JP2009069731A - Method of manufacturing electrooptical device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an electrooptical device preventing a terminal part from being damaged due to chipping of a substrate. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the liquid crystal device 20 has steps of: (a) dropping a liquid crystal 29 onto a mother substrate 11, (b) bonding a counter mother substrate 12 on the mother substrate 11 to manufacture a composite substrate 10, (c) removing a terminal part facing piece facing a terminal part 24 among the counter mother substrates 12, (d) performing scribing along a scheduled cutting line 13 parallel to a direction of arranging the terminal part 24 in plane view in the surface opposite to the surface facing the mother substrate 11, and (e) and (f) breaking the mother substrate 11 by applying force to an end part along the terminal part 24 in the counter mother substrate 12 positioned on the side opposite to the scheduled cutting line 13 via the terminal part 24 in plane view. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明に係る一態様は、電気光学装置の製造方法に関する。   One embodiment according to the present invention relates to a method of manufacturing an electro-optical device.

上記電気光学装置の一例としての液晶装置は、対向して配置された素子基板及び対向基板と、素子基板と対向基板との間に配置された液晶とを有して構成される。また、液晶装置の構成の1つに、素子基板が対向基板より大きく、素子基板のうち対向基板に対して張り出した部分に、外部回路と電気的に接続するための端子部が露出しているものがある。   A liquid crystal device as an example of the electro-optical device includes an element substrate and a counter substrate that are disposed to face each other, and liquid crystal that is disposed between the element substrate and the counter substrate. In one configuration of the liquid crystal device, the element substrate is larger than the counter substrate, and a terminal portion that is electrically connected to an external circuit is exposed at a portion of the element substrate that protrudes from the counter substrate. There is something.

上記液晶装置の製造方法の1つとして、次のような方法が知られている。すなわち、まず複数の素子基板を包含するウェハ状のマザー基板上に、素子基板の端子部が露出する状態で複数の対向基板を貼り合わせ、その後マザー基板をブレイクして個々の液晶装置を取り出す方法である(特許文献1参照)。あるいは、次のような方法によっても液晶装置を製造することができる。すなわち、まずマザー基板上に液晶を滴下した後に、複数の対向基板を包含するウェハ状の対向マザー基板を貼り合わせる。そして、対向マザー基板のうち上記端子部に対向する部分を除去し、その後マザー基板及び対向マザー基板を個々の液晶装置の大きさにブレイクするという方法である。   The following method is known as one of the methods for manufacturing the liquid crystal device. That is, a method of first bonding a plurality of counter substrates on a wafer-like mother substrate including a plurality of element substrates in a state where terminal portions of the element substrates are exposed, and then breaking the mother substrate to take out individual liquid crystal devices. (See Patent Document 1). Alternatively, the liquid crystal device can be manufactured by the following method. That is, after dropping liquid crystal on a mother substrate, a wafer-like counter mother substrate including a plurality of counter substrates is bonded together. Then, a portion of the counter mother substrate that opposes the terminal portion is removed, and then the mother substrate and the counter mother substrate are broken to the size of each liquid crystal device.

図8(a),(b)は、上記製造方法の工程の一部を示す断面図である。図8(a)は、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向マザー基板12(又は対向基板22)が貼り合わされた状態を示している。マザー基板11と対向マザー基板12との間には、液晶29が封入されている。また、端子部24に対向する部分の対向マザー基板12は除去されており、マザー基板11の対向面には端子部24及びデータ線駆動回路23が露出している。上述した液晶装置の製造方法には、図8(a)の状態において、端子部24の配列方向に並行する(紙面垂直方向に延びる)切断予定線13に沿ってマザー基板11をブレイクする工程が含まれる。   8A and 8B are cross-sectional views showing a part of the steps of the manufacturing method. FIG. 8A shows a state in which the opposing mother substrate 12 (or the opposing substrate 22) is bonded to the opposing surface of the mother substrate 11 via the sealing material 27. FIG. A liquid crystal 29 is sealed between the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12. Further, the portion of the counter mother substrate 12 facing the terminal portion 24 is removed, and the terminal portion 24 and the data line driving circuit 23 are exposed on the facing surface of the mother substrate 11. In the method for manufacturing the liquid crystal device described above, in the state of FIG. 8A, there is a step of breaking the mother substrate 11 along the planned cutting line 13 parallel to the arrangement direction of the terminal portions 24 (extending in the direction perpendicular to the paper surface). included.

特開2006−98631号公報JP 2006-98631 A

しかしながら、切断予定線13に沿ってブレイクを行う際に、マザー基板11の切断面33が、端子部24から遠ざかる方向に曲がることがある。この結果、図8(b)に示すように、ブレイク後のマザー基板11の端部に突起状の部分が残る。この突起状の部分は、外力を受けて欠けやすく、突起状の部分を含む小片21aが欠けることによって端子部24にまで損傷が及ぶことがある。こうした不具合に起因して、歩留りが低下してしまうという課題がある。   However, when breaking along the planned cutting line 13, the cut surface 33 of the mother substrate 11 may be bent in a direction away from the terminal portion 24. As a result, as shown in FIG. 8B, a protruding portion remains at the end of the mother substrate 11 after the break. This protruding portion is easily chipped by receiving an external force, and the terminal portion 24 may be damaged when the small piece 21a including the protruding portion is chipped. Due to these problems, there is a problem that the yield decreases.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]複数の電気光学装置の構成要素を含む第1の基板と、前記構成要素のうち端子部を前記第1の基板の対向面に露出させた状態でシール材を介して前記第1の基板の前記対向面に貼り合わされた第2の基板と、を有する複合基板に対し、前記第1の基板の前記対向面とは反対側の面のうち、平面視で前記端子部の配列方向に並行する切断予定線に沿ってスクライブを行う工程Aと、平面視で前記端子部を挟んで前記切断予定線の反対側に位置する前記第2の基板のうち、前記端子部に沿った端部に力を印加して前記第1の基板のブレイクを行う工程Bと、を有する電気光学装置の製造方法。   [Application Example 1] A first substrate including a plurality of components of an electro-optical device, and a terminal portion of the component being exposed to a facing surface of the first substrate via a sealing material. An arrangement of the terminal portions in a plan view of a surface of the first substrate opposite to the facing surface with respect to a composite substrate having a second substrate bonded to the facing surface of the first substrate. Step A of scribing along a planned cutting line parallel to the direction, and along the terminal portion of the second substrate located on the opposite side of the planned cutting line across the terminal portion in plan view And a step B of applying a force to the end portion to break the first substrate.

