JP2005266684A - Method for manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic equipment - Google Patents

Method for manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing electrooptical devices in which a plurality of electrooptical devices can precisely and easily be cut together out of a pair of large plates so that mounting terminals are exposed and the yield can be improved when the plurality of electrooptical devices are manufactured by a large-place laminating system, and provide an electrooptical device and electronic equipment. <P>SOLUTION: The manufacturing method for electrooptical devices in which a plurality of element substrates having laminated mounting terminals 62 and a plurality of substrates facing the element substrates are parted from a couple of laminated substrates includes a stage of forming on one surface of a 2nd substrate 200 a plurality of nearly linear 3rd grooves 200x2 facing a 1st groove 100x formed on an element substrate and a stage of forming a plurality of nearly linear 4th grooves 2090x1 nearby the 3rd grooves 200x2 on one surface of the 2nd substrate 200, and is characterized in that the 4th grooves 200x1 are formed deeper than the 3rd groove 200x2. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関し、特に大板組立方式により製造する電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic device, and more particularly to a method for manufacturing an electro-optical device manufactured by a large plate assembly method, an electro-optical device, and an electronic device.

周知のように、電気光学装置、例えば液晶表示装置は、ガラス基板、石英基板等からなる2枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)等のスイッチング素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に共通電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。   2. Description of the Related Art As is well known, an electro-optical device, for example, a liquid crystal display device is configured by enclosing liquid crystal between two substrates made of a glass substrate, a quartz substrate, etc., and a thin film transistor (Thin Film Transistor) is provided on one substrate. (Hereinafter, referred to as TFT) switching elements and pixel electrodes are arranged in a matrix, a common electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are determined according to the image signal. By changing it, it is possible to display an image.

また、TFTを配置したTFT基板と、このTFT基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造される。TFT基板及び対向基板は、例えば大板のガラス又は石英基板上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって複数構成される。層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって、形成されるのである。   In addition, the TFT substrate on which the TFT is disposed and the counter substrate disposed to face the TFT substrate are manufactured separately. A plurality of TFT substrates and counter substrates are configured, for example, by laminating a semiconductor thin film, an insulating thin film or a conductive thin film having a predetermined pattern on a large glass or quartz substrate. Each layer is formed by repeating a film forming process and a photolithography process for various films.

尚、この際、TFT基板の表面端部寄りに、組立られた液晶表示装置とプロジェクタ等の電子機器とを接続するFPC(Flexible Printed Circuits)の一端が接続される実装用端子が実装される。   At this time, a mounting terminal to which one end of an FPC (Flexible Printed Circuits) that connects the assembled liquid crystal display device and an electronic device such as a projector is connected is mounted near the surface edge of the TFT substrate.

このようにして形成されたTFT基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされる。このパネル組立工程は、先ず、各基板の製造工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。   The TFT substrate and the counter substrate thus formed are bonded with high accuracy in the panel assembly process. In this panel assembling process, first, an alignment film for aligning liquid crystal molecules along the substrate surface is formed on the surfaces of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate manufacturing process, which are in contact with the liquid crystal layer. . This alignment film is formed, for example, by printing polyimide with a thickness of about several tens of nanometers.

その後、焼成を行い、さらに電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、液晶滴下方式であれば、大板上に複数構成された、例えばTFT基板上の周縁に、接着剤となるシール材を枠状に規定の高さ描画または印刷によりそれぞれ形成し、このシール材の内側の基板上の液晶充填領域に、規定量の液晶を滴下する。   Thereafter, baking is performed, and a rubbing process is performed to determine the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied. Next, in the case of a liquid crystal dropping method, a plurality of sealing materials that are formed on a large plate, for example, a peripheral edge on a TFT substrate, are each formed with a specified height drawing or printing in a frame shape on the periphery of the TFT substrate. A prescribed amount of liquid crystal is dropped onto a liquid crystal filling region on the substrate inside the material.

その後、大板組立方式の場合は、TFT基板が複数構成された大板を、対向基板が複数構成された大板に、TFT基板と対向基板が対向配置されるよう、シール材を介して真空下において貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。その後、貼り合わされた一対の大板から、対向配置されたTFT基板及び対向基板を組毎に分断することにより、液晶表示装置はそれぞれ製造されるのである。   After that, in the case of the large plate assembly method, a large plate having a plurality of TFT substrates is vacuum-sealed through a sealing material so that the TFT substrate and the counter substrate are opposed to a large plate having a plurality of counter substrates. At the bottom, they are bonded and cured by pressure bonding while aligning them. After that, the liquid crystal display device is manufactured by dividing the TFT substrate and the counter substrate that are arranged to face each other from the pair of large plates that are bonded together.

ここで、貼り合わされた一対の大板から、貼り合わされた一対のTFT基板及び対向基板を組毎に分断する際は、先ず、TFT基板が複数構成された大板及び対向基板が複数構成された大板の所望の切断位置に、例えばスクライブにより溝を形成する。   Here, when a pair of bonded TFT substrates and a counter substrate are divided into a pair from a pair of bonded large plates, first, a plurality of large substrates and a plurality of counter substrates configured with a plurality of TFT substrates are configured. A groove is formed at a desired cutting position of the large plate by, for example, scribing.

次いで、溝に対向する基板の位置、詳しくは、TFT基板が複数構成された大板に溝を形成した際は、該溝に対向する対向基板が複数構成された大板の位置を、または対向基板が複数構成された大板に溝を形成した際は、該溝に対向するTFT基板が複数構成された大板の位置を印圧することにより、溝に沿って、TFT基板及び対向基板の厚さ方向に基板を貫通するクラックを発生させ、該クラックを用いて分断する手法が周知である。   Next, the position of the substrate facing the groove, more specifically, when the groove is formed on the large plate including a plurality of TFT substrates, the position of the large plate including the plurality of counter substrates facing the groove, or facing the groove. When a groove is formed on a large plate composed of a plurality of substrates, the thickness of the TFT substrate and the counter substrate is formed along the groove by pressing the position of the large plate composed of a plurality of TFT substrates opposed to the groove. A technique for generating a crack penetrating the substrate in the vertical direction and dividing the crack using the crack is well known.

また、分断の際、分断に用いる過大な力により、TFT基板に形成されたドライバ回路を損傷させるのを防止するため、TFT基板が複数構成された大板に形成する溝を、対向基板が複数構成された大板に形成する溝よりも深く、具体的にはTFT基板の板厚に略等しい深さに形成し形成し、わずかな力により、TFT基板にクラックを発生させる技術も提案されている(例えば特許文献1参照)。
特開2001−83491号公報
Further, in order to prevent the driver circuit formed on the TFT substrate from being damaged by an excessive force used for the division at the time of the division, the counter substrate has a plurality of grooves formed on the large plate including a plurality of TFT substrates. A technology has also been proposed in which a groove is formed deeper than the groove formed in the large plate, specifically, approximately equal to the thickness of the TFT substrate, and a crack is generated in the TFT substrate with a slight force. (For example, refer to Patent Document 1).
JP 2001-83491 A

ところで、貼り合わされた一対の大板から、貼り合わされた一対のTFT基板及び対向基板を組毎に分断する際は、組立られた液晶表示装置とプロジェクタ等の電子機器とを接続するFPCの一端が接続される実装用端子が露出されるよう分断される。   By the way, when the paired TFT substrate and the counter substrate are separated from each other from the paired large plates, one end of the FPC that connects the assembled liquid crystal display device and an electronic device such as a projector is used. The mounting terminals to be connected are divided so as to be exposed.

