性が有る状態を得ることができ、より具体的には、基体あるいは支持体の法線方向に沿って、少なくとも部分的に、ABCABC・・・の状態に配列された状態(立方最密構造を有する状態)と、ABABAB・・・の状態に配列されている状態(六方最密構造を有する状態)とが混在した状態を得ることができた。尚、この混在状態にあっても、ブラッグ波長は同じである。微粒子堆積層は、赤色光だけを反射させ、他の色の光を透過させる特殊な機能を有する。尚、立方最密構造を有する状態にあっては、微粒子堆積層における厚さ、及び、微粒子の堆積周期(積層周期)は、4.3μm、6周期であった。一方、六方最密構造を有する状態にあっては、微粒子堆積層における厚さ、及び、微粒子の堆積周期(積層周期)は、4.3μm、9周期であった。
この表示装置用スクリーンにフロントプロジェクターで映像を映したところ、モアレ縞が肉眼では観察されなかった。また、表示装置用スクリーンの光散乱も少なく、コントラスト比の高い画像が得られた。更には、画像の均一性にも全く問題を認められなかった。
尚、室内において基体(支持体)を水平に保持し、メッシュと基体(支持体)とを接触状態として、微粒子堆積層を形成した。こうして得られた微粒子堆積層も、メッシュを基体(支持体)から浮かせてメッシュと基体(支持体)とを非接触状態として得られた上述の微粒子堆積層と、同じ特性を示した。
また、メッシュの代わりに、長さ1mm乃至2mmのガラス製のチップ状の短い糸をメニスカス形成手段として使用して、微粒子堆積層を形成した。具体的には、メニスカス形成手段であるチップ状の短い糸を微粒子分散溶液層上にばらまいた。そして、この状態で、即ち、メニスカス形成手段を介在させた状態で、上方から微粒子分散溶液を基体(支持体)上に塗布した後、所定の時間、この状態を維持し、微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。こうして得られた微粒子堆積層も、メッシュを使用して得られた上述の微粒子堆積層と、同じ特性を示した。
実施例4は、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法に関する。即ち、実施例4の微粒子堆積層多層構造の形成方法においては、
基体の上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目[第1層目]の微粒子堆積層を得た後、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)[第n層目]の微粒子堆積層の上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目[第(n+1)層目]の微粒子分散溶液を第n番目[第n層目]の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目[第n層目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目[第(n+1)層目]の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得る。
基体の上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目[第1層目]の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目[第1層目]の微粒子堆積層を得た後、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)[第n層目]の微粒子堆積層の上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目[第(n+1)層目]の微粒子分散溶液を第n番目[第n層目]の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目[第n層目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目[第(n+1)層目]の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得る。
実施例4においては、基体と第1番目のメニスカス形成手段とを非接触状態とする。更には、第n番目の微粒子堆積層と第(n+1)番目のメニスカス形成手段とも非接触状態とする。
実施例4においては、具体的には、N=3とした。第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液の組成を表1に示したとおりとした。また、基体として、実施例1と同じ基体を使用した。第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液を塗布して第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液層を形成する方法として、実施例3にて説明したと同様の方法を採用し、第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液層の乾燥時間も実施例3と同様とした。更には、第1番目、第2番目及び第3番目のメニスカス形成手段として、実施例2にて説明したメッシュと同じメッシュを使用した。表示装置用スクリーンの仕様も実施例2と同じとした。実施例4における第1番目の微粒子堆積層は赤色反射用であり、第2番目の微粒子堆積層は緑色反射用であり、第3番目の微粒子堆積層は青色反射用であり、N層から成る微粒子堆積層多層構造と基体とによって表示装置用スクリーンが構成される。
実施例4においては、具体的には、実施例3と同様にして、基体の上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、この第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布した。そして、所定の時間、この状態を維持し、第1番目の微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。こうして、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得ることができた。尚、第1番目の微粒子堆積層の厚さを3μmとした。
次に、第n番目[但し、n=1であり、具体的には第1番目]の微粒子堆積層の上方に第(n+1)番目[具体的には第2番目]のメニスカス形成手段を配置した状態で、この第(n+1)番目[具体的には第2番目]のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子分散溶液を第n番目[具体的には第1番目]の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目[具体的には第1番目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層を得る。第(n+1)番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層を得る具体的な方法は、第1番目の微粒子堆積層を得るために先に説明したと同様の方法とすればよい。尚、第2番目の微粒子堆積層の厚さも3μmとした。