このような方法によれば、第1の基板は、工程Bにおいて、切断予定線を起点として対向面に近付くにつれて端子部側に曲がる切断面、又は切断予定線を起点として第1の基板の面に略垂直な切断面に沿ってブレイクされる。この結果、ブレイク後の第1の基板において、端子部近傍に突起状の部位が残ることがない。よって、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合を起こりにくくすることができる。   According to such a method, in step B, the first substrate is a cut surface that bends toward the terminal portion as it approaches the opposing surface starting from the planned cutting line, or the surface of the first substrate starting from the planned cutting line. Break along a cutting plane substantially perpendicular to As a result, in the first substrate after the break, no protruding portion remains in the vicinity of the terminal portion. Therefore, it is possible to make it difficult for the terminal portion to be damaged due to the chipping of the first substrate.

[適用例2]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Bにおける前記第1の基板の前記対向面での切断位置は、平面視で前記切断予定線と前記端子部との間に位置している電気光学装置の製造方法。   Application Example 2 In the method of manufacturing the electro-optical device, the cutting position on the facing surface of the first substrate in the step B is between the planned cutting line and the terminal portion in plan view. A method for manufacturing a positioned electro-optical device.

このような方法によれば、工程Bにおいて端子部に損傷を与えることなく第1の基板をブレイクすることができる。   According to such a method, it is possible to break the first substrate without damaging the terminal portion in the step B.

[適用例3]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Aの前に、前記第1の基板の前記対向面に液晶を滴下する工程と、前記第1の基板の前記対向面に、前記シール材を介して複数の前記電気光学装置の構成要素を含む前記第2の基板を貼り合わせ、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に前記液晶を封入する工程と、前記第2の基板のうち、前記端子部に対向する部分を除去する工程と、を有する電気光学装置の製造方法。   Application Example 3 In the method of manufacturing the electro-optical device, the step of dropping liquid crystal on the facing surface of the first substrate before the step A and the surface of the first substrate on the facing surface The second substrate including a plurality of components of the electro-optical device is bonded to the liquid crystal in a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material. And a step of removing a portion of the second substrate that faces the terminal portion of the second substrate.

このような方法によれば、第2の基板が複数の電気光学装置の構成要素を含む大きさである場合において、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合が起こりにくい電気光学装置を製造することができる。   According to such a method, when the second substrate has a size including the components of the plurality of electro-optical devices, the electro-optical device is unlikely to be damaged due to the terminal portion being damaged due to the chip of the first substrate. Can be manufactured.

[適用例4]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Aの前に、前記第1の基板の前記対向面に、単一の前記電気光学装置に対応する大きさの前記第2の基板を、前記端子部が前記対向面に露出する状態で、前記シール材を介して貼り合わせる工程と、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に液晶を注入する工程と、を有する電気光学装置の製造方法。   Application Example 4 In the method of manufacturing the electro-optical device, the second size having a size corresponding to the single electro-optical device is formed on the facing surface of the first substrate before the step A. And bonding the substrate through the sealing material with the terminal portion exposed to the facing surface, and liquid crystal in a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material. And a step of injecting the electro-optical device.

このような方法によれば、第2の基板が単一の電気光学装置に対応する大きさである場合において、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合が起こりにくい電気光学装置を製造することができる。   According to such a method, in the case where the second substrate has a size corresponding to a single electro-optical device, the electro-optical device in which the terminal portion is not easily damaged due to the chipping of the first substrate is prevented. Can be manufactured.

以下、図面を参照し、電気光学装置の製造方法の実施形態について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。   Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device will be described with reference to the drawings. In the drawings shown below, the dimensions and ratios of the components are appropriately different from the actual ones in order to make the components large enough to be recognized on the drawings.

(第1の実施形態)
図1(a)は、複合基板10の平面図であり、図1(b)は、複合基板10の側面図である。複合基板10は、第1の基板としての略円盤状のマザー基板11と、第2の基板としての略円盤状の対向マザー基板12とが対向して貼り合わされた構成を有している。マザー基板11の、対向マザー基板12に対向する面を対向面と呼ぶ。マザー基板11と対向マザー基板12とは、平面視で略同形であり、厚さはともに約1.2mmである。ここで、平面視とは、マザー基板11の法線方向から見ることをいう。マザー基板11及び対向マザー基板12は、石英のウェハを基体として構成されている。また、マザー基板11及び対向マザー基板12は、端部にオリエンテーションフラットが設けられている。
(First embodiment)
FIG. 1A is a plan view of the composite substrate 10, and FIG. 1B is a side view of the composite substrate 10. The composite substrate 10 has a configuration in which a substantially disc-shaped mother substrate 11 as a first substrate and a substantially disc-shaped counter mother substrate 12 as a second substrate are bonded to face each other. A surface of the mother substrate 11 that faces the counter mother substrate 12 is referred to as a counter surface. The mother substrate 11 and the opposing mother substrate 12 have substantially the same shape in plan view, and both have a thickness of about 1.2 mm. Here, the plan view means viewing from the normal direction of the mother substrate 11. The mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 are configured using a quartz wafer as a base. Further, the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 are provided with orientation flats at the ends.

複合基板10は、電気光学装置としての液晶装置20(図2)の製造工程における流動基板の一形態である。図1(a)に示すように、複合基板10には、単一の液晶装置20に対応する構成要素が複数の行及び複数の列にわたってマトリクス状に並ぶように複数形成されている。したがって、マザー基板11及び対向マザー基板12のそれぞれにも、複数の液晶装置20の構成要素が含まれている。ここで、マザー基板11に形成される構成要素は、例えばTFT(Thin Film Transistor)素子、走査線、データ線、データ線駆動回路23(図2)、端子部24(図2)、画素電極、配向膜等であり、対向マザー基板12に形成される構成要素は、例えば共通電極、配向膜等である。また、本明細書では、液晶装置20の構成要素が並ぶ行方向をX軸、列方向をY軸と定義し、マザー基板11の法線方向をZ軸と定義する。   The composite substrate 10 is one form of a fluidized substrate in the manufacturing process of the liquid crystal device 20 (FIG. 2) as an electro-optical device. As shown in FIG. 1A, a plurality of components corresponding to a single liquid crystal device 20 are formed on the composite substrate 10 so as to be arranged in a matrix over a plurality of rows and a plurality of columns. Therefore, each of the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 includes a plurality of components of the liquid crystal device 20. Here, the components formed on the mother substrate 11 are, for example, TFT (Thin Film Transistor) elements, scanning lines, data lines, data line driving circuits 23 (FIG. 2), terminal portions 24 (FIG. 2), pixel electrodes, The constituent elements formed on the counter mother substrate 12 such as an alignment film are, for example, a common electrode and an alignment film. In this specification, the row direction in which the components of the liquid crystal device 20 are arranged is defined as the X axis, the column direction is defined as the Y axis, and the normal direction of the mother substrate 11 is defined as the Z axis.

