JP2009069731A - Method of manufacturing electrooptical device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係る一態様は、電気光学装置の製造方法に関する。 One embodiment according to the present invention relates to a method of manufacturing an electro-optical device.
上記電気光学装置の一例としての液晶装置は、対向して配置された素子基板及び対向基板と、素子基板と対向基板との間に配置された液晶とを有して構成される。また、液晶装置の構成の1つに、素子基板が対向基板より大きく、素子基板のうち対向基板に対して張り出した部分に、外部回路と電気的に接続するための端子部が露出しているものがある。 A liquid crystal device as an example of the electro-optical device includes an element substrate and a counter substrate that are disposed to face each other, and liquid crystal that is disposed between the element substrate and the counter substrate. In one configuration of the liquid crystal device, the element substrate is larger than the counter substrate, and a terminal portion that is electrically connected to an external circuit is exposed at a portion of the element substrate that protrudes from the counter substrate. There is something.
上記液晶装置の製造方法の1つとして、次のような方法が知られている。すなわち、まず複数の素子基板を包含するウェハ状のマザー基板上に、素子基板の端子部が露出する状態で複数の対向基板を貼り合わせ、その後マザー基板をブレイクして個々の液晶装置を取り出す方法である(特許文献1参照)。あるいは、次のような方法によっても液晶装置を製造することができる。すなわち、まずマザー基板上に液晶を滴下した後に、複数の対向基板を包含するウェハ状の対向マザー基板を貼り合わせる。そして、対向マザー基板のうち上記端子部に対向する部分を除去し、その後マザー基板及び対向マザー基板を個々の液晶装置の大きさにブレイクするという方法である。 The following method is known as one of the methods for manufacturing the liquid crystal device. That is, a method of first bonding a plurality of counter substrates on a wafer-like mother substrate including a plurality of element substrates in a state where terminal portions of the element substrates are exposed, and then breaking the mother substrate to take out individual liquid crystal devices. (See Patent Document 1). Alternatively, the liquid crystal device can be manufactured by the following method. That is, after dropping liquid crystal on a mother substrate, a wafer-like counter mother substrate including a plurality of counter substrates is bonded together. Then, a portion of the counter mother substrate that opposes the terminal portion is removed, and then the mother substrate and the counter mother substrate are broken to the size of each liquid crystal device.
図8(a),(b)は、上記製造方法の工程の一部を示す断面図である。図8(a)は、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向マザー基板12(又は対向基板22)が貼り合わされた状態を示している。マザー基板11と対向マザー基板12との間には、液晶29が封入されている。また、端子部24に対向する部分の対向マザー基板12は除去されており、マザー基板11の対向面には端子部24及びデータ線駆動回路23が露出している。上述した液晶装置の製造方法には、図8(a)の状態において、端子部24の配列方向に並行する(紙面垂直方向に延びる)切断予定線13に沿ってマザー基板11をブレイクする工程が含まれる。
8A and 8B are cross-sectional views showing a part of the steps of the manufacturing method. FIG. 8A shows a state in which the opposing mother substrate 12 (or the opposing substrate 22) is bonded to the opposing surface of the
しかしながら、切断予定線13に沿ってブレイクを行う際に、マザー基板11の切断面33が、端子部24から遠ざかる方向に曲がることがある。この結果、図8(b)に示すように、ブレイク後のマザー基板11の端部に突起状の部分が残る。この突起状の部分は、外力を受けて欠けやすく、突起状の部分を含む小片21aが欠けることによって端子部24にまで損傷が及ぶことがある。こうした不具合に起因して、歩留りが低下してしまうという課題がある。
However, when breaking along the planned
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[適用例1]複数の電気光学装置の構成要素を含む第1の基板と、前記構成要素のうち端子部を前記第1の基板の対向面に露出させた状態でシール材を介して前記第1の基板の前記対向面に貼り合わされた第2の基板と、を有する複合基板に対し、前記第1の基板の前記対向面とは反対側の面のうち、平面視で前記端子部の配列方向に並行する切断予定線に沿ってスクライブを行う工程Aと、平面視で前記端子部を挟んで前記切断予定線の反対側に位置する前記第2の基板のうち、前記端子部に沿った端部に力を印加して前記第1の基板のブレイクを行う工程Bと、を有する電気光学装置の製造方法。 [Application Example 1] A first substrate including a plurality of components of an electro-optical device, and a terminal portion of the component being exposed to a facing surface of the first substrate via a sealing material. An arrangement of the terminal portions in a plan view of a surface of the first substrate opposite to the facing surface with respect to a composite substrate having a second substrate bonded to the facing surface of the first substrate. Step A of scribing along a planned cutting line parallel to the direction, and along the terminal portion of the second substrate located on the opposite side of the planned cutting line across the terminal portion in plan view And a step B of applying a force to the end portion to break the first substrate.
