JP2003315515A - Mask, substrate with light reflective coating, method for manufacturing light reflective coating, electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

Mask, substrate with light reflective coating, method for manufacturing light reflective coating, electrooptical device and electronic equipment

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JP2003315515A
JP2003315515A JP2003053327A JP2003053327A JP2003315515A JP 2003315515 A JP2003315515 A JP 2003315515A JP 2003053327 A JP2003053327 A JP 2003053327A JP 2003053327 A JP2003053327 A JP 2003053327A JP 2003315515 A JP2003315515 A JP 2003315515A
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JP
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light
substrate
base material
display device
portions
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Withdrawn
Application number
JP2003053327A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Otake
俊裕 大竹
Mutsumi Matsuo
睦 松尾
Tadashi Tsuyuki
正 露木
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask for manufacturing a light reflective layer having little occurrence of interference fringes, a substrate with the light reflective coating by formed by using the mask, a method for manufacturing the light reflective coating, an electrooptical device provided with the light reflective coating having little occurrence of interference fringes, and electronic equipment provided with the light reflective coating having little occurrence of interference fringes. <P>SOLUTION: Light transparent parts or light nontransparent parts are allocated with a random function, and masks arranged randomly in a planar direction are used to produce a light reflective coating wherein a plurality of projecting parts or recessed parts formed on the substrate are arranged randomly in a planar direction. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、光反射膜
付き基板、光反射膜の製造方法、及び光学表示装置、並
びに電子機器に関する。より詳細には、干渉縞の発生が
少ない光反射膜付き基板を製造するためのマスク、それ
を用いてなる光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、
及び干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた光学表示装
置、並びに干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた電子
機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask, a substrate with a light reflecting film, a method for manufacturing the light reflecting film, an optical display device, and an electronic device. More specifically, a mask for producing a substrate with a light-reflecting film in which the occurrence of interference fringes is small, a substrate with a light-reflecting film using the same, a method for producing a light-reflecting film,
The present invention also relates to an optical display device provided with a light reflection film with less occurrence of interference fringes, and an electronic device provided with a light reflection film with less occurrence of interference fringes.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、薄型化や省電力化等が図
られることから、各種の電子機器における表示装置とし
て、液晶表示装置が広く用いられている。このような液
晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入し
た状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が
一般的である。そして、このような液晶表示装置を搭載
した電子機器は、液晶表示装置を外部からの衝撃などか
ら保護すべく、当該液晶表示装置の観察側、すなわち、
表示を視認する観察者の側に、保護板を配設した構成が
採られている。かかる保護板は、通常、光透過性を有す
る材料、例えば、透明プラスチックなどからなる板状部
材である。
2. Description of the Related Art As is well known, liquid crystal display devices are widely used as display devices in various electronic devices because of their thinness and power saving. Such a liquid crystal display device generally has a configuration in which liquid crystal is sealed between a pair of glass substrates or the like and the periphery thereof is adhered by a sealing material. Then, in order to protect the liquid crystal display device from an external impact, an electronic device equipped with such a liquid crystal display device has an observation side of the liquid crystal display device, that is,
A structure in which a protective plate is arranged on the side of an observer who visually recognizes the display is adopted. Such a protective plate is usually a plate-shaped member made of a light-transmissive material such as transparent plastic.

【0003】しかしながら、このような保護板における
液晶表示装置との対向面を完全な平滑面とすることは困
難であり、微細な凹凸が存在している場合が多い。そし
て、このような保護板を液晶表示装置に配設した場合、
表面の微細な凹凸に起因して表示品位が著しく低下して
しまうという問題があった。このように表示品位が低下
する原因の一つとして、液晶表示装置における観察側の
基板と保護板との間隔が、保護板の表面に存在する凹凸
に応じてばらつくことが挙げられる。すなわち、このよ
うな間隔のばらつきに対応して、液晶表示装置からの出
射光が保護板を透過する際に干渉を生じ、その結果、干
渉縞が発生する。そして、発生した干渉縞が表示画像と
重なりあうことによって、表示品位の低下が引き起こさ
れると推定される。
However, it is difficult to make the surface of such a protective plate facing the liquid crystal display device a perfectly smooth surface, and in many cases fine irregularities are present. And when such a protective plate is arranged in a liquid crystal display device,
There is a problem that the display quality is remarkably deteriorated due to the fine irregularities on the surface. One of the causes of such deterioration in display quality is that the distance between the viewing-side substrate and the protective plate in the liquid crystal display device varies depending on the unevenness present on the surface of the protective plate. That is, in response to such variations in the spacing, interference occurs when the light emitted from the liquid crystal display device passes through the protective plate, and as a result, interference fringes occur. Then, it is estimated that the generated interference fringes overlap with the display image, which causes deterioration of display quality.