図1(a)には、液晶装置20の製造工程においてブレイク(切断)が行われる切断予定線13,14a,14b,15が実線で描かれている。マザー基板11は、これらのうち切断予定線13,15においてブレイクされ、対向マザー基板12は、切断予定線14a,14b,15においてブレイクされる。より詳しくは、まず対向マザー基板12が切断予定線14a,14bにおいてブレイクされ、端子部対向片17が除去される。次に、マザー基板11が切断予定線13に沿ってブレイクされ、複合基板10は、複数の短冊状複合基板40に分割される。最後に、マザー基板11及び対向マザー基板12の双方が切断予定線15に沿ってブレイクされ、個々の液晶装置20が取り出される。なお、切断予定線15の平面視での位置は、必要に応じてマザー基板11と対向マザー基板12との間で異ならせてもよい。   In FIG. 1A, scheduled cutting lines 13, 14 a, 14 b, and 15 where breaks (cutting) are performed in the manufacturing process of the liquid crystal device 20 are drawn with solid lines. Of these, the mother substrate 11 is broken at the planned cutting lines 13 and 15, and the opposing mother substrate 12 is broken at the planned cutting lines 14 a, 14 b and 15. More specifically, the opposing mother board 12 is first broken at the planned cutting lines 14a and 14b, and the terminal portion opposing pieces 17 are removed. Next, the mother substrate 11 is broken along the planned cutting line 13, and the composite substrate 10 is divided into a plurality of strip-shaped composite substrates 40. Finally, both the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 are broken along the planned cutting line 15, and the individual liquid crystal devices 20 are taken out. Note that the position of the planned cutting line 15 in plan view may be different between the mother substrate 11 and the opposing mother substrate 12 as necessary.

図2は、液晶装置20を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)中のA−A線における断面図である。液晶装置20は、マザー基板11から切り出された矩形の素子基板21と、対向マザー基板12から切り出された矩形の対向基板22とを備えている。素子基板21の対向面には、シール材27を介して対向基板22が貼り合わされている。シール材27は、対向基板22の輪郭形状に略一致するように枠状に配置されている。素子基板21、対向基板22、シール材27によって形成される空間には、電気光学物質としての液晶29が封入されている。液晶29の層の厚さは、数μm程度である。   2A and 2B are diagrams illustrating the liquid crystal device 20, in which FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The liquid crystal device 20 includes a rectangular element substrate 21 cut out from the mother substrate 11 and a rectangular counter substrate 22 cut out from the counter mother substrate 12. A counter substrate 22 is bonded to the opposing surface of the element substrate 21 with a sealant 27 interposed therebetween. The sealing material 27 is arranged in a frame shape so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 22. In a space formed by the element substrate 21, the counter substrate 22, and the sealing material 27, a liquid crystal 29 as an electro-optical material is sealed. The layer thickness of the liquid crystal 29 is about several μm.

素子基板21は、平面視で対向基板22より一回り大きくなっている。素子基板21のうち対向基板22に対して張り出した領域の対向面には、素子基板21の1つの辺(切断予定線13に対応する辺)に沿ってデータ線駆動回路23、端子部24が形成されており、当該辺に交差する2辺に沿って走査線駆動回路25が形成されている。したがって、データ線駆動回路23、端子部24、走査線駆動回路25は、外部に露出している。このうち、端子部24は、切断予定線13に並行するように配列されている。換言すれば、切断予定線13は、端子部24の配列方向に並行している。データ線駆動回路23、端子部24に対向する位置には対向基板22が存在しないが、この部位は、対向マザー基板12のうち製造工程において除去される端子部対向片17(図1(a))が位置していた部位に相当する。また、対向基板22の四隅には、素子基板21と対向基板22との間で電気的な導通を取るための上下導通材26が配設されている。   The element substrate 21 is slightly larger than the counter substrate 22 in plan view. A data line driving circuit 23 and a terminal portion 24 are provided along one side of the element substrate 21 (side corresponding to the planned cutting line 13) on the opposite surface of the element substrate 21 in a region protruding from the counter substrate 22. The scanning line driving circuit 25 is formed along two sides that intersect the side. Therefore, the data line driving circuit 23, the terminal unit 24, and the scanning line driving circuit 25 are exposed to the outside. Among these, the terminal part 24 is arranged so as to be parallel to the planned cutting line 13. In other words, the planned cutting line 13 is parallel to the arrangement direction of the terminal portions 24. Although the counter substrate 22 does not exist at a position facing the data line driving circuit 23 and the terminal portion 24, this portion is the terminal portion facing piece 17 of the counter mother substrate 12 that is removed in the manufacturing process (FIG. 1A). ) Corresponds to the part where the position was located. In addition, at the four corners of the counter substrate 22, vertical conductive members 26 are provided for electrical conduction between the element substrate 21 and the counter substrate 22.

図2には示されていないが、素子基板21の対向面(液晶29側表面)には、液晶29に駆動電圧を印加するための画素電極と、画素電極に電気的に接続された回路素子が形成されている。回路素子は、画素電極に電気的に接続されたTFT素子と、TFT素子に駆動信号を印加するための走査線、データ線、及び容量素子等からなる。回路素子は、データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25から供給される信号により駆動される。データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25は、端子部24に電気的に接続されている。端子部24には、ドライバIC等に接続されたFPC(Flexible Printed Circuit)等の外部回路が実装され、データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25を動作させるための信号が外部から入力される。画素電極の液晶29側表面には、液晶29を配向させるための配向膜が形成されている。   Although not shown in FIG. 2, a pixel electrode for applying a driving voltage to the liquid crystal 29 and a circuit element electrically connected to the pixel electrode are provided on the opposite surface (surface on the liquid crystal 29 side) of the element substrate 21. Is formed. The circuit element includes a TFT element electrically connected to the pixel electrode, a scanning line for applying a drive signal to the TFT element, a data line, a capacitor element, and the like. The circuit elements are driven by signals supplied from the data line driving circuit 23 and the scanning line driving circuit 25. The data line driving circuit 23 and the scanning line driving circuit 25 are electrically connected to the terminal portion 24. An external circuit such as an FPC (Flexible Printed Circuit) connected to a driver IC or the like is mounted on the terminal unit 24, and signals for operating the data line driving circuit 23 and the scanning line driving circuit 25 are input from the outside. . An alignment film for aligning the liquid crystal 29 is formed on the surface of the pixel electrode on the liquid crystal 29 side.