この際、貼り合わされたTFT基板から実装用端子を露出させるため、実装端子を露出させる幅だけ対向基板を分断する必要があるが、実装端子を露出させる幅は狭いため、精度良く分断するのが難しいといった問題があった。   At this time, in order to expose the mounting terminals from the bonded TFT substrate, it is necessary to divide the counter substrate by a width that exposes the mounting terminals. However, since the width that exposes the mounting terminals is narrow, it is necessary to divide with high accuracy. There was a problem that was difficult.

また、貼り合わされた一対の大板から、貼り合わされた一対のTFT基板及び対向基板を組毎に分断し、その後実装端子を露出させるため、個々に対向基板を実装端子が露出させる幅だけ分断すると、非効率であり、生産性が低い。   Also, from the pair of large plates that are bonded together, the pair of bonded TFT substrates and the counter substrate are divided into sets, and then the mounting terminals are exposed, so that the counter substrate is individually divided by a width that exposes the mounting terminals. Inefficient and low productivity.

本発明は上記問題点に着目してなされたものであり、その目的は、大板貼り合わせ方式、により電気光学装置を複数製造する際、一対の大板から精度良く容易に、一括して実装用端子が露出されるよう電気光学装置が切断でき、歩留まりを向上させることができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供するにある。   The present invention has been made paying attention to the above-mentioned problems, and its purpose is to mount a plurality of electro-optical devices by a large plate bonding method, easily and collectively from a pair of large plates. An electro-optical device can be cut so that a terminal is exposed, and a method for manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus that can improve yield are provided.

上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置の製造方法は、実装用端子部を有する素子基板が複数構成された第1の基板と、前記素子基板に対向する対向基板が複数構成された第2の基板とを、貼り合わせた後、貼り合わされた一対の前記素子基板と前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置を複数個分断する多数個取りの電気光学装置の製造方法において、前記第1の基板の一方の面の前記複数の素子基板の境界に、略直線状の第1の溝と、該第1の溝と略直交する略直線状の第2の溝とを複数本形成する工程と、前記第2の基板の一方の面に、前記第1の基板に形成された前記第1の溝と対向する略直線状の第3の溝と、該第3の溝の近傍に位置する略直線状の第4の溝と、前記第3の溝及び前記第4の溝と略直交し、前記第2の溝と対向する第5の溝とを複数本形成する工程と、を有し、前記第4の溝は、前記第3の溝よりも深く形成されることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an electro-optical device manufacturing method according to the present invention includes a first substrate having a plurality of element substrates each having a mounting terminal portion, and a plurality of counter substrates facing the element substrate. A method of manufacturing a multi-piece electro-optical device, in which a plurality of electro-optical devices composed of a pair of the element substrate and the counter substrate are bonded to each other after the second substrate is bonded. In the present invention, a substantially linear first groove and a substantially linear second groove substantially orthogonal to the first groove are formed at the boundary of the plurality of element substrates on one surface of the first substrate. A step of forming a plurality of grooves, a substantially linear third groove facing the first groove formed on the first substrate on one surface of the second substrate, and the third groove; A substantially straight fourth groove located in the vicinity of the third groove, the third groove and the fourth groove, Includes a step of the fifth to plural form and grooves facing the second groove, the said fourth groove, characterized in that it is deeper than the third trench.

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第4の溝は近傍に位置する第3の溝よりも深く形成されることにより、貼り合わされた一対の基板から分断された、貼り合わされた一対の素子基板と対向基板から、素子基板に形成された実装用端子部を、精度良く容易に、一括して露出させることができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention, the fourth groove is formed deeper than the third groove located in the vicinity thereof, so that the pair of bonded substrates separated from the pair of bonded substrates. Since the mounting terminal portions formed on the element substrate can be accurately and easily exposed collectively from the element substrate and the counter substrate, the yield can be improved.

本発明に係る電気光学装置の製造方法は、実装用端子部を有する素子基板が複数構成された第1の基板と、前記素子基板に対向する対向基板が複数構成された第2の基板とを、貼り合わせた後、貼り合わされた一対の前記素子基板と前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置を複数個分断する多数個取りの電気光学装置の製造方法において、前記第1の基板の一方の面の前記複数の素子基板の境界に、略直線状の第1の溝と、該第1の溝と略直交する略直線状の第2の溝とが複数形成される工程と、前記第1の基板に、前記第1の溝及び前記第2の溝に沿って前記第1の基板を貫通するクラックを発生させる工程と、前記第2の基板の一方の面に、前記第1の基板に形成された前記第1の溝と対向する略直線状の第3の溝と、該第3の溝の近傍に位置する略直線状の第4の溝と、前記第3の溝及び前記第4の溝と略直交し、第1の基板に形成された前記第2の溝と対向する第5の溝とが、複数本形成される工程と、前記第2の基板に、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に沿って前記第2の基板を貫通するクラックを発生させる工程と、貼り合わされた一対の前記第1の基板及び第2の基板から、貼り合わされた一対の前記素子基板と、前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置が、複数個分断される工程と、を有し、前記第4の溝に沿ってクラックを発生させる工程は、前記第3の溝に沿ってクラックを発生させる工程よりも先に行われることを特徴とする。。   The electro-optical device manufacturing method according to the present invention includes a first substrate having a plurality of element substrates each having a mounting terminal portion, and a second substrate having a plurality of counter substrates facing the element substrate. In the manufacturing method of a multi-piece electro-optical device, after the bonding, the plurality of electro-optical devices constituted by the pair of the element substrate and the counter substrate which are bonded are divided into a plurality of pieces. Forming a plurality of substantially linear first grooves and a plurality of substantially linear second grooves substantially orthogonal to the first grooves at boundaries of the plurality of element substrates on one side of Generating a crack penetrating the first substrate along the first groove and the second groove on the first substrate; and forming the first substrate on one surface of the second substrate. A substantially linear third groove facing the first groove formed on the substrate, and the third groove A substantially linear fourth groove located in the vicinity of the first groove, a fifth groove that is substantially orthogonal to the third groove and the fourth groove, and that faces the second groove formed on the first substrate. A step of forming a plurality of grooves, and a crack penetrating the second substrate along the third groove, the fourth groove, and the fifth groove is generated in the second substrate. And a plurality of electro-optical devices including a pair of the element substrate and the counter substrate bonded to each other from the pair of the first substrate and the second substrate bonded to each other. And the step of generating a crack along the fourth groove is performed before the step of generating a crack along the third groove. .

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第4の溝に沿って発生させるクラックは、近傍に位置する第3の溝に沿って発生させるクラックよりも先に発生させることにより、貼り合わされた一対の基板から分断された、貼り合わされた一対の素子基板と対向基板から、素子基板に形成された実装用端子部を、精度良く容易に、一括して露出させることができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing an electro-optical device of the present invention, the cracks generated along the fourth groove are pasted together by being generated before the cracks generated along the third groove located in the vicinity. Yield is improved because the mounting terminal portions formed on the element substrate can be accurately and easily exposed collectively from the pair of bonded element substrates and the counter substrate separated from the pair of substrates. It has the effect that it can be made.