このような方法によれば、第1の基板は、工程Bにおいて、切断予定線を起点として対向面に近付くにつれて端子部側に曲がる切断面、又は切断予定線を起点として第1の基板の面に略垂直な切断面に沿ってブレイクされる。この結果、ブレイク後の第1の基板において、端子部近傍に突起状の部位が残ることがない。よって、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合を起こりにくくすることができる。 According to such a method, in step B, the first substrate is a cut surface that bends toward the terminal portion as it approaches the opposing surface starting from the planned cutting line, or the surface of the first substrate starting from the planned cutting line. Break along a cutting plane substantially perpendicular to As a result, in the first substrate after the break, no protruding portion remains in the vicinity of the terminal portion. Therefore, it is possible to make it difficult for the terminal portion to be damaged due to the chipping of the first substrate.
[適用例2]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Bにおける前記第1の基板の前記対向面での切断位置は、平面視で前記切断予定線と前記端子部との間に位置している電気光学装置の製造方法。 Application Example 2 In the method of manufacturing the electro-optical device, the cutting position on the facing surface of the first substrate in the step B is between the planned cutting line and the terminal portion in plan view. A method for manufacturing a positioned electro-optical device.
このような方法によれば、工程Bにおいて端子部に損傷を与えることなく第1の基板をブレイクすることができる。 According to such a method, it is possible to break the first substrate without damaging the terminal portion in the step B.
[適用例3]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Aの前に、前記第1の基板の前記対向面に液晶を滴下する工程と、前記第1の基板の前記対向面に、前記シール材を介して複数の前記電気光学装置の構成要素を含む前記第2の基板を貼り合わせ、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に前記液晶を封入する工程と、前記第2の基板のうち、前記端子部に対向する部分を除去する工程と、を有する電気光学装置の製造方法。 Application Example 3 In the method of manufacturing the electro-optical device, the step of dropping liquid crystal on the facing surface of the first substrate before the step A and the surface of the first substrate on the facing surface The second substrate including a plurality of components of the electro-optical device is bonded to the liquid crystal in a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material. And a step of removing a portion of the second substrate that faces the terminal portion of the second substrate.
このような方法によれば、第2の基板が複数の電気光学装置の構成要素を含む大きさである場合において、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合が起こりにくい電気光学装置を製造することができる。 According to such a method, when the second substrate has a size including the components of the plurality of electro-optical devices, the electro-optical device is unlikely to be damaged due to the terminal portion being damaged due to the chip of the first substrate. Can be manufactured.
[適用例4]上記電気光学装置の製造方法であって、前記工程Aの前に、前記第1の基板の前記対向面に、単一の前記電気光学装置に対応する大きさの前記第2の基板を、前記端子部が前記対向面に露出する状態で、前記シール材を介して貼り合わせる工程と、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に液晶を注入する工程と、を有する電気光学装置の製造方法。 Application Example 4 In the method of manufacturing the electro-optical device, the second size having a size corresponding to the single electro-optical device is formed on the facing surface of the first substrate before the step A. And bonding the substrate through the sealing material with the terminal portion exposed to the facing surface, and liquid crystal in a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material. And a step of injecting the electro-optical device.
このような方法によれば、第2の基板が単一の電気光学装置に対応する大きさである場合において、第1の基板の欠けによって端子部が損傷を受ける不具合が起こりにくい電気光学装置を製造することができる。 According to such a method, in the case where the second substrate has a size corresponding to a single electro-optical device, the electro-optical device in which the terminal portion is not easily damaged due to the chipping of the first substrate is prevented. Can be manufactured.
以下、図面を参照し、電気光学装置の製造方法の実施形態について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。 Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device will be described with reference to the drawings. In the drawings shown below, the dimensions and ratios of the components are appropriately different from the actual ones in order to make the components large enough to be recognized on the drawings.