また、対向基板22の液晶29側表面には、画素電極に対向する共通電極が形成されている。共通電極の液晶29側表面には、液晶29を配向させるための配向膜が形成されている。   A common electrode facing the pixel electrode is formed on the surface of the counter substrate 22 on the liquid crystal 29 side. An alignment film for aligning the liquid crystal 29 is formed on the liquid crystal 29 side surface of the common electrode.

液晶29は、画素電極と共通電極との間に印加される駆動電圧に応じて配向状態が変化する。そして、液晶29は、その配向状態に応じて透過光の偏光状態を変えることができる。液晶装置20は、液晶29の偏光変換機能を用いて入射光を変調することで表示を行う電気光学装置である。液晶装置20は、例えば、電子機器としてのプロジェクタに、ライトバルブとして搭載して用いることができる。   The alignment state of the liquid crystal 29 changes according to the driving voltage applied between the pixel electrode and the common electrode. The liquid crystal 29 can change the polarization state of the transmitted light according to the alignment state. The liquid crystal device 20 is an electro-optical device that performs display by modulating incident light using the polarization conversion function of the liquid crystal 29. The liquid crystal device 20 can be used as a light valve mounted on a projector as an electronic device, for example.

続いて、図3から図5を用いて液晶装置20の製造方法について説明する。このうち図3は、液晶装置20の製造方法を示すフローチャートであり、図4(a)から(f)は、液晶装置20の各製造工程における断面図である。以下、図3のフローチャートに沿って説明する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal device 20 will be described with reference to FIGS. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal device 20, and FIGS. 4A to 4F are cross-sectional views in each manufacturing process of the liquid crystal device 20. Hereinafter, it demonstrates along the flowchart of FIG.

本実施形態に係る液晶装置20の製造方法は、工程P1から工程P6を含んでいる。まず、工程P1に先立って、マザー基板11及び対向マザー基板12を製造する。マザー基板11の製造工程は、例えば石英のウェハ上に、複数の液晶装置20に対応する回路素子、データ線駆動回路23、端子部24、画素電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。対向マザー基板12の製造工程は、例えば石英のウェハ上に複数の液晶装置20に対応する共通電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。また、マザー基板11又は対向マザー基板12に、シール材27をディスペンサ塗布法等により形成する。本実施形態では、マザー基板11の対向面に、対向基板22の輪郭形状と略一致するような枠状のシール材27を形成している。   The method for manufacturing the liquid crystal device 20 according to the present embodiment includes steps P1 to P6. First, the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 are manufactured prior to the process P1. The manufacturing process of the mother substrate 11 includes, for example, a process of forming circuit elements, data line driving circuits 23, terminal portions 24, pixel electrodes, alignment films, and the like corresponding to the plurality of liquid crystal devices 20 on a quartz wafer, and an alignment film. And a rubbing process. The manufacturing process of the counter mother substrate 12 includes, for example, a process of forming common electrodes, alignment films and the like corresponding to the plurality of liquid crystal devices 20 on a quartz wafer, and a process of rubbing the alignment film. Further, the sealing material 27 is formed on the mother substrate 11 or the counter mother substrate 12 by a dispenser coating method or the like. In the present embodiment, a frame-shaped sealing material 27 that substantially matches the contour shape of the counter substrate 22 is formed on the counter surface of the mother substrate 11.

工程P1では、マザー基板11の対向面に液晶29を滴下する(図4(a))。例えば、マザー基板11の対向面のうち、枠状のシール材27に囲まれた領域に、液滴吐出装置50を用いて液晶29の液滴を吐出する。   In the process P1, the liquid crystal 29 is dropped on the opposing surface of the mother substrate 11 (FIG. 4A). For example, droplets of the liquid crystal 29 are ejected to the region surrounded by the frame-shaped sealing material 27 on the opposing surface of the mother substrate 11 using the droplet ejection device 50.

工程P2では、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向マザー基板12を貼り合わせて、複合基板10を製造する(図4(b))。これにより、マザー基板11、対向マザー基板12及びシール材27によって形成される空間に液晶29が封入される。工程P2は、一例として、マザー基板11と対向マザー基板12との間で位置合わせ(アラメント)を行う工程と、真空下においてマザー基板11と対向マザー基板12とを貼り合わせる工程と、シール材27を硬化させる工程とを含む。   In step P2, the opposing mother substrate 12 is bonded to the opposing surface of the mother substrate 11 via the sealing material 27 to manufacture the composite substrate 10 (FIG. 4B). As a result, the liquid crystal 29 is sealed in the space formed by the mother substrate 11, the opposing mother substrate 12, and the sealing material 27. As an example, the process P2 includes a process of performing alignment (arament) between the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12, a process of bonding the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 under vacuum, and a sealing material 27. Curing.

なお、工程P2までの一連の工程では、対向マザー基板12に液晶29を滴下して、対向マザー基板12にマザー基板11を貼り合わせるようにしてもよい。また、対向マザー基板12にシール材27を形成してから貼り合わせてもよい。   In the series of steps up to step P2, the liquid crystal 29 may be dropped onto the counter mother substrate 12 and the mother substrate 11 may be bonded to the counter mother substrate 12. Further, the sealing material 27 may be formed on the counter mother substrate 12 and then bonded.

