JP2005290091A - 半導体ウエハ固定用粘着テープ - Google Patents
半導体ウエハ固定用粘着テープ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005290091A JP2005290091A JP2004104156A JP2004104156A JP2005290091A JP 2005290091 A JP2005290091 A JP 2005290091A JP 2004104156 A JP2004104156 A JP 2004104156A JP 2004104156 A JP2004104156 A JP 2004104156A JP 2005290091 A JP2005290091 A JP 2005290091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- sensitive adhesive
- radiation
- adhesive tape
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 *C(O)OCCCNN Chemical compound *C(O)OCCCNN 0.000 description 1
- WWMIQGYZAIRXFX-UHFFFAOYSA-N CC(CC(C1)(C2)C1CC21O2)C1OC2=S Chemical compound CC(CC(C1)(C2)C1CC21O2)C1OC2=S WWMIQGYZAIRXFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
ダイシング時には十分な接着力を持つダイシングテープとして使用でき、ダイシング後は容易に剥離できる粘着テープを提供する。
【解決手段】
粘着剤中に開環重合反応を生じ体積膨張を起こす環状化合物を加えることにより、放射線照射もしくは加熱等の外部刺激によって硬化するとともに粘着剤層の体積膨張を起こすことで、被着体に損傷なく容易に剥離することができる半導体ウエハ固定用粘着テープを提供する。
Description
ダイシング工程では、半導体ウェハをあらかじめ粘着テープに貼り付けて固定した後、回転丸刃によりチップ形状に沿ってダイシングを行い、マウント工程は、チップを粘着テープから剥離(ピックアップ)させ、基板等にマウントするダイレクトピックアップ方式が取られている。
上記ダイシング工程では、回転丸刃を用いて半導体ウエハを切断する時に回転丸刃の冷却と切断屑の除去を目的として、2kg/cm2程度の水圧下で洗浄水を回転丸刃と半導体ウエハに放水する。このため、ダイシング加工時の素子固定粘着力は回転丸刃による切断衝撃力に耐えると同時に、この水圧に耐え得るだけの力が必要とされ、粘着テープの粘着力は強いほど良い。
そのため、例えば紫外線のような光、または電子線のような電離性放射線(以下、総称して放射線と言う)を透過する支持体と、この支持体上に塗工された放射線照射により硬化する性質を有する粘着剤層とからなる粘着テープが開発されている。この粘着テープはダイシング時には強力な素子固定粘着力を有し、半導体ウエハを素子小片に切断分離後、支持体側より放射線照射を行ない放射線硬化性粘着剤層を硬化させて、素子固定粘着力を低下させ、ピックアップを容易にするものである。
これらの放射線硬化型粘着テープは放射線透過性の支持体上に放射線硬化性粘着剤を塗工した半導体ウエハ固定用粘着テープであって、その粘着剤中に含まれる放射線重合性化合物を放射線照射によって硬化させ粘着剤に三次元網状化構造を与えて、その流動性を低下させ、粘着力を低下させる原理に基づくものである。
さらには、貼合される半導体ウェハの厚みもますます薄くなり、100umより薄いものが取り扱われるようになってきている。そのため、損傷を防止するためにもピックアップ時の易剥離性の要求が大きくなっている。
また、半導体ウエハは、ダイシング工程に先立ち、所定の厚さに薄くする為、ウエハ裏面をバックサイドグラインダーと呼ばれる装置により研削加工し薄膜化される。
その際、研削ダスト等からの汚染を防ぐとともに研削加工時の衝撃によるウエハの破損を防ぐために、半導体ウエハの表面に保護用粘着テープを貼り合わせる。研削加工終了後は、当該ウエハ表面に貼り合わされた保護用粘着テープを剥離し、ダイシング加工が施される。このような保護用粘着テープにおいても半導体ウエハの薄膜化に伴い、易剥離性が求められている。
本発明は、粘着テープにおいて、半導体素子しもしくは半導体ウェハを固定する際には必要な粘着力を有し、それらを剥離する際には容易に剥離することができる粘着テープを提供することを目的とする。
特に、放射線硬化性のアクリル系ベース樹脂を用いる粘着剤に 開環重合反応を起こす環状化合物を加えることにより、粘着剤が放射線照射によって硬化するとともに、体積膨張し、被着体との易剥離性が得られることを見出した。また、放射線硬化性のアクリル系粘着剤では放射線照射時の硬化によって一般的には体積収縮をおこすが、放射線照射によって体積膨張を起こす材料を添加することにより、粘着剤全体の体積収縮を抑制することによって被着体との密着性を低下させ、易剥離性を向上できる。
すなわち本発明は、
(1)基材フィルム上に粘着剤層を有してなる粘着テープであって、前記粘着剤層に放射線照射もしくは加熱によって開環重合反応を生じて体積膨張をおこす環状化合物を含むことを特徴とする粘着テープ、
(2)前記粘着剤層は放射線硬化性アクリル系ベース樹脂と、放射線照射によって開環重合反応を生ずる環状化合物とを主成分とすることを特徴とする(1)記載の粘着テープ、
(3)基材フィルム上に、放射線照射もしくは加熱によって体積膨張を生ずる層と、体積収縮を生ずる層とが積層された粘着剤層を有してなることを特徴とする粘着テープ、
(4)半導体ウェハの固定に使用される粘着剤であって、アクリル系ベース樹脂と開環重合によって体積膨張をおこす環状化合物を有し、放射線の照射によって硬化し粘着力が低下することを特徴とする粘着剤、を提供するものである。
なおここで放射線とは紫外線のような光線、または電子線などの電離性放射線をいう。また、「主成分とする」とは粘着剤層の50重量%以上がアクリル系ベース樹脂と、開環重合反応を生ずる環状化合物で構成されているものである。
これらの環重合反応を起こす環状化合物としては、環状カーボナイト、スピロオルトエステル(SOE)、ビシクロオルトエステル(BOE)、ビシクロオルトエステル(BOE)、ビニルシクロプロパノン環状アセタールなどが挙げられる。
環状カーボナートには、例えば式1〜5に示すもの等がある。また、チオカーボナートにおいても、開環重合に伴う体積膨張が見られ、例えば式6に示すものがある。
なお本発明の粘着剤には、イソシアネート系の硬化剤を添加することが好ましい。添加効果は紫外線等の放射線照射前の初期粘着力を所望の大きさに保持することである。
なお本発明の粘着テープを紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤を1種あるいは2種以上を粘着剤層に添加することによって、硬化反応時間または紫外線照射量が少なくても効率よく硬化反応を進行させ、素子固定粘着力を低下させることが出来る。