次に、第n番目[但し、n=2であり、具体的には第2番目]の微粒子堆積層の上方に第(n+1)番目[具体的には第3番目]のメニスカス形成手段を配置した状態で、この第(n+1)番目[具体的には第3番目]のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子分散溶液を第n番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目[具体的には第2番目]の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子堆積層を得る。第(n+1)番目[具体的には第3番目]の微粒子堆積層を得る具体的な方法は、第1番目の微粒子堆積層を得るために先に説明したと同様の方法とすればよい。尚、第3番目の微粒子堆積層の厚さも3μmとした。
こうして、微粒子が配向した状態のN層(実施例4においては3層)から成る微粒子堆積層多層構造を得ることができた。尚、このような構成にすることで、レイリー散乱による影響を最小限に抑えることができる。
その後、第3番目の微粒子堆積層の表面に拡散フィルムを貼り、公称80インチの表示装置用スクリーンを完成させた。この状態は、図5の模式的な一部断面図に示したと同様である。
第1番目〜第3番目の微粒子堆積層においては、図4の(A)に示したと同様に、基体の法線方向に沿った微粒子の並び状態(配列状態)に規則性が有る状態を得ることができ、微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることが判った。
この表示装置用スクリーンにフロントプロジェクターで映像を映したところ、モアレ縞が肉眼では観察されなかった。また、表示装置用スクリーンの光散乱も少なく、黒が沈んだコントラスト比の高い画像が得られた。更には、画像の均一性にも全く問題を認められなかった。
また、メッシュの代わりに、長さ1mm乃至2mmのガラス製のチップ状の短い糸をメニスカス形成手段として使用して、第1番目〜第3番目の微粒子堆積層を形成した。そして、基体(支持体)の上、あるいは、第n番目の微粒子堆積層の上にメニスカス形成手段を配置した。具体的には、メニスカス形成手段であるチップ状の短い糸を、基体(支持体)の上、あるいは、第n番目の微粒子堆積層の上にばらまいた。そして、この状態で、上方から第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液を塗布した後、所定の時間、この状態を維持し、第1番目、第2番目及び第3番目の微粒子分散溶液層を自然乾燥させた。こうして得られた3層の微粒子堆積層多層構造も、メッシュを使用して得られた上述の3層の微粒子堆積層多層構造と、同じ特性を示した。
尚、赤色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、青色反射用の微粒子堆積層から成る微粒子堆積層多層構造において、基体上に、青色反射用の微粒子堆積層、緑色反射用の微粒子堆積層、赤色反射用の微粒子堆積層をこの順に積層してもよい。具体的には、第3番目の微粒子分散溶液、第2番目の微粒子分散溶液、第1番目の微粒子分散溶液の順序に微粒子分散溶液を用いて、3層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることもできる。このような構成にすることで、微粒子が配向した状態の3層の微粒子堆積層多層構造を一層確実に得ることができる。
以上、本発明を好ましい実施例に基づき説明したが、本発明はこれらの実施例に限定するものではない。実施例において説明した微粒子堆積方法、微粒子堆積層多層構造の形成方法、及び、表示装置用スクリーンの製造方法における各種の条件、使用した各種の材料等は例示であり、適宜、変更することができる。
場合によっては、微粒子堆積層における微粒子と微粒子との間に存在する空間を高分子物質から成るバインダで充填してもよい。バインダの屈折率は微粒子の屈折率n0と異なっていることが必要とされる。具体的には、微粒子を構成する材料がシリカである場合、バインダとして、ポリプロピレン樹脂やポリエチレン樹脂、ポリイソブチレン樹脂、ポリ酢酸ビニルといった樹脂を例示することができる。尚、微粒子堆積層における微粒子と微粒子との間に存在する空間をバインダで充填する方法として、微粒子堆積層にバインダを溶かした溶液を滲み込ませる方法、微粒子分散溶液にバインダを添加しておく方法を例示することができる。このように微粒子堆積層における微粒子と微粒子との間に存在する空間をバインダで充填することで、微粒子堆積層の機械的強度を向上させることができるし、微粒子に対するバインダの屈折率を適切に選択することで、反射スペクトルの半値幅FWHMを狭くすることが可能となり、光学特性の向上を図ることができる。
本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の前段と、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段とを組み合せてもよい。即ち、
第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得る工程と、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)の微粒子堆積層の上又は上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得る工程、
とを組み合せてもよい。
第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得る工程と、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)の微粒子堆積層の上又は上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得る工程、
とを組み合せてもよい。
あるいは又、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の前段と、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段とを組み合せてもよい。即ち、