【0004】また、特開平6−27481号公報には、
図27に示すように反射型液晶表示装置400を開示し
ており、特開平11−281972号公報には、図28
に示すように反射透過両用型500を開示しており、そ
れぞれ干渉縞の発生を低下すべく、高さが異なる複数の
凹凸構造404a、404b(504a、504b)を
設け、その上に高分子樹脂膜405(505)を形成
し、さらにその上に、連続する波状の反射電極409
(509)が形成されている。また、かかる反射電極を
有する液晶表示装置の製造工程が開示されており、例え
ば、図29に開示されている。まず、図29(a)に示
すように、ガラス基板600上にレジスト膜602を全
面的に形成し、次いで、図29(b)に示すように、直
径が異なる複数の円からなるパターン604を介して、
露光する。その後、図29(c)に示すように現像し、
高さが異なる複数の角のある凸部又は凹部606a、6
06bを設け、さらに、図29(d)に示すように、加
熱して、凸部又は凹部の角部を軟化させて、角落ちした
凸部又は凹部608a、608bを形成する。そして、
図29(e)に示すように、かかる凹凸構造の間610
に所定量の高分子樹脂620を充填して波状表面を有す
る連続層とした後、さらに、高分子樹脂膜620の上
に、スパッタリング法等の積層手段によって、連続する
波状の反射電極624を形成するものである。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-27481 discloses that
As shown in FIG. 27, a reflection type liquid crystal display device 400 is disclosed, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-281972 discloses a liquid crystal display device 400.
As shown in FIG. 2, a reflection / transmission dual-use mold 500 is disclosed, and a plurality of uneven structures 404a and 404b (504a and 504b) having different heights are provided in order to reduce the generation of interference fringes, and a polymer resin is provided thereon. A film 405 (505) is formed, and a continuous wavy reflection electrode 409 is further formed thereon.
(509) is formed. Further, a manufacturing process of a liquid crystal display device having such a reflective electrode is disclosed, for example, it is disclosed in FIG. First, as shown in FIG. 29A, a resist film 602 is entirely formed on a glass substrate 600, and then, as shown in FIG. 29B, a pattern 604 composed of a plurality of circles having different diameters is formed. Through,
Expose. After that, development is performed as shown in FIG.
Plural angled convex portions or concave portions 606a, 606a, 6 having different heights
29b, and further, as shown in FIG. 29D, heating is performed to soften the corners of the protrusions or recesses to form the protrusions or recesses 608a, 608b having the corners dropped. And
As shown in FIG. 29E, the space 610
After filling a predetermined amount of the polymer resin 620 into a continuous layer having a wavy surface, a continuous wavy reflection electrode 624 is further formed on the polymer resin film 620 by a laminating means such as a sputtering method. To do.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
6−27481号公報等に開示された反射型液晶表示装
置や反射透過両用型の液晶表示装置は、直径が異なる複
数の円等が規則的又は一部不規則に配列されたマスクパ
ターンを用い、紫外線露光及び現像を利用して、高さが
異なる複数の凹凸構造を設けることを意図しているもの
の、塗布厚のばらつき等もあり、光干渉を有効に防止で
きるように高さを厳密に調整することは困難であった。
また、高さが異なる複数の凹凸構造上に、反射電極が形
成されていることから、断線したり、ショートしやすい
などの問題も見られた。さらに、開示された光反射膜の
製造方法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造
上の問題も見られた。したがって、特開平6−2748
1号公報等に開示された光反射膜は、干渉縞の発生を有
効に防止することが困難であるばかりか、かかる光反射
膜を、安定して、しかも効率的に製造することは困難で
あった。
However, in the reflective liquid crystal display device and the reflective / transmissive liquid crystal display device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-27481, a plurality of circles having different diameters are regularly or Although it is intended to provide a plurality of uneven structures with different heights by using ultraviolet exposure and development using a partially irregularly arranged mask pattern, there are variations in coating thickness, etc. It was difficult to strictly adjust the height so that the above can be effectively prevented.
In addition, since the reflective electrode is formed on a plurality of uneven structures having different heights, problems such as disconnection and easy short-circuiting have been observed. Further, the disclosed method for producing a light-reflecting film has many manufacturing steps and many management items, which is a problem in production. Therefore, JP-A-6-2748
The light-reflecting film disclosed in Japanese Patent Publication No. 1 is difficult to effectively prevent the generation of interference fringes, and it is difficult to manufacture such a light-reflecting film stably and efficiently. there were.