工程P3では、対向マザー基板12のうちの、端子部24に対向する部分、すなわち端子部対向片17(図1(a))を除去することにより、端子部24を露出させる(図4(c))。本実施形態では、対向マザー基板12のうちの、端子部24及びデータ線駆動回路23に対向する部分を端子部対向片17とし、これを除去して端子部24及びデータ線駆動回路23を露出させている。工程P3は、一例として、次のような手順で行うことができる。まず切断予定線14bに沿って対向マザー基板12をスクライブ・ブレイクし、その後切断予定線14a,14bに沿って対向マザー基板12をダイシングする。このとき、対向マザー基板12の厚さ方向について途中までダイシングして止めておく。この状態で、端子部対向片17にエアを吹き付けながら吸引して端子部対向片17を除去する。端子部対向片17のY方向の幅、すなわち切断予定線14aと切断予定線14bとの間の距離は、約1.5mmである。この工程を経て、図1(a)に示す、X方向に沿って並んだ列状の端子部対向片17がすべて除去される。この結果、液晶装置20の構成要素を含むマザー基板11と、上記構成要素のうち端子部24をマザー基板11の対向面に露出させた状態でシール材27を介してマザー基板11の対向面に貼り合わされた対向マザー基板12とを有する状態の複合基板10が得られる。   In the process P3, the terminal portion 24 is exposed by removing the portion of the counter mother substrate 12 that faces the terminal portion 24, that is, the terminal portion facing piece 17 (FIG. 1A) (FIG. 4C). )). In the present embodiment, a portion of the counter mother substrate 12 that faces the terminal portion 24 and the data line driving circuit 23 is a terminal portion facing piece 17, which is removed to expose the terminal portion 24 and the data line driving circuit 23. I am letting. The process P3 can be performed by the following procedure as an example. First, the opposing mother substrate 12 is scribed and broken along the planned cutting line 14b, and then the opposing mother substrate 12 is diced along the planned cutting lines 14a and 14b. At this time, dicing is stopped halfway in the thickness direction of the opposing mother substrate 12. In this state, the terminal portion facing piece 17 is removed by suction while blowing air to the terminal portion facing piece 17. The width of the terminal portion facing piece 17 in the Y direction, that is, the distance between the planned cutting line 14a and the planned cutting line 14b is about 1.5 mm. Through this step, all the row of terminal portion facing pieces 17 arranged in the X direction shown in FIG. 1A are removed. As a result, the mother substrate 11 including the components of the liquid crystal device 20 and the opposing surface of the mother substrate 11 via the sealing material 27 with the terminal portion 24 of the above-described components exposed to the opposing surface of the mother substrate 11. The composite substrate 10 having the counter mother substrate 12 bonded together is obtained.

対向マザー基板12をブレイクする際には、複合基板10を、金属板や、樹脂又はゴム等の弾性材料によって構成された支持台(不図示)の上に設置する。この支持台は、所定の厚み、所定の硬度を有して、印圧されることによって撓む構造となっている。十分な撓み量を確保するために、支持台は、例えば比較的薄い2枚の金属板とこれらの金属板の間に介在する弾性部材とからなる3層構造とすることができる。複合基板10をこのような支持台上に設置することにより、複合基板10自体も力を受けたときに撓みやすくなるため、容易にブレイクを行うことができる。後述する工程P5及び工程P6におけるブレイクの際にも、複合基板10又は短冊状複合基板40を上記支持台上に設置した状態で行う。   When the opposing mother substrate 12 is broken, the composite substrate 10 is placed on a support base (not shown) made of a metal plate or an elastic material such as resin or rubber. The support base has a predetermined thickness and a predetermined hardness, and is configured to bend when pressed. In order to ensure a sufficient amount of bending, the support base may be a three-layer structure including, for example, two relatively thin metal plates and an elastic member interposed between these metal plates. By installing the composite substrate 10 on such a support base, the composite substrate 10 itself is also easily bent when subjected to force, so that the break can be easily performed. Also in the case of the break in the process P5 and process P6 mentioned later, it carries out in the state which installed the composite substrate 10 or the strip-shaped composite substrate 40 on the said support stand.

なお、工程P3は、上記した手順の他にも種々の手順によって行うことができる。例えば切断予定線14a,14bに沿って対向マザー基板12をスクライブ・ブレイクした後に端子部対向片17を手で取り除いてもよい。   The process P3 can be performed by various procedures other than the above-described procedure. For example, after the opposing mother substrate 12 is scribed and broken along the scheduled cutting lines 14a and 14b, the terminal portion opposing pieces 17 may be removed by hand.

工程P4では、マザー基板11の対向面とは反対側の面のうち、平面視で端子部24の配列方向に並行する切断予定線13に沿ってスクライブを行う(図4(d))。工程P4は、工程Aに対応する。切断予定線13は、完成後の液晶装置20において、素子基板21(図4(f))のうち端子部24が形成されている辺の外形を規定する線である。したがって、切断予定線13は、平面視で、ある液晶装置20の端子部24とこれに隣接する液晶装置20のシール材27との間に設定される。工程P4は、例えばマザー基板11の表面に切断予定線13に沿ってダイヤモンドカッター等で切り込みを入れる工程を含む。ダイヤモンドカッターは、刃の部分に細かい凹凸が形成されているものを用いてもよい。このような構造のダイヤモンドカッターを用いてスクライブを行うことで、マザー基板11に対してより深い切り込みを形成することができるため、後にマザー基板11をブレイクする際の切断面の曲がりを抑制することが可能となる。切断予定線13は、図1(a)において切断予定線14aと平面視で重なるように描かれているが、切断予定線14aと平面視で異なる位置に設定してもよい。   In the process P4, scribing is performed along the planned cutting line 13 parallel to the arrangement direction of the terminal portions 24 in plan view on the surface opposite to the facing surface of the mother substrate 11 (FIG. 4D). Process P4 corresponds to process A. The planned cutting line 13 is a line that defines the outer shape of the side where the terminal portion 24 is formed in the element substrate 21 (FIG. 4F) in the completed liquid crystal device 20. Therefore, the planned cutting line 13 is set between the terminal portion 24 of a certain liquid crystal device 20 and the sealing material 27 of the liquid crystal device 20 adjacent thereto in plan view. The process P4 includes, for example, a process of cutting the surface of the mother substrate 11 along the planned cutting line 13 with a diamond cutter or the like. A diamond cutter having fine irregularities formed on the blade portion may be used. By scribing using a diamond cutter having such a structure, a deeper cut can be formed in the mother substrate 11, so that bending of the cut surface when the mother substrate 11 is subsequently broken is suppressed. Is possible. Although the planned cutting line 13 is drawn so as to overlap the planned cutting line 14a in plan view in FIG. 1A, it may be set at a position different from the planned cutting line 14a in plan view.

工程P5では、マザー基板11を切断予定線13に沿ってブレイクする(図4(e))。工程P5は、工程Bに対応する。より詳しくは、工程P5では、平面視で端子部24を挟んで切断予定線13の反対側に位置する対向マザー基板12のうち、端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11のブレイクを行う。図4(e)中の矢印は、対向マザー基板12に対して力を印加する部位を示している。このような手順によれば、マザー基板11は、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる。換言すれば、対向マザー基板12のうち端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11に対して、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿って切断するような応力を印加することができる。   In step P5, the mother substrate 11 is broken along the planned cutting line 13 (FIG. 4E). Process P5 corresponds to process B. More specifically, in step P5, by applying a force to the end portion along the terminal portion 24 of the opposed mother substrate 12 located on the opposite side of the planned cutting line 13 across the terminal portion 24 in plan view, The mother substrate 11 is broken. An arrow in FIG. 4E indicates a portion where a force is applied to the counter mother substrate 12. According to such a procedure, the mother substrate 11 is broken along the cut surface 32 that bends toward the terminal portion 24 as it approaches the opposing surface starting from the planned cutting line 13. In other words, by applying a force to the end portion of the counter mother board 12 along the terminal section 24, the terminal section 24 side becomes closer to the counter surface starting from the planned cutting line 13 with respect to the mother board 11. A stress that cuts along the curved cutting surface 32 can be applied.