さらに本発明に用いられる粘着剤には必要に応じてタッキファイヤー、粘度調整剤、界面活性剤などあるいはその他の改質剤および慣用成分を配合することができる。
カチオン重合開始剤としては、各種のオニウム塩、例えばヘキサフロロホスフェートやテトラフロロボロレート、アリルジアゾニウム塩、ジアリルヨードニウム塩、トリアリルヨードニウム塩などの芳香族ヨードニウム塩PF6, AsF6, SbF6のようなアニオンをもつスルホニウム塩等がある。ラジカル重合開始剤としてはイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルオキサントン、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等があり、カチオン重合開始剤と併用することもできる。
また、式18、式19 に示すように、紫外線を照射すると,ラジカル種とイオン種が発生する開始剤を用いても良い。
なお、本発明は以下の実施例に限定されるものでない。
実施例1
アクリル系ベース樹脂(2−エチルヘキシル アクリレートとn−ブチル アクリレートとの共重合体)100重量部にポリイソシアネート化合物3重量部、膨張性開環重合を行う環状化合物として式1に示すカーボナート60重量部、架橋性を向上させるためのグリシジルエーテルを5重量部、および光重合開始剤としてアリルスルホニウム塩1重量部とを混合して、放射線硬化性粘着剤を調製した。この粘着剤を厚さ50umのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に乾燥後の粘着剤層の厚さが15umとなるように塗工し、加熱乾燥してウエハ固定用粘着テープを得た。
比較例1
粘着剤の組成を、開環重合を行う環状化合物とグリシジルエーテルに代えて、光反応性官能基を有するアクリル系オリゴマーを60重量部としたほかは、実施例1同様に、アクリル系ベース樹脂(2−エチルヘキシル アクリレートとn−ブチル アクリレートとの共重合体)100重量部にポリイソシアネート化合物3重量部、アリルスルホニウム塩1重量部とを混合して調整した粘着剤をもちい、実施例1と同様にウエハ固定用粘着テープを得た。
評価方法
上記の実施例および比較例の粘着テープについて、下記のようにピックアップ成功率を評価した。直径5インチ、厚さ 75μmのシリコンウエハに粘着テープを貼合し、10×10mmにダイシングした後、乾燥後高圧水銀灯(80w/cm)下に10秒間曝し、ダイボンディングマシーンでピックアップピンによる突き上げ高さを0.3mmにした場合と、0.5mmにした場合とでピックアップ試験を行い、ピックアップチップ100個でのピックアップ成功率を求めた。
実施例および比較例でのピックアップ試験の結果を表1に示す。
比較例1ではピックアップ時の抵抗力が大きく、一部のチップはピックアップできない。しかし上記実施例1では、問題なく容易にピックアップすることができる。
第2の粘着剤の調整
アクリル系ベース樹脂(2−エチルヘキシル アクリレートとn−ブチル アクリレートとの共重合体)100重量部にポリイソシアネート化合物3重量部、グリシジルエーテルを5重量部、α―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1質量部とを混合して、放射線硬化性粘着剤を調製した。
この粘着剤を厚さ50umのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に乾燥後の粘着剤層の厚さが10umとなるように塗工し、さらにその上に、実施例1で用いた膨張性開環重合をおこす化合物を含む粘着剤を乾燥後の厚さ10μmとなるように塗工し、加熱乾燥してウエハ固定用粘着テープを得た。このテープを用いても、良好なピックアップ特性を得ることができる。
Claims (4)
- 基材フィルム上に粘着剤層を有してなる粘着テープであって、前記粘着剤層に放射線照射もしくは加熱によって開環重合反応を生じて体積膨張をおこす環状化合物を含むことを特徴とする粘着テープ。
- 前記粘着剤層は放射線硬化性アクリル系ベース樹脂と、放射線照射によって開環重合反応を生ずる環状化合物とを主成分とすることを特徴とする請求項1記載の粘着テープ。
- 基材フィルム上に、放射線照射もしくは加熱によって体積膨張を生ずる層と、体積収縮を生ずる層とが積層された粘着剤層を有してなることを特徴とする粘着テープ。
- 半導体ウェハの固定に使用される粘着剤であって、アクリル系ベース樹脂と開環重合によって体積膨張をおこす環状化合物を有し、放射線の照射によって硬化し粘着力が低下することを特徴とする粘着剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004104156A JP4629992B2 (ja) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 半導体ウエハ固定用粘着テープ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004104156A JP4629992B2 (ja) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 半導体ウエハ固定用粘着テープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005290091A true JP2005290091A (ja) | 2005-10-20 |
JP4629992B2 JP4629992B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=35323400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004104156A Expired - Fee Related JP4629992B2 (ja) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 半導体ウエハ固定用粘着テープ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4629992B2 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317981A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-25 | F S K Kk | 粘着シ−ト |
JPH01259025A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線硬化性樹脂組成物 |
JPH10273527A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 環状カーボナート及び重合物 |
JP2000129235A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 帯電防止性粘着剤組成物 |