【0006】そこで、光透過部又は光不透過部をランダ
ムに配列したマスクパターンを作成し、それを用いて光
反射膜を作成し、さらにそのような光反射膜を備えた反
射型液晶表示装置や反射透過両用型の液晶表示装置を製
造することも考えられるが、次のような問題が生じるも
のと考えられていた。 光透過部又は光不透過部におけるランダム配列の設計
が複雑で、マスクパターンの設計が容易でない。 マスクパターンにおける光透過部又は光不透過部の好
ましいランダム配列の程度が不明である。 繰り返し設計した場合におけるマスクパターンの反射
特性の再現性に欠ける。一方、近年、液晶表示装置等の
表示デバイスは大画面化が進み、30インチ〜40イン
チの表示領域を有する量産製品が開発されつつあり、将
来的には縦横比が16:9のワイド画面を有する60イ
ンチの壁掛けタイプの表示装置も開発されようとしてい
る。このような大型表示デバイスの場合においては、ま
すます干渉縞の発生が少ない光反射膜が要求される一
方、それを作成する際のマスクパターンの設計の容易さ
や迅速さについても要求されているという状況がある。
Therefore, a mask pattern in which light transmitting portions or light non-transmitting portions are randomly arranged is formed, a light reflecting film is formed using the mask pattern, and a reflection type liquid crystal display device having such a light reflecting film is formed. Although it is possible to manufacture a liquid crystal display device of the dual-purpose type, a reflective / transmissive type, it was thought that the following problems would occur. The design of the random pattern in the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is complicated, and the mask pattern is not easily designed. The extent of the preferable random arrangement of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask pattern is unknown. The reproducibility of the reflection characteristics of the mask pattern when iteratively designed is lacking. On the other hand, in recent years, display devices such as liquid crystal display devices have become larger in screen size, and mass-produced products having a display area of 30 to 40 inches are being developed. A 60-inch wall-mounted display device is also being developed. In the case of such a large-sized display device, while a light-reflecting film with less occurrence of interference fringes is required, the ease and speed of designing a mask pattern for producing it are also required. There are situations.