基体の上又は上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得る工程と、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)の微粒子分散溶液を第m番目の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得る工程、
とを組み合せてもよい。
基体の上又は上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得る工程と、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)の微粒子分散溶液を第m番目の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得る工程、
とを組み合せてもよい。
更には、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の前段と、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段と、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段とを組み合せてもよいし、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の前段と、本発明の第1の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段と、本発明の第2の態様に係る微粒子堆積層多層構造の形成方法の後段とを組み合せてもよい。
10・・・基体(支持体)、20・・・メニスカス形成手段、30・・・微粒子分散溶液、31・・・微粒子、32・・・微粒子堆積層
Claims (15)
- 微粒子分散溶液を基体上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする微粒子堆積方法。
- 基体の上又は上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、該メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする微粒子堆積方法。
- 微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の微粒子堆積方法。
- 微粒子はSiOX(但し、0<X≦2)から成ることを特徴とする請求項3に記載の微粒子堆積方法。
- 第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布して第1番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第1番目のメニスカス形成手段を該第1番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第(m+1)番目(但し、m=1,2・・・M−1であり、M≧2)の微粒子分散溶液を第m番目の微粒子堆積層上に塗布して第(m+1)番目の微粒子分散溶液層を形成した後、第(m+1)番目のメニスカス形成手段を該第(m+1)番目の微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、第m番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(m+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(M−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のM層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする微粒子堆積層多層構造の形成方法。 - 基体の上又は上方に第1番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第1番目のメニスカス形成手段を介して第1番目の微粒子分散溶液を基体上に塗布し、以て、基体表面に対して微粒子が配向した状態の第1番目の微粒子堆積層を得た後、
第n番目(但し、n=1,2・・・N−1であり、N≧2)の微粒子堆積層の上又は上方に第(n+1)番目のメニスカス形成手段を配置した状態で、該第(n+1)番目のメニスカス形成手段を介して第(n+1)番目の微粒子分散溶液を第n番目の微粒子堆積層上に塗布し、以て、第n番目の微粒子堆積層表面に対して微粒子が配向した状態の第(n+1)番目の微粒子堆積層を得る工程を、(N−1)回、繰り返し、微粒子が配向した状態のN層から成る微粒子堆積層多層構造を得ることを特徴とする微粒子堆積層多層構造の形成方法。 - 微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の微粒子堆積層多層構造の形成方法。
- 微粒子はSiOX(但し、0<X≦2)から成ることを特徴とする請求項7に記載の微粒子堆積層多層構造の形成方法。
- 各微粒子堆積層を構成する微粒子の平均粒径を異ならせることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の微粒子堆積層多層構造の形成方法。
- 微粒子分散溶液を支持体上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、支持体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする表示装置用スクリーンの製造方法。
- 支持体の上又は上方にメニスカス形成手段を配置した状態で、該メニスカス形成手段を介して微粒子分散溶液を支持体上に塗布し、以て、支持体表面に対して微粒子が配向した状態の微粒子堆積層を得ることを特徴とする表示装置用スクリーンの製造方法。
- 微粒子堆積層はフォトニック結晶から構成されていることを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の表示装置用スクリーンの製造方法。
- 微粒子はSiOX(但し、0<X≦2)から成ることを特徴とする請求項12に記載の表示装置用スクリーンの製造方法。
- メニスカス形成手段はメッシュから成り、
表示装置用スクリーンにおける画素ピッチをp0、メッシュのピッチをp1としたとき、p1≦0.5p0を満足することを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の表示装置用スクリーンの製造方法。 - メニスカス形成手段はメッシュから成り、
表示装置用スクリーンにおける画素ピッチをp0、メッシュのピッチをp1としたとき、p1≧5p0を満足することを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の表示装置用スクリーンの製造方法。
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