JP2005268522A - 露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】プロセスを経たウエハ等の被処理基板20の帯電量をチップ20a毎に測定し、チップ20a毎の最適露光量を求める。そして、チップ20a毎に最適露光量で露光することにより、帯電量によらず所望のサイズのレジストパターンを得る。
【選択図】図5
【解決手段】プロセスを経たウエハ等の被処理基板20の帯電量をチップ20a毎に測定し、チップ20a毎の最適露光量を求める。そして、チップ20a毎に最適露光量で露光することにより、帯電量によらず所望のサイズのレジストパターンを得る。
【選択図】図5
Description
本発明は、特に荷電粒子線を用いた露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法に関する。
低加速電子ビーム近接転写リソグラフ(LEEPL:low energy electron beam proximity projection lithography )では、2kVで加速された低エネルギー電子を用いることから、ウエハ帯電による入射電子のエネルギー損失の割合が大きい。パターンが形成されるレジストの感度は、入射した電子のエネルギーに依存するため、同じ露光量でパターンを露光した場合、ウエハ帯電により、形成されるパターンのサイズに違いが生じる。
ウエハ帯電の理由としては、CVD(Chemical Vapor Deposition)による膜構造の積層や、プラズマエッチング時のウエハ印加電圧、CMP(Chemical Mechanical Polishing)時の摩擦、レジスト塗布およびレジスト剥離等が考えられ、デバイス構造やウエハ毎に帯電量が異なることが考えられる。
この問題を解決する従来技術として、レジスト表面に導電性をもつ帯電防止膜を20nm厚程度で塗布し、表面にアース針を立てる等により、帯電を除去する方法が知られている(特許文献1参照)。
特開2000−223392号公報(従来技術の欄)
特開2003−59819号公報
しかしながら、特にLEEPLのように低エネルギー電子を用いる露光技術においては、レジスト表面に20nm厚の膜構造を付加することは、レジスト層における電子散乱の増大による解像性能の劣化と、侵入電子数の減少による感度の劣化を引き起こすため、問題解決のための望ましい技術ではなかった。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置および露光方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止して、被加工層の加工後のパターン寸法精度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するため、本発明の露光装置は、被処理基板に転写するためのパターンが形成されたマスクと、前記被処理基板の帯電量を測定する帯電量測定手段と、前記被処理基板の前記帯電量に応じて、前記被処理基板への前記荷電粒子線の露光量を決定する制御手段と、決定された前記露光量により、前記マスクを介して前記被処理基板に荷電粒子線を照射する荷電粒子線照射手段とを有する。
上記の本発明の露光装置では、まず、帯電量測定手段により、被処理基板の帯電量が測定される。
そして、測定された被処理基板の帯電量に応じて、制御手段により、被処理基板への荷電粒子線の露光量が決定される。
そして、制御手段からの決定された露光量情報を受けて、荷電粒子線照射手段により、当該露光量でマスクを介して被処理基板に荷電粒子線が照射される。
そして、測定された被処理基板の帯電量に応じて、制御手段により、被処理基板への荷電粒子線の露光量が決定される。
そして、制御手段からの決定された露光量情報を受けて、荷電粒子線照射手段により、当該露光量でマスクを介して被処理基板に荷電粒子線が照射される。
上記の目的を達成するため、本発明の露光方法は、被処理基板の帯電量を測定する工程と、前記帯電量に応じて前記被処理基板への前記荷電粒子線の露光量を決定する工程と、前記被処理基板に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、前記被処理基板に対して決定された前記露光量で荷電粒子線を照射する工程とを有する。
上記の本発明の露光方法では、被処理基板の帯電量を測定し、帯電量に応じて被処理基板への荷電粒子線の露光量を決定する。そして、被処理基板に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、被処理基板に対して決定された露光量で荷電粒子線を照射する。