図5(a)は、工程P5におけるマザー基板11の切断面32を示すより詳細な断面図である。このように、マザー基板11の切断面32が対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる結果、マザー基板11の対向面での切断位置は、平面視で切断予定線13(位置u)と端子部24の端部(位置v)との間に位置することとなる。   FIG. 5A is a more detailed cross-sectional view showing the cut surface 32 of the mother substrate 11 in the process P5. As described above, as the cutting surface 32 of the mother substrate 11 is bent toward the opposing surface, the cutting position on the opposing surface of the mother substrate 11 is the cutting line 13 (position u) and the terminal in plan view. It will be located between the ends (position v) of the portion 24.

このようにブレイクされたマザー基板11は、切断面32を境に分割されて、短冊状複合基板40となる(図4(f)、図1(a))。図5(b)は、このときの端子部24近傍の断面図である。この図に示すように、端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる結果、ブレイク後のマザー基板11の端子部24近傍には、例えば図8(b)に示すような突起状の部位が残ることがない。このため、突起状の部位を含む部分が欠けることによってマザー基板11の端子部24が損傷を受けるような不具合を起こりにくくすることができる。   The mother substrate 11 that has been broken in this way is divided at the cut surface 32 to form a strip-shaped composite substrate 40 (FIGS. 4 (f) and 1 (a)). FIG. 5B is a cross-sectional view of the vicinity of the terminal portion 24 at this time. As shown in this figure, as a result of the break along the cut surface 32 that bends toward the terminal portion 24 side, in the vicinity of the terminal portion 24 of the mother board 11 after the break, for example, a protruding shape as shown in FIG. The part of will not remain. For this reason, it is possible to make it difficult to cause a problem that the terminal portion 24 of the mother board 11 is damaged due to the lack of the portion including the protruding portion.

なお、ブレイク時におけるマザー基板11の対向面での切断位置は、平面視で位置uと位置vとの間であればどこに位置していてもよい。図5(c)の切断面32aは、このうち対向面での切断位置が最も位置uに近くなる切断面の例を示し、切断面32bは、対向面での切断位置が最も位置vに近くなる切断面の例を示す。切断面32aは、切断予定線13を起点としてマザー基板11の面に略垂直な切断面である。   Note that the cutting position on the opposing surface of the mother substrate 11 at the time of the break may be located anywhere between the position u and the position v in plan view. The cut surface 32a in FIG. 5 (c) shows an example of a cut surface in which the cut position on the opposite surface is closest to the position u, and the cut surface 32b has the cut position on the opposite surface closest to the position v. The example of the cut surface which becomes will be shown. The cut surface 32a is a cut surface that is substantially perpendicular to the surface of the mother substrate 11 with the planned cutting line 13 as a starting point.

また、本実施形態のように、短冊状複合基板40の状態とする前に工程P3において端子部対向片17を除去するのは次のような理由による。すなわち、先に短冊状複合基板40の状態にすると、円盤状の複合基板10から切り出されたことに起因して短冊状複合基板40の長さが様々に異なるので、その後の工程を自動化するのが困難となるためである。   In addition, as in the present embodiment, the terminal portion facing piece 17 is removed in the process P3 before the strip-shaped composite substrate 40 is formed for the following reason. In other words, when the strip-shaped composite substrate 40 is in the state first, the length of the strip-shaped composite substrate 40 varies depending on being cut out from the disc-shaped composite substrate 10, so that the subsequent processes are automated. This is because it becomes difficult.

工程P6では、工程P5で得られた短冊状複合基板40をブレイクすることにより個片化する。より詳しくは、マザー基板11及び対向マザー基板12を切断予定線15(図1a)に沿ってスクライブ・ブレイクすることにより、個々の液晶装置20を切り出す。   In step P6, the strip composite substrate 40 obtained in step P5 is broken into pieces. More specifically, the individual liquid crystal devices 20 are cut out by scribing and breaking the mother substrate 11 and the counter mother substrate 12 along the planned cutting line 15 (FIG. 1a).

以上の工程を経て、液晶装置20が製造される。このような製造方法においては、マザー基板11(素子基板21)の端子部24近傍に突起状の部位が生じることがないため、当該突起状の部位の欠損に起因する不良が生じにくい。このため、液晶装置20を高い歩留りで製造することができる。また、上記製造方法によって得られた液晶装置20は、素子基板21の端子部24近傍に突起状の部位が残ることがないため、当該突起状の部位が欠けることにより端子部24が損傷を受けるような不具合が起こりにくい。したがって、上記製造方法によれば、素子基板21の欠けに起因する不良が生じにくい、信頼性の高い液晶装置20が得られる。   The liquid crystal device 20 is manufactured through the above steps. In such a manufacturing method, since a projecting portion does not occur in the vicinity of the terminal portion 24 of the mother substrate 11 (element substrate 21), a defect due to a defect in the projecting portion is unlikely to occur. For this reason, the liquid crystal device 20 can be manufactured with a high yield. Further, in the liquid crystal device 20 obtained by the above manufacturing method, since no protruding portion remains in the vicinity of the terminal portion 24 of the element substrate 21, the terminal portion 24 is damaged due to the lack of the protruding portion. Such troubles are unlikely to occur. Therefore, according to the manufacturing method, a highly reliable liquid crystal device 20 that is less likely to be defective due to chipping of the element substrate 21 can be obtained.

(第2の実施形態)
続いて、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態は、液晶装置20の製造方法の工程の一部が第1の実施形態と異なっている。液晶装置20の製造方法のその他の工程や、製造される液晶装置20の構成は、第1の実施形態と同様である。以下では、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment)
Next, the second embodiment will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in a part of the process of the manufacturing method of the liquid crystal device 20. Other steps of the manufacturing method of the liquid crystal device 20 and the configuration of the manufactured liquid crystal device 20 are the same as those in the first embodiment. Below, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment.

図6は、第2の実施形態に係る液晶装置20の製造方法を示すフローチャートであり、図7(a)から(e)は、液晶装置20の各製造工程における断面図である。以下、図6のフローチャートに沿って説明する。   FIG. 6 is a flowchart illustrating a manufacturing method of the liquid crystal device 20 according to the second embodiment, and FIGS. 7A to 7E are cross-sectional views in each manufacturing process of the liquid crystal device 20. Hereinafter, it demonstrates along the flowchart of FIG.