【0007】したがって、本発明の発明者らは、以上の
問題を鋭意検討した結果、光透過部又は光不透過部をラ
ンダム関数によって割付け、それを平面方向にランダム
に配列したマスクパターンを用いることによって、マス
クパターンの設計が容易になるばかりか、液晶表示装置
等に用いた場合に、干渉縞の発生が少ない光反射膜が容
易に得られることを見出したものである。すなわち、本
発明は、設計が容易であって、液晶表示装置等に用いた
場合に、干渉縞の発生が少ない光反射膜付き基板が得ら
れるマスク、そのような光反射膜付き基板、そのような
光反射膜の製造方法、及びそのような光反射膜を設けた
光学表示装置、並びにそのような光反射膜を有する電子
機器を提供することを目的としている。
[0007] Therefore, as a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present invention use a mask pattern in which a light transmitting portion or a light non-transmitting portion is allocated by a random function, and the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is randomly arranged in the plane direction. It has been found that, in addition to facilitating the design of the mask pattern, a light reflecting film with less generation of interference fringes can be easily obtained when used in a liquid crystal display device or the like. That is, the present invention is a mask that is easy to design and obtains a substrate with a light-reflecting film that causes less interference fringes when used in a liquid crystal display device or the like. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing such a light reflecting film, an optical display device provided with such a light reflecting film, and an electronic device having such a light reflecting film.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、光反射
膜付き基板を製造するためのマスクであって、光透過部
又は光不透過部の位置をランダム関数によって割付け、
当該光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列することを特徴とするマスクが提供され、上述した問
題を解決することができる。すなわち、光透過部又は光
不透過部の位置をランダム関数によって割付けているこ
とから、複雑なランダムパターン等を有する場合であっ
ても、マスクを容易かつ短時間に設計することできる。
なお、使用するランダム関数としては、数学上、確率的
に任意の数を発生させる関数であれば良く、後述するよ
うに、例えば、RGBドットに対応させて0〜1の任意
の数字を発生させ、その数字をもとに所定のマスクパタ
ーンを対応させることができれば良い。また、本発明の
マスクによれば、光透過部又は光不透過部が、ランダム
関数によって位置決めされた上で、平面方向にランダム
に配列してあることから、光反射膜付き基板を製造した
場合に、再現性良く優れた光散乱効果を発揮し、干渉縞
の発生を有効に防止することができる。なお、光透過部
又は光不透過部の平面形状を制御する理由は、光反射膜
付基板を構成する感光性樹脂に、光透過部を透過した光
が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化
するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所
が感光し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるこ
とによる。
According to the present invention, there is provided a mask for producing a substrate with a light reflecting film, wherein the positions of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion are assigned by a random function.
A mask is provided which is characterized in that the light transmissive portions or the light non-transmissive portions are randomly arranged in the plane direction, and the above-mentioned problems can be solved. That is, since the positions of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion are assigned by a random function, the mask can be easily designed in a short time even when the mask has a complicated random pattern or the like.
The random function to be used may be a function that mathematically stochastically generates an arbitrary number, and as will be described later, for example, an arbitrary number of 0 to 1 is generated corresponding to RGB dots. It suffices that a predetermined mask pattern can be made to correspond based on the number. Further, according to the mask of the present invention, when the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is positioned by a random function and then randomly arranged in the plane direction, it is possible to manufacture a substrate with a light reflecting film. In addition, the excellent light scattering effect is exhibited with good reproducibility, and the generation of interference fringes can be effectively prevented. The reason for controlling the planar shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is that the photosensitive resin constituting the substrate with a light reflecting film is photolyzed at the location where the light transmitted through the light transmitting portion is irradiated, This is because there are a positive type which is solubilized in the developer and a negative type which is insoluble in the developer because a portion irradiated with light transmitted through the light transmitting portion is exposed.

【0009】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、ランダム関数によって、0〜1の任意の数字を発生
させ、その数字をもとに全ドットに対して1〜n(nは
2〜1000の任意の自然数)の数字を分配するととも
に、予め作成しておいたn種類のランダムパターンを、
分配された数字に対して対応させることにより、光透過
部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列すること
が好ましい。このように簡易なランダム関数によって割
付けていることから、好ましい反射特性を有するマスク
を容易かつ短時間に設計することできる。また、n種類
のランダムパターンを予め作成する必要があるものの、
ランダム関数を使用しない場合と比較して、それぞれ小
面積のランダムパターンの設計ですむことから、設計自
体は容易かつ短時間に可能である。さらに、n種類のラ
ンダムパターンを適宜変更することによって、好ましい
反射特性を有するランダムパターンを、容易かつ短時間
にサーチすることが可能である。
Further, in constructing the mask of the present invention, an arbitrary number of 0 to 1 is generated by a random function, and 1 to n (n is 2 to 1000) for all dots based on the number. In addition to distributing numbers of arbitrary natural numbers), n kinds of random patterns created in advance are
It is preferable that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction by corresponding to the distributed numbers. Since the allocation is performed by such a simple random function, it is possible to easily and quickly design a mask having desirable reflection characteristics. Also, although it is necessary to create n kinds of random patterns in advance,
Compared with the case where the random function is not used, the design of the random pattern having a small area is sufficient, so that the design itself can be performed easily and in a short time. Further, by appropriately changing the n kinds of random patterns, it is possible to easily search for a random pattern having a preferable reflection characteristic in a short time.