上記の目的を達成するため、本発明の半導体装置の製造方法は、被処理基板に被加工層を形成する工程と、前記被加工層上に感光膜を形成する工程と、前記感光膜に対してマスクのパターンを露光する露光工程と、パターン露光された感光膜をエッチングマスクとして前記被加工層をエッチングすることにより前記被加工層をパターン加工する工程とを繰り返すことにより、パターンの層を形成する半導体装置の製造方法であって、前記露光工程は、前記被処理基板の帯電量を測定する工程と、前記帯電量に応じて前記感光膜への前記荷電粒子線の露光量を決定する工程と、前記感光膜に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、前記感光膜に対して決定された前記露光量で荷電粒子線を照射する工程とを有する。
上記の本発明の半導体装置の製造方法では、被処理基板に被加工層を形成し、被加工層上に感光膜を形成する。
露光工程では、予め被処理基板の帯電量を測定し、帯電量に応じて感光膜への荷電粒子線の露光量を決定しておく。
そして、感光膜に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、感光膜に対して決定された露光量で荷電粒子線を照射する。
露光後、パターン露光された感光膜をエッチングマスクとして被加工層をエッチングすることにより被加工層をパターン加工する。これにより、パターンの層が形成される。
露光工程では、予め被処理基板の帯電量を測定し、帯電量に応じて感光膜への荷電粒子線の露光量を決定しておく。
そして、感光膜に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、感光膜に対して決定された露光量で荷電粒子線を照射する。
露光後、パターン露光された感光膜をエッチングマスクとして被加工層をエッチングすることにより被加工層をパターン加工する。これにより、パターンの層が形成される。
本発明の露光装置および露光方法によれば、被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる。
また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止して、被加工層の加工後のパターン寸法精度を向上させることができる。
また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止して、被加工層の加工後のパターン寸法精度を向上させることができる。
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態に係る露光装置の概略構成図である。
図1に示す露光装置は、電子線を用いて露光を行うために真空状態にある露光室1と、露光室1とゲートバルブ2を介して連結されたロードロック室(予備室)3と、装置全体の制御を行う制御手段4とを有する。
図1に示す露光装置は、電子線を用いて露光を行うために真空状態にある露光室1と、露光室1とゲートバルブ2を介して連結されたロードロック室(予備室)3と、装置全体の制御を行う制御手段4とを有する。
露光室1には、後述する電子光学系(荷電粒子線照射手段)の他、マスク10を保持するマスク保持部5と、被処理基板20を保持するステージ6とが設置されている。ステージ6は、被処理基板20を平面方向および垂直方向に移動させる。
ロードロック室3は、露光室1を大気中に開放せずに被処理基板20の搬出入を行うことを目的とした真空室である。露光室1との間で被処理基板20を搬出入する際には露光室1と同じ真空状態に制御され、外部との間で被処理基板20を搬出入する際には大気圧に制御される。ロードロック室3には、露光室1での次の露光対象となる被処理基板20を搭載するパレット7と、被処理基板20の帯電量を測定する帯電量測定手段8とが設置されている。
帯電量測定手段8は、例えば表面電位計により構成され、被処理基板20の表面電位を測定することにより、被処理基板20の帯電量を測定する。本実施形態では、帯電量測定手段8により、被処理基板20の各単位被露光領域毎の帯電量を測定する。
制御手段4は、装置全体の制御を行う。本実施形態では、制御手段4は、特に帯電量測定手段8により測定された被処理基板20の帯電量に基づいて、被処理基板20を露光するための露光量を決定し、当該露光量で露光するように後述する電子光学系を制御する。
図2は、露光室に設置された電子光学系(荷電粒子線照射手段)の詳細な構成を示す図である。図2に示す電子光学系は、LEEPL技術に適用される電子光学系である。
図2に示す電子光学系は、マスク10の上流側に、電子銃12と、コンデンサレンズ13と、アパーチャ14と、一対の主偏向器15a,15bと、一対の副偏向器16a,16bとを有する。
電子銃12は、2kV程度の加速電圧で電子線EBを出射する。電子銃12から出射された電子線EBは、コンデンサレンズ13を通って平行ビームに収束する。この平行ビームに収束した電子線EBの不要部分は、アパーチャ14によって遮断される。
電子線EBは、主偏向器15aによって、電子線EBを照射する目標に向けて振られた後、主偏向器15bによって、光軸に平行な方向になるように振り戻される。これによって、電子線EBは、マスク10に対して略垂直に向けられる。主偏向器15a,15bにより、電子線EBが走査される。