また、第4の溝は近接する第3の溝よりも深く形成されることにより、第4の溝及び第3の溝に沿ってクラックを発生させる際、クラックを発生させる順番を間違えることがないという効果を有する。   In addition, since the fourth groove is formed deeper than the adjacent third groove, the order in which the cracks are generated is not mistaken when the cracks are generated along the fourth groove and the third groove. It has the effect.

また、前記第1〜第5の溝は、スクライブまたはダイシングにより形成されることを特徴とする。   The first to fifth grooves are formed by scribing or dicing.

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第1〜第5の溝は、スクライブまたはダイシングにより形成されることにより、精度良く溝を形成することができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing an electro-optical device of the present invention, the first to fifth grooves can be formed with high accuracy by being formed by scribing or dicing, so that the yield can be improved. Has an effect.

さらに、前記第4の溝は、前記第3の溝に対して一定の幅を有して形成されることを特徴とする。   Furthermore, the fourth groove is formed to have a certain width with respect to the third groove.

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第4の溝は、第3の溝に対して一定の幅を有して形成されることにより、素子基板に形成された実装用端子部を、確実に、一括して露出させることができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the electro-optical device manufacturing method of the present invention, the fourth groove is formed with a certain width with respect to the third groove, so that the mounting terminal portion formed on the element substrate is formed. Since it can be surely exposed in a lump, the yield can be improved.

また、前記素子基板の実装用端子部は、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に沿って第2の基板を貫通するクラックを発生させることにより、貼り合わされた一対の素子基板及び該素子基板に対向する対向基板から露出されることを特徴とする。   Further, the mounting terminal portion of the element substrate is bonded together by generating a crack penetrating the second substrate along the third groove, the fourth groove, and the fifth groove. It is exposed from the element substrate and the counter substrate facing the element substrate.

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第3の溝、第4の溝及び第5の溝に沿って対向基板を貫通するクラックを発生させることにより、素子基板に形成された実装用端子部を、精度良く容易に、一括して露出させることができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing an electro-optical device of the present invention, the cracks penetrating the counter substrate along the third groove, the fourth groove, and the fifth groove are generated, so that the mounting for the element substrate is formed. Since the terminal portions can be easily and accurately exposed at a time, the yield can be improved.

さらに、前記第1の基板のクラックは、前記第1の溝及び前記第2の溝に対向する前記第2の基板の位置を印圧することにより発生させることを特徴とする。また、前記第2の基板のクラックは、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に対向する前記第1の基板の位置を印圧することにより発生させることを特徴とする。   Furthermore, the crack of the first substrate is generated by applying a pressure to the position of the second substrate facing the first groove and the second groove. In addition, the crack of the second substrate is generated by applying a pressure to the position of the first substrate facing the third groove, the fourth groove, and the fifth groove. .

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、貼り合わされた一対の素子基板及び対向基板を貼り合わされた一対の基板から分断する際、基板に形成された溝に対向する位置の基板を印圧することにより、精度良くクラックを発生させることができることから歩留まりを向上させることができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing an electro-optical device of the present invention, when the pair of bonded element substrates and the counter substrate are separated from the pair of bonded substrates, the substrate at a position facing the groove formed in the substrate is printed. As a result, it is possible to generate cracks with high accuracy, so that the yield can be improved.

本発明に係る電気光学装置は、請求項1〜請求項7の製造方法を用いて製造されたことを特徴とし、また、前記素子基板に対向する対向基板の一方の端部は、他方の端部よりも深く面取りされていることを特徴とし、さらに、前記素子基板に対向する前記対向基板の一方の端部に形成された面取り部は、前記第4の溝の一部から構成され、他方の端部に形成された面取り部は、前記第3の溝の一部から構成されたことを特徴とする。   The electro-optical device according to the present invention is manufactured using the manufacturing method according to any one of claims 1 to 7, and one end of the counter substrate facing the element substrate is the other end. The chamfered portion formed at one end portion of the counter substrate facing the element substrate is constituted by a part of the fourth groove, and is chamfered deeper than the portion. The chamfered portion formed at the end of the third portion is formed of a part of the third groove.

本発明の電気光学装置によれば、一対の基板から精度良く容易に素子基板の実装端子部が露出するよう製造された電気光学装置を提供することができるという効果を有する。   According to the electro-optical device of the present invention, there is an effect that it is possible to provide an electro-optical device manufactured so that the mounting terminal portion of the element substrate can be easily and accurately exposed from the pair of substrates.

本発明に係る電子機器は、請求項8〜10の電気光学装置を用いたことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention uses the electro-optical device according to claims 8 to 10.

本発明の電子機器によれば、一対の基板から精度良く容易に素子基板の実装端子部が露出するよう製造された電気光学装置を用いた電子機器を提供することができるという効果を有する。   According to the electronic apparatus of the present invention, it is possible to provide an electronic apparatus using the electro-optical device manufactured so that the mounting terminal portion of the element substrate can be easily and accurately exposed from the pair of substrates.

以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態は、電気光学装置は、液晶表示装置を例に挙げて説明する。よって、液晶表示装置に用いる一対の基板の内、一方の基板は、素子基板であるTFT基板を、また他方の基板は、TFT基板に対向する基板(以下、対向基板と称す)を例に挙げて説明する。また、液晶滴下方式により製造された液晶表示装置を例に挙げて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the electro-optical device will be described using a liquid crystal display device as an example. Therefore, of the pair of substrates used in the liquid crystal display device, one substrate is a TFT substrate which is an element substrate, and the other substrate is a substrate facing the TFT substrate (hereinafter referred to as a counter substrate). I will explain. Further, a liquid crystal display device manufactured by a liquid crystal dropping method will be described as an example.

先ず、図1、図2を参照して、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の構成について説明する。
図1は、液晶表示装置のTFT基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図2は、TFT基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶表示装置を、図1中のII−II線に沿って切断した横断面図である。
First, the configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a plan view of a TFT substrate of a liquid crystal display device as viewed from the counter substrate side together with the components formed thereon, and FIG. 2 is an assembly process for sealing the liquid crystal by bonding the TFT substrate and the counter substrate. It is the cross-sectional view which cut | disconnected the liquid crystal display device after completion | finish along the II-II line | wire in FIG.

同図に示すように、液晶表示装置500は、TFT基板10とそれに対向して設けられる対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。TFT基板10上に画素を構成する画素電極9a等がマトリクス状に配置される。   As shown in the figure, the liquid crystal display device 500 is configured by enclosing a liquid crystal 50 between a TFT substrate 10 and a counter substrate 20 provided facing the TFT substrate 10. Pixel electrodes 9a and the like constituting pixels are arranged in a matrix on the TFT substrate 10.

対向基板20に表示領域を区画する額縁としての遮光膜(BM)42が設けられている。遮光膜42は、例えば遮光性材料によって形成される。   A light shielding film (BM) 42 is provided on the counter substrate 20 as a frame for partitioning the display area. The light shielding film 42 is made of, for example, a light shielding material.

遮光膜42の外側の領域に、液晶を封入するシール材41がTFT基板10と対向基板20との間に形成されている。シール材41は、例えば対向基板20の輪郭形状に略一致するように配置され、TFT基板10と対向基板20とを相互に固着する。   A sealing material 41 that encloses liquid crystal is formed between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 in a region outside the light shielding film 42. The sealing material 41 is disposed, for example, so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 to each other.