【0010】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、RGBドット100〜2,000又は、画面全体、
すなわち、マスクを用いて形成する反射膜付き基板全体
を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向に
ランダムに配列することが好ましい。光透過部又は光不
透過部を平面方向にランダムに配列した場合、得られた
光反射膜を液晶表示装置等に使用すると、不定形のしみ
模様が発現する場合があるが、このような画素数を一単
位としたランダムパターンであれば、このような不定形
のしみ模様の発現を有効に低下させることができる。
In constructing the mask of the present invention, the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen,
That is, it is preferable to randomly arrange the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the plane direction with the entire substrate with a reflective film formed using a mask as one unit. When the light transmissive portions or the light non-transmissive portions are randomly arranged in the plane direction and the obtained light reflective film is used in a liquid crystal display device or the like, an irregular stain pattern may appear. With a random pattern in which the number is one unit, it is possible to effectively reduce the development of such an irregular stain pattern.

【0011】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部を横一列方向又は縦一列方
向に帯状のランダムパターンを形成し、当該帯状のラン
ダムパターンを複数列において繰り返すことが好まし
い。このように構成することにより、少ない情報量によ
って、全体として好ましい反射特性を有するランダムパ
ターンを、容易かつ短時間に設計することが可能であ
る。また、横方向又は縦方向に、所定単位のランダムパ
ターンを繰り返すため、全体として好ましい反射特性を
有するランダムパターンを、再現性良く得ることができ
る。
Further, in constructing the mask of the present invention, a light-transmitting portion or a light-impermeable portion is formed into a strip-shaped random pattern in the horizontal single row direction or the vertical single row direction, and the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of rows. Is preferred. With this configuration, it is possible to easily and quickly design a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole with a small amount of information. Further, since the random pattern of a predetermined unit is repeated in the horizontal direction or the vertical direction, it is possible to obtain a random pattern having preferable reflective properties as a whole with good reproducibility.

【0012】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を3〜15μmの範囲
内の値とすることが好ましい。このように構成すること
により、干渉縞の発生が少ない光反射膜を効率的に製造
することができる。すなわち、光反射膜を製造した際
に、このような径を有する凸部又は凹部であれば、その
平面形状や配置パターンを、露光プロセスを用いて、正
確に制御することができるためである。したがって、得
られた光反射膜において光を安定に散乱させることがで
きるため、干渉縞の発生を有効に防止することができ
る。
In forming the mask of the present invention, it is preferable that the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is set to a value within the range of 3 to 15 μm. With this configuration, it is possible to efficiently manufacture the light reflection film with less occurrence of interference fringes. That is, when the light-reflecting film is manufactured, if the projections or recesses have such a diameter, the planar shape and arrangement pattern thereof can be accurately controlled by using an exposure process. Therefore, the light can be stably scattered in the obtained light reflection film, so that the generation of interference fringes can be effectively prevented.