副偏向器16a,16bは、ウエハ等の被処理基板20に転写されるパターンの位置を補正すべく電子線EBのマスク10への入射角を制御する。電子線EBを僅かに傾けることにより、正確な位置から変位しているマスク10のパターンを、被処理基板20上の正しい位置に補正して転写する。図2に示すように、照射角度の制御により、電子線EBの被処理基板20への照射位置をΔだけ移動させることができる。
図2においてマスク10の電子線遮蔽膜(メンブレン)に形成された開口パターンを通過した電子線EBにより、被処理基板20上の図示しないレジストが露光される。図2に示す露光装置では、等倍露光を採用しており、マスク10と被処理基板20は近接して配置される。
制御手段4は、主偏向器15a,15b、副偏向器16a,16bの他、図1に示すステージ6の動作を制御する。本実施形態では特に、制御手段4は、被処理基板20の帯電量に応じた露光量となるように、主偏向器15a,15bによる電子線EBの走査速度を制御することにより露光量を制御する。すなわち、電子線EBの走査速度を遅くすれば露光量は増加し、電子線EBの走査速度を速くすれば露光量は減少する。露光量とは、単位面積当たりの電子線の照射量(C/cm2 )である。
次に、上記の本実施形態に係る露光装置を用いた露光方法について説明する。
まず、露光対象となるウエハ等の被処理基板20の帯電量を、ロードロック室3内に設置した帯電量測定手段8により測定する。ここで、本実施形態では、単位被露光領域であるチップ毎の帯電量を測定する。
図3は、測定された被処理基板20の帯電量マップを示す図である。図3に示すように、被処理基板20の各チップ20aの帯電量(V)が得られる。通常、ウエハ等からなる被処理基板20では、負に帯電している。
図4は、事前の実験で得たレジストの最適露光量と被処理基板の帯電量の関係を示す図である。最適露光量とは、マスクの開口からなるパターンと同じ寸法のレジストパターンを形成するのに必要な露光量である。図4に示す最適露光量と帯電量との関係は、制御手段4に記憶させておく。
図4に示すように、負の電位をもつ電子線を用いた露光においては、被処理基板20が負に帯電している場合には、被処理基板20に到達する直前にクーロン反発により電子線のレジストへの侵入速度が遅くなる。レジスト中を侵入する電子の速度が遅くなると、それだけレジスト内で化学反応が行われやすいことからレジスト感度が向上する。このため、例えば帯電量が0Vの場合に比べて、必要な露光量が少なくなる。
図4に示すように、例えば帯電量が0Vの場合の最適露光量を2.0μC/cm2 とすると、被処理基板20の帯電量が−100Vの場合には最適露光量は1.8μC/cm2
となり、被処理基板20の帯電量が−200Vの場合には最適露光量は1.6μC/cm2 となる。反対に、被処理基板20が正に帯電している場合には最適露光量は2.0μC/cm2 よりも増加する。
となり、被処理基板20の帯電量が−200Vの場合には最適露光量は1.6μC/cm2 となる。反対に、被処理基板20が正に帯電している場合には最適露光量は2.0μC/cm2 よりも増加する。
従って、制御手段4では、被処理基板20のチップ毎の帯電量を入力し、上記の関係に基づいて、チップ20a毎の最適露光量を求める。図5は、図3の帯電量マップに基づいて、チップ20a毎の最適露光量(μC/cm2 )を計算した露光量マップを示す図である。
図5に示すようなチップ20a毎の最適露光量に基づいて、制御手段4により主偏向器15a,15bによる電子線の走査速度を制御することにより、各チップ20aの露光量が図5に示す最適露光量となるように制御する。
本実施形態による露光量補正を実施せずに被処理基板20の全面を2.0μC/cm2
で露光した場合にはチップ間におけるパターンサイズのばらつきが7.7nmとなったが、上記の本実施形態に係る露光方法を実施することによりチップ間のパターンサイズのばらつきを3.1nmに低減することができた。
で露光した場合にはチップ間におけるパターンサイズのばらつきが7.7nmとなったが、上記の本実施形態に係る露光方法を実施することによりチップ間のパターンサイズのばらつきを3.1nmに低減することができた。
また、本実施形態に係る帯電量に応じた露光量制御を行わない場合には、被処理基板20の全面を例えば2.0μC/cm2 という過剰な露光量で電子線を照射するため、本来90nmに形成されるべきレジストパターンが、例えば平均で97nmになってしまった。これに対して、本実施形態による露光量補正を実施することにより、平均で90nmという設計通りのレジストパターンが得られた。
以上説明したように、本実施形態に係る露光装置および露光方法によれば、被処理基板20の単位被露光領域であるチップ20aの帯電量に応じて、チップ20a毎に露光量を最適化することにより、被処理基板20の帯電量に限らず、同一の被処理基板20内の異なるチップ20a間、異なる被処理基板20間で均一なサイズのレジストパターンを得ることができる。また、被処理基板20の帯電量によらず設計サイズ通りのレジストパターンを得ることができる。