(第1の実施形態)
図1(a)は、複合基板10の平面図であり、図1(b)は、複合基板10の側面図である。複合基板10は、第1の基板としての略円盤状のマザー基板11と、第2の基板としての略円盤状の対向マザー基板12とが対向して貼り合わされた構成を有している。マザー基板11の、対向マザー基板12に対向する面を対向面と呼ぶ。マザー基板11と対向マザー基板12とは、平面視で略同形であり、厚さはともに約1.2mmである。ここで、平面視とは、マザー基板11の法線方向から見ることをいう。マザー基板11及び対向マザー基板12は、石英のウェハを基体として構成されている。また、マザー基板11及び対向マザー基板12は、端部にオリエンテーションフラットが設けられている。
(First embodiment)
FIG. 1A is a plan view of the
複合基板10は、電気光学装置としての液晶装置20(図2)の製造工程における流動基板の一形態である。図1(a)に示すように、複合基板10には、単一の液晶装置20に対応する構成要素が複数の行及び複数の列にわたってマトリクス状に並ぶように複数形成されている。したがって、マザー基板11及び対向マザー基板12のそれぞれにも、複数の液晶装置20の構成要素が含まれている。ここで、マザー基板11に形成される構成要素は、例えばTFT(Thin Film Transistor)素子、走査線、データ線、データ線駆動回路23(図2)、端子部24(図2)、画素電極、配向膜等であり、対向マザー基板12に形成される構成要素は、例えば共通電極、配向膜等である。また、本明細書では、液晶装置20の構成要素が並ぶ行方向をX軸、列方向をY軸と定義し、マザー基板11の法線方向をZ軸と定義する。
The
図1(a)には、液晶装置20の製造工程においてブレイク(切断)が行われる切断予定線13,14a,14b,15が実線で描かれている。マザー基板11は、これらのうち切断予定線13,15においてブレイクされ、対向マザー基板12は、切断予定線14a,14b,15においてブレイクされる。より詳しくは、まず対向マザー基板12が切断予定線14a,14bにおいてブレイクされ、端子部対向片17が除去される。次に、マザー基板11が切断予定線13に沿ってブレイクされ、複合基板10は、複数の短冊状複合基板40に分割される。最後に、マザー基板11及び対向マザー基板12の双方が切断予定線15に沿ってブレイクされ、個々の液晶装置20が取り出される。なお、切断予定線15の平面視での位置は、必要に応じてマザー基板11と対向マザー基板12との間で異ならせてもよい。
In FIG. 1A, scheduled
図2は、液晶装置20を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)中のA−A線における断面図である。液晶装置20は、マザー基板11から切り出された矩形の素子基板21と、対向マザー基板12から切り出された矩形の対向基板22とを備えている。素子基板21の対向面には、シール材27を介して対向基板22が貼り合わされている。シール材27は、対向基板22の輪郭形状に略一致するように枠状に配置されている。素子基板21、対向基板22、シール材27によって形成される空間には、電気光学物質としての液晶29が封入されている。液晶29の層の厚さは、数μm程度である。
2A and 2B are diagrams illustrating the
素子基板21は、平面視で対向基板22より一回り大きくなっている。素子基板21のうち対向基板22に対して張り出した領域の対向面には、素子基板21の1つの辺(切断予定線13に対応する辺)に沿ってデータ線駆動回路23、端子部24が形成されており、当該辺に交差する2辺に沿って走査線駆動回路25が形成されている。したがって、データ線駆動回路23、端子部24、走査線駆動回路25は、外部に露出している。このうち、端子部24は、切断予定線13に並行するように配列されている。換言すれば、切断予定線13は、端子部24の配列方向に並行している。データ線駆動回路23、端子部24に対向する位置には対向基板22が存在しないが、この部位は、対向マザー基板12のうち製造工程において除去される端子部対向片17(図1(a))が位置していた部位に相当する。また、対向基板22の四隅には、素子基板21と対向基板22との間で電気的な導通を取るための上下導通材26が配設されている。
The
図2には示されていないが、素子基板21の対向面(液晶29側表面)には、液晶29に駆動電圧を印加するための画素電極と、画素電極に電気的に接続された回路素子が形成されている。回路素子は、画素電極に電気的に接続されたTFT素子と、TFT素子に駆動信号を印加するための走査線、データ線、及び容量素子等からなる。回路素子は、データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25から供給される信号により駆動される。データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25は、端子部24に電気的に接続されている。端子部24には、ドライバIC等に接続されたFPC(Flexible Printed Circuit)等の外部回路が実装され、データ線駆動回路23及び走査線駆動回路25を動作させるための信号が外部から入力される。画素電極の液晶29側表面には、液晶29を配向させるための配向膜が形成されている。
Although not shown in FIG. 2, a pixel electrode for applying a driving voltage to the
また、対向基板22の液晶29側表面には、画素電極に対向する共通電極が形成されている。共通電極の液晶29側表面には、液晶29を配向させるための配向膜が形成されている。
A common electrode facing the pixel electrode is formed on the surface of the
液晶29は、画素電極と共通電極との間に印加される駆動電圧に応じて配向状態が変化する。そして、液晶29は、その配向状態に応じて透過光の偏光状態を変えることができる。液晶装置20は、液晶29の偏光変換機能を用いて入射光を変調することで表示を行う電気光学装置である。液晶装置20は、例えば、電子機器としてのプロジェクタに、ライトバルブとして搭載して用いることができる。
The alignment state of the
続いて、図3から図5を用いて液晶装置20の製造方法について説明する。このうち図3は、液晶装置20の製造方法を示すフローチャートであり、図4(a)から(f)は、液晶装置20の各製造工程における断面図である。以下、図3のフローチャートに沿って説明する。
Next, a method for manufacturing the
本実施形態に係る液晶装置20の製造方法は、工程P1から工程P6を含んでいる。まず、工程P1に先立って、マザー基板11及び対向マザー基板12を製造する。マザー基板11の製造工程は、例えば石英のウェハ上に、複数の液晶装置20に対応する回路素子、データ線駆動回路23、端子部24、画素電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。対向マザー基板12の製造工程は、例えば石英のウェハ上に複数の液晶装置20に対応する共通電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。また、マザー基板11又は対向マザー基板12に、シール材27をディスペンサ塗布法等により形成する。本実施形態では、マザー基板11の対向面に、対向基板22の輪郭形状と略一致するような枠状のシール材27を形成している。
The method for manufacturing the
工程P1では、マザー基板11の対向面に液晶29を滴下する(図4(a))。例えば、マザー基板11の対向面のうち、枠状のシール材27に囲まれた領域に、液滴吐出装置50を用いて液晶29の液滴を吐出する。
In the process P1, the
工程P2では、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向マザー基板12を貼り合わせて、複合基板10を製造する(図4(b))。これにより、マザー基板11、対向マザー基板12及びシール材27によって形成される空間に液晶29が封入される。工程P2は、一例として、マザー基板11と対向マザー基板12との間で位置合わせ(アラメント)を行う工程と、真空下においてマザー基板11と対向マザー基板12とを貼り合わせる工程と、シール材27を硬化させる工程とを含む。
In step P2, the opposing
なお、工程P2までの一連の工程では、対向マザー基板12に液晶29を滴下して、対向マザー基板12にマザー基板11を貼り合わせるようにしてもよい。また、対向マザー基板12にシール材27を形成してから貼り合わせてもよい。
In the series of steps up to step P2, the
工程P3では、対向マザー基板12のうちの、端子部24に対向する部分、すなわち端子部対向片17(図1(a))を除去することにより、端子部24を露出させる(図4(c))。本実施形態では、対向マザー基板12のうちの、端子部24及びデータ線駆動回路23に対向する部分を端子部対向片17とし、これを除去して端子部24及びデータ線駆動回路23を露出させている。工程P3は、一例として、次のような手順で行うことができる。まず切断予定線14bに沿って対向マザー基板12をスクライブ・ブレイクし、その後切断予定線14a,14bに沿って対向マザー基板12をダイシングする。このとき、対向マザー基板12の厚さ方向について途中までダイシングして止めておく。この状態で、端子部対向片17にエアを吹き付けながら吸引して端子部対向片17を除去する。端子部対向片17のY方向の幅、すなわち切断予定線14aと切断予定線14bとの間の距離は、約1.5mmである。この工程を経て、図1(a)に示す、X方向に沿って並んだ列状の端子部対向片17がすべて除去される。この結果、液晶装置20の構成要素を含むマザー基板11と、上記構成要素のうち端子部24をマザー基板11の対向面に露出させた状態でシール材27を介してマザー基板11の対向面に貼り合わされた対向マザー基板12とを有する状態の複合基板10が得られる。
In the process P3, the
対向マザー基板12をブレイクする際には、複合基板10を、金属板や、樹脂又はゴム等の弾性材料によって構成された支持台(不図示)の上に設置する。この支持台は、所定の厚み、所定の硬度を有して、印圧されることによって撓む構造となっている。十分な撓み量を確保するために、支持台は、例えば比較的薄い2枚の金属板とこれらの金属板の間に介在する弾性部材とからなる3層構造とすることができる。複合基板10をこのような支持台上に設置することにより、複合基板10自体も力を受けたときに撓みやすくなるため、容易にブレイクを行うことができる。後述する工程P5及び工程P6におけるブレイクの際にも、複合基板10又は短冊状複合基板40を上記支持台上に設置した状態で行う。
When the opposing
なお、工程P3は、上記した手順の他にも種々の手順によって行うことができる。例えば切断予定線14a,14bに沿って対向マザー基板12をスクライブ・ブレイクした後に端子部対向片17を手で取り除いてもよい。
The process P3 can be performed by various procedures other than the above-described procedure. For example, after the opposing
工程P4では、マザー基板11の対向面とは反対側の面のうち、平面視で端子部24の配列方向に並行する切断予定線13に沿ってスクライブを行う(図4(d))。工程P4は、工程Aに対応する。切断予定線13は、完成後の液晶装置20において、素子基板21(図4(f))のうち端子部24が形成されている辺の外形を規定する線である。したがって、切断予定線13は、平面視で、ある液晶装置20の端子部24とこれに隣接する液晶装置20のシール材27との間に設定される。工程P4は、例えばマザー基板11の表面に切断予定線13に沿ってダイヤモンドカッター等で切り込みを入れる工程を含む。ダイヤモンドカッターは、刃の部分に細かい凹凸が形成されているものを用いてもよい。このような構造のダイヤモンドカッターを用いてスクライブを行うことで、マザー基板11に対してより深い切り込みを形成することができるため、後にマザー基板11をブレイクする際の切断面の曲がりを抑制することが可能となる。切断予定線13は、図1(a)において切断予定線14aと平面視で重なるように描かれているが、切断予定線14aと平面視で異なる位置に設定してもよい。
In the process P4, scribing is performed along the
工程P5では、マザー基板11を切断予定線13に沿ってブレイクする(図4(e))。工程P5は、工程Bに対応する。より詳しくは、工程P5では、平面視で端子部24を挟んで切断予定線13の反対側に位置する対向マザー基板12のうち、端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11のブレイクを行う。図4(e)中の矢印は、対向マザー基板12に対して力を印加する部位を示している。このような手順によれば、マザー基板11は、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる。換言すれば、対向マザー基板12のうち端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11に対して、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿って切断するような応力を印加することができる。
In step P5, the
図5(a)は、工程P5におけるマザー基板11の切断面32を示すより詳細な断面図である。このように、マザー基板11の切断面32が対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる結果、マザー基板11の対向面での切断位置は、平面視で切断予定線13(位置u)と端子部24の端部(位置v)との間に位置することとなる。
FIG. 5A is a more detailed cross-sectional view showing the
このようにブレイクされたマザー基板11は、切断面32を境に分割されて、短冊状複合基板40となる(図4(f)、図1(a))。図5(b)は、このときの端子部24近傍の断面図である。この図に示すように、端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる結果、ブレイク後のマザー基板11の端子部24近傍には、例えば図8(b)に示すような突起状の部位が残ることがない。このため、突起状の部位を含む部分が欠けることによってマザー基板11の端子部24が損傷を受けるような不具合を起こりにくくすることができる。
The
なお、ブレイク時におけるマザー基板11の対向面での切断位置は、平面視で位置uと位置vとの間であればどこに位置していてもよい。図5(c)の切断面32aは、このうち対向面での切断位置が最も位置uに近くなる切断面の例を示し、切断面32bは、対向面での切断位置が最も位置vに近くなる切断面の例を示す。切断面32aは、切断予定線13を起点としてマザー基板11の面に略垂直な切断面である。
Note that the cutting position on the opposing surface of the
また、本実施形態のように、短冊状複合基板40の状態とする前に工程P3において端子部対向片17を除去するのは次のような理由による。すなわち、先に短冊状複合基板40の状態にすると、円盤状の複合基板10から切り出されたことに起因して短冊状複合基板40の長さが様々に異なるので、その後の工程を自動化するのが困難となるためである。
In addition, as in the present embodiment, the terminal
工程P6では、工程P5で得られた短冊状複合基板40をブレイクすることにより個片化する。より詳しくは、マザー基板11及び対向マザー基板12を切断予定線15(図1a)に沿ってスクライブ・ブレイクすることにより、個々の液晶装置20を切り出す。
In step P6, the
以上の工程を経て、液晶装置20が製造される。このような製造方法においては、マザー基板11(素子基板21)の端子部24近傍に突起状の部位が生じることがないため、当該突起状の部位の欠損に起因する不良が生じにくい。このため、液晶装置20を高い歩留りで製造することができる。また、上記製造方法によって得られた液晶装置20は、素子基板21の端子部24近傍に突起状の部位が残ることがないため、当該突起状の部位が欠けることにより端子部24が損傷を受けるような不具合が起こりにくい。したがって、上記製造方法によれば、素子基板21の欠けに起因する不良が生じにくい、信頼性の高い液晶装置20が得られる。
The
(第2の実施形態)
続いて、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態は、液晶装置20の製造方法の工程の一部が第1の実施形態と異なっている。液晶装置20の製造方法のその他の工程や、製造される液晶装置20の構成は、第1の実施形態と同様である。以下では、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment)
Next, the second embodiment will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in a part of the process of the manufacturing method of the
図6は、第2の実施形態に係る液晶装置20の製造方法を示すフローチャートであり、図7(a)から(e)は、液晶装置20の各製造工程における断面図である。以下、図6のフローチャートに沿って説明する。
FIG. 6 is a flowchart illustrating a manufacturing method of the
本実施形態に係る液晶装置20の製造方法は、工程S1から工程S5を含んでいる。また、本実施形態では、第1の実施形態におけるウェハ状の対向マザー基板12に代えて、小片の対向基板22を用いて液晶装置20を製造する。したがって、本実施形態では、対向基板22は第2の基板に対応する。
The manufacturing method of the
まず、工程S1に先立って、マザー基板11及び対向基板22を製造する。マザー基板11の構成及び製造方法は、第1の実施形態と同様である。対向基板22は、第1の実施形態の液晶装置20に含まれる対向基板22と同様の構成を有する基板である。対向基板22の製造工程は、単一の液晶装置20に対応する大きさの石英基板上に共通電極、配向膜等を形成する工程と、配向膜をラビング処理する工程とを含む。また、マザー基板11の対向面に、シール材27をディスペンサ塗布法等により形成する。ここで、シール材27は、対向基板22の輪郭形状に略一致するような、開口を有する枠状に配置される。シール材27の当該開口は、後に液晶注入口となる。シール材27は、対向基板22に形成してもよい。
First, prior to step S1, the
工程S1では、マザー基板11の対向面に、シール材27を介して対向基板22を貼り合わせて、複合基板10を製造する(図7(a))。このとき、マザー基板11の端子部24及びデータ線駆動回路23が対向面に露出する状態で、対向基板22を貼り合わせる。この結果、液晶装置20の構成要素を含むマザー基板11と、上記構成要素のうち端子部24をマザー基板11の対向面に露出させた状態でシール材27を介してマザー基板11の対向面に貼り合わされた対向基板22とを有する状態の複合基板10が得られる。工程S1は、一例として、マザー基板11と対向基板22との間で位置合わせ(アラメント)を行う工程と、マザー基板11と対向基板22とを貼り合わせる工程と、シール材27を硬化させる工程とを含む。
In step S1, the
工程S2では、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29を注入する(図7(b))。より詳しくは、まずシール材27に設けられた開口(液晶注入口)に真空下で液晶29を供給する。これにより、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29が注入される。この後、液晶注入口をUV硬化性樹脂等で封止する。こうして、マザー基板11、対向基板22及びシール材27によって形成される空間に液晶29が封入される。
In step S2,
工程S3では、マザー基板11の対向面とは反対側の面のうち、平面視で端子部24の配列方向に並行する切断予定線13に沿ってスクライブを行う(図7(c))。工程S3は、第1の実施形態の工程P4と同様に行う。
In step S3, scribing is performed along the
工程S4では、マザー基板11を切断予定線13に沿ってブレイクする(図7(d))。より詳しくは、工程S4では、平面視で端子部24を挟んで切断予定線13の反対側に位置する対向基板22のうち、端子部24に沿った端部に力を印加することにより、マザー基板11のブレイクを行う。図7(d)中の矢印は、対向基板22に対して力を印加する部位を示している。工程S4は、その他の点については第1の実施形態の工程P5と同様に行う。これにより、マザー基板11は、切断予定線13を起点として対向面に近付くにつれて端子部24側に曲がる切断面32に沿ってブレイクされる。このようにブレイクされたマザー基板11は、切断面32を境に分割されて、短冊状複合基板40となる(図7(e)、図1(a))。このとき、ブレイク後のマザー基板11の端子部24近傍には、突起状の部位が残ることがない。したがって、突起状の部位を含む部分が欠けることによってマザー基板11の端子部24が損傷を受けるような不具合を起こりにくくすることができる。
In step S4, the
工程S5では、工程S4で得られた短冊状複合基板40をブレイクすることにより個片化する。本実施形態では、対向基板22は個片化した状態であるので、工程S5では、マザー基板11を切断予定線15(図1(a))に沿って切断すれば足りる。
In step S5, the strip-like
以上の工程を経て、液晶装置20が製造される。このように、マザー基板11に個片の対向基板22を貼り合わせる工程を含む製造方法によっても、第1の実施形態と同様の効果により、液晶装置20を高い歩留りで製造することができる。また、素子基板21の欠けに起因する不良が生じにくい、信頼性の高い液晶装置20が得られる。
The
10…複合基板、11…第1の基板としてのマザー基板、12…第2の基板としての対向マザー基板、13,14a,14b,15…切断予定線、17…端子部対向片、20…電気光学装置としての液晶装置、21…素子基板、22…対向基板、23…データ線駆動回路、24…端子部、25…走査線駆動回路、26…上下導通材、27…シール材、29…液晶、32…切断面、40…短冊状複合基板、50…液滴吐出装置。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
平面視で前記端子部を挟んで前記切断予定線の反対側に位置する前記第2の基板のうち、前記端子部に沿った端部に力を印加して前記第1の基板のブレイクを行う工程Bと、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A first substrate including a plurality of components of the electro-optical device; and the terminal of the first substrate through a sealing material in a state where a terminal portion of the components is exposed to the opposing surface of the first substrate. For a composite substrate having a second substrate bonded to the facing surface, cutting parallel to the arrangement direction of the terminal portions in a plan view of the surface of the first substrate opposite to the facing surface Step A for scribing along the planned line,
Breaking the first substrate by applying a force to an end portion along the terminal portion of the second substrate located on the opposite side of the planned cutting line across the terminal portion in plan view. A method of manufacturing an electro-optical device.
前記工程Bにおける前記第1の基板の前記対向面での切断位置は、平面視で前記切断予定線と前記端子部との間に位置していることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the cutting position of the first substrate in the step B on the facing surface is located between the planned cutting line and the terminal portion in plan view.
前記工程Aの前に、
前記第1の基板の前記対向面に液晶を滴下する工程と、
前記第1の基板の前記対向面に、前記シール材を介して複数の前記電気光学装置の構成要素を含む前記第2の基板を貼り合わせ、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に前記液晶を封入する工程と、
前記第2の基板のうち、前記端子部に対向する部分を除去する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1 or 2,
Before step A,
Dropping a liquid crystal on the facing surface of the first substrate;
The second substrate including a plurality of components of the electro-optical device is bonded to the opposing surface of the first substrate via the sealing material, and the first substrate, the second substrate, and the Sealing the liquid crystal in a space formed by a sealing material;
And a step of removing a portion of the second substrate that faces the terminal portion.
前記工程Aの前に、
前記第1の基板の前記対向面に、単一の前記電気光学装置に対応する大きさの前記第2の基板を、前記端子部が前記対向面に露出する状態で、前記シール材を介して貼り合わせる工程と、
前記第1の基板、前記第2の基板及び前記シール材によって形成される空間に液晶を注入する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1 or 2,
Before step A,
The second substrate having a size corresponding to a single electro-optical device is disposed on the facing surface of the first substrate with the terminal portion exposed to the facing surface through the sealant. A process of bonding,
And a step of injecting liquid crystal into a space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material.
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JP2007240531A JP2009069731A (en) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Method of manufacturing electrooptical device |
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---|---|---|---|---|
CN104536168A (en) * | 2014-12-31 | 2015-04-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Mother substrate |
JP2022058206A (en) * | 2020-09-30 | 2022-04-11 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Method for treating laminated substrate |
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2007
- 2007-09-18 JP JP2007240531A patent/JP2009069731A/en not_active Withdrawn
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