【0013】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を異ならせ、2〜10
種の光透過部又は光不透過部を設けることが好ましい。
このように構成することにより、干渉縞の発生が少ない
光反射膜をさらに効率的に製造することができる。すな
わち、光反射膜を製造した際に、径が異なる複数の凸部
又は凹部が存在することにより、複数の凸部又は凹部の
配列がより分散することになる。したがって、得られた
光反射膜において光を適当に散乱させることができるた
め、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができ
る。なお、このように光透過部又は光不透過部の径を異
ならせる場合、少なくとも一つの径を5μm以上の値と
することが好ましい。逆に、いずれも5μm未満の円又
は多角形となると、光反射膜を製造した際に、光を過度
に散乱させる場合が多くなり、光反射膜による反射光量
が著しく低下する場合があるためである。
Further, in constructing the mask of the present invention, the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is made different, and 2 to 10 are used.
It is preferable to provide a light transmitting portion or a light non-transmitting portion.
With such a configuration, it is possible to more efficiently manufacture the light reflection film with less occurrence of interference fringes. That is, when the light reflecting film is manufactured, the plurality of convex portions or concave portions having different diameters are present, so that the arrangement of the plurality of convex portions or concave portions becomes more dispersed. Therefore, the light can be appropriately scattered in the obtained light reflection film, so that the generation of interference fringes can be more effectively prevented. When the diameters of the light transmitting portion and the light non-transmitting portion are made different, it is preferable that at least one diameter is set to a value of 5 μm or more. On the other hand, when each of them is a circle or a polygon of less than 5 μm, light is often scattered excessively when the light reflecting film is manufactured, and the amount of light reflected by the light reflecting film may be significantly reduced. is there.

【0014】また、本発明の別の態様は、基材と、反射
層とを含む光反射膜付き基板であって、当該基材の表面
に形成された複数の凸部又は凹部の位置をランダム関数
によって割付け、当該複数の凸部又は凹部を平面方向に
ランダムに配列することを特徴とする光反射膜付き基板
である。このように複数の凸部又は凹部の平面方向の配
置をランダムにすることによって、液晶表示装置等に使
用した場合の干渉縞の発生を有効に防止することができ
る。また、複数の凸部又は凹部が、ランダム関数によっ
て割付けられていることから、凸部又は凹部の平面形状
や配置パターンを、露光プロセスによって、正確に制御
することができる。
Another aspect of the present invention is a substrate with a light-reflecting film including a base material and a reflective layer, wherein the positions of a plurality of protrusions or recesses formed on the surface of the base material are random. It is a substrate with a light-reflecting film, wherein the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in a plane direction by allocating by a function. By randomly arranging the plurality of convex portions or concave portions in the planar direction in this manner, it is possible to effectively prevent the generation of interference fringes when used in a liquid crystal display device or the like. Further, since the plurality of convex portions or concave portions are allocated by the random function, the planar shape and arrangement pattern of the convex portions or concave portions can be accurately controlled by the exposure process.

【0015】また、本発明の光反射膜を構成するにあた
り、複数の凸部又は凹部を、RGBドット(1画素)1
00〜2,000又は画面全体を一単位として、平面方
向にランダムに配列することが好ましい。ランダムパタ
ーンを有する光反射膜を液晶表示装置等に使用すると、
不定形のしみ模様が発現する場合があるが、このような
複数のRGBドットを一単位としたランダムパターンを
有する光反射膜であれば、かかる不定形のしみ模様の発
現を有効に低下させることができる。
In forming the light reflecting film of the present invention, a plurality of convex portions or concave portions are formed as RGB dots (one pixel) 1.
It is preferable to randomly arrange in the plane direction from 00 to 2,000 or the entire screen as one unit. When a light reflecting film having a random pattern is used in a liquid crystal display device,
An irregular stain pattern may appear, but such a light reflecting film having a random pattern with a plurality of RGB dots as one unit can effectively reduce the occurrence of such irregular stain pattern. You can

【0016】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部を横一列方向又は縦一
列方向にランダムに配列し、それを複数列繰り返すこと
が好ましい。このように構成することにより、少ない情
報量によって、全体として好ましい反射特性を有する光
反射膜付基板を得ることができる。また、横方向又は縦
方向に、所定単位のランダムパターンを繰り返すため、
全体として好ましい反射特性を有するランダムパターン
を、再現性良く得ることができる。
Further, in forming the substrate with a light reflecting film of the present invention, it is preferable that a plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in the horizontal single row direction or the vertical single row direction, and the plural rows are repeated. With such a configuration, it is possible to obtain a substrate with a light-reflecting film having a preferable reflection characteristic as a whole with a small amount of information. Also, in the horizontal or vertical direction, because a random pattern of a predetermined unit is repeated,
A random pattern having favorable reflection characteristics as a whole can be obtained with good reproducibility.