なお、上記の本実施形態では、チップ毎に露光量を最適化する例について説明したが、帯電量測定手段8により被処理基板20の全体での平均の帯電量を測定し、帯電量の平均値に基づいて1つの被処理基板20に対し1つの最適露光量で露光するようにしてもよい。この場合には、チップ20a間でのパターンばらつきは発生するが、被処理基板20間でほぼ均一なサイズのレジストパターンを得ることができる。また、得られるレジストパターンのサイズを設計値に近づけることができる。
さらに、本実施形態に係る露光装置では、上記の帯電量測定手段8をロードロック室3内に設置することにより、先行の被処理基板20の露光処理の間に、次の被処理基板20の帯電量を測定することができ、本実施形態の実施による露光処理のTAT増大を最小限にすることができる。
(相補露光の一例)
図6(a)はマスク10の構成の一例を示す図である。マスク10が、開口によりパターンが形成されるステンシルマスクの場合には、少なくともレジストに転写すべきパターンが2つに相補分割されて形成される(例えば、特許文献2参照)。図6では、相補パターンがそれぞれ形成された4つのマスク領域A,B,C,Dを有するマスク10の例を示す。
図6(a)はマスク10の構成の一例を示す図である。マスク10が、開口によりパターンが形成されるステンシルマスクの場合には、少なくともレジストに転写すべきパターンが2つに相補分割されて形成される(例えば、特許文献2参照)。図6では、相補パターンがそれぞれ形成された4つのマスク領域A,B,C,Dを有するマスク10の例を示す。
図6(b)は、マスク10の各マスク領域A〜Dの要部断面図である。
マスク10の各マスク領域A〜Dは、例えばシリコンからなる薄膜の電子線遮蔽膜101と、電子線遮蔽膜101の強度を補強する梁部102とにより構成され、梁部102により区画された電子線遮蔽膜101に貫通孔からなるパターン103が形成されている。梁部102の存在する箇所には、パターン103を形成できないことから、図6(a)に示すようにレジストに転写すべきパターンを相補分割した相補パターンが、マスク領域A〜Dに形成される。
マスク10の各マスク領域A〜Dは、例えばシリコンからなる薄膜の電子線遮蔽膜101と、電子線遮蔽膜101の強度を補強する梁部102とにより構成され、梁部102により区画された電子線遮蔽膜101に貫通孔からなるパターン103が形成されている。梁部102の存在する箇所には、パターン103を形成できないことから、図6(a)に示すようにレジストに転写すべきパターンを相補分割した相補パターンが、マスク領域A〜Dに形成される。
1つのチップ20aに対し、上記のマスク領域Aと、マスク領域Bと、マスク領域Cおよびマスク領域Dを順次重ねて露光することにより、マスク領域A〜Dに分割配置された相補パターンが全て露光されて、分割前のデバイスパターンがレジストに転写される。
上記のマスク10を用いて、チップ20a毎に露光量を変えて露光する露光方法について説明する。
図7(a)に示すように、被処理基板20の中央のチップ20a(図中、斜線を付しており、最適露光量が1.78μC/cm2 のチップ)にマスク領域A〜Dの相補パターンを露光する場合を考える。
図7(a)に示すように、中央のチップ20aにマスク10のマスク領域Aがアライメントされた状態で、マスク領域Aには露光量1.78μC/cm2 で露光し、マスク領域Bには露光量1.80μC/cm2 で露光し、マスク領域Cには露光量1.81μC/cm2 で露光し、マスク領域Dには露光量1.79μC/cm2 で露光する。これにより、中央のチップ20aには、マスク領域Aの相補パターンが転写される。このように、各チップ20aの最適露光量に応じて、対応する各マスク領域A〜Dへの露光量を制御する。これは、各マスク領域A〜Dへの電子線の走査速度を変えることにより実施する。
次に、図7(b)に示すように、ステージ6の制御により、中央のチップ20aにマスク10のマスク領域Dが位置するように被処理基板20をアライメントする。そして、マスク領域Dには露光量1.78μC/cm2 で露光し、マスク領域Aには露光量1.79μC/cm2 で露光し、マスク領域Bには露光量1.80μC/cm2 で露光し、マスク領域Cには露光量1.80μC/cm2 で露光する。これにより、中央部のチップ20aには、マスク領域Dの相補パターンが転写される。
次に、図8(a)に示すように、ステージ6の制御により、中央のチップ20aにマスク10のマスク領域Cが位置するように被処理基板20をアライメントする。そして、マスク領域Cには露光量1.78μC/cm2 で露光し、マスク領域Aには露光量1.80μC/cm2 で露光し、マスク領域Bには露光量1.79μC/cm2 で露光し、マスク領域Dには露光量1.78μC/cm2 で露光する。これにより、中央部のチップ20aには、マスク領域Cの相補パターンが転写される。
次に、図8(b)に示すように、ステージ6の制御により、中央のチップ20aにマスク10のマスク領域Bが位置するように被処理基板20をアライメントする。そして、マスク領域Bには露光量1.78μC/cm2 で露光し、マスク領域Aには露光量1.78μC/cm2 で露光し、マスク領域Cには露光量1.79μC/cm2 で露光し、マスク領域Dには露光量1.79μC/cm2 で露光する。これにより、中央部のチップ20aには、マスク領域Bの相補パターンが転写される。