TFT基板10のシール材41の外側の領域に、データ線駆動回路61、及び組立られた液晶表示装置500とプロジェクタ等の電子機器とを接続するFPC(いずれも図示されず)の一端が接続される実装用端子部62がTFT基板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する2辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられている。   One end of the data line driving circuit 61 and an FPC (none of which is shown) for connecting the assembled liquid crystal display device 500 and an electronic device such as a projector is connected to the region outside the sealing material 41 of the TFT substrate 10. A mounting terminal portion 62 is provided along one side of the TFT substrate 10, and a scanning line driving circuit 63 is provided along two sides adjacent to the one side.

TFT基板10のデータ線駆動回路61及び実装用端子部62が設けられた一方の端部、及び一方の端部と対向する他方の端部に、図2に示すように、TFT基板10に形成された、後述する第1の溝100x(図5参照)の一部から構成された面取り部10aが形成されている。   As shown in FIG. 2, the TFT substrate 10 is formed on one end portion of the TFT substrate 10 where the data line driving circuit 61 and the mounting terminal portion 62 are provided and on the other end portion facing the one end portion. A chamfered portion 10a constituted by a part of a first groove 100x (see FIG. 5) described later is formed.

対向基板20のデータ線駆動回路61及び実装用端子部62寄りの一方の端部に、後述する第4の溝200x1(図6参照)の一部から構成された面取り部20bが形成されている。また、対向基板20の一方の端部と対向する他方の端部に、後述する第3の溝200x2(図6参照)の一部から構成された面取り部20aが形成されている。   At one end of the counter substrate 20 near the data line driving circuit 61 and the mounting terminal portion 62, a chamfered portion 20b composed of a part of a fourth groove 200x1 (see FIG. 6) described later is formed. . In addition, a chamfered portion 20a constituted by a part of a third groove 200x2 (see FIG. 6) described later is formed at the other end facing the one end of the counter substrate 20.

尚、上述した面取り部20bは、面取り部20a及び面取り部10aよりも深く面取りされている。   The chamfered portion 20b described above is chamfered deeper than the chamfered portion 20a and the chamfered portion 10a.

次に、このように構成される液晶表示装置500の製造方法について、図3〜図6を用いて説明する。尚、本実施の形態における液晶表示装置は、複数個のTFT基板10が構成された第1の基板である一方の大板と、TFT基板と同数個の対向基板20が構成された第2の基板である他方の大板とが対向配置するよう貼り合わせた後、対向配置されたTFT基板10及び対向基板20を分断することにより液晶表示装置500を複数個製造する、所謂大板組立方式により製造される。   Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device 500 configured as described above will be described with reference to FIGS. In the liquid crystal display device according to the present embodiment, one large plate, which is a first substrate on which a plurality of TFT substrates 10 are configured, and a second substrate on which the same number of counter substrates 20 as the TFT substrates are configured. After laminating the other large plate as a substrate so as to face each other, a plurality of liquid crystal display devices 500 are manufactured by dividing the oppositely arranged TFT substrate 10 and the opposite substrate 20 by a so-called large plate assembly method. Manufactured.

図3、図4は、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法を示す工程図、図5は、複数のTFT基板が形成された一方の大板に切断用の溝を形成したことを示す平面図、図6は、複数の対向基板が形成された他方の大板に切断用の溝を形成したことを示す平面図である。   3 and 4 are process diagrams showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram illustrating a method for forming a cutting groove on one large plate on which a plurality of TFT substrates are formed. FIG. 6 is a plan view showing that a cutting groove is formed on the other large plate on which a plurality of counter substrates are formed.

図3(a)に示すように、先ず、既知の成膜工程により、画素電極9a、実装用端子部62(いずれも図2参照)等の構成要素が表面に形成されたTFT基板10が複数形成された一方の大板100と、既知の成膜工程により図示しない画素電極等の構成要素が表面の全面に形成された他方の大板200とを、互いの表面が向き合うよう、対向基板20の輪郭形状に略一致するように配置されたシール材41を介して貼り合わされる。   As shown in FIG. 3A, first, a plurality of TFT substrates 10 each having a component such as a pixel electrode 9a and a mounting terminal 62 (see FIG. 2) formed on the surface are formed by a known film forming process. The counter substrate 20 is formed so that the surface of the one large plate 100 and the other large plate 200 on which components such as pixel electrodes (not shown) are formed by a known film formation process face each other. Are pasted together through a sealing material 41 arranged so as to substantially match the contour shape of.

尚、大板100,200は、図5、図6に示すように、例えば円形状を有しており、透過型または反射型の石英、ガラス、シリコンウエハ等から構成されている。また、大板100,200の板厚は、例えば2.5mm以下となるよう形成されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the large plates 100 and 200 have, for example, a circular shape, and are composed of transmissive or reflective quartz, glass, silicon wafer, or the like. Moreover, the plate | board thickness of the large boards 100 and 200 is formed so that it may be 2.5 mm or less, for example.

次に、図3(b)及び図5に示すように、貼り合わされた一対の大板100,200の内、一方の面である大板100の表面と反対側の面(以下、裏面と称す)のTFT基板10の境界に、図5中x方向に略直線状の第1の溝100xを、例えば超硬合金で構成されたスクライブカッタ70を用いた既知のスクライブにより複数本形成する。   Next, as shown in FIG. 3B and FIG. 5, the surface opposite to the surface of the large plate 100, which is one surface, of the pair of large plates 100 and 200 (hereinafter referred to as the back surface). 5), a plurality of first grooves 100x substantially linear in the x direction in FIG. 5 are formed by known scribe using a scribe cutter 70 made of cemented carbide, for example.

また、この際、大板100の裏面のTFT基板10のTFT素子の境界に、図5中y方向に第1の溝100xと略直交する略直線状の第2の溝100yを、既知のスクライブにより複数本形成する。   At this time, a substantially linear second groove 100y substantially perpendicular to the first groove 100x in the y direction in FIG. 5 is formed at the boundary of the TFT element of the TFT substrate 10 on the back surface of the large plate 100 with a known scribe. To form a plurality.

その後、第1の溝100x及び第2の溝100yを形成する際に発生し、大板100の裏面に付着した、塵埃(以下、カレットと称す)を、例えばCO2によりクリーニングする。   Thereafter, dust (hereinafter referred to as cullet) generated when forming the first groove 100x and the second groove 100y and adhering to the back surface of the large plate 100 is cleaned by, for example, CO2.

次いで、図3(c)に示すように、貼り合わされた一対の大板100,200の内、一方の面である大板200の表面と反対側の面(以下、裏面と称す)の大板100に形成された第1の溝100xに対向する略直線状の位置200aを、例えばブレード80により印加する。また、この際、大板200の大板100に形成された第2の溝100yに対向する略直線状の位置も、例えばブレード80により印加する。   Next, as shown in FIG. 3C, the large plate on the surface opposite to the surface of the large plate 200, which is one of the paired large plates 100 and 200 (hereinafter, referred to as the back surface). A substantially linear position 200 a facing the first groove 100 x formed in 100 is applied by, for example, the blade 80. At this time, a substantially linear position facing the second groove 100y formed on the large plate 100 of the large plate 200 is also applied by the blade 80, for example.

このことにより、大板100の第1の溝100x及び第2の溝100yに沿って、大板100の板厚方向に該大板100を貫通するまで進行する垂直なクラック100kが発生する。   As a result, a vertical crack 100k that progresses through the large plate 100 in the thickness direction of the large plate 100 along the first groove 100x and the second groove 100y of the large plate 100 is generated.