本実施形態に係る液晶装置20の製造方法は、工程S1から工程S5を含んでいる。また、本実施形態では、第1の実施形態におけるウェハ状の対向マザー基板12に代えて、小片の対向基板22を用いて液晶装置20を製造する。したがって、本実施形態では、対向基板22は第2の基板に対応する。   The manufacturing method of the liquid crystal device 20 according to the present embodiment includes steps S1 to S5. In the present embodiment, the liquid crystal device 20 is manufactured using a small-sized counter substrate 22 instead of the wafer-like counter mother substrate 12 in the first embodiment. Therefore, in the present embodiment, the counter substrate 22 corresponds to the second substrate.

まず、工程S1に先立って、マザー基板11及び対向基板22を製造する。マザー基板11の構成及び製造方法は、第1の実施形態と同様である。対向基板22は、第1の実施形態の液晶装置20に含まれる対向基板22と同様の構成を有する基板である。対向基板22の製造工程は、単一の液晶装置20に対応する大きさの石英基板上に共通電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。また、マザー基板11の対向面に、シール材27をディスペンサ塗布法等により形成する。ここで、シール材27は、対向基板22の輪郭形状に略一致するような、開口を有する枠状に配置される。シール材27の当該開口は、後に液晶注入口となる。シール材27は、対向基板22に形成してもよい。   First, prior to step S1, the mother substrate 11 and the counter substrate 22 are manufactured. The configuration and manufacturing method of the mother substrate 11 are the same as those in the first embodiment. The counter substrate 22 is a substrate having a configuration similar to that of the counter substrate 22 included in the liquid crystal device 20 of the first embodiment. The manufacturing process of the counter substrate 22 includes a process of forming a common electrode, an alignment film, and the like on a quartz substrate having a size corresponding to a single liquid crystal device 20, and a process of rubbing the alignment film. Further, a sealing material 27 is formed on the opposing surface of the mother substrate 11 by a dispenser coating method or the like. Here, the sealing material 27 is arranged in a frame shape having an opening so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 22. The opening of the sealing material 27 later becomes a liquid crystal injection port. The sealing material 27 may be formed on the counter substrate 22.

工程S1では、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向基板22を貼り合わせて、複合基板10を製造する(図7(a))。このとき、マザー基板11の端子部24及びデータ線駆動回路23が対向面に露出する状態で、対向基板22を貼り合わせる。この結果、液晶装置20の構成要素を含むマザー基板11と、上記構成要素のうち端子部24をマザー基板11の対向面に露出させた状態でシール材27を介してマザー基板11の対向面に貼り合わされた対向基板22とを有する状態の複合基板10が得られる。工程S1は、一例として、マザー基板11と対向基板22との間で位置合わせ(アラメント)を行う工程と、マザー基板11と対向基板22とを貼り合わせる工程と、シール材27を硬化させる工程とを含む。   In step S1, the composite substrate 10 is manufactured by attaching the counter substrate 22 to the counter surface of the mother substrate 11 via the sealing material 27 (FIG. 7A). At this time, the counter substrate 22 is bonded in a state where the terminal portion 24 of the mother substrate 11 and the data line driving circuit 23 are exposed on the counter surface. As a result, the mother substrate 11 including the components of the liquid crystal device 20 and the opposing surface of the mother substrate 11 via the sealing material 27 with the terminal portion 24 of the above-described components exposed to the opposing surface of the mother substrate 11. Thus, the composite substrate 10 having the bonded counter substrate 22 is obtained. For example, the step S1 includes a step of performing alignment (arament) between the mother substrate 11 and the counter substrate 22, a step of bonding the mother substrate 11 and the counter substrate 22, and a step of curing the sealing material 27. including.

工程S2では、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29を注入する(図7(b))。より詳しくは、まずシール材27に設けられた開口(液晶注入口)に真空下で液晶29を供給する。これにより、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29が注入される。この後、液晶注入口をUV硬化性樹脂等で封止する。こうして、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29が封入される。   In step S2, liquid crystal 29 is injected into the space formed by the mother substrate 11, the counter substrate 22, and the sealing material 27 (FIG. 7B). More specifically, first, the liquid crystal 29 is supplied to an opening (liquid crystal inlet) provided in the sealing material 27 under vacuum. Thereby, the liquid crystal 29 is injected into the space formed by the mother substrate 11, the counter substrate 22, and the sealing material 27. Thereafter, the liquid crystal injection port is sealed with a UV curable resin or the like. In this way, the liquid crystal 29 is sealed in the space formed by the mother substrate 11, the counter substrate 22, and the sealing material 27.

工程S3では、マザー基板11の対向面とは反対側の面のうち、平面視で端子部24の配列方向に並行する切断予定線13に沿ってスクライブを行う(図7(c))。工程S3は、第1の実施形態の工程P4と同様に行う。   In step S3, scribing is performed along the planned cutting line 13 parallel to the arrangement direction of the terminal portions 24 in a plan view on the surface opposite to the facing surface of the mother substrate 11 (FIG. 7C). Step S3 is performed similarly to step P4 of the first embodiment.

工程S4では、マザー基板11を切断予定線13に沿ってブレイクする(図7(d))。より詳しくは、工程S4では、平面視で端子部24を挟んで切断予定線13の反対側に位置する対向基板22のうち、端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11のブレイクを行う。図7(d)中の矢印は、対向基板22に対して力を印加する部位を示している。工程S4は、その他の点については第1の実施形態の工程P5と同様に行う。これにより、マザー基板11は、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる。このようにブレイクされたマザー基板11は、切断面32を境に分割されて、短冊状複合基板40となる(図7(e)、図1(a))。このとき、ブレイク後のマザー基板11の端子部24近傍には、突起状の部位が残ることがない。したがって、突起状の部位を含む部分が欠けることによってマザー基板11の端子部24が損傷を受けるような不具合を起こりにくくすることができる。   In step S4, the mother substrate 11 is broken along the planned cutting line 13 (FIG. 7D). More specifically, in step S4, a force is applied to an end portion along the terminal portion 24 of the counter substrate 22 located on the opposite side of the planned cutting line 13 with the terminal portion 24 interposed therebetween in plan view. Breaking the substrate 11 is performed. An arrow in FIG. 7D indicates a portion where a force is applied to the counter substrate 22. The process S4 is performed in the same manner as the process P5 of the first embodiment with respect to other points. As a result, the mother substrate 11 is broken along the cut surface 32 that bends toward the terminal portion 24 as it approaches the opposing surface starting from the planned cutting line 13. The mother substrate 11 that has been broken in this manner is divided at the cut surface 32 to form a strip-shaped composite substrate 40 (FIGS. 7E and 1A). At this time, no projecting portion remains in the vicinity of the terminal portion 24 of the mother substrate 11 after the break. Therefore, it is possible to make it difficult to cause a problem that the terminal portion 24 of the mother board 11 is damaged due to the lack of the portion including the protruding portion.