以上のようにして、被処理基板20の中央のチップ20aのレジストに、マスク領域A〜Dの全ての相補パターンを最適露光量1.78で露光することができ、相補分割前のパターンが転写される。
上記では、1つのチップ20aへの相補露光について説明するため、マスク10に対する被処理基板20の位置を上記のように移動させたが、実際には以下に示すようにして、マスク10と被処理基板20との相対位置を順次移動させ、露光を行うというステップアンドリピート露光を行う。
図9(a)に示すように、例えば被処理基板20の左側の列について、下から上へステップアンドリピート露光を行う。チップ20aの1列分の露光が終了した後、図9(b)に示すように、次の列について、下から上へとステップアンドリピート露光を行う。以上の露光処理を、右側の列まで行うことにより、被処理基板20の全てのチップ20aに、マスク領域A〜Dを重ねて露光することができる。
上記の本実施形態に係る露光装置および露光方法は、半導体装置の製造における露光工程において好適に使用される。
半導体装置の製造においては、図10(a)に示すように、例えば、被処理基板20上にポリシリコンや酸化シリコン等の被加工層21を形成し、被加工層21上に電子線レジストからなるレジスト膜22を形成する。
次に、図10(b)に示すように、本実施形態に係る露光方法により、被処理基板20の帯電量に応じた最適露光量でマスク10に電子線を照射する。これにより、電子線遮蔽膜101に形成されたパターン103を通過した電子線EBにより被処理基板20のレジスト膜22が露光される。
次に、図10(c)に示すように、レジスト膜22を現像することにより、例えばレジスト膜22がポジ型であれば電子線照射部分が除去されて、レジスト膜22にパターンが形成される。
次に、図10(d)に示すように、レジスト膜22をマスクとして被加工層21をエッチングすることにより、被加工層21がパターン加工されて、回路パターンが形成される。回路パターンとしては、例えばゲートパターンやコンタクトホールパターンがある。
その後、図10(e)に示すように、レジスト膜22を除去することにより、被加工層21のパターン加工が終了する。
半導体装置の製造においては、上層をさらに堆積させて、上記の図10(a)〜図10(e)に示す工程を繰り返すことにより、集積回路が形成される。
本実施形態に係る半導体装置の製造方法は、全ての層の加工に電子線露光を用いる場合だけでなく、ゲート等のクリティカルな層のみを電子線露光を用いて加工して、他の層を光露光を用いて加工するといった、ミックスアンドマッチ露光により半導体装置を製造する場合も含む。
本実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、被処理基板20の帯電量に限らず、同一の被処理基板20内の異なるチップ20a間、異なる被処理基板20間で均一なサイズのレジストパターンを得ることができる。また、被処理基板20の帯電量によらず設計サイズ通りのレジストパターンを得ることができる。これにより、当該レジストパターンを用いて加工した被加工層のパターンの寸法精度を向上させることができる。被加工層のパターンの寸法精度が向上することにより、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
本発明は、上記の実施形態の説明に限定されない。例えば、本実施形態では等倍近接露光方式の電子線露光の例について説明したが、縮小投影露光方式の電子線露光にも適用可能である。また、電子線以外にも、イオンビーム等の荷電粒子線を用いた露光にも適用可能である。さらに、4つのマスク領域に相補パターンを形成したマスク以外にも、3つ以下あるいは5つ以上のマスク領域に相補パターンを形成したマスクにも同様に適用可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
1…露光室、2…ゲートバルブ、3…ロードロック室、4…制御手段、5…マスク保持部、6…ステージ、7…パレット、8…帯電量測定手段、10…マスク、12…電子銃、13…コンデンサレンズ、14…アパーチャ、15a,15b…主偏向器、16a,16b…副偏向器、20…被処理基板、20a…チップ、21…被加工層、22…レジスト膜、A,B,C,D…マスク領域、101…電子線遮蔽膜、102…梁部、103…パターン
Claims (10)
- 被処理基板に転写するためのパターンが形成されたマスクと、
前記被処理基板の帯電量を測定する帯電量測定手段と、
前記被処理基板の前記帯電量に応じて、前記被処理基板への前記荷電粒子線の露光量を決定する制御手段と、
決定された前記露光量により、前記マスクを介して前記被処理基板に荷電粒子線を照射する荷電粒子線照射手段と
を有する露光装置。 - 前記被処理基板は、複数の単位被露光領域を有し、
前記帯電量測定手段は、前記被処理基板の前記単位被露光領域毎の帯電量を測定し、