次いで、図3(d)及び図6に示すように、貼り合わされた一対の大板100,200の内、大板200の裏面の第1の溝100xに対向する略直線状の位置200aに、図6中x方向に略直線状の第3の溝200x2を、例えばスクライブカッタ70を用いた既知のスクライブにより複数本形成する。   Next, as shown in FIG. 3D and FIG. 6, of the pair of large plates 100, 200, a substantially linear position 200 a facing the first groove 100 x on the back surface of the large plate 200, In FIG. 6, a plurality of third grooves 200 x 2 that are substantially linear in the x direction are formed by known scribe using, for example, a scribe cutter 70.

また、この際、大板200の裏面の第3の溝200x2の近傍位置、例えば第3の溝200x2から一定の幅(2mm以下)離れた略直線状の位置200bに、第3の溝200x2よりも深く、図6中x方向に略直線状の第4の溝200x1を既知のスクライブにより複数本形成する。その割合は、例えば、第3の溝深さを1とすると第4の溝深さを1.1から1.4の範囲で設ける。尚、第3の溝200x2,第4の溝200x1はどちらを先に形成しても良い。   At this time, the third groove 200x2 is positioned at a position near the third groove 200x2 on the back surface of the large plate 200, for example, at a substantially linear position 200b apart from the third groove 200x2 by a certain width (2 mm or less). Further, a plurality of substantially straight fourth grooves 200x1 in the x direction in FIG. 6 are formed by known scribe. For example, when the third groove depth is 1, the fourth groove depth is provided in the range of 1.1 to 1.4. Note that either the third groove 200x2 or the fourth groove 200x1 may be formed first.

さらに、大板200の裏面に、第3の溝200x2及び第4の溝200x1と略直交し、大板100に形成された第2の溝100y(図5参照)と対向する略直線状の第5の溝200yを、図6中y方向に既知のスクライブにより複数本形成する。   Further, the back surface of the large plate 200 has a substantially linear first shape that is substantially orthogonal to the third groove 200x2 and the fourth groove 200x1 and faces the second groove 100y (see FIG. 5) formed in the large plate 100. A plurality of five grooves 200y are formed by known scribes in the y direction in FIG.

その後、第3の溝200x2、第4の溝200x1及び第5の溝200yを形成する際に発生し、大板200の裏面に付着したカレットを、例えばCO2によりクリーニングする。   Thereafter, the cullet generated when the third groove 200x2, the fourth groove 200x1, and the fifth groove 200y are formed and adhered to the back surface of the large plate 200 is cleaned by, for example, CO2.

次いで、図4(e)に示すように、貼り合わされた一対の大板100,200の内、大板100の裏面の大板200に形成された第4の溝200x1に対向する略直線状の位置100bを、例えばブレード80により印加する。このことにより、大板200の第4の溝200x1に沿って、大板200の板厚方向に該大板200を貫通するまで進行する垂直なクラック200k1が発生する。   Next, as shown in FIG. 4 (e), of the pair of large plates 100, 200, a substantially linear shape facing the fourth groove 200x1 formed in the large plate 200 on the back surface of the large plate 100. The position 100b is applied by the blade 80, for example. As a result, a vertical crack 200k1 is generated that proceeds along the fourth groove 200x1 of the large plate 200 in the thickness direction of the large plate 200 until it penetrates the large plate 200.

尚、第4の溝200x1は、第3の溝200x2よりも深く形成されているため、小さな印圧により精度良く垂直なクラックを発生させることができる。よって、対向基板20のデータ線駆動回路61及び実装用端子部62寄りのクラック200k1から構成された端部は、精度良く垂直に形成される。   Since the fourth groove 200x1 is formed deeper than the third groove 200x2, a vertical crack can be generated with high accuracy by a small printing pressure. Therefore, the end portion composed of the crack 200k1 near the data line driving circuit 61 and the mounting terminal portion 62 of the counter substrate 20 is formed vertically with high accuracy.

また、第3の溝200x2は、第4の溝200x1よりも浅く形成されているため、第4の溝200x1に沿ってクラック200k1を形成させた際、不用意に第4の溝200x1に近接して形成された第3の溝200x2に沿って、後述する垂直でないクラック200k2が発生してしまうことがない。   In addition, since the third groove 200x2 is formed shallower than the fourth groove 200x1, when the crack 200k1 is formed along the fourth groove 200x1, the third groove 200x2 is inadvertently adjacent to the fourth groove 200x1. A non-vertical crack 200k2, which will be described later, does not occur along the third groove 200x2 formed in this way.

次いで、図4(f)に示すように、貼り合わされた一対の大板100,200の内、大板100の裏面の大板200に形成された第3の溝200x2に対向する略直線状の位置100aを、例えばブレード80により印加する。このことにより、大板200の第3の溝200x2に沿って、大板200の板厚方向に該大板200を貫通するまで進行する垂直なクラック200k2が発生する。   Next, as shown in FIG. 4 (f), of the pair of large plates 100, 200, the substantially linear shape facing the third groove 200 x 2 formed in the large plate 200 on the back surface of the large plate 100. The position 100a is applied by the blade 80, for example. As a result, a vertical crack 200k2 is generated that proceeds along the third groove 200x2 of the large plate 200 in the thickness direction of the large plate 200 until it penetrates the large plate 200.

尚、大板100の裏面100aを裏面100bよりも後に印圧するのは、第4の溝200x1は、第3の溝200x2よりも深く形成されているため、第3の溝200x2に沿って垂直なクラック200k2を発生させるには、第4の溝200x1に沿って垂直なクラック200k1を発生させるよりも大きな力が必要である。   The reason why the back surface 100a of the large plate 100 is printed after the back surface 100b is that the fourth groove 200x1 is formed deeper than the third groove 200x2, and thus is perpendicular to the third groove 200x2. In order to generate the crack 200k2, a larger force is required than to generate the vertical crack 200k1 along the fourth groove 200x1.

よって、裏面100aを先に印圧してしまうと、第4の溝200x1と、第3の溝200x2とは、近接して形成されているため、第4の溝200x1に沿って発生するクラック200k1が垂直な形状に発生しない事があり、クラックが発生しても、一対の大板100,200から一対のTFT基板10及び対向基板20が分離させることができない場合があるからである。   Therefore, if the back surface 100a is pressed first, the fourth groove 200x1 and the third groove 200x2 are formed close to each other, so that the crack 200k1 generated along the fourth groove 200x1 is generated. This is because the vertical shape may not occur, and even if a crack occurs, the pair of TFT substrates 10 and the counter substrate 20 may not be separated from the pair of large plates 100 and 200.

さらに、大板100の大板200の裏面に形成された第5の溝200yに対向する略直線状の位置も、例えばブレード80により印加する。このことにより、大板200の第5の溝200yに沿って、大板200の板厚方向に該大板200を貫通するまで進行するクラックが発生する。   Furthermore, a substantially linear position facing the fifth groove 200y formed on the back surface of the large plate 200 of the large plate 100 is also applied by the blade 80, for example. As a result, a crack that progresses along the fifth groove 200y of the large plate 200 until it penetrates the large plate 200 in the thickness direction of the large plate 200 is generated.