工程S5では、工程S4で得られた短冊状複合基板40をブレイクすることにより個片化する。本実施形態では、対向基板22は個片化した状態であるので、工程S5では、マザー基板11を切断予定線15(図1(a))に沿って切断すれば足りる。   In step S5, the strip-like composite substrate 40 obtained in step S4 is broken into pieces. In this embodiment, since the counter substrate 22 is in a state of being separated into pieces, it is sufficient to cut the mother substrate 11 along the planned cutting line 15 (FIG. 1A) in step S5.

以上の工程を経て、液晶装置20が製造される。このように、マザー基板11に個片の対向基板22を貼り合わせる工程を含む製造方法によっても、第1の実施形態と同様の効果により、液晶装置20を高い歩留りで製造することができる。また、素子基板21の欠けに起因する不良が生じにくい、信頼性の高い液晶装置20が得られる。   The liquid crystal device 20 is manufactured through the above steps. As described above, the liquid crystal device 20 can be manufactured at a high yield by the manufacturing method including the step of bonding the individual counter substrate 22 to the mother substrate 11 by the same effect as that of the first embodiment. Further, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal device 20 in which defects due to chipping of the element substrate 21 hardly occur.

(a)は、複合基板の平面図、(b)は、複合基板の側面図。(A) is a top view of a composite substrate, (b) is a side view of a composite substrate. 液晶装置を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)中のA−A線における断面図。It is a figure which shows a liquid crystal device, (a) is a top view, (b) is sectional drawing in the AA in (a). 第1の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャート。5 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal device according to the first embodiment. (a)から(f)は、液晶装置の各製造工程における断面図。(A) to (f) is a cross-sectional view in each manufacturing process of a liquid crystal device. (a)は、マザー基板の切断面を示す断面図、(b)は、ブレイク後の端子部近傍の断面図、(c)は、切断面の例を示す断面図。(A) is sectional drawing which shows the cut surface of a mother board | substrate, (b) is sectional drawing of the terminal part vicinity after a break, (c) is sectional drawing which shows the example of a cut surface. 第2の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャート。9 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal device according to a second embodiment. (a)から(e)は、液晶装置の各製造工程における断面図。(A) to (e) are cross-sectional views in each manufacturing process of the liquid crystal device. (a),(b)は、従来の液晶装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。(A), (b) is sectional drawing which shows a part of process of the manufacturing method of the conventional liquid crystal device.

符号の説明Explanation of symbols

10…複合基板、11…第1の基板としてのマザー基板、12…第2の基板としての対向マザー基板、13,14a,14b,15…切断予定線、17…端子部対向片、20…電気光学装置としての液晶装置、21…素子基板、22…対向基板、23…データ線駆動回路、24…端子部、25…走査線駆動回路、26…上下導通材、27…シール材、29…液晶、32…切断面、40…短冊状複合基板、50…液滴吐出装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Composite board | substrate, 11 ... Mother board | substrate as 1st board | substrate, 12 ... Counter mother board | substrate as 2nd board | substrate, 13, 14a, 14b, 15 ... Planned cutting line, 17 ... Terminal part opposing piece, 20 ... Electricity Liquid crystal device as an optical device, 21 ... element substrate, 22 ... counter substrate, 23 ... data line driving circuit, 24 ... terminal portion, 25 ... scanning line driving circuit, 26 ... vertical conduction material, 27 ... sealing material, 29 ... liquid crystal , 32 ... cut surface, 40 ... strip-shaped composite substrate, 50 ... droplet discharge device.

Claims (4)

複数の電気光学装置の構成要素を含む第1の基板と、前記構成要素のうち端子部を前記第1の基板の対向面に露出させた状態でシール材を介して前記第1の基板の前記対向面に貼り合わされた第2の基板と、を有する複合基板に対し、前記第1の基板の前記対向面とは反対側の面のうち、平面視で前記端子部の配列方向に並行する切断予定線に沿ってスクライブを行う工程Aと、
平面視で前記端子部を挟んで前記切断予定線の反対側に位置する前記第2の基板のうち、前記端子部に沿った端部に力を印加して前記第1の基板のブレイクを行う工程Bと、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A first substrate including a plurality of components of the electro-optical device; and the terminal of the first substrate through a sealing material in a state where a terminal portion of the components is exposed to the opposing surface of the first substrate. For a composite substrate having a second substrate bonded to the facing surface, cutting parallel to the arrangement direction of the terminal portions in a plan view of the surface of the first substrate opposite to the facing surface Step A for scribing along the planned line,
Breaking the first substrate by applying a force to an end portion along the terminal portion of the second substrate located on the opposite side of the planned cutting line across the terminal portion in plan view. A method of manufacturing an electro-optical device.
請求項1に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記工程Bにおける前記第1の基板の前記対向面での切断位置は、平面視で前記切断予定線と前記端子部との間に位置していることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the cutting position of the first substrate in the step B on the facing surface is located between the planned cutting line and the terminal portion in plan view.
請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記工程Aの前に、
前記第1の基板の前記対向面に液晶を滴下する工程と、
前記第1の基板の前記対向面に、前記シール材を介して複数の前記電気光学装置の構成要素を含む前記第2の基板を貼り合わせ、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に前記液晶を封入する工程と、
前記第2の基板のうち、前記端子部に対向する部分を除去する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1 or 2,
Before step A,
Dropping a liquid crystal on the facing surface of the first substrate;
The second substrate including a plurality of components of the electro-optical device is bonded to the opposing surface of the first substrate via the sealing material, and the first substrate, the second substrate, and the Sealing the liquid crystal in a space formed by a sealing material;
And a step of removing a portion of the second substrate that faces the terminal portion.
請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記工程Aの前に、
前記第1の基板の前記対向面に、単一の前記電気光学装置に対応する大きさの前記第2の基板を、前記端子部が前記対向面に露出する状態で、前記シール材を介して貼り合わせる工程と、
前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に液晶を注入する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1 or 2,
Before step A,
The second substrate having a size corresponding to a single electro-optical device is disposed on the facing surface of the first substrate with the terminal portion exposed to the facing surface through the sealant. A process of bonding,
And a step of injecting liquid crystal into a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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