JP2001200234A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-24 | Asahi Kasei Corp | 半導体ウエハー固定用の粘着剤ならびに加工方法 |
JP2001329005A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-11-27 | Sanyo Chem Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
JP2002088320A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Sliontec Corp | 加熱剥離型粘着テープ・シート及びその製造方法 |
JP2003151940A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-23 | Sekisui Chem Co Ltd | バックグラインドテープ及び半導体ウエハの研磨方法 |
-
2004
- 2004-03-31 JP JP2004104156A patent/JP4629992B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317981A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-25 | F S K Kk | 粘着シ−ト |
JPH01259025A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線硬化性樹脂組成物 |
JPH10273527A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 環状カーボナート及び重合物 |
JP2000129235A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 帯電防止性粘着剤組成物 |
JP2001200234A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-24 | Asahi Kasei Corp | 半導体ウエハー固定用の粘着剤ならびに加工方法 |
JP2001329005A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-11-27 | Sanyo Chem Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
JP2002088320A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Sliontec Corp | 加熱剥離型粘着テープ・シート及びその製造方法 |
JP2003151940A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-23 | Sekisui Chem Co Ltd | バックグラインドテープ及び半導体ウエハの研磨方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4629992B2 (ja) | 2011-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6018730B2 (ja) | ダイシングシートおよび半導体チップの製造方法 | |
KR20170122185A (ko) | 반도체 칩의 제조방법 및 이것에 이용하는 마스크 일체형 표면 보호 테이프 | |
JP6118404B2 (ja) | 電子部材の剥離方法 | |
TW559920B (en) | Dicing adhesive sheet and dicing method | |
JP6845135B2 (ja) | マスク一体型表面保護フィルム | |
JP2007019151A (ja) | ウエハ加工用テープおよびそれを用いたチップの製造方法 | |
TW200934699A (en) | Wafer processing tape | |
JP3966808B2 (ja) | 粘接着テープ | |
JP2004256793A (ja) | ウエハ貼着用粘着テープ | |
CN108713240B (zh) | 掩模一体型表面保护带 | |
JP2009231413A (ja) | ウエハ加工用テープ | |
JP2013213075A (ja) | 半導体加工用粘着テープ | |
JP2019087681A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP5688340B2 (ja) | 粘着剤組成物及び半導体加工用粘着テープ | |
JPH10279894A (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着シ―ト類と加工方法 | |
JP2010056531A (ja) | 半導体チップ積層体の製造方法 | |
JP2019087682A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
TWI304610B (en) | Method of manufacturing a thin-film circuit substrate having penetrating structure, and protecting adhesive tape | |
JP2006229076A (ja) | Icチップの製造方法 | |
JP2018147988A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP4629992B2 (ja) | 半導体ウエハ固定用粘着テープ | |
JP7488231B2 (ja) | 半導体加工用テープ、及び半導体チップの製造方法 | |
JP2019102710A (ja) | マスク一体型表面保護テープ | |
JPH10321563A (ja) | 半導体ウエハ保持シート及び半導体チップ形成方法 | |
JP2662033B2 (ja) | 放射線硬化性粘着テープ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100517 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100521 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100720 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101026 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4629992 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |