JP2005266206A - Liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、透過表示と反射表示とを同時に表示する機能を備えた液晶表示装置に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a function of simultaneously displaying a transmissive display and a reflective display.
従来の透過表示と反射表示とを同時に表示する機能を備えたカラー液晶表示装置として、下記特許文献1に示されるように、表面に凹凸形状を有する反射板において凹凸形状の凹部がフィボナッチ数列を利用して配置することにより、凹凸形状に規則性が現れないようにした反射板及びそれを液晶素子内に備えた液晶表示装置が提案されている。 As a color liquid crystal display device having a function of displaying a conventional transmissive display and reflective display and at the same time, as shown in Patent Document 1, concave portions of the concavo-convex shape in the reflective plate having an uneven shape on the surface utilizing the Fibonacci sequence Thus, there has been proposed a reflector plate that is arranged so that regularity does not appear in the concavo-convex shape and a liquid crystal display device including the reflector in a liquid crystal element.
また、下記非特許文献1に示されるように、薄膜トランジスタ(以下「TFT」という。)上に形成された凹凸部の最適傾斜面のみに反射膜を形成し、他を透過部とすることにより光利用効率を向上させ、さらに、フィボナッチ数列を反射板の凹凸設計に適用することにより、反射表示時に白色度の高い表示を可能にした透過表示と反射表示とを同時に表示する機能を備えたカラー液晶表示装置が提案されている。 Further, as shown in Non-Patent Document 1 below, a reflection film is formed only on the optimum inclined surface of the uneven portion formed on the thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”), and the other is used as a transmission portion. Color liquid crystal with a function to display transmissive display and reflective display at the same time, enabling high whiteness display during reflective display by improving the utilization efficiency and applying Fibonacci sequence to the uneven design of the reflector Display devices have been proposed.
さらに、従来の透過表示と反射表示を同時に表示する機能を備えたカラー液晶表示装置として、下記特許文献2に示されるように、粒状体が積層されて形成された導電性の下層膜と、該下層膜上に形成された金属の上層膜からなる表示用電極を有する液晶表示装置が提案されている。
前記背景技術は、TFT上に樹脂等で形成された凹凸部の最適傾斜面にのみ反射膜を形成し、他を透過部とすることにより、光利用効率を向上させた透過表示と反射表示とを同時に表示する機能を備えたカラー液晶表示装置である。 In the background art, a reflective film is formed only on the optimum inclined surface of the uneven portion formed of resin or the like on the TFT, and the other is used as a transmissive portion. Is a color liquid crystal display device having a function of simultaneously displaying.
しかし、前記背景技術は、凹凸部の最適傾斜面にのみ反射膜を形成するため、単に、この特定領域のみに反射膜を形成するためのフォトマスクとパターニングプロセスが増えてコストアップになるだけでなく、透過部の開口率及び反射特性が前記フォトマスクと凹凸パターンの位置合せ精度に依存して変化するという課題を有していた。 However, since the background art forms a reflective film only on the optimum inclined surface of the concavo-convex part, it simply increases the cost by increasing the number of photomasks and patterning processes for forming the reflective film only in this specific region. However, there is a problem that the aperture ratio and reflection characteristics of the transmissive portion change depending on the alignment accuracy of the photomask and the uneven pattern.
また、前記背景技術は、凹凸部の最適傾斜面(特定領域)にのみ反射膜を配置するので、この反射膜を画素電極として兼用することができず、別個に透明な導電層が必要になるなど、構造及び製作プロセスが複雑になるのでコストアップになるという課題も有していた。 In the background art, since the reflective film is disposed only on the optimum inclined surface (specific region) of the uneven portion, the reflective film cannot be used as a pixel electrode, and a separate transparent conductive layer is required. As a result, the structure and the manufacturing process become complicated, which has a problem of increasing the cost.
本発明の目的は、上記課題を解決し、良好な透過及び反射表示が可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-described problems and provide a liquid crystal display device capable of good transmission and reflection display and a manufacturing method thereof.
本発明は基板上に複数のゲート配線と、該ゲート配線と直行するように配置された複数のソース配線とによって包囲される複数の画素からなり、該画素内に前記ゲート配線と前記ソース配線の交差点付近に設けられたスイッチング素子と、該スイッチング素子に接続された画素電極が形成され、透過表示と反射表示とが同時に行われる液晶表示装置において、複数の光散乱機能と反射機能を有する微小な導電体からなる反射体を、前記画素電極下に分散配置すると共に、透過表示部となる前記反射体が配置されていない領域の総面積と、反射表示部となる前記反射体が配置された領域の総面積の比率が所定の比率になるように、前記反射体を配置したことを特徴とする液晶表示装置である。 The present invention includes a plurality of pixels surrounded by a plurality of gate wirings on a substrate and a plurality of source wirings arranged so as to be orthogonal to the gate wirings, and the gate wirings and the source wirings are included in the pixels. a switching element provided in the vicinity of the intersection, is connected to the pixel electrodes formed on the switching element, in the transmissive display and the reflective display in the liquid crystal display device are simultaneously performed, a fine having a reflection function and a plurality of light scattering function A reflector made of a conductor is dispersedly arranged below the pixel electrode, and a total area of a region where the reflector serving as a transmissive display portion is not disposed, and a region where the reflector serving as a reflective display portion is disposed. The liquid crystal display device is characterized in that the reflector is arranged so that the ratio of the total area of the liquid crystal panel becomes a predetermined ratio.
特に、透明な画素電極下の、画素電極領域に対応する領域の全面又は特定領域に複数の光散乱機能と反射機能を有する微小な反射体を分散配置させた画素構造にすることにより、前記画素電極が前記反射体の保護膜として作用するだけでなく、前記画素電極と前記反射体間に絶縁層を介在させることにより、透過表示部と反射表示部とで液晶層の厚みを変えるための厚み制御層を形成することができるので、信頼性が高く、かつ反射表示と透過表示特性が両立できる液晶表示装置が提供できる。 In particular, by forming a pixel structure in which minute reflectors having a plurality of light scattering functions and reflection functions are dispersedly arranged on the entire surface of a region corresponding to a pixel electrode region or a specific region under a transparent pixel electrode, the pixel Not only does the electrode act as a protective film for the reflector, but also a thickness for changing the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive display portion and the reflective display portion by interposing an insulating layer between the pixel electrode and the reflector. Since the control layer can be formed, it is possible to provide a liquid crystal display device that has high reliability and can achieve both reflective display and transmissive display characteristics.
また、反射表示部となる複数の微小な反射体を、画素電極となる透明な導電層の下に形成する構造なので、反射体と画素電極間に絶縁層を介在させることにより、透過表示部及び反射表示部の液晶厚みを変えるための厚み制御層の形成が容易なだけでなく、反射体の形状及びサイズの制御が容易に行えるインクジェット方式や印刷方式が利用できる。 In addition, since a plurality of minute reflectors serving as a reflective display portion are formed under a transparent conductive layer serving as a pixel electrode, an insulating layer is interposed between the reflector and the pixel electrode, whereby a transmissive display portion and In addition to the easy formation of the thickness control layer for changing the thickness of the liquid crystal in the reflective display portion, an ink jet method or a printing method that can easily control the shape and size of the reflector can be used.
さらに、透明な画素電極と光散乱機能及び光反射機能を有する微小な反射体のみで構成する、最も単純な透過/反射兼用の画素電極構造にすることにより、製作工数が大幅に削減できる。 Furthermore, the number of manufacturing steps can be greatly reduced by employing the simplest pixel electrode structure for both transmission and reflection, which includes only a transparent pixel electrode and a minute reflector having a light scattering function and a light reflection function.
また、反射表示部となる前記反射体を所定サイズの凸又は凹形状にして、前記画素電極下に分散配置する画素電極構造とすることにより、透過表示部(反射体が配置されていない部分)と反射表示部(反射体が配置されている部分)の面積比率が高精度、かつ任意に制御できる。 In addition, a transmissive display portion (a portion where no reflector is disposed) is obtained by forming the reflector serving as a reflective display portion into a convex or concave shape of a predetermined size and adopting a pixel electrode structure that is dispersedly arranged below the pixel electrode. And the area ratio of the reflective display part (part where the reflector is disposed) can be arbitrarily controlled with high accuracy.
さらに、画素電極下に形成される反射体の形状を、連続的に変化する傾斜面を有する凸又は凹形状とすることにより、観察する角度に依存しない反射及び透過表示が得られる。 Furthermore, by making the shape of the reflector formed under the pixel electrode a convex or concave shape having a continuously changing inclined surface, reflection and transmission display independent of the observation angle can be obtained.
また、画素電極下に形成される微小な凸又は凹形状の反射体を、上方向から見た形状が円状、楕円状、棒状、紐状、又はそれに近似する形状にすることにより、明るい反射・透過表示が得られる。 Also, fine convex or concave reflector is formed under the pixel electrode, shape viewed from above is circular, elliptical, rod-like, cord-like, or by a shape approximating that bright reflection・ Transparent display can be obtained.
さらに、画素電極下に形成される微小な凸又は凹形状の反射体を、上方向から見た形状が円状、楕円状、棒状、紐状、又はそれに近似する形状の凸又は凹を高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンにすることにより、着色のない明るい反射・透過表示が得られる。 Further, a minute convex or concave reflector formed under the pixel electrode is a polymer having a convex or concave shape with a circular shape, an elliptical shape, a rod shape, a string shape, or a shape similar to the circular shape when viewed from above. Bright reflection / transmission display without coloring can be obtained by using a phase separation pattern expressed by a block copolymer or the like.
さらにまた、画素電極下に形成される光散乱機能と光反射機能を有する反射体を、直径が1〜10nmの銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の微細な金属粒子、樹脂、溶剤等からなる低粘度(1〜20cps程度)のペースト材を用いて形成することにより、低温(200〜250℃程度)で形成できる。 Furthermore, a reflector having a light scattering function and a light reflection function formed under the pixel electrode is made of fine metal particles such as silver, silver / palladium / copper alloy, aluminum, titanium, and gold having a diameter of 1 to 10 nm. By using a paste material having a low viscosity (about 1 to 20 cps) made of resin, solvent, etc., it can be formed at a low temperature (about 200 to 250 ° C.).
前記反射体の配置パターンが高分子ブロック共重合等で発現する相分離パターン、又はそれに近似するパターンである。なお、本発明は、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象を利用したパターン、又はそれらに近似したパターンに限定されるものでなく、従来のフィボナッチ数列や乱数表を利用して光散乱機能と光反射機能を有する反射体を配置してもよい。 The arrangement pattern of the reflector is a phase separation pattern expressed by polymer block copolymerization or the like, or a pattern close thereto. Note that the present invention is not limited to a pattern using a phase separation phenomenon expressed in a polymer block copolymer or the like, or a pattern similar to them, and uses a conventional Fibonacci number sequence or a random number table. the reflector having a scattering function and a light reflection function may be disposed.
また、本発明は、反射体を上方から見た形状についても、円、楕円、縦横比が比較的小さな棒状や縦横比が比較的大きな紐状、又はそれらに近似した形状に限定されるものでなく、多角形等でもよい。 Further, the present invention is also limited to the shape of the reflector viewed from above, such as a circle, an ellipse, a rod shape having a relatively small aspect ratio, a string shape having a relatively large aspect ratio, or a shape approximate to them. It may be a polygon or the like.
さらに、本発明は光散乱機能と光反射機能を有する反射体として銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等に限定されるものでなく、その他の金属又は非金属材料でも反射率が高い物質であれよい。 Furthermore, the present invention is not limited to silver, silver / palladium / copper alloy, aluminum, titanium, gold, etc. as a reflector having a light scattering function and a light reflection function, and can be reflected by other metals or non-metallic materials. It can be a high rate substance.
本発明によれば、(1)透明な画素電極と光散乱機能及び光反射機能を有する反射体のみで、透過及び反射表示兼用の画素電極を形成することにより、反射層の形成及びパターニングの工程が不要になるだけでなく、透過表示領域と反射表示領域の比率を使用する照明環境に合わせて、高精度に設定できるだけでなく、配置パターンも任意に選択でき、しかも、簡単なプロセスで透過/反射表示兼用の画素電極が形成できるので、屋内、屋外何れの照明環境下においても明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 According to the present invention, (1) a process of forming and patterning a reflective layer by forming a pixel electrode for both transmissive and reflective display by using only a transparent pixel electrode and a reflector having a light scattering function and a light reflecting function. In addition to eliminating the need for a transparent display area, the ratio of the transmissive display area to the reflective display area can be set with high accuracy in accordance with the lighting environment, and the arrangement pattern can be arbitrarily selected. Since a pixel electrode that is also used for reflection display can be formed, a low-cost liquid crystal display device capable of displaying an image with high brightness and high contrast in both indoor and outdoor lighting environments can be provided.
(2)透明な画素電極下に、光反射機能を有する微小な金属粒子を主体とするペーストを用いて、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な反射体を分散配置・形成することにより、簡単なプロセスで透過/反射表示兼用の液晶表示装置ができるので、屋内、屋外何れの照明環境下においても明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能で、低価格の液晶表示装置が提供できる。 (2) Under the transparent pixel electrode, by using a paste mainly composed of minute metal particles having a light reflecting function, by disposing and arranging minute reflectors having a light scattering function and a light reflecting function, Since a liquid crystal display device that can be used for both transmission and reflection display can be obtained by a simple process, a bright and high-contrast image display is possible in both indoor and outdoor lighting environments, and a low-cost liquid crystal display device can be provided.
(3)反射表示部となる光反射体を、光反射機能を有する微小な金属粒子を主体とする低粘度、かつ低焼成温度のペースト材を用いて無秩序に分散配置及び形成することにより、屋内、屋外何れの照明環境下においても光の干渉による色づきのない、明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能で、低価格の液晶表示装置が提供できる。 (3) By arranging and forming the light reflector as the reflective display portion randomly and using a paste material having a low viscosity and a low firing temperature mainly composed of fine metal particles having a light reflecting function, In any outdoor lighting environment, a bright and high-contrast image display without coloration due to light interference is possible, and a low-cost liquid crystal display device can be provided.
(4)透明な画素電極下に、光反射機能を有する微小な金属粒子と熱硬化性樹脂をバインダーとする低粘度、かつ低硬化温度のペースト材を用いて、連続的に変化する曲面を有する微小な凸又は凹形状の反射体を無秩序に分散配置及び形成することにより、屋内、屋外何れの照明環境下においても光の干渉による色づきのない、明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能な、低価格の液晶表示装置が提供できる。 (4) Under a transparent pixel electrode, it has a curved surface that changes continuously using a paste material having a low viscosity and a low curing temperature using a fine metal particle having a light reflecting function and a thermosetting resin as a binder. by fine convex or concave reflector a randomly distributed and formed, indoors, outdoors with no coloring due to interference of light in any under the environment of illumination, bright, and capable of image display of high contrast, A low-cost liquid crystal display device can be provided.
(5)透明な画素電極下に、光反射機能を有する微小な金属粒子と熱硬化性樹脂をバインダーとする低粘度、かつ低硬化温度の導電材を用いて、連続的に変化する曲面を有する微小な凸又は凹を上方向から見た形状が大略円形、多角形、楕円、棒状、紐状、又はそれらに近似する形状にすることにより、使用する照明環境に適した反射特性にすることができるので、屋内、屋外何れの照明環境下においても光の干渉による色づきのない、明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能な、低価格の液晶表示装置が提供できる。 (5) Under a transparent pixel electrode, it has a curved surface that continuously changes using a conductive material having a low viscosity and a low curing temperature using a fine metal particle having a light reflection function and a thermosetting resin as a binder. Reflective characteristics suitable for the lighting environment to be used can be obtained by making the shape of the minute convex or concave viewed from above approximately circular, polygonal, elliptical, bar-like, string-like, or a shape similar to them. Therefore, it is possible to provide a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image without coloring due to light interference in both indoor and outdoor lighting environments.
(6)大略円形、多角形、楕円、棒状、紐状、又はそれらに近似する形状の凸又は凹形状の反射体を、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用して配置することにより、使用する照明環境に適した反射特性にすることができるので、屋内、屋外何れの照明環境下においても光の干渉による色づきのない、明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能な、低価格の液晶表示装置が提供できる。 (6) A substantially circular, polygonal, elliptical, rod-like, string-like or convex or concave reflector having a shape similar to them is arranged using a phase separation pattern expressed by a polymer block copolymer or the like. By doing so, it is possible to achieve reflection characteristics suitable for the lighting environment to be used, so that it is possible to display a bright and high-contrast image without coloring due to light interference in both indoor and outdoor lighting environments. A low-cost liquid crystal display device can be provided.
(7)光反射機能を有する微小な金属粒子と熱硬化性樹脂をバインダーとする低粘度、かつ低硬化温度のペースト材と相分離現象解析シミュレーションデータを用いて作製した高精度の階調露光用フォトマスクを用いることにより、大略円形、多角形、楕円、棒状、紐状、又はそれらに近似する形状の反射体を無秩序に分散配置することができるので、光の干渉による色づきのない、明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 (7) For high-accuracy tone exposure produced by using paste material with low viscosity and low curing temperature using fine metal particles having a light reflection function and thermosetting resin as a binder and simulation data of phase separation phenomenon analysis by using a photomask, circular generally, polygonal, elliptical, rod-like, cord-like, or the reflection of the shape similar to them can be randomly distributed, no coloring due to interference of light, a bright, and high-contrast image display capable of low-cost liquid crystal display device can be provided.
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1ないし図5は、本発明に係る透過/反射表示兼用電極を内蔵した液晶表示装置であって、反射機能を有する凸形状の反射体17が、所望の密度で配置されている。
1 to 5 show a liquid crystal display device incorporating a transmission / reflection display electrode according to the present invention, in which convex
図1は、本発明に係る液晶表示装置の断面構造であって、同図(a)は、反射体17が、透明な導電層からなる画素電極16下に配置され、同図(b)は、反射体17が、薄膜トランジスタ19のゲート絶縁膜12下に配置される点が異なり、他の構造は同じである。
FIG. 1 is a cross-sectional structure of a liquid crystal display device according to the present invention. In FIG. 1A, a
ガラス基板10上に汎用の真空蒸着法とフォトリソグラフィ方法により、複数の薄膜トランジスタ19を形成する。この薄膜トランジスタ19は、ゲート電極11、ゲート絶縁膜12、n型不純物とリンをドーピングしたアモルファスシリコン層13、ドレイン電極14及びソース電極15から構成され、以下の材質、膜厚を有する。
A plurality of
ゲート電極11の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
ゲート絶縁膜12の材質:窒化シリコン、膜厚:100〜1000nm、好ましくは200〜500nm。
アモルファスシリコン層13の材質:アモルファスシリコン、膜厚:5〜100nm、好ましくは10〜50nm。
ドレイン電極14の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
ソース電極15の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the gate electrode 11: Chromium, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
The material of the gate
Material of the amorphous silicon layer 13: amorphous silicon, film thickness: 5 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm.
The material of the drain electrode 14: chrome, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
The material of the source electrode 15: chrome, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
次に、画素電極16を形成する前に、この画素電極16下の領域全面、又は、図4に示すように特定の領域に、銀粒子を主体とする反射材17をインクジェット法又はオフセット印刷法を使用して、微小な凸(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm、直径と高さ(深さ)の比:12〜18)、多角形、棒状、紐状、又は、それに近似した形状)を配置し、焼成を行い、光散乱機能及び光反射機能を有する反射体17を形成する。この反射材17は、以下に示すもので構成される。
Next, before the
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
で構成され、例えば、ハリマ化成製銀ナノペースト、型式:NPS-J等が挙げられる。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
In configured, for example, Harima Kasei silver nano paste, Model: NPS-J, and the like.
その後、薄膜トランジスタ19に電気的に接続するように透明な画素電極16(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成した後、さらに、画素電極16上に配向制御膜18(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成してなる一方の電極基板を作製する。
Thereafter, the
次に、ガラス基板20上に汎用の真空蒸着法とフォトリソグラフィ方法により、遮光層21、着色層22、保護層23、透明電極24、配向制御膜25が形成された他方の電極基板を作製する。これらの材質、膜厚を以下に示す。
Next, the other electrode substrate on which the
遮光層21の材質:クロム及び酸化クロム、膜形成法:スパッタ、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
着色層22の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層23の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極24の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜25の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 21: chromium and chromium oxide, film forming method: sputtering, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Base material of the colored layer 22: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 23: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 24: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 25: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
この他方の電極基板の配向制御膜25と一方の電極基板の配向制御膜18とが互いに対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板10,20の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、該両電極基板10,20の間隙に液晶1を充填させて液晶素子を形成し、さらに、液晶素子の両ガラス基板面に所望の位相差板3,5と偏光板4,6を貼り合せると共に、液晶駆動用ICが搭載されたテープ・キャリア・パッケージ(以下「TCP」という。)及び駆動用外部回路等を接続して液晶表示素子30を形成し、この液晶表示素子30に光源41(冷陰極管、LED)、導光体42(材質:アクリル)、プリズムシート43、拡散シート44等から構成されるバックライト40をフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで液晶表示装置50を作製する。
Spacer material 2 (material: polymer beads, silica beads, particle diameter: 5 μm, dispersion method: water dispersion) so that the
以上、本発明によれば、透明な導電層からなる画素電極下に光散乱及び光反射機能を有する反射材からなる微小な凸又は凹を配置するため、画素電極と反射材とは電気的に接続されていなくても透過及び反射表示が可能なので、反射材として金属酸化物等の絶縁体でも使用できるようになるので安価で、高信頼性の液晶表示装置が提供できる。 As described above, according to the present invention, since the minute projections or depressions made of the reflecting material having the light scattering and light reflecting functions are arranged under the pixel electrode made of the transparent conductive layer, the pixel electrode and the reflecting material are electrically connected. Since transmission and reflection display are possible even if they are not connected, an insulator such as a metal oxide can be used as a reflecting material, so that an inexpensive and highly reliable liquid crystal display device can be provided.
また、本発明によれば、透明な画素電極と反射表示体となる光散乱及び光反射機能を有する反射材間に絶縁層を配置した構造ができるので、透過表示部と反射表示部の液晶厚みを変えるための厚み制御層が形成できるため、透過及び反射表示共にコントラストの高い画像表示が可能な液晶表示装置が提供できる。 In addition, according to the present invention, since a structure in which an insulating layer is disposed between a transparent pixel electrode and a reflective material having a light scattering and light reflecting function as a reflective display body can be formed, the liquid crystal thickness of the transmissive display unit and the reflective display unit Therefore, a liquid crystal display device capable of displaying images with high contrast in both transmissive and reflective displays can be provided.
次に、本発明の特徴となる画素電極16の詳細を図2に示す。同図に示すように、ゲート配線11'とドレイン配線14'に囲まれた領域内に形成された薄膜トランジスタ19のソース電極に接続された透明な画素電極16下に光散乱機能及び光反射機能を有する反射体17を配置した画素電極であり、黒で表示された部分が反射表示部であり、その他の白で表示された部分が透過表示部である。
Next, the details of the
なお、同図に示す反射体17の分散配置パターンは、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用したものであるが、本発明は、この形状やパターンに限定されるものでなく、形状については円形、多角形、棒状、紐状、又はそれに近似する形状でも良く、反射体17の分散配置パターンは乱数表を利用するもの、フィボナッチ数列を利用するものでも良い。ただし、反射体17の分散配置パターンについては、1画素の面積に対する反射表示部の面積(黒で表示された部分の総面積)の占有率が任意に制御できる方法が望ましいので、本実施例では高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用した。
The dispersion arrangement pattern of the
次に、本発明の特徴である光散乱機能及び反射機能を有する反射材体の配置例を図3ないし図5に示す。図3は、反射体17を画素電極16の全面に分散配置した場合であり、同図(a)が透過表示(白で表示した部分が透過表示部)を優先した分散配置パターン、同図(b)が反射表示(黒で表示した部分が反射表示部)を優先した分散配置パターン例である。同図に示すように、透明な画素電極16下の全面に大略円形の凸状又は凹状の反射体17を分散配置したものであり、(a)は反射体17の表示部(黒で表示した部分)よりも透過表示部17'(白で表示した部分)の方が多い、所謂、透過表示優位の分散配置パターン例、(b)は透過表示部17'(白で表示した部分)よりも反射表示部17(黒で表示した部分)よりの方が多い、所謂、反射表示優位の分散配置パターンである。
Next, examples of the arrangement of the reflecting material bodies having the light scattering function and the reflection function, which are the features of the present invention, are shown in FIGS. FIG. 3 shows a case where the
また、図4は、凸状又は凹状の反射体17を画素電極16の特定領域にのみ分散配置した場合であり、同図(a)は透過表示部が短冊状に分割配置され、その周辺にのみ反射体を分散配置したパターン、同図(b)は透過表示部が円状に分割配置され、その周辺にのみ反射体を分散配置したパターン、同図(c)は同図(a)のA-A'部における断面図、同図(d)は同図(b)のA-A'部における断面図である。
FIG. 4 shows a case where the convex or
図4に示すように、同図(a)、(c)は透明な画素電極16内の3箇所に短冊状の透過表示部17'を設け、その周辺にのみ反射体17を分散配置した例であり、透過表示部17'(白で表示した部分)に大きな面積を割り当て、反射体17の表示部(黒で表示した部分)の面積を小さく割り当てた場合のパターン配置で、所謂、透過表示重視のパターン配置、同図(b)、(d)は透明な画素電極16下に比較的大きな面積の円形状の透過表示部17'を設け、それ以外の部分に反射体17を分散配置した例であり、透過表示部17'(白で表示した部分)を複数箇所に設け、反射体17の表示部(黒で表示した部分)の面積をやや小さくした場合のパターン配置で、所謂、透過表示重視型のパターン配置である。なお、本実施例では比較的大きな透過表示部17'内には反射体17を配置しなかったが、これに限定されることなく反射体17を配置しても同様の効果が得られる。
As shown in FIG. 4, FIGS. 4A and 4C show an example in which strip-like
さらに、図5は、反射体17の別の形状を示す図であり、同図(a)は反射体17を上方向から見たときの形状が紐状パターンの場合、同図(b)は反射体17を上方向から見たときの形状が棒状パターンの場合である。図5に示すように、同図(a)は紐状(凸又は凹形状)の反射体17を分散配置したパターンであり、透過表示部17'(白で表示した部分)と反射体17の表示部(黒で表示した部分)をほぼ同じ面積にした場合のパターン配置、同図(b)は棒状(凸又は凹形状)の反射体17を分散配置したパターンであり、透過表示部17'(白で表示した部分)と反射体17の表示部(黒で表示した部分)をほぼ同じ面積にした場合のパターン配置である。この紐あるいは棒形状反射体17の配置パターンの特徴は、液晶表示装置の反射表示特性に指向性(方位角方位)を付与できることであり、モバイルタイプの液晶表示装置では反射表示部の面積が小さくても、明るい反射表示が得られる効果が得られる。
Further, FIG. 5 is a diagram showing another shape of the
次に、本発明の液晶表示装置の構成を示す模式図を図6に示す。同図に示すように、本発明の液晶表示装置50は液晶表示素子30、走査側駆動回路51、信号側駆動回路52及び信号処理回路53で構成した。なお、図示していないが、前述したように液晶表示素子30の背面には冷陰極管、導光体、プリズムシート及び拡散シートからなるバックライトを配置した。
Next, a schematic diagram showing a configuration of a liquid crystal display device of the present invention shown in FIG. As shown in the drawing, the liquid
以上、本発明によれば、反射機能を有する導電性反射材を使用して、微小な凸又は凹形状の光散乱及び反射機能を有する反射体17を形成すると共に、この反射体17を無秩序に分散配置することにより、画素電極16の面積に対して反射表示部となる複数の反射体17の総面積が占める割合を任意に制御できるので、屋内・屋外等照明条件によらず、干渉による着色が発生せずに明るく、コントラストの高い画像表示が可能な液晶表示装置が提供できる。
As described above, according to the present invention, using a conductive reflective material having a reflective function, to form a
なお、本発明における光散乱及び光反射機能を有する反射体17の配置方法については、乱数表を利用するもの、フィボナッチ数列を利用するもの、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用するもの等、無秩序に分散配置できる方法であれば同様の効果は得られるが、より好ましくは、透過表示部及び反射表示部の開口率が高精度、かつ任意に制御できる相分離パターンを利用する配置方法が望ましい。
As for the arrangement method of the
また、光散乱機能及び光反射機能を有する反射体17を無秩序に配置できるだけでなく、反射体17の占有する総面積を任意に制御できる方法であれば、本発明のように、所望の透過/反射表示の開口率を決定することができるので、使用する照明条件で高輝度、高コントラストの画像が表示可能な液晶表示装置が提供できる効果が得られる。
Further, as long as the method can arbitrarily control the total area occupied by the
図7は、透明な画素電極66下に、光散乱機能及び光反射機能を有する反射体67が、所望の密度で配分散置された透過及び反射表示兼用の画素電極66を内蔵した本発明の別の液晶表示装置を示す。同図に示すように、ガラス基板60上に汎用の真空蒸着法とフォトリソグラフィ方法により、複数の薄膜トランジスタ19を形成する。この薄膜トランジスタ19は、ゲート電極61、ゲート絶縁膜62、アモルファスシリコン層63、n型不純物としてリンをドーピングしたアモルファスシリコン層63'、ドレイン電極64及びソース電極65で構成され、以下に示す材質、膜厚を有する。
FIG. 7 shows an embodiment of the present invention in which a reflector 67 having a light scattering function and a light reflecting function is incorporated under a
ゲート電極61の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
ゲート絶縁膜62の材質:窒化シリコン、膜厚:100〜1000nm、好ましくは200〜500nm。
アモルファスシリコン層63の膜厚:50〜1000nm、好ましくは100〜500nm。
n型不純物としてリンをドーピングしたアモルファスシリコン層63'の膜厚:5〜100nm、好ましくは10〜50nm。
ドレイン電極64の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
ソース電極65の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
なお、図示しないがドレイン配線の材質:クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the gate electrode 61: chrome, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
The material of the
Film thickness of the amorphous silicon layer 63: 50 to 1000 nm, preferably 100 to 500 nm.
Film thickness of
The material of the
The material of the source electrode 65: chrome, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Although not shown, drain wiring material: chrome, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
次に、絶縁層兼液晶厚み制御層68(材質:アクリル系樹脂、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm)及びコンタクトホール部68'を形成する。
Next, an insulating layer / liquid crystal thickness control layer 68 (material: acrylic resin, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm) and a
その後、反射表示用厚み制御層68部のみに銀微粒子を用いたペーストをインクジェット法又はオフセット印刷法を使用して、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な凸又は凹形状の反射体67(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似した形状)を形成する。このペーストは、例えば、ハリマ化成製、型式:NPS-Jを使用し、以下、その材質や特性を示す。 Thereafter, a paste using silver fine particles only in 68 parts of the thickness control layer for reflective display is used by an ink jet method or an offset printing method to form a minute convex or concave reflector 67 having a light scattering function and a light reflection function ( Shape: A circle (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm), polygon, bar, string, or a shape similar thereto is formed. This paste uses, for example, Harima Kasei Co., Ltd., model: NPS-J, and its material and characteristics are shown below.
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは2〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1 to 60 dyn / cm, preferably 2 to 30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1 to 50 μΩ · cm (film thickness: 01 to 10 μm), preferably 5 to 30 μΩ · cm.
さらに、薄膜トランジスタ19に電気的に接続するように透明な画素電極66(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成し、この画素電極66上に配向制御膜69(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成して、一方の電極基板を作製する。
Further, the
次に、ガラス基板70上に汎用の真空蒸着法とフォトリソグラフィ法により、遮光層71、着色層72、保護層73、透明電極74、配向制御膜75を形成し、他方の電極基板を作製する。以下、これらの材質、膜厚を示す。
Next, a light shielding layer 71, a colored layer 72, a protective layer 73, a transparent electrode 74, and an orientation control film 75 are formed on the
遮光層71の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
着色層72の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層73の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極74の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜75の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 71: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Base material of colored layer 72: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 73: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 74: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 75: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、一方の電極基板の配向制御膜69と他方の電極基板の配向制御膜75とが互いに対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板60,70の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板60,70の間隙に液晶1を充填させて半透過反射型液晶素子を形成する。
Here, the spacer material 2 (material: polymer beads, silica beads, particle diameter: 5 μm, dispersion method: water so that the
さらに、半透過反射型液晶素子の両ガラス基板面に所望の位相差板3,5と偏光板4,6を貼り合せると共に、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して半透過反射型液晶表示素子30を形成し、この液晶表示素子30に光源41(冷陰極管、LED)、導光体42(材質:アクリル)、プリズムシート43、拡散シート44等から構成されるバックライト40をフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで半透過反射型液晶表示装置50を作製する。
In addition, the desired
なお、画素電極66の構成、反射体67の配置パターン及び液晶表示装置の構成等については実施例1と同じであり、詳細な説明は省略する。
The configuration of the
以上、本発明によれば、画素電極66内に光散乱機能及び光反射機能を有する微小な反射体67を無秩序、かつ任意の密度に分散配置・形成できるので、反射表示部となる微小な反射体67の総面積を高精度で制御することが可能であり、画素電極の面積に対して反射表示部の占める割合を任意に制御できるので、屋内・屋外等照明条件によらず、干渉による着色が発生せずに明るく、コントラストの高い画像表示が可能な液晶表示装置が提供できる。
As described above, according to the present invention, the minute reflectors 67 having the light scattering function and the light reflection function can be randomly arranged and formed at any density in the
なお、本発明における微小な反射体67の配置方法については、乱数表を利用するもの、フィボナッチ数列を利用するもの、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用するもの等、無秩序に配置できる方法であればよく、より好ましくは、1画素の面積に対して透過表示部と反射表示部の面積が占める割合を任意に制御できる相分離パターンを利用するのが望ましい。 As for the arrangement method of the minute reflector 67 in the present invention, those using a random number table, those using a Fibonacci sequence, those using a phase separation pattern expressed in a polymer block copolymer, etc. as long as the method can be arranged to better, and more preferably, to use phase separation patterns can be arbitrarily controlled proportion of the area of the reflective display and the transmissive display unit to the area of one pixel it is desired.
すなわち、反射体67を任意の位置に、任意の形状及び密度で配置できるだけでなく、画素電極66の面積に占める反射体67の総面積の比率を任意に制御できる方法であれば、本発明のように、所望の透過及び反射表示の開口率を決定することができるので、使用する照明条件において高輝度、高コントラストの画像表示が可能な液晶表示装置が提供できる。
That is, as long as the method can arbitrarily control the ratio of the total area of the reflector 67 to the area of the
図8は、透明電極81下に、光散乱機能及び光反射機能を有する反射体82が、所望の密度で分散配置された透過表示/反射表示兼用の透明電極81を内蔵したパッシブ駆動方式の本発明の液晶表示装置を示す。
FIG. 8 shows a passive drive system book in which reflectors 82 having a light scattering function and a light reflecting function are arranged under a
同図に示すように、ガラス基板80(材質:ソーダガラス、板厚:0.5 mm)上に、透明電極81に対応する領域に、銀微粒子を主体としたペーストを、インクジェット法を使用して、微小な凸又は凹形状の反射体82(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれに近似した形状)を分散配置して形成する。このペーストは、例えば、ハリマ化成製銀ナノペースト、型式:NPS-Jを使用し、以下に示す材質、特性を有する。
As shown in the figure, on a glass substrate 80 (material: soda glass, plate thickness: 0.5 mm), a paste mainly composed of silver fine particles is applied to an area corresponding to the
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
その後、透明電極81(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜付法:スパッタ法、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成し、さらに、この透明電極81上に配向制御膜83(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成し、一方の電極基板を作製する。
Thereafter, the transparent electrode 81 (material: ITO (Indium Tin Oxide), film-coated Method: sputtering, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) is formed and further, the alignment layer on the
次に、他方のガラス基板90(材質:ソーダガラス、板厚:0.5mm)上に、遮光層91、着色層92、保護層93、透明電極94、配向制御膜95を形成し、他方の電極基板を作製する。以下、これらの材質や膜厚を示す。
Next, a
遮光層91の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm、又は、母材:アクリル系樹脂、分散材:黒顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
着色層92の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層93の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極94の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600 nm、好ましくは100〜300 nm)。
配向制御膜95の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 91: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm, or base material: acrylic resin, dispersion material: black pigment, coating method: spin coat, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
Base material of the colored layer 92: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 93: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 94: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm).
Material of the orientation control film 95: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、一方の電極基板の配向制御膜83と他方の電極基板の配向制御膜95とが互いに対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板の間隙に液晶1を充填させた液晶素子を形成する。
Here, the spacer material 2 (material: polymer beads, silica beads, particle diameter: 5 μm, dispersion method: water so that the
次に、液晶素子の両ガラス基板80,90面に所望の位相差板3,5と偏光板4,6を貼り合せると共に、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して液晶表示素子30を形成し、この液晶表示素子30に光源41(冷陰極管、LED)、導光体42(材質:アクリル)、プリズムシート43、拡散シート44等から構成されるバックライト40をフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで液晶表示装置50を作製する。
Next, the desired
なお、透明電極81下への反射体82の配置及び液晶表示装置の構成等については基本的に実施例1と同じであり、詳細な説明は省略する。
Note that basically the same as the first embodiment configuration and the like of the arrangement and the liquid crystal display device of the
本発明は透明電極81下に光散乱機能及び光反射機能を有する微小な反射体82を分散配置した、透過及び反射表示兼用の透明電極81を備えた液晶表示装置であり、微小な反射体82を反射表示部として使用し、その他の部分を透過表示部として使用する透過及び反射表示兼用の透明電極81にすることにより、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。
The present invention is a liquid crystal display device having a very
本発明の光散乱機能及び光反射機能を備えた透過及び反射表示兼用の透明電極81を内蔵した液晶表示装置は、特に、観察者が手に持って使用する携帯電話、PDAをはじめ、机上に置いて使用するノートブック型PCやモニタ用途の液晶表示装置まで幅広く有効であり、使用する照明環境に最適な透過及び反射表示兼用電極の設計、製作が容易に行えるので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。
The liquid crystal display device incorporating the
本発明の透過/反射表示兼用の電極を内蔵する携帯機器用液晶表示装置に好適な製造方法を図9に示す。本発明の製造方法は、特に、同図(a)ないし(d)の工程からなる。 FIG. 9 shows a manufacturing method suitable for the liquid crystal display device for portable equipment incorporating the electrode for both transmissive / reflective display of the present invention. The manufacturing method of the present invention particularly comprises the steps (a) to (d) of FIG.
同図(a)は、汎用の真空蒸着法及びフォトリソグラフィ法により、ガラス基板10上にゲート電極11、ゲート絶縁膜12、アモルファス層13、ドレイン電極14、ソース電極15からなる薄膜トランジスタ19を複数形成する工程である。
FIG (a) is a general vacuum deposition method and photolithography technique, a
同図(b)は、ソース電極15に接続されるように形成される画素電極16に対応する領域のゲート絶縁膜12上に、インクジェット方式のパターン形成装置100を使用し、銀微粒子を主体とするペーストで、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な凸又は凹形状の反射体17(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似した形状)を分散配置して形成し、さらに、ソース電極15に接続させた画素電極16を形成する工程である。ここで用いるペーストは、例えば、ハリマ化成製であり、以下の材質、特性を有する。
In FIG. 5B, an ink jet
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
同図(c)は、同図(b)で形成された画素電極16上に配向制御膜18(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。以上の工程を経て一方の電極基板が作製される。
FIG. 6C shows an alignment control film 18 (material: polyimide resin, coating method: spin coat, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) on the
同図(d)は、他方のガラス基板20(材質:ANガラス、板厚:0.5mm)上に、遮光層21、着色層22、保護層23、透明電極24、配向制御膜25を形成する工程であり、この工程で、他方の電極基板が作製される。これらの材質、膜厚を以下に示す。
In FIG. 4D, a
遮光層21の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
着色層22の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層23の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極24の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜25の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 21: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Base material of the colored layer 22: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 23: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 24: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 25: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、同図(d)に示すように、互いの配向制御膜18,25が対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板の間隙に液晶1を充填させた液晶素子を形成する。
Here, as shown in FIG. 2 (d), the
さらに、図示していないが、液晶素子の両ガラス基板10,20面に所望の位相差板と偏光板を貼り合せる工程と、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して液晶表示素子を形成する工程と、この液晶表示素子に光源(冷陰極管、LED)、導光体(材質:アクリル)、プリズムシート、拡散シート等から構成されるバックライトをフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで液晶表示装置を形成する工程とを含む工程からなる。
Furthermore, although not shown in the figure, a step of attaching a desired retardation plate and a polarizing plate to both
なお、本実施例では透過/反射表示兼用電極として、透明導電層下に光散乱機能及び光反射機能を有する微小な凸状の反射体を無秩序に分散配置し、しかも、透明電極と凸状の導電材が電気的に接続形されるように構成したものであるが、予め、凸状反射体が形成される部分を除いた部分の透明導電層上に導電材が塗れないような、撥導電材性の材料を塗布しておき、パターン形成装置等により撥反射体性材料のない部分にのみ反射体を配置する製造方法でもよく、本実施例と同様に、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 In this embodiment, as the transmissive / reflective display combined electrode, minute convex reflectors having a light scattering function and a light reflective function are randomly distributed under the transparent conductive layer, and the transparent electrode and the convex electrode are arranged. The conductive material is configured to be electrically connected, but the conductive material is not coated on the transparent conductive layer in the portion excluding the portion where the convex reflector is formed in advance. It may be a manufacturing method in which a material material is applied and a reflector is disposed only on a portion without a repellent material by a pattern forming apparatus or the like, and similarly to this embodiment, it is bright regardless of whether it is indoors or outdoors. and high-contrast image display capable of low-cost liquid crystal display device can be provided.
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、従来法のようにフォトリソグラフィ法や真空蒸着法等を使用せず、印刷方式、転写方式又はディスペンサー方式等で簡単に透過表示/反射表示兼用の電極形成ができるので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 According to the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to easily use both a transmissive display / reflective display by a printing method, a transfer method, a dispenser method, etc. without using a photolithography method, a vacuum deposition method or the like as in the conventional method. since it is the electrode formation, an indoor, bright both outdoor and contrast image having high-visible low-cost liquid crystal display device can be provided.
また、従来の透過/反射兼用電極の形成方法は、1)感光性樹脂の塗布工程(スピンコート法)、2)樹脂膜表面への凹凸(コンタクトホール含む)形成工程(フォトリソグラフィ法)、3)反射膜々付工程(真空蒸着法)、4)反射膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)、5)透明導電膜々付工程(真空蒸着法)、6)透明導電膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)とからなる複雑なものであったが、本発明の製造方法は、単に工数が少ないだけでなく、透過表示/反射表示に対して透過率又は反射率を低下させる部材を必要としない製造方法なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 Further, the conventional method for forming a transmission / reflection electrode is as follows: 1) photosensitive resin coating process (spin coating method), 2) unevenness (including contact hole) forming process on the surface of the resin film (photolithography method), 3 ) Reflective film attaching step (vacuum deposition method), 4) Reflective film pattern forming step (photolithography method), 5) Transparent conductive film attaching step (vacuum vapor deposition method), 6) Transparent conductive film pattern forming step ( However, the manufacturing method of the present invention not only has a small number of steps, but also requires a member for reducing the transmittance or the reflectance with respect to the transmissive display / reflective display. since the manufacturing method is not indoor, bright both outdoor and contrast image having high-visible low-cost liquid crystal display device can be provided.
さらに、前述のように、本発明の透過/反射兼用電極の製造方法は、透明な画素電極と光散乱機能及び光反射機能を有する反射体で透過/反射兼用電極を構成する単純な構造なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能で、低価格、信頼性の高い液晶表示装置が提供できる。 Furthermore, as described above, the manufacturing method of the transmission / reflection electrode according to the present invention is a simple structure in which the transmission / reflection electrode is configured with a transparent pixel electrode and a reflector having a light scattering function and a light reflection function. It is possible to provide a liquid crystal display device that can display a bright and high-contrast image regardless of whether it is indoors or outdoors, and is inexpensive and highly reliable.
本発明の透過/反射表示兼用の電極を内蔵する携帯機器用液晶表示装置に好適な別の製造方法を図10に示す。ここでは、アクティブ駆動型の液晶表示装置を例にとり説明するが、パッシブ駆動型でも透過/反射表示兼用電極の製作工程は基本的に同じである。本発明の製造方法は、特に、同図(a)ないし(d)の工程からなる。 FIG. 10 shows another manufacturing method suitable for the liquid crystal display device for portable equipment incorporating the electrode for transmission / reflection display of the present invention. Here, an active drive type liquid crystal display device will be described as an example, but the manufacturing process of the transmissive / reflective display combined electrode is basically the same in the passive drive type. The manufacturing method of the present invention particularly comprises the steps (a) to (d) of FIG.
同図(a)は、汎用の真空蒸着法及びフォトリソグラフィ法により、ガラス基板10(材質:アルカリレスガラス、板厚:0.5mm)上にゲート電極11、ゲート絶縁膜12、アモルファス層13、ドレイン電極14、ソース電極15からなる薄膜トランジスタ19上に、銀微粒子を主体とした感光性ペースト17'の薄膜を形成し、フォトマスク105を介して所定の条件により露光・現像する工程である。この感光性ペースト17'の材料、特性を以下に示す。
FIG (a) is, by vacuum deposition and photolithography of the general-purpose glass substrate 10 (material: alkali-free glass, thickness: 0.5 mm)
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:ポジ型感光性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Positive photosensitive resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
同図(b)は、同図(a)でゲート絶縁膜12上に形成された感光性ペースト17'を所定の条件により焼結し、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な凸又は凹形状の反射体17(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似した形状)を分散配置する工程である。
FIG. 6B shows a small convex or concave portion having a light scattering function and a light reflecting function obtained by sintering the
同図(c)は、同図(b)で形成された反射体17及びゲート絶縁膜12上に透明な画素電極16(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成し、さらに、画素電極16上に配向制御膜18(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。以上の工程を経て一方の電極基板が作製される。
FIG. 6C shows a transparent pixel electrode 16 (material: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably on the
同図(d)は、他方のガラス基板20(材質:アルカリレスガラス、板厚:0.5mm)上に、遮光層21、着色層22、保護層23、透明電極24、配向制御膜25を形成する工程である。この工程で他方の電極基板が作製される。これらの材質、膜厚を以下に示す。
In FIG. 4D, a
遮光層21の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm、又は母材:アクリル系樹脂、分散材:黒顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
着色層22の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm)。
保護層23の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極24の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜25の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 21: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm, or base material: acrylic resin, dispersion material: black pigment, coating method: spin coat, film thickness: 500 to 3000 nm , Preferably 1000 to 2000 nm.
Base material of the colored layer 22: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm).
The material of the protective layer 23: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 24: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 25: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、同図(c)に示すように、両電極基板の互いの配向制御膜18,25が対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板の間隙に液晶1を充填させた液晶素子を形成する。
Here, as shown in FIG. (C),
さらに、図示していないが、液晶素子の両ガラス基板10,20面に所望の位相差板と偏光板を貼り合せる工程と、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して半透過反射型液晶表示素子を形成する工程と、この液晶表示素子に光源(冷陰極管、LED)、導光体(材質:アクリル)、プリズムシート、拡散シート等から構成されるバックライトをフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで透過及び反射表示を同時に行う液晶表示装置を形成する工程とを含む工程からなる。
Furthermore, although not shown in the figure, a step of attaching a desired retardation plate and a polarizing plate to both
本発明の半透過反射型液晶表示装置の製造方法によれば、従来法のようにフォトリソグラフィ法や真空蒸着法等を使用せず、印刷方式、転写方式又はディスペンサー方式等で簡単に透過表示/反射表示兼用の電極形成ができるので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 According to the method for manufacturing a transflective liquid crystal display device of the present invention, a transmissive display / transfer method or a dispenser method can be easily used without using a photolithography method or a vacuum deposition method as in the conventional method. since it is the electrode formed in the reflective display combined, indoors, bright both outdoor and contrast image having high-visible low-cost liquid crystal display device can be provided.
また、従来の透過/反射兼用電極の形成方法は、1)感光性樹脂の塗布工程(スピンコート法)、2)樹脂膜表面への凹凸(コンタクトホール含む)形成工程(フォトリソグラフィ法)、3)反射膜々付工程(真空蒸着法)、4)反射膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)、5)透明導電膜々付工程(真空蒸着法)、6)透明導電膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)とからなる複雑なものであったが、本発明の製造方法は単に工数が少ないだけでなく、透過表示/反射表示に対して透過率又は反射率を低下させる部材を必要としない製造方法なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 Further, the conventional method for forming a transmission / reflection electrode is as follows: 1) photosensitive resin coating process (spin coating method), 2) unevenness (including contact hole) forming process on the surface of the resin film (photolithography method), 3 ) Reflective film attaching step (vacuum deposition method), 4) Reflective film pattern forming step (photolithography method), 5) Transparent conductive film attaching step (vacuum vapor deposition method), 6) Transparent conductive film pattern forming step ( However, the manufacturing method of the present invention not only has a small number of steps, but also does not require a member that reduces the transmittance or the reflectance with respect to the transmissive display / reflective display. Since it is a manufacturing method, it is possible to provide a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image regardless of whether it is indoors or outdoors.
さらに、前述のように、本発明の透過/反射兼用電極の製造方法は、透明な画素電極と光散乱機能及び光反射機能を有する反射体で透過/反射兼用電極を構成する単純な構造なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能で、低価格、信頼性の高い液晶表示装置が提供できる。 Further, as described above, the manufacturing method of the transmission / reflection combined electrode of the present invention has a simple structure constituting the transmission / reflection combined electrode with reflector having a transparent pixel electrode and the light scattering function and a light reflecting function, It is possible to provide a liquid crystal display device that can display a bright and high-contrast image regardless of whether it is indoors or outdoors, and is inexpensive and highly reliable.
本発明の透過/反射表示兼用の電極を内蔵する携帯機器用液晶表示装置に好適な別の製造方法を図11に示す。ここでは、パッシブ駆動型の液晶表示装置を例にとり説明するが、アクティブ駆動型でも透過/反射兼用電極の製作工程は基本的に同じである。本発明の製造方法は、特に、同図(a)ないし(e)の工程からなる。 FIG. 11 shows another manufacturing method suitable for the liquid crystal display device for portable equipment incorporating the electrode for both transmission / reflection display of the present invention. Here, a passive drive type liquid crystal display device will be described as an example, but the manufacturing process of the transmissive / reflective electrode is basically the same in the active drive type. The manufacturing method of the present invention comprises the steps (a) to (e) of FIG.
同図(a)は、所望の微小な凹形状(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似の形状)を備え、かつ表面をシリコン処理等で剥離機能付与させた転写型110と、この転写型110の凹部に充填させた銀微粒子を主体とするペースト82'からなるパターン形成装置である。このペースト82'は、以下の材質、特性を有する。
The figure (a) shows the desired minute concave shape (shape: circle (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm), polygon, rod, string, or similar to them. The pattern forming apparatus is composed of a
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
同図(b)は、ガラス基板80(材質:ソーダガラス、板厚:0.5mm)上の透明電極に対応する領域に分散配置・焼結させて、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な凸形状の反射体82(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似した形状)を形成する工程である。 FIG (b), a glass substrate 80 (material: soda glass, thickness: 0.5 mm) by distributed and sintered in a region corresponding to the transparent electrodes on, minute having a light scattering function and a light reflecting function In the process of forming a convex reflector 82 (shape: circle (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm), polygon, bar, string, or shape similar to them) is there.
同図(c)は、ガラス基板80上の反射体82上に透明電極81(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。
FIG. 4C shows a step of forming a transparent electrode 81 (material: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) on the
同図(d)は、透明電極81上に配向制御膜18(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。以上の工程を経て一方の電極基板が作製される。
FIG. 6D shows a step of forming an orientation control film 18 (material: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) on the
同図(e)は、他方のガラス基板90(材質:ソーダガラス、板厚:0.5mm)上に、遮光層91、着色層92、保護層93、透明電極94、配向制御膜95を形成する工程である。この工程で他方の電極基板が作製される。これらの材質、膜厚を以下に示す。
FIG (e), the other glass substrate 90 (material: soda glass, thickness: 0.5 mm) on the light-
遮光層91の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm、又は母材:アクリル系樹脂、分散材:黒顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
着色層92の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層93の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極94の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜95の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 91: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm, or base material: acrylic resin, dispersion material: black pigment, coating method: spin coat, film thickness: 500 to 3000 nm , Preferably 1000 to 2000 nm.
Base material of the colored layer 92: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 93: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 94: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 95: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、同図(e)に示すように、両電極基板の互いの配向制御膜83,95が対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板の間隙に液晶1を充填させた液晶素子を形成する。
Here, as shown in FIG. 5E, the spacer material 2 (material: polymer beads, silica beads, particle diameter: 5 μm, dispersion method: so that the
さらに、図示していないが、液晶素子の両ガラス基板80,90面に所望の位相差板と偏光板を貼り合せる工程と、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して液晶表示素子を形成する工程と、この液晶表示素子に光源(冷陰極管、LED)、導光体(材質:アクリル)、プリズムシート、拡散シート等から構成されるバックライトをフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで透過表示及び反射表示が同時に行える液晶表示装置が作製される。
Furthermore, although not shown in the drawing, a step of attaching a desired retardation plate and a polarizing plate to both
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、従来法のようにフォトリソグラフィ法や真空蒸着法等を使用せず、印刷方式、転写方式又はディスペンサー方式等で簡単に透過表示/反射表示兼用の電極形成ができるので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 According to the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to easily use both a transmissive display / reflective display by a printing method, a transfer method, a dispenser method, etc. without using a photolithography method, a vacuum deposition method, etc. Since electrodes can be formed, a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image regardless of indoors or outdoors can be provided.
また、従来の透過/反射兼用電極の形成方法は、1)感光性樹脂の塗布工程(スピンコート法)、2)樹脂膜表面への凹凸(コンタクトホール含む)形成工程(フォトリソグラフィ法)、3)反射膜々付工程(真空蒸着法)、4)反射膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)、5)透明導電膜々付工程(真空蒸着法)、6)透明導電膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)とからなる複雑なものであったが、本発明の製造方法は、単に工数が少ないだけでなく、透過表示/反射表示に対して透過率又は反射率を低下させる部材を必要としない製造方法ので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 Further, the conventional method for forming a transmission / reflection electrode is as follows: 1) photosensitive resin coating process (spin coating method), 2) unevenness (including contact hole) forming process on the surface of the resin film (photolithography method), 3 ) Reflective film attaching step (vacuum deposition method), 4) Reflective film pattern forming step (photolithography method), 5) Transparent conductive film attaching step (vacuum vapor deposition method), 6) Transparent conductive film pattern forming step ( but it was complicated consisting photolithography) and method of the present invention, not only is a reduced number of steps, requiring a member to lower the transmittance or reflectance for transmissive display / reflective display Therefore, it is possible to provide a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image regardless of whether it is indoors or outdoors.
さらに、前述のように、本発明の透過/反射兼用電極の製造方法は、透明な電極と光散乱機能及び光反射機能を有する反射体で透過/反射兼用電極を構成する単純な構造なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能で、低価格、信頼性の高い液晶表示装置が提供できる。 Further, as described above, the method for manufacturing the transmission / reflection electrode according to the present invention is a simple structure in which the transmission / reflection electrode is composed of a transparent electrode and a reflector having a light scattering function and a light reflection function. It is possible to provide a liquid crystal display device that can display a bright and high-contrast image regardless of the outdoors and is low in price and high in reliability.
本発明の透過/反射兼用の電極を内蔵する携帯機器用液晶表示装置に好適な別の製造方法を図12に示す。ここでも、パッシブ駆動型の液晶表示装置を例にとり説明するが、アクティブ駆動型でも透過/反射兼用電極の製作工程は基本的に同じである。本発明の製造方法は、特に、同図(a)ないし(e)の工程からなる。 FIG. 12 shows another manufacturing method suitable for the liquid crystal display device for portable devices incorporating the transmission / reflection electrode of the present invention. Here, a passive drive type liquid crystal display device will be described as an example, but the manufacturing process of the transmissive / reflective electrode is basically the same in the active drive type. The manufacturing method of the present invention comprises the steps (a) to (e) of FIG.
同図(a)は、所望の微小な凹形状(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似の形状)を備えたシート状の転写型を有するパターン形成装置120と、このパターン形成装置120のシート状転写型に形成された凹部に充填された銀微粒子を主体としたペースト82'からなるパターン形成装置である。このペースト82'の材質、特性を以下に示す。
The figure (a) shows the desired minute concave shape (shape: circle (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm), polygon, rod, string, or similar to them. a
材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm。
バインダー:熱硬化性樹脂。
溶剤:テトラデカン、ドデカン等の非極性溶剤。
粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps。
表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm。
硬化温度:150〜300℃、好ましくは200〜250℃。
抵抗率:1〜50μΩ・cm(膜厚:01〜10μm)、好ましくは5〜30μΩ・cm。
Material: Silver, silver / palladium / copper alloy, metal such as aluminum, titanium and gold, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm.
Binder: Thermosetting resin.
Solvent: Nonpolar solvents such as tetradecane and dodecane.
Viscosity: 1-50 cps, preferably 2-10 cps.
Surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm.
Curing temperature: 150-300 ° C, preferably 200-250 ° C.
Resistivity: 1~50μΩ · cm (thickness: 01~10μm), preferably 5~30μΩ · cm.
同図(b)は、ガラス基板80(材質:ソーダガラス、板厚:0.5mm)上に、シート状の転写型を重ね合わせ、ロール130により加熱・加圧して、ガラス基板80上にペースト82'を分散配置した後、焼結して、光散乱機能及び光反射機能を有する凸形状の微小な反射体82(形状:円(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)、多角形、棒状、紐状、又はそれらに近似の形状)を形成する工程である。
In FIG. 6B, a sheet-shaped transfer mold is superimposed on a glass substrate 80 (material: soda glass, plate thickness: 0.5 mm), heated and pressurized by a
同図(c)は、ガラス基板80上に形成された反射体82上に透明電極81(材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。
FIG. 4C shows a step of forming a transparent electrode 81 (material: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) on the
同図(d)は、同図(c)で形成された透明電極81上に配向制御膜83(材質:ポリイミド樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)を形成する工程である。以上の工程を経て一方の電極基板が作製される。
FIG. 6D shows an orientation control film 83 (material: polyimide resin, coating method: spin coat, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) on the
同図(e)は、他方のガラス基板90(材質:ソーダガラス、板厚:0.5mm)上に、遮光層91、着色層92、保護層93、透明電極94、配向制御膜95を形成する工程である。この工程で他方の電極基板が作製される。これらの材質、膜厚を以下に示す。
FIG (e), the other glass substrate 90 (material: soda glass, thickness: 0.5 mm) on the light-
遮光層91の材質:クロム及び酸化クロム、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm、又は母材:アクリル系樹脂、分散材:黒顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
着色層92の母材:アクリル系樹脂、分散材:顔料、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜3000nm、好ましくは1000〜2000nm。
保護層93の材質:アクリル系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:500〜4000nm、好ましくは1000〜3000nm。
透明電極94の材質:ITO(Indium Tin Oxide)、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
配向制御膜95の材質:ポリイミド系樹脂、塗布法:スピンコート、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm。
The material of the light shielding layer 91: chromium and chromium oxide, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm, or base material: acrylic resin, dispersion material: black pigment, coating method: spin coat, film thickness: 500 to 3000 nm , Preferably 1000 to 2000 nm.
Base material of the colored layer 92: acrylic resin, dispersion material: pigment, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 3000 nm, preferably 1000 to 2000 nm.
The material of the protective layer 93: acrylic resin, coating method: spin coating, film thickness: 500 to 4000 nm, preferably 1000 to 3000 nm.
The material of the transparent electrode 94: ITO (Indium Tin Oxide), film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
Material of the orientation control film 95: polyimide resin, coating method: spin coating, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm.
ここで、同図(e)に示すように、両電極基板の互いの配向制御膜83,95が対向するようにスペーサ材2(材質:ポリマービーズ、シリカビーズ、粒子径:5μm、分散法:水分散)を介して組合せ、両電極基板の周辺をシーリング材(図示せず、材質:エポキシ樹脂、分散材:スペーサ粒子)で接着させ、この両電極基板の間隙に液晶1を充填させた液晶素子を形成する。
Here, as shown in FIG. 5E, the spacer material 2 (material: polymer beads, silica beads, particle diameter: 5 μm, dispersion method: so that the
さらに、図示していないが、液晶素子の両ガラス基板80,90面に所望の位相差板と偏光板を貼り合せる工程と、液晶駆動用ICが搭載されたTCP及び駆動用外部回路等を接続して液晶表示素子を形成する工程と、この液晶表示素子に光源(冷陰極管、LED)、導光体(材質:アクリル)、プリズムシート、拡散シート等から構成されるバックライトをフレーム、ケース等からなる筐体に組込んで透過表示及び反射表示を同時に行う液晶表示装置が作製される。
Furthermore, although not shown in the drawing, a step of attaching a desired retardation plate and a polarizing plate to both
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、従来法のようにフォトリソグラフィ法や真空蒸着法等を使用せず、印刷方式、転写方式又はディスペンサー方式等で簡単に透過表示/反射表示兼用の電極形成ができるので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 According to the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to easily use both a transmissive display / reflective display by a printing method, a transfer method, a dispenser method, etc. without using a photolithography method, a vacuum deposition method, etc. Since electrodes can be formed, a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image regardless of indoors or outdoors can be provided.
また、従来の透過/反射兼用電極の形成方法は、1)感光性樹脂の塗布工程(スピンコート法)、2)樹脂膜表面への凹凸(コンタクトホール含む)形成工程(フォトリソグラフィ法)、3)反射膜々付工程(真空蒸着法)、4)反射膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)、5)透明導電膜々付工程(真空蒸着法)、6)透明導電膜のパターン形成工程(フォトリソグラフィ法)とからなる複雑なものであったが、本発明の製造方法は、単に工数が少ないだけでなく、透過表示/反射表示に対して透過率又は反射率を低下させる部材を必要としない製造方法ので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 Further, the conventional method for forming a transmission / reflection electrode is as follows: 1) photosensitive resin coating process (spin coating method), 2) unevenness (including contact hole) forming process on the surface of the resin film (photolithography method), 3 ) Reflective film attaching step (vacuum deposition method), 4) Reflective film pattern forming step (photolithography method), 5) Transparent conductive film attaching step (vacuum vapor deposition method), 6) Transparent conductive film pattern forming step ( However, the manufacturing method of the present invention not only has a small number of steps, but also requires a member for reducing the transmittance or the reflectance with respect to the transmissive display / reflective display. Therefore, it is possible to provide a low-cost liquid crystal display device capable of displaying a bright and high-contrast image regardless of whether it is indoors or outdoors.
さらに、前述のように、本発明の透過/反射兼用電極の製造方法は、透明電極と光散乱機能及び光反射機能を有する反射体で透過/反射兼用電極(透過/反射表示兼用の電極)を構成する単純な構造なので、屋内、屋外を問わず明るく、かつコントラストの高い画像が表示可能で、低価格、信頼性の高い液晶表示装置が提供できる。 Furthermore, as described above, the method for manufacturing a transmission / reflection electrode according to the present invention includes a transparent electrode and a reflector having a light scattering function and a light reflection function, and a transmission / reflection electrode (electrode for transmission / reflection display). Since the structure is simple, a bright and high-contrast image can be displayed whether indoors or outdoors, and a liquid crystal display device with low cost and high reliability can be provided.
以上、本発明は、光散乱機能と光反射機能を有する反射体の形状制御に高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象によるパターン、又はそれらに近似したパターンを利用する。前記相分離パターンを計算機シミュレーションで創生し、その濃度分布データを利用することにより、階調露光用マスク(例えば、HEBS-Glass Plate CANYON MATERIALS,INC)が作製できるだけでなく、所望の形状の拡散反射体が感光性樹脂を使用して露光、現像、硬化の工程だけで形成できる効果も得られる。また、前記階調露光用マスクを用いて樹脂パターンを作製すると共に、その樹脂パターンを利用して転写用金型あるいは印刷版を作製し、転写法あるいは印刷法により透過及び反射表示兼用の画素電極構造を形成すること等により、低コスト化が可能になる効果もある。 As described above, the present invention uses a pattern due to a phase separation phenomenon expressed in a polymer block copolymer or the like, or a pattern close to them, for shape control of a reflector having a light scattering function and a light reflection function. By creating the phase separation pattern by computer simulation and using its concentration distribution data, it is possible not only to produce a gradation exposure mask (for example, HEBS-Glass Plate CANYON MATERIALS, INC), but also to diffuse a desired shape. The effect that the reflector can be formed only by the steps of exposure, development and curing using a photosensitive resin is also obtained. In addition, a resin pattern is produced using the gradation exposure mask, a transfer mold or a printing plate is produced using the resin pattern, and a pixel electrode for both transmissive and reflective display is produced by a transfer method or a printing method. By forming the structure, there is an effect that the cost can be reduced.
また、反射体を無秩序に配置するためのパターンとして、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用するため、その相分離パターンを計算機シミュレーション手法により生成する。 In addition, in order to use a phase separation pattern expressed in a polymer block copolymer or the like as a pattern for arranging the reflectors randomly, the phase separation pattern is generated by a computer simulation method.
さらに、樹脂パターンを形成する際に使用する階調露光あるいは2値用フォトマスクの遮光パターン(又は透過パターン)、あるいは転写用金型に形成される凸又は凹パターン用マスターマスク形成等に用いる。 Furthermore, it is used for gradation exposure used when forming a resin pattern, light shielding pattern (or transmission pattern) of a binary photomask, or formation of a convex or concave pattern master mask formed on a transfer mold.
また、本発明は、高分子共重合体等で発現する相分離パターン生成のシミュレーション手法が、1)Cahn-Hilliard-Cook方程式、2)時間依存Ginzburg-Landau方程式、3)Cell-Dyamical-System方程式等を用いた数値シミュレーションである。 In addition, the present invention provides a simulation method for generating a phase separation pattern expressed in a polymer copolymer, etc. 1) Cahn-Hilliard-Cook equation, 2) Time-dependent Ginzburg-Landau equation, 3) Cell-Dyamical-System equation This is a numerical simulation using the above.
さらに、本発明の光散乱機能と光反射機能を有する反射体やその配置パターン形成に用いるフォトマスク用の遮光部あるいは透過部のパターンは、数値シミュレーションにより生成された相分離の濃度分布パターン(数値データ)と、拡散反射体とをコンピュータを用いてデータ(画像)処理したパターンである。 Furthermore, the pattern of the light-shielding part or the transmission part for the photomask used for the reflector having the light scattering function and the light reflecting function of the present invention and the arrangement pattern thereof is a phase distribution concentration distribution pattern (numerical value) generated by numerical simulation. Data) and a diffuse reflector are data (image) processed using a computer.
なお、本発明における光散乱機能と光反射機能を有する微小な反射体の配置方法については、乱数表を利用するもの、フィボナッチ数列を利用するもの、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離パターンを利用するもの等、無秩序に配置できる方法であれば何れでもよいが、より好ましくは、透過表示領域と反射表示領域の割合を任意に制御できる配置方法が望ましい。 As for the arrangement method of the minute reflectors having the light scattering function and the light reflection function in the present invention, those using a random number table, those using a Fibonacci sequence, phase separation expressed in a polymer block copolymer, etc. Any method can be used as long as it can be arranged randomly, such as using a pattern. More preferably, an arrangement method that can arbitrarily control the ratio between the transmissive display area and the reflective display area is desirable.
言い換えれば、本発明によれば、光散乱機能と光反射機能を有する反射体を無秩序に配置できるだけでなく、反射体の占有する総領域(総面積)を任意に制御できる方法であれば、使用する照明条件や用途に合わせて、1画素内における透過及び反射表示領域の占める割合を決定することができるので、使用する環境の照明条件において最適な表示が得られる。 In other words, according to the present invention, not only can the reflectors having the light scattering function and the light reflection function be arranged randomly, but also a method that can arbitrarily control the total area (total area) occupied by the reflector is used. Since the ratio of the transmissive and reflective display areas in one pixel can be determined in accordance with the illumination conditions and applications to be used, an optimal display can be obtained under the illumination conditions in the environment used.
まず、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象を解析するためのCell-Dynamical-System model等の数値解析法より、半球状の凸あるいは凹が無秩序、かつ所望の密度に配置されたパターンを濃度分布データとして創出し、この濃度分布データを利用して遮光量(透過光量)に対応させた階調露光用フォトマスクを製作する。次に、前記階調露光用フォトマスクと露光量に比例して除去され、かつ熱だれし難い感光性樹脂を用いることにより、微小で複雑な形状の前記反射材の形状を精度良く形成できる。 First, hemispherical projections or depressions were arranged randomly and at a desired density by numerical analysis methods such as the Cell-Dynamical-System model for analyzing the phase separation phenomenon that occurs in polymer block copolymers. A pattern is created as density distribution data, and a gradation exposure photomask corresponding to the light shielding amount (transmitted light amount) is manufactured using the density distribution data. Next, the gradation exposure photomask and is removed in proportion to the exposure amount, and by using a heat sagging hardly photosensitive resin, fine in forming the shape of the reflective member having a complicated shape with good accuracy.
また、上記濃度分布データ(座標データ含む)を利用して、インクジェット方式のパターン形成装置を制御することにより、金属微粒子を主体とするペースト材からなる反射体を画素電極内の任意の位置に、任意のサイズで、任意の数量だけ分散配置できる。 Further, by using the density distribution data (including coordinate data) to control an inkjet pattern forming apparatus, a reflector made of a paste material mainly composed of metal fine particles can be placed at an arbitrary position in the pixel electrode. It can be distributed in any size and in any quantity.
より具体的には、Cell-Dynamical-System model等の数値解析法を用いて、1)反射表示部となる反射体が配置された総面積と、透過表示部となる反射体が配置されていない部分の総面積との比率が所望の数値になる円状、棒状、紐状、又はそれらに近似した形状の相分離パターンを創生及び濃度分布データを創生、2)前記濃度分布データをフォトマスク用階調露光データに変換、3)電子ビームあるいはレーザ描画装置を使用してフォトマスク用ガラスブランクス(HEBS-Glass Photo mask Blanks:電子ビームあるいはレーザの照射光量に応じて透過率が変化するガラス、 CANYON MATERIALS社製)に階調露光用パターンを形成、4)前記階調露光用フォトマスクを用い、フォトリソグラフィ法で連続的に変化する傾斜面を有する曲面反射部からなる微小な凸又は凹の光拡散反射体が所望の密度、かつ無秩序に配置された樹脂パターンを形成、5)前記樹脂パターン上に導電層を形成する、6)メッキ法で凹部が無秩序に配置されたニッケル薄膜の転写版を作製、7)前記ニッケル薄膜の凹部面に撥反射材性処理、8)前記ニッケル薄膜を転写ドラムに装着、9)前記転写ドラムを備えたパターン形成装置により、透明な画素電極下に微小な半球状の反射体を無秩序に配置・形成、からなるプロセスで、本発明の透明な画素電極下に形成する微小な反射体を形成・配置するに好適な転写金型が作製でき、この金型を使用することで簡単に透過/反射表示兼用電極が形成できる。 More specifically, by using a numerical analysis method such as Cell-Dynamical-System model, 1) the total area where the reflector serving as the reflective display unit is disposed and the reflector serving as the transmissive display unit are not disposed. circular the ratio of the total area of the part reaches a desired numerical value, rod, cord-like, or phase separation pattern creation in the creation and density distribution data of shape similar to, 2) a photo of the density distribution data Conversion to mask gradation exposure data 3) Glass blanks for photomasks (HEBS-Glass Photo mask Blanks) using an electron beam or laser drawing device , CANYON MATERIALS Co., Ltd.) 4) Use the gradation exposure photomask, and use the above-mentioned gradation exposure photomask to form a small convex or concave surface consisting of a curved reflecting surface having an inclined surface that changes continuously by photolithography. A light diffusion reflector forms a resin pattern with a desired density and randomly arranged, 5) a conductive layer is formed on the resin pattern, and 6) a nickel thin film transfer plate in which concave portions are randomly arranged by plating. 7) Reflective material treatment on the concave surface of the nickel thin film, 8) Mount the nickel thin film on the transfer drum, and 9) Make a minute pattern under the transparent pixel electrode by the pattern forming apparatus provided with the transfer drum. disorderly distributed-form reflector hemispherical in process consisting, can be manufactured is suitable transcription molds are formed and arranged small reflectors that form under the transparent pixel electrode of the present invention, the mold By using this, it is possible to easily form a transmission / reflection display combined electrode.
同様に、Cell-Dynamical-System model等の数値解析法を用いて、1)反射表示部となる反射体の総面積と、透過表示部となる反射体以外の部分の総面積との比率が所望の数値になる円状、棒状、紐状、又はそれらに近似の形状の相分離パターンを創生及び濃度分布データを創生、2)前記濃度分布データをインクジェット方式のパターン形成装置用吐出圧力にデータ変換、3)前記インクジェット方式のパターン形成装置を使用して、透明な画素電極下に微小な半球状の反射体を無秩序に配置・形成、からなるプロセスで、本発明の透明な画素電極下に形成する反射表示部となる光散乱機能と光反射機能を有する微小な反射体を配置・形成するに好適なパターン形成装置の転写金型が作製でき、この装置を使用することで簡単に透過/反射表示兼用電極が形成できる。 Similarly, using a numerical analysis method such as Cell-Dynamical-System model, 1) The ratio of the total area of the reflector as the reflective display part and the total area of the part other than the reflector as the transmissive display part is desired circular shape having a number, bar-like, string-like, or them creation the creation and density distribution data of the phase separation pattern in the shape of approximation, 2) the density distribution data in the pattern forming apparatus for the discharge pressure of the ink jet method data conversion, 3) using said pattern forming apparatus of an ink jet type, randomly arranged and form a minute hemispherical reflector under the transparent pixel electrodes, the process consisting, under transparent pixel electrode of the present invention It is possible to manufacture a transfer mold for a pattern forming device suitable for placing and forming a minute reflector having a light scattering function and a light reflecting function to be a reflective display portion to be formed. / reflective display combined electrode Can be formed.
本発明の透過/反射表示兼用電極の特徴は、光散乱機能及び光反射機能を有する反射体を無秩序、かつ任意の密度に配置できるというだけでなく、Cell-Dynamical-System model等の数値解析手法を用いて濃度分布パターンが生成できるので、断面形状が2次曲線になるような微小な凸あるいは凹形状の反射体を形成するに好適な階調露光用フォトマスク、転写方式及びインクジェット方式パターン形成装置が簡単に製作できることである。 The feature of the transmissive / reflective display combined electrode of the present invention is not only that the reflector having the light scattering function and the light reflecting function can be arranged randomly and at an arbitrary density, but also a numerical analysis method such as a Cell-Dynamical-System model. the concentration distribution pattern can be generated using a suitable gradation exposure photomask for forming a small convex or concave reflector such that the cross-sectional shape becomes a quadratic curve, transfer method and an ink jet system patterning device is that it can be easily manufactured.
また、数値解析手法を用いて濃度分布パターンを生成するため、特定濃度でのパターン切出しが容易に行えるので、使用する樹脂の特性に適合したマスクパターン(パターンサイズ及びパターン間隙等)、任意にパターン密度が変えられる転写方式及びインクジェット方式パターン形成装置が簡単に製作できることである。 Pattern also to produce a concentration distribution pattern using a numerical analysis method, since can be easily pattern cut at a particular concentration, a mask pattern conforming to the characteristics of the resin to be used (the pattern size and pattern gap, etc.), optionally That is, it is possible to easily manufacture a transfer method and an ink jet method pattern forming apparatus in which the density can be changed.
さらに、前述した円状、棒状、紐状、又はそれらに近似の形状の相分離パターンをガイドにして前記反射体を無秩序、かつ任意の密度に配置するフォトマスク、転写方式及びインクジェット方式パターン形成装置が簡単に製作できる。 Furthermore, a photomask, transfer method, and ink jet method pattern forming apparatus in which the reflectors are arranged randomly and at an arbitrary density using the above-described circular, rod-like, string-like, or phase-separation patterns approximate to them as a guide Can be easily manufactured.
特に、本発明の特徴は、連続的に変化する傾斜面を有する反射体を無秩序、かつ任意の密度に配置するため、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象をCell-Dynamical-System model等の数値解析手法を用いて濃度分布パターンを生成し、この相分離パターンの濃度分布データを利用して、3次元の形状制御が可能な階調露光用フォトマスク、転写方式及びインクジェット方式のパターン形成装置を簡単に作製することである。 In particular, features of the present invention, disordered a reflector having an inclined surface that changes continuously, and to place any density, the phase separation which is expressed in the block copolymer, etc. Cell-Dynamical-System Using a numerical analysis method such as a model, a density distribution pattern is generated, and using the density distribution data of this phase separation pattern, a gradation exposure photomask, transfer system, and inkjet system capable of three-dimensional shape control are used. It is easy to produce a pattern forming apparatus.
また、本発明によれば、反射材である前記凸又凹を配置するためのパターンとして、計算機シミュレーションによりパターン創生が可能な高分子共重合体等で発現する相分離現象によるパターンを用いることにより、光の干渉による着色が発生しないだけでなく、1画素内の透過表示領域と反射領域の比率を任意に制御することができる。 Further, according to the present invention, a pattern due to a phase separation phenomenon expressed in a polymer copolymer or the like capable of creating a pattern by computer simulation is used as a pattern for arranging the convex or concave as a reflecting material. Thus, not only coloring due to light interference does not occur, but also the ratio between the transmissive display area and the reflective area in one pixel can be arbitrarily controlled.
さらに、本発明によれば、コンピュータ・シミュレーションにより創生した相分離パターンデータを利用して転写用ロール/プレートあるいは階調露光用フォトマスク等を作製し、反射材である前記凸又凹を転写法、印刷法又はフォトリソグラフィ法等で形成することにより、低価格の液晶表示装置が提供できる。 Furthermore, according to the present invention, transfer rolls / plates or gradation exposure photomasks, etc. are produced using phase separation pattern data created by computer simulation, and the projections or depressions that are reflective materials are transferred. By forming by a method, a printing method, a photolithography method, or the like, a low-cost liquid crystal display device can be provided.
また、本発明によれば、コンピュータ・シミュレーションにより任意に制御できる反射材を紐状、棒状あるいは円状で無秩序に配置したパターンを前記転写ロール/プレート金型あるいはフォトマスクパターンとして利用できるので、連続的に変化する曲面反射部の断面形状を変化させずに、反射材の配列方向を制御することにより、特定の照明環境に対応した明るく、かつコントラストの高い画像表示が可能な低価格の液晶表示装置が提供できる。 Further, according to the present invention, a pattern in which reflectors that can be arbitrarily controlled by computer simulation can be used as the transfer roll / plate mold or the photomask pattern can be used as the transfer roll / plate mold or the photomask pattern. Low-cost liquid crystal display that can display bright and high-contrast images corresponding to a specific lighting environment by controlling the arrangement direction of the reflectors without changing the cross-sectional shape of the curved reflecting section A device can be provided.
なお、高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象により創出される前記パターンの形成については、下記に詳述する。 In addition, formation of the said pattern created by the phase-separation phenomenon expressed with a polymer block copolymer etc. is explained in full detail below.
(1)高分子共重合体や高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象の数値解析手法(Cahn-Hilliard(-Cook)方程式、時間依存Ginzburg-Landau方程式あるいはCell-Dynamical-System model(CDS) 方程式等)を利用して、円状、多角形、棒状あるいは紐状等、所望の濃度分布パターン及び数値データを創出する。 (1) numerical method of phase separation which is expressed in high molecular copolymer or high molecular block copolymer (Cahn-Hilliard (-COOK) equation, the time-dependent Ginzburg-Landau equation or Cell-Dynamical-System model ( Using the CDS equation, etc., a desired density distribution pattern and numerical data such as a circle, polygon, bar or string are created.
(2)前記数値解析手法により創出した濃度分布パターンデータをインクジェット方式パターン形成装置用データに変換する。 (2) The density distribution pattern data created by the numerical analysis method is converted into ink jet pattern forming apparatus data.
(3)前記インクジェット方式パターン形成装置と反射機能を有する反射材(材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm、粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps、表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm)を用いて、透明な導電層(導電材:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)上に、インクジェット方式パターン形成装置により光拡散反射要素となる反射機能を有する導電性を凸状又は凹状(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)に配置・形成し、互いに電気的に接続された透過/反射兼用の画素電極を形成する。 (3) Reflective material having a reflective function with the inkjet pattern forming device (material: silver, silver / palladium / copper alloy, aluminum, titanium, gold and other metals, metal particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm, viscosity: 1~50Cps, preferably 2~10Cps, surface tension: 1~60dyn / cm, preferably 5~30dyn / cm) with a transparent conductive layer (conductive material: ITO, thickness: 50 The conductivity having a reflection function to be a light diffusing and reflecting element by an ink jet type pattern forming apparatus is convex or concave (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 ˜1 μm) is formed, and pixel electrodes for both transmission and reflection, which are electrically connected to each other, are formed.
または、反射材である前記凸又は凹(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)をインクジェット方式のパターン形成装置を使わずに、印刷法や転写法を用いて形成する場合については、前述した(3)以降を下記のようにすれば良い。 Alternatively, the convex or concave (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm), which is a reflective material, is formed using a printing method or a transfer method without using an inkjet pattern forming apparatus. for the case of it may be later mentioned above (3) as follows.
(3)前記フォトマスク使用して、連続的に変化する傾斜角を有する微小な凸又は凹(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)の反射材が無秩序に配置されたパターンをフォトレジストで形成する。 (3) Using the above-mentioned photomask, minute convex or concave (diameter: 3-15 μm, height (or depth): 0.2-1 μm) reflectors with continuously changing inclination angles are randomly arranged. The patterned pattern is formed with a photoresist.
(4)フォトレジストで形成した前記凸又は凹(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)上に透明な導電層からなる画素電極を形成すると共に、メッキ法によりフォトレジストで形成した前記凸又は凹上にニッケル厚膜を形成して、ニッケル厚膜にフォトレジストで形成した凸又は凹(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)の形状を転写する。 (4) A pixel electrode made of a transparent conductive layer is formed on the convex or concave (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm) formed of a photoresist, and a photolithographic method is used. A nickel thick film is formed on the convex or concave formed with a resist, and the convex or concave (diameter: 3 to 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm) formed with a photoresist on the nickel thick film. Transfer the shape.
(5)反射機能を有する反射材(反射材:銀、アルミ、金粒子等、粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm)を主体とした反射材である凸又は凹(直径:3〜15μm、高さ(又は深さ):0.2〜1μm)を精度良く形成するため、前記ニッケル厚膜の凹凸表面にシリコン処理を施して剥離機能を付与する。 (5) Convex or concave (diameter: 3 to 5), which is a reflective material mainly composed of a reflective material (reflecting material: silver, aluminum, gold particles, etc., particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm) 15 μm, height (or depth): 0.2 to 1 μm) is formed with high accuracy, and the uneven surface of the nickel thick film is subjected to silicon treatment to provide a peeling function.
(6)剥離機能有する前記ニッケル層をロール等に巻きつけた転写ロールを用いると共に、各種コーター等により該転写ロール表面の凹部に低粘度の反射材(材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm、粘度:1〜50cps、好ましくは2〜20cps、表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm)を充填する。 (6) A transfer roll in which the nickel layer having a peeling function is wound around a roll or the like is used, and a low-viscosity reflective material (material: silver, silver / palladium / copper alloy) is formed on the concave portion of the transfer roll surface by various coaters or the like. , Metal such as aluminum, titanium, gold, metal particle diameter: 1-20 nm, preferably 2-10 nm, viscosity: 1-50 cps, preferably 2-20 cps, surface tension: 1-60 dyn / cm, preferably 5-30 dyn / cm).
(7)転写ロール表面の凹部(又は凸部)に充填した低粘度の前記反射材を透明な導電層(導電材:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)からなる画素電極下に直接形成することにより、互いに電気的に接続された画素電極を形成する。 (7) A pixel electrode composed of a transparent conductive layer (conductive material: ITO, film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) made of the low-viscosity reflective material filled in the concave portion (or convex portion) of the transfer roll surface. by directly forming the bottom, forming a pixel electrode electrically connected to each other.
なお、入射光を特定の方向に集光させるための連続した傾斜面を有する凸又は凹の微小な光拡散反射体を無秩序、かつ任意の位置に、任意の密度で配置した光反射機能を有する導電材の形成については、下記に詳述する。 In addition, it has a light reflection function in which convex or concave minute light diffusing reflectors having a continuous inclined surface for condensing incident light in a specific direction are randomly arranged at arbitrary positions and at arbitrary densities. The formation of the conductive material will be described in detail below.
(1)高分子共重合体や高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象の数値解析手法(Cahn-Hilliard(-Cook)方程式、時間依存Ginzburg-Landau方程式あるいはCell-Dynamical-System model(CDS) 方程式等)により生成される円状、多角形、棒状あるいは紐状の濃度分布パターンデータを利用して作製されたフォトマスクを使用して、1)連続的に変化する傾斜面を有する光拡散反射体を無秩序、かつ任意の位置に、任意の密度で配置、2)前記拡散反射体を上方から見た形状が円形、多角形、棒状及び紐状、又はそれらに近似した形状、これらの等の条件を満たすように、透明な導電層からなる画素電極(材質:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)下に、反射機能を有する反射材(材質:銀、銀・パラジウム・銅の合金、アルミ、チタン、金等の金属、金属粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm、バインダー:感光性樹脂、粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps、表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm)をパターニングした後、熱(200〜250℃、時間:30〜60分)を加えて、前記透明導電層又は透明電極と前記導電材が互いに電気的に接続するように、画素電極に対応する任意の領域に無秩序、かつ、任意の密度になるように配置した透過/反射表示兼用の電極を作製する。 (1) numerical method of phase separation which is expressed in high molecular copolymer or high molecular block copolymer (Cahn-Hilliard (-COOK) equation, the time-dependent Ginzburg-Landau equation or Cell-Dynamical-System model ( CDS) Using photomasks created using circular, polygonal, rod-like or string-like density distribution pattern data generated by equations, etc.) 1) Light with a continuously changing inclined surface the diffuse reflector disordered, and in any position, arranged in any density, 2) the shape viewed diffuse reflector from above circular, polygonal, rod and string-like or shape similar thereto, these so as to satisfy the condition of equal, the pixel electrode including a transparent conductive layer (material: ITO, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) under, reflective material (material having a reflective function: silver, silver- alloy of palladium, copper, aluminum, titanium, gold, such as gold Metal particle size: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm, the binder: a photosensitive resin, viscosity: 1~50Cps, preferably 2~10Cps, surface tension: 1~60dyn / cm, preferably 5~30dyn / cm) After patterning, any heat treatment (200-250 ° C., time: 30-60 minutes) is applied to the pixel electrode so that the transparent conductive layer or transparent electrode and the conductive material are electrically connected to each other. In this region, a transmissive / reflective display-use electrode is produced that is disordered and arranged to have an arbitrary density.
(2)高分子共重合体や高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象の数値解析手法(Cahn-Hilliard(-Cook)方程式、時間依存Ginzburg-Landau方程式あるいはCell-Dynamical-System model(CDS) 方程式等)により生成される円状、多角形、棒状あるいは紐状の濃度分布パターンデータを利用して形成されたフォトマスクを使用して、1)連続的に変化する傾斜面を有する光拡散反射要素を無秩序、かつ任意の位置に、任意の密度で配置、2)前記拡散反射要素を上方から見た形状が円形、多角形、棒状及び紐状、これらの等の条件を満たすように形成された凸又は凹が複数形成された転写用高分子シート、転写用ロール、転写用プレート及び印刷版等を用いて、透明な導電層(材質:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)又は透明電極(材質:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)上に、光反射機能を有する導電材(導電材:銀、アルミ、金粒子等、粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm、粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps)を、前記転写用ロール状金型(ロール速度:0.1〜3m/分)あるいは平板状金型を用いる転写法、さらには前記印刷版を用いる印刷法等により、前記透明導電層又は透明電極上に転写したのち、熱(200〜250℃、時間:30〜60分)を加えて、前記透明導電層又は透明電極と前記導電材が互いに電気的に接続するように、画素電極に対応する任意の領域に無秩序、かつ、任意の密度になるように配置した透過/反射兼用の電極を作製する。 (2) numerical analysis method of phase separation which is expressed in high molecular copolymer or high molecular block copolymer (Cahn-Hilliard (-COOK) equation, the time-dependent Ginzburg-Landau equation or Cell-Dynamical-System model ( CDS) Using a photomask formed using circular, polygonal, rod-like or string-like density distribution pattern data generated by the equation etc.) 1) Light having a continuously changing inclined surface Arrange the diffuse reflection elements randomly and in any position at an arbitrary density, and 2) The shape of the diffuse reflection elements as viewed from above satisfies the conditions of circular, polygonal, rod-like and string-like, and the like. A transparent conductive layer (material: ITO, film thickness: 50 to 600 nm, preferably using a polymer sheet for transfer, a transfer roll, a transfer plate, a printing plate, etc. formed with a plurality of formed convexities or depressions, preferably 100 to 300 nm) or a transparent electrode (material: ITO Conductive material (conductive material: silver, aluminum, gold particles, etc.) having a light reflecting function on the film thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm, particle diameter: 1 to 20 nm, preferably 2 to 10 nm, viscosity: 1 to 50 cps, preferably 2 to 10 cps) by a transfer method using the transfer roll mold (roll speed: 0.1 to 3 m / min) or a flat plate mold, and further a printing method using the printing plate, etc. After the transfer onto the transparent conductive layer or transparent electrode, heat (200 to 250 ° C., time: 30 to 60 minutes) is applied to electrically connect the transparent conductive layer or transparent electrode and the conductive material to each other. As described above, a transmission / reflection electrode is formed in an arbitrary region corresponding to the pixel electrode so as to be disordered and have an arbitrary density.
(3)高分子共重合体や高分子ブロック共重合体等で発現する相分離現象の数値解析手法(Cahn-Hilliard(-Cook)方程式、時間依存Ginzburg-Landau方程式あるいはCell-Dynamical-System model(CDS) 方程式等)により生成される円状、多角形、棒状あるいは紐状の濃度分布パターンデータを利用してインクジェット方式パターン形成装置のパターン描画データ(XY座標値、濃度値→銀ペースト吐出圧力)を作製し、1)連続的に変化する傾斜面を有する光拡散反射要素を無秩序、かつ任意の位置に、任意の密度で配置、2)前記拡散反射要素を上方から見た形状が円形、多角形、棒状及び紐状、又はそれらに近似した形状、これらの等の条件を満たすように、透明な導電層(材質:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300nm)又は透明電極(材質:ITO、膜厚:50〜600nm、好ましくは100〜300 nm)上に、光反射機能を有する導電材(導電材:銀、アルミ、金粒子等、粒子径:1〜20nm、好ましくは2〜10nm、バインダー:感光性樹脂、粘度:1〜50cps、好ましくは2〜10cps、表面張力:1〜60dyn/cm、好ましくは5〜30dyn/cm)で光拡散反射体を直接描画した後、熱(200〜250℃、時間:30〜60分)を加えて、前記透明導電層又は透明電極と前記導電材が互いに電気的に接続するように、画素電極に対応する任意の領域に無秩序、かつ、任意の密度になるように配置した透過/反射表示兼用の電極を作製する。 (3) numerical analysis method of phase separation which is expressed in high molecular copolymer or high molecular block copolymer (Cahn-Hilliard (-COOK) equation, the time-dependent Ginzburg-Landau equation or Cell-Dynamical-System model ( CDS) equations, etc.) circular produced by, a polygon, pattern drawing data of the bar-like or by using the string-like density distribution pattern data inkjet method patterning device (XY coordinate values, density values → silver paste discharge pressure) 1) Dispersing the light diffusing and reflecting elements having inclined surfaces that change continuously at random positions and at an arbitrary density 2) The shape of the diffusing and reflecting elements viewed from above is circular, rectangular, rod-like and cord-like or shape similar thereto, so that satisfy the conditions such as these, a transparent conductive layer (material: ITO, thickness: 50 to 600 nm, preferably 100 to 300 nm) or a transparent electrode ( Material: ITO, film : 50-600 nm, preferably 100-300 nm) on a conductive material having a light reflection function (conductive material: silver, aluminum, gold particles, etc., particle size: 1-20 nm, preferably 2-10 nm, binder: photosensitive rESIN, viscosity: 1~50Cps, preferably 2~10Cps, surface tension: 1~60dyn / cm, preferably after drawing a light diffusing reflector directly 5~30dyn / cm), heat (200 to 250 ° C., (Time: 30 to 60 minutes), and the transparent conductive layer or transparent electrode and the conductive material are electrically connected to each other, so that an arbitrary region corresponding to the pixel electrode is disordered and has an arbitrary density. producing an electrode arrangement the transmission / reflection display combined as.
ただし、本発明は、液晶の駆動方式には依存するものではないので、アクティブ駆動方式、パッシブ駆動方式等、いずれの駆動方式の液晶表示装置にも適応でき、アクティブ駆動方式半透過反射型液晶表示装置に限定されるものではない。また、本発明の透過/反射兼用電極はフォトリソ法、転写法、印刷法及びインクジェット法等のいずれも製作法でも適応でき、製作方式に限定されるものでもない。 However, since the present invention does not depend on the liquid crystal driving method, it can be applied to any driving liquid crystal display device such as an active driving method and a passive driving method, and the active driving method transflective liquid crystal display. It is not limited to a device. Further, the transmission / reflection combined electrode of the present invention can be applied to any production method such as a photolithography method, a transfer method, a printing method, and an ink jet method, and is not limited to the production method.
1…液晶、2…スペーサ、3,5…位相差板、4,6…偏光板、10,20,60,70,80,90…ガラス基板、11,61…ゲート電極、11'…ゲート配線、12,62…ゲート絶縁層、13,63…アモルファスシリコン層、14,64…ドレイン電極、14'…ドレイン配線、15,65…ソース電極、15'…ソース配線、16,66…画素電極、17,67,82…反射体(導電材からなる反射表示部)、17'…透過表示部、18,25,69,75,83,95…配向制御膜、19…薄膜トランジスタ、21,71,91…遮光層、22,72,92…着色層、23,73,93…保護層、24,74,81,94…透明電極、30…液晶表示素子、40…バックライト、41…光源、42…導光体、43…プリズムシート、44…拡散シート、50…液晶表示装置、51…走査側駆動回路、52…信号側駆動回路、53…信号処理回路、68…絶縁層、100…滴下装置、110…転写型、120…フィルム型
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal, 2 ... Spacer, 3, 5 ... Phase difference plate, 4, 6 ... Polarizing
Claims (9)
透明な導電層からなる前記画素電極下に、光散乱機能及び光反射機能を有する微小な反射体を分散配置したことを特徴とする液晶表示装置。 A plurality of pixels surrounded by a plurality of gate wirings on the substrate and a plurality of source wirings arranged so as to be orthogonal to the gate wirings, and connected to the gate wirings and the source wirings in the pixels; In a liquid crystal display device in which a transmissive display and a reflective display are simultaneously performed by a switching element provided near the intersection of both wirings and a pixel electrode connected to the switching element,
A liquid crystal display device, characterized in that minute reflectors having a light scattering function and a light reflection function are dispersedly arranged below the pixel electrode made of a transparent conductive layer.
9. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the area where the reflector is disposed is a reflective display area, and the other area is a transmissive display area.
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