前記制御手段は、前記単位被露光領域毎の帯電量に応じて、前記荷電粒子線の露光量を前記単位被露光領域毎に決定し、
前記荷電粒子線手段は、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量により、前記単位被露光領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項1記載の露光装置。 - 前記マスクは、前記単位被露光領域に転写するパターンが相補分割された相補パターンが配置された複数のマスク領域を有し、
前記荷電粒子線照射手段は、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量に基づいて、前記マスク領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項2記載の露光装置。 - 前記マスクと、前記荷電粒子線照射手段とが設置された露光室と、
前記露光室への前記被処理基板の搬出入を行うための予備室とを有し、
前記帯電量測定手段は、前記予備室に設置されている
請求項1記載の露光装置。 - 被処理基板の帯電量を測定する工程と、
前記帯電量に応じて前記被処理基板への前記荷電粒子線の露光量を決定する工程と、
前記被処理基板に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、前記被処理基板に対して決定された前記露光量で荷電粒子線を照射する工程と
を有する露光方法。 - 前記被処理基板は、複数の単位被露光領域を有し、
前記被処理基板の帯電量を測定する工程において、前記被処理基板の前記単位被露光領域毎の帯電量を測定し、
前記露光量を決定する工程において、前記単位被露光領域毎の帯電量に応じて、前記荷電粒子線の露光量を前記単位被露光領域毎に決定し、
前記荷電粒子線を照射する工程において、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量により、前記単位被露光領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項5記載の露光方法。 - 前記マスクは、前記単位被露光領域に転写するパターンが相補分割された相補パターンが配置された複数のマスク領域を有し、
前記荷電粒子線を照射する工程において、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量に基づいて、前記マスク領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項6記載の露光方法。 - 被処理基板に被加工層を形成する工程と、前記被加工層上に感光膜を形成する工程と、前記感光膜に対してマスクのパターンを露光する露光工程と、パターン露光された感光膜をエッチングマスクとして前記被加工層をエッチングすることにより前記被加工層をパターン加工する工程とを繰り返すことにより、パターンの層を形成する半導体装置の製造方法であって、
前記露光工程は、
前記被処理基板の帯電量を測定する工程と、
前記帯電量に応じて前記感光膜への前記荷電粒子線の露光量を決定する工程と、
前記感光膜に転写するためのパターンが形成されたマスクを介して、前記感光膜に対して決定された前記露光量で荷電粒子線を照射する工程と
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記被処理基板は、複数の単位被露光領域を有し、
前記被処理基板の帯電量を測定する工程において、前記被処理基板の前記単位被露光領域毎の帯電量を測定し、
前記露光量を決定する工程において、前記単位被露光領域毎の帯電量に応じて、前記感光膜への前記荷電粒子線の露光量を前記単位被露光領域毎に決定し、
前記荷電粒子線を照射する工程において、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量により、前記感光膜に対して前記単位被露光領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項8記載の半導体装置の製造方法。 - 前記マスクは、前記感光膜に転写するパターンが相補分割された相補パターンが配置された複数のマスク領域を有し、
前記荷電粒子線を照射する工程において、決定された前記単位被露光領域毎の前記露光量に基づいて、前記マスク領域毎に露光量を変えて前記荷電粒子線を照射する
請求項9記載の半導体装置の製造方法。
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JP2004078567A JP2005268522A (ja) | 2004-03-18 | 2004-03-18 | 露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法 |
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