尚、大板100の第5の溝200yに対向する略直線状の位置を、大板100の裏面100aを裏面100bよりも後に印圧するのは、大板200のy方向に該大板200を貫通するクラックを先に発生させてしまうと、第4の溝200x1に沿って発生するクラック200k1及び第3の溝200x2に沿って発生するクラック200k2のクラックの進行が途中で止まってしまうためである。   It should be noted that pressing the rear surface 100a of the large plate 100 after the rear surface 100b at a substantially linear position facing the fifth groove 200y of the large plate 100 causes the large plate 200 to be pressed in the y direction of the large plate 200. This is because if the penetrating crack is generated first, the progress of the crack 200k1 generated along the fourth groove 200x1 and the crack 200k2 generated along the third groove 200x2 stops midway. .

その後、第3の溝200x2、第4の溝200x1及び第5の溝200yに沿ってクラックを形成する際に発生し、大板100の裏面に付着したカレットを、例えばCO2によりクリーニングする。   Thereafter, the cullet generated when the crack is formed along the third groove 200x2, the fourth groove 200x1, and the fifth groove 200y and adhered to the back surface of the large plate 100 is cleaned by, for example, CO2.

最後に、一対の大板100,200から貼り合わされた一対のTFT基板10及び対向基板20からなる液晶表示装置500を、図4(g)に示すように分割する。その結果、大板200から高さ2.5mm以下、幅2mm以下の余剰物20sが発生する。このようにして液晶表示装置500は製造される。   Finally, the liquid crystal display device 500 including the pair of TFT substrates 10 and the counter substrate 20 bonded together from the pair of large plates 100 and 200 is divided as shown in FIG. As a result, a surplus 20s having a height of 2.5 mm or less and a width of 2 mm or less is generated from the large plate 200. In this way, the liquid crystal display device 500 is manufactured.

このようにして製造された液晶表示装置500から、TFT基板10に形成された実装用端子部62が露出される。また、液晶表示装置500のTFT基板10のデータ線駆動回路61及び実装用端子部62が設けられた一方の端部、及び一方の端部と対向する他方の端部の裏面側に、TFT基板10に形成された、第1の溝100xの一部から構成された面取り部10aが形成される。   The mounting terminal portion 62 formed on the TFT substrate 10 is exposed from the liquid crystal display device 500 thus manufactured. In addition, the TFT substrate is disposed on one side of the TFT substrate 10 of the liquid crystal display device 500 provided with the data line driving circuit 61 and the mounting terminal portion 62 and on the back side of the other end facing the one end. The chamfered portion 10a formed from a part of the first groove 100x formed in the portion 10 is formed.

また、対向基板20のデータ線駆動回路61及び実装用端子部62寄りの一方の端部の裏面側に、第3の溝200x1の一部から構成された面取り部20aよりも深く面取りされた面取り部20bが形成される。さらに、対向基板20の一方の端部と対向する他方の端部の裏面側に、第4の溝200x2の一部から構成された面取り部20bよりも浅く面取りされた面取り部20aが形成される。   Further, the chamfering chamfered deeper than the chamfered portion 20a formed of a part of the third groove 200x1 on the back surface side of one end portion of the counter substrate 20 near the data line driving circuit 61 and the mounting terminal portion 62. Part 20b is formed. Further, a chamfered portion 20a that is chamfered shallower than the chamfered portion 20b formed of a part of the fourth groove 200x2 is formed on the back surface side of the other end portion facing the one end portion of the counter substrate 20. .

このように、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法においては、大板100に複数構成されたTFT基板10に形成された実装用端子部62を露出させるために、大板200に形成される、該大板200を貫通するクラック200k1を発生させるための第4の溝200x1を、同じく実装用端子部62を露出させるために、大板200を貫通するクラック200k2を発生させるための第3の溝200x2よりも深く形成した。   As described above, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, the large board 100 is exposed in order to expose the mounting terminal portions 62 formed on the TFT substrate 10 formed in a plurality on the large board 100. In order to expose the mounting terminal portion 62, the fourth groove 200x1 that is formed in the 200 for generating the crack 200k1 that penetrates the large plate 200 is also generated to generate the crack 200k2 that penetrates the large plate 200. Therefore, it was formed deeper than the third groove 200x2.

また、大板200に第4の溝200x1に沿って及び第3の溝200x2に沿ってクラックを発生させる際、第4の溝200x1に沿うクラック200k1を第3の溝200x2に沿うクラック200k2よりも先に発生させた。   Further, when the crack is generated in the large plate 200 along the fourth groove 200x1 and along the third groove 200x2, the crack 200k1 along the fourth groove 200x1 is made to be more cracked than the crack 200k2 along the third groove 200x2. It was generated first.

このことにより、第4の溝200x1に沿って、小さな印圧により精度良く垂直なクラック200k1を発生させることができる。また、第3の溝200x2は、第4の溝200x1よりも浅く形成されているため、第4の溝200x1に沿ってクラック200k1をクラック200k2よりも先に発生させた際、不用意に第4の溝200x1に近接する第3の溝200x2に沿って、クラック200k2が発生してしまうことがない。   As a result, the vertical crack 200k1 can be generated with high accuracy by a small printing pressure along the fourth groove 200x1. In addition, since the third groove 200x2 is formed shallower than the fourth groove 200x1, when the crack 200k1 is generated along the fourth groove 200x1 before the crack 200k2, the fourth groove 200x2 is inadvertently formed. The crack 200k2 does not occur along the third groove 200x2 adjacent to the groove 200x1.

また、クラック200k2は、第4の溝200x1に沿って、クラック200k1を発生させた後、第3の溝200x2に沿って発生させるため、精度良く垂直なクラック200k2を発生させることができる。尚この際、第4の溝200x1に沿うクラック200k1は先に発生しているため、第3の溝200x2に沿ってクラック200k2を発生させた際、第4の溝200x1に沿うクラック200k1に影響及ぼすことはないことは云うまでもない。   Further, since the crack 200k2 is generated along the third groove 200x2 after the crack 200k1 is generated along the fourth groove 200x1, the vertical crack 200k2 can be generated with high accuracy. At this time, since the crack 200k1 along the fourth groove 200x1 has been generated first, when the crack 200k2 is generated along the third groove 200x2, the crack 200k1 along the fourth groove 200x1 is affected. It goes without saying that there is nothing.

よって、一対の大板100,200から分断された、貼り合わされた一対のTFT基板10と対向基板20から、TFT基板10に形成された実装用端子部62を、精度良く容易に、また一括して露出させることができることため、歩留まりを向上させることができる。   Therefore, the mounting terminal portion 62 formed on the TFT substrate 10 can be easily and collectively integrated from the pair of TFT substrates 10 and the counter substrate 20 separated from the pair of large plates 100 and 200. Therefore, the yield can be improved.

また、第4の溝200x1は近接する第3の溝200x2よりも深く形成されることにより、第4の溝200x1及び第3の溝200x2に沿ってクラックを発生させる際、クラックを発生させる順番を間違えることがない。   Further, the fourth groove 200x1 is formed deeper than the adjacent third groove 200x2, so that when the cracks are generated along the fourth groove 200x1 and the third groove 200x2, the order in which the cracks are generated is determined. There is no mistake.