【0017】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を3〜15μmの
範囲内の値とすることが好ましい。このように構成する
ことにより、凸部又は凹部の平面形状や配置パターン
を、露光プロセスを用いて、正確に制御することができ
るとともに、光を適度に散乱させることができるため、
干渉縞の発生を有効に防止することができる。
Further, in forming the substrate with a light reflecting film of the present invention, it is preferable that the diameter of the plurality of convex portions or concave portions is set to a value within the range of 3 to 15 μm. With such a configuration, the planar shape and the arrangement pattern of the convex portions or the concave portions can be accurately controlled by using the exposure process, and the light can be appropriately scattered,
It is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0018】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を異ならせ、2〜
10種類の凸部又は凹部を設けることが好ましい。この
ように構成することにより、液晶表示装置等に用いられ
た場合に、複数の凸部又は凹部の配置がより分散して、
光を適当に散乱させることができるため、干渉縞の発生
をさらに有効に防止することができる。
Further, in constructing the substrate with a light reflecting film of the present invention, the diameters of a plurality of convex portions or concave portions are made different, and
It is preferable to provide ten types of protrusions or recesses. With such a configuration, when used in a liquid crystal display device or the like, the arrangement of the plurality of convex portions or concave portions is more dispersed,
Since light can be scattered appropriately, the generation of interference fringes can be prevented more effectively.

【0019】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、基材が、下方から第1の基材及び第2の基
材を順次に含み、当該第1の基材に、複数の凸部又は凹
部が設けてあり、連続層である第2の基材上に、反射層
が設けてあることが好ましい。このように構成すること
により、連続層である第2の基材を介して、反射層を平
坦部が少ない比較的なだらかな曲面とすることができる
ため、液晶表示装置等に用いた場合に、干渉縞の発生を
さらに有効に防止することができる。
Further, in constituting the substrate with a light reflecting film of the present invention, the base material sequentially includes a first base material and a second base material from below, and a plurality of the first base material is provided. It is preferable that the convex portion or the concave portion is provided and the reflective layer is provided on the second base material which is a continuous layer. With this configuration, the reflective layer can be formed into a comparatively gentle curved surface with few flat portions through the second base material that is a continuous layer. Therefore, when used in a liquid crystal display device or the like, The generation of interference fringes can be prevented more effectively.

【0020】また、本発明の別の態様は、基材及び反射
層を含む光反射膜の製造方法であって、光透過部又は光
不透過部の位置をランダム関数によって割付け、当該光
透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列した
マスクを使って、塗布された感光性樹脂に対して、露光
プロセスによって、平面方向にランダムに配列され、か
つ、複数の凸部又は凹部を有する第1の基材を形成する
工程と、当該第1の基材の表面に感光性樹脂を塗布し
て、露光プロセスによって、連続した複数の凸部又は凹
部を有する第2の基材を形成する工程と、当該第2の基
材の表面に反射層を形成する工程と、を含むことを特徴
とする光反射膜の製造方法である。このように実施する
と、複数の凸部又は凹部からなる第1の基材、及びその
上の連続層である第2の基材を介して、反射層を比較的
なだらかな曲面とすることができる。そのため、製造が
容易であって、しかも液晶表示装置等に用いられた場合
に、干渉縞の発生が少ない光反射膜を効率的に提供する
ことができる。
Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a light reflecting film including a base material and a reflecting layer, wherein the positions of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion are assigned by a random function, and the light transmitting portion is arranged. Alternatively, using a mask in which light-impermeable parts are randomly arranged in the plane direction, the photosensitive resin applied is randomly arranged in the plane direction by an exposure process and has a plurality of convex portions or concave portions. A step of forming a first base material, a photosensitive resin is applied to the surface of the first base material, and a second base material having a plurality of continuous convex portions or concave portions is formed by an exposure process. A method of manufacturing a light-reflecting film, comprising: a step; and a step of forming a reflective layer on the surface of the second base material. By carrying out in this way, the reflective layer can be made into a comparatively gentle curved surface through the first base material composed of a plurality of convex portions or concave portions and the second base material which is a continuous layer thereon. . Therefore, it is possible to easily provide a light reflecting film which is easy to manufacture and has less generation of interference fringes when used in a liquid crystal display device or the like.