尚、本実施の形態においては、大板100に第1の溝100x及び第2の溝100yをスクライブにより形成し、大板200に第3の溝200x2、第4の溝200x1及び第5の溝200yをスクライブにより形成する両面スクライブ方式を用いてそれぞれ溝を形成する例を示したが、これに限らず、大板100に形成する第1の溝100x及び第2の溝100yのみをダイシングにより形成する、または大板200に形成する第3の溝200x2、第4の溝200x1及び第5の溝200yのみをダイシングにより形成する、片面ダイシング方式によりそれぞれ溝を形成しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, the first groove 100x and the second groove 100y are formed on the large plate 100 by scribing, and the third groove 200x2, the fourth groove 200x1, and the fifth groove are formed on the large plate 200. Although the example in which the grooves are formed using the double-sided scribing method in which 200y is formed by scribing is shown, the present invention is not limited thereto, and only the first groove 100x and the second groove 100y formed in the large plate 100 are formed by dicing. Or the third groove 200x2, the fourth groove 200x1 and the fifth groove 200y formed on the large plate 200 are formed by dicing, or each groove is formed by the single-sided dicing method as in the present embodiment. The effect of can be obtained.

また、大板100に第1の溝100x及び第2の溝100yをダイシングにより形成し、大板200に第3の溝200x2、第4の溝200x1及び第5の溝200yをダイシングにより形成する両面ダイシング方式を用いてそれぞれ溝を形成しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   Further, the first groove 100x and the second groove 100y are formed on the large plate 100 by dicing, and the third groove 200x2, the fourth groove 200x1, and the fifth groove 200y are formed on the large plate 200 by dicing. Even if the grooves are formed by using the dicing method, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

さらに、液晶滴下方式により製造される液晶表示装置を例に挙げて説明したが、本発明は、シール材41に切り欠きを設け、該切り欠きから液晶を注入し、注入後、前記切り欠きを塞ぐ液晶注入方式により製造される液晶表示装置に適用してもよい。   Furthermore, although the liquid crystal display device manufactured by the liquid crystal dropping method has been described as an example, the present invention provides a notch in the sealing material 41, injects liquid crystal from the notch, and after the injection, the notch is removed. You may apply to the liquid crystal display device manufactured by the liquid crystal injection system which closes.

また、電気光学装置は、液晶表示装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、FED(Field Emission Display)装置、SED(Surface-Conduction Electron-Emitter Display)装置、LED(発光ダイオード)表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管または液晶シャッター等を用いた小型テレビを用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。   Further, the electro-optical device has been described by taking a liquid crystal display device as an example, but the present invention is not limited to this, and the electroluminescence device, in particular, an organic electroluminescence device, an inorganic electroluminescence device, etc., a plasma display device, FED (Field Emission Display) devices, SED (Surface-Conduction Electron-Emitter Display) devices, LED (Light Emitting Diode) display devices, electrophoretic display devices, devices using thin televisions such as thin cathode ray tubes or liquid crystal shutters, etc. It can be applied to various electro-optical devices.

また、本発明の電気光学装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶表示装置は、TFT(薄膜トランジスタ)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、TFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールにも適用することができる。   Further, the electro-optical device of the present invention is not limited to the illustrated examples described above, and it is needless to say that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the above-described liquid crystal display device has been described by taking an active matrix type liquid crystal display module using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) as an example. The present invention can also be applied to an active matrix type liquid crystal display module using active elements such as the above.

さらに、本発明に係る液晶表示装置が用いられる電子機器としては、例えば、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等、電気光学装置である液晶表示モジュールを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器においても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。   Furthermore, examples of the electronic device in which the liquid crystal display device according to the present invention is used include, for example, a mobile phone, a portable information device called PDA (Personal Digital Assistants), a portable personal computer, a personal computer, a digital still camera, and an in-vehicle monitor. , Digital video cameras, LCD TVs, viewfinder type, monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, POS terminals, etc. A device using a display module can be given. Therefore, it goes without saying that the present invention can also be applied to these electronic devices.

本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置のTFT基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。The top view which looked at the TFT substrate of the liquid crystal display device which shows one embodiment of this invention from the counter substrate side with each component formed on it. 図1中のII−II線に沿って切断した断面図。Sectional drawing cut | disconnected along the II-II line | wire in FIG. 本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法を示す工程図。FIG. 6 is a process diagram illustrating a method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法を示す工程図(続き)。FIG. 4 is a process diagram (continuation) illustrating the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図3(b)工程を示す一対の大板を複数のTFT基板が構成された大板からみた平面図。FIG. 3B is a plan view of the pair of large plates showing the step as viewed from the large plate on which a plurality of TFT substrates are formed. 図3(d)工程を示す一対の大板を複数の対向基板が構成された大板からみた平面図。FIG. 3D is a plan view of a pair of large plates as viewed from the large plate on which a plurality of counter substrates are configured.

符号の説明Explanation of symbols

10…TFT基板、20…対向基板、20a…他方の面取り部、20b…一方の面取り部、62…実装用端子部、100…一方の大板、100x…第1の溝、100y…第2の溝、100k…クラック、200…他方の大板、200x1…第4の溝、200x2…第3の溝、200y…第5の溝、200k1,200k2,200k3…クラック、500…電気光学装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT substrate, 20 ... Counter substrate, 20a ... The other chamfer part, 20b ... One chamfer part, 62 ... Mounting terminal part, 100 ... One large board, 100x ... 1st groove | channel, 100y ... 2nd Groove, 100k ... crack, 200 ... other large plate, 200x1 ... fourth groove, 200x2, ... third groove, 200y ... fifth groove, 200k1, 200k2, 200k3 ... crack, 500 ... electro-optical device.

Claims (11)

実装用端子部を有する素子基板が複数構成された第1の基板と、前記素子基板に対向する対向基板が複数構成された第2の基板とを、貼り合わせた後、貼り合わされた一対の前記素子基板と前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置を複数個分断する多数個取りの電気光学装置の製造方法において、
前記第1の基板の一方の面の前記複数の素子基板の境界に、略直線状の第1の溝と、該第1の溝と略直交する略直線状の第2の溝とを複数本形成する工程と、
前記第2の基板の一方の面に、前記第1の基板に形成された前記第1の溝と対向する略直線状の第3の溝と、該第3の溝の近傍に位置する略直線状の第4の溝と、前記第3の溝及び前記第4の溝と略直交し、前記第2の溝と対向する第5の溝とを複数本形成する工程と、
を有し、
前記第4の溝は、前記第3の溝よりも深く形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
After bonding a first substrate having a plurality of element substrates each having a mounting terminal portion and a second substrate having a plurality of opposing substrates facing the element substrate, a pair of the bonded substrates In a manufacturing method of a multi-piece electro-optical device that divides a plurality of electro-optical devices composed of an element substrate and the counter substrate,
A plurality of substantially linear first grooves and a plurality of substantially linear second grooves substantially orthogonal to the first grooves are formed at the boundaries of the plurality of element substrates on one surface of the first substrate. Forming, and
A substantially straight third groove facing the first groove formed in the first substrate on one surface of the second substrate, and a substantially straight line located in the vicinity of the third groove Forming a plurality of fifth grooves that are substantially perpendicular to the third grooves and the fourth grooves and that face the second grooves;
Have
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the fourth groove is formed deeper than the third groove.
実装用端子部を有する素子基板が複数構成された第1の基板と、前記素子基板に対向する対向基板が複数構成された第2の基板とを、貼り合わせた後、貼り合わされた一対の前記素子基板と前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置を複数個分断する多数個取りの電気光学装置の製造方法において、
前記第1の基板の一方の面の前記複数の素子基板の境界に、略直線状の第1の溝と、該第1の溝と略直交する略直線状の第2の溝とが複数形成される工程と、
前記第1の基板に、前記第1の溝及び前記第2の溝に沿って前記第1の基板を貫通するクラックを発生させる工程と、
前記第2の基板の一方の面に、前記第1の基板に形成された前記第1の溝と対向する略直線状の第3の溝と、該第3の溝の近傍に位置する略直線状の第4の溝と、前記第3の溝及び前記第4の溝と略直交し、第1の基板に形成された前記第2の溝と対向する第5の溝とが、複数本形成される工程と、
前記第2の基板に、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に沿って前記第2の基板を貫通するクラックを発生させる工程と、
貼り合わされた一対の前記第1の基板及び第2の基板から、貼り合わされた一対の前記素子基板と、前記対向基板とで構成される複数の電気光学装置が、複数個分断される工程と、
を有し、
前記第4の溝に沿ってクラックを発生させる工程は、前記第3の溝に沿ってクラックを発生させる工程よりも先に行われることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
After bonding a first substrate having a plurality of element substrates each having a mounting terminal portion and a second substrate having a plurality of opposing substrates facing the element substrate, a pair of the bonded substrates In a manufacturing method of a multi-piece electro-optical device that divides a plurality of electro-optical devices composed of an element substrate and the counter substrate,
A plurality of substantially linear first grooves and a plurality of substantially linear second grooves substantially orthogonal to the first grooves are formed at the boundaries of the plurality of element substrates on one surface of the first substrate. A process to be performed;
Generating a crack penetrating the first substrate along the first groove and the second groove on the first substrate;
A substantially straight third groove facing the first groove formed in the first substrate on one surface of the second substrate, and a substantially straight line located in the vicinity of the third groove And a plurality of fifth grooves that are substantially orthogonal to the third grooves and the fourth grooves and that face the second grooves formed on the first substrate. A process to be performed;
Generating a crack penetrating the second substrate along the third groove, the fourth groove, and the fifth groove in the second substrate;
A step of dividing a plurality of electro-optical devices composed of the pair of the element substrates and the counter substrate from the pair of the first and second substrates bonded together;
Have
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the step of generating a crack along the fourth groove is performed prior to the step of generating a crack along the third groove.
前記第1〜第5の溝は、スクライブまたはダイシングにより形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法。   The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the first to fifth grooves are formed by scribing or dicing. 前記第4の溝は、前記第3の溝に対して一定の幅を有して形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法。   The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the fourth groove is formed to have a certain width with respect to the third groove. 前記素子基板の実装用端子部は、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に沿って第2の基板を貫通するクラックを発生させることにより、貼り合わされた一対の素子基板及び該素子基板に対向する対向基板から露出されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法。   The mounting terminal portion of the element substrate has a pair of elements bonded together by generating a crack penetrating the second substrate along the third groove, the fourth groove, and the fifth groove. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the method is exposed from a substrate and a counter substrate facing the element substrate. 前記第1の基板のクラックは、前記第1の溝及び前記第2の溝に対向する前記第2の基板の位置を印圧することにより発生させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載に記載の電気光学装置の製造方法。   The crack of the first substrate is generated by applying pressure to the position of the second substrate facing the first groove and the second groove. A method for manufacturing the electro-optical device according to the item 1. 前記第2の基板のクラックは、前記第3の溝、前記第4の溝及び前記第5の溝に対向する前記第1の基板の位置を印圧することにより発生させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載に記載の電気光学装置の製造方法。   The crack of the second substrate is generated by applying a pressure to a position of the first substrate facing the third groove, the fourth groove, and the fifth groove. The method for manufacturing the electro-optical device according to any one of 1 to 5. 請求項1〜請求項7の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device manufactured using the manufacturing method according to claim 1. 前記素子基板に対向する対向基板の一方の端部は、他方の端部よりも深く面取りされていることを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置。   9. The electro-optical device according to claim 8, wherein one end portion of the counter substrate facing the element substrate is chamfered deeper than the other end portion. 前記素子基板に対向する前記対向基板の一方の端部に形成された面取り部は、前記第4の溝の一部から構成され、他方の端部に形成された面取り部は、前記第3の溝の一部から構成されたことを特徴とする請求項9に記載の電気光学装置。   A chamfered portion formed at one end of the counter substrate facing the element substrate is configured by a part of the fourth groove, and a chamfered portion formed at the other end is formed by the third chamfer. The electro-optical device according to claim 9, wherein the electro-optical device includes a part of the groove. 請求項8〜10の電気光学装置を用いたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the electro-optical device according to claim 8.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007187822A (en) * 2006-01-12 2007-07-26 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Liquid crystal display device
JP2008056507A (en) * 2006-08-29 2008-03-13 Seiko Epson Corp Scribing method for stuck mother substrate and splitting method of stuck mother substrate
JP2008116696A (en) * 2006-11-06 2008-05-22 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
WO2009060691A1 (en) * 2007-11-05 2009-05-14 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Machining method of fragile material substrate and scribing device
WO2009154022A1 (en) * 2008-06-18 2009-12-23 三星ダイヤモンド工業株式会社 Substrate processing system
WO2009154012A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-23 三星ダイヤモンド工業株式会社 Method for processing substrate of mother board
CN103586985A (en) * 2012-08-17 2014-02-19 佳友科技有限公司 Method and system for processing fragile material

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007187822A (en) * 2006-01-12 2007-07-26 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Liquid crystal display device
JP2008056507A (en) * 2006-08-29 2008-03-13 Seiko Epson Corp Scribing method for stuck mother substrate and splitting method of stuck mother substrate
US7566636B2 (en) 2006-08-29 2009-07-28 Seiko Epson Corporation Method of scribing stuck mother substrate and method of dividing stuck mother substrate
CN101178490B (en) * 2006-11-06 2011-03-02 精工爱普生株式会社 Method of manufacturing an electro-optical device
JP2008116696A (en) * 2006-11-06 2008-05-22 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
KR101451428B1 (en) 2006-11-06 2014-10-15 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Method of manufacturing electro-optical device
WO2009060691A1 (en) * 2007-11-05 2009-05-14 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Machining method of fragile material substrate and scribing device
CN102057313B (en) * 2008-06-17 2013-06-05 三星钻石工业股份有限公司 Method for processing substrate of mother board
KR101175105B1 (en) 2008-06-17 2012-08-21 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Method for processing substrate of mother board
JP5185379B2 (en) * 2008-06-17 2013-04-17 三星ダイヤモンド工業株式会社 Mother board processing method
WO2009154012A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-23 三星ダイヤモンド工業株式会社 Method for processing substrate of mother board
KR101105631B1 (en) 2008-06-18 2012-01-18 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Substrate processing system
JP5185380B2 (en) * 2008-06-18 2013-04-17 三星ダイヤモンド工業株式会社 Substrate processing system
JP2013121913A (en) * 2008-06-18 2013-06-20 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Laminated substrate-scribing apparatus
TWI409230B (en) * 2008-06-18 2013-09-21 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Substrate processing system
WO2009154022A1 (en) * 2008-06-18 2009-12-23 三星ダイヤモンド工業株式会社 Substrate processing system
CN103586985A (en) * 2012-08-17 2014-02-19 佳友科技有限公司 Method and system for processing fragile material

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