【0021】また、本発明のさらに別の態様は、基板間
に挟持された光学素子と、当該光学素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した光学表
示装置であって、当該光反射膜が、基材及び反射層から
なり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部の位置
をランダム関数によって割付け、当該複数の凸部又は凹
部が平面方向にランダムに配列してあることを特徴とす
る光学表示装置である。このように構成することによ
り、光反射膜が適度に光散乱を生じさせ、光学表示装置
において、干渉縞の発生を有効に防止することができ
る。また、このような光反射膜を備えた光学表示装置で
あれば、比較的表面が平坦であって、光散乱膜や保護板
をさらに組み合わせた場合であっても、見映えを良くす
ることができる。
Still another aspect of the present invention is an optical display comprising an optical element sandwiched between substrates, and a light reflection film provided on a substrate opposite to the observation side of the optical element. In the device, the light-reflecting film is composed of a base material and a reflective layer, and the positions of a plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are arranged in a plane direction. It is an optical display device characterized by being randomly arranged. With such a configuration, the light reflecting film causes light scattering to an appropriate degree, and it is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes in the optical display device. Further, in the case of an optical display device including such a light reflection film, it is possible to improve the appearance even when the surface is relatively flat and a light scattering film and a protective plate are further combined. it can.

【0022】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学素子の観察側の基板に光散乱膜が設けてあ
ることが好ましい。光反射膜における複数の凸部又は凹
部を平面方向にランダムに配列した場合、不定形のシミ
模様が視覚される場合があるが、このように光反射膜を
光散乱膜と組み合わせて使用することにより、かかる不
定形のシミ模様の視覚を効果的に抑制することができ
る。
In constructing the optical display device of the present invention, it is preferable that a light-scattering film is provided on the substrate on the observation side of the optical element. When a plurality of convex portions or concave portions in the light reflecting film are randomly arranged in the plane direction, an irregular spot pattern may be visible. Use the light reflecting film in combination with the light scattering film in this way. As a result, it is possible to effectively suppress the sight of such an irregular stain pattern.

【0023】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学表示装置の観察側に保護板が設けてあるこ
とが好ましい。このように構成することにより、光学表
示装置の機械的強度を高めることができるとともに、光
学表示装置の見映えを良くすることができる。
In constructing the optical display device of the present invention, it is preferable that a protective plate is provided on the observation side of the optical display device. With this configuration, the mechanical strength of the optical display device can be increased and the appearance of the optical display device can be improved.

【0024】また、本発明のさらに別の態様は、光反射
膜を具備した光学表示装置を含む電子機器であって、光
反射膜が、基材及び反射層を含み、当該基材に形成され
た複数の凸部又は凹部の位置をランダム関数によって割
付け、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに
配列してあることを特徴とする電子機器である。このよ
うに構成することにより、光反射膜が適度に光散乱さ
せ、電子機器において、干渉縞の発生を有効に防止する
ことができる。また、このような光反射膜を備えた電子
機器であれば、比較的表面が平坦であって、光散乱膜や
保護板をさらに組み合わせた場合であっても、見映えを
良くすることができる。
Still another aspect of the present invention is an electronic apparatus including an optical display device having a light reflecting film, wherein the light reflecting film includes a base material and a reflective layer, and is formed on the base material. Further, the electronic device is characterized in that the positions of the plurality of convex portions or concave portions are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in the plane direction. With such a configuration, the light reflecting film appropriately scatters the light, and it is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes in the electronic device. In addition, if the electronic device is provided with such a light reflection film, the appearance can be improved even if the surface is relatively flat and a light scattering film and a protective plate are further combined. .

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、
以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すもので
あり、何ら本発明を限定するものではなく、本発明の技
術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Needless to say,
The embodiments described below show one aspect of the present invention, and do not limit the present invention at all, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention.

【0026】[第1実施形態]第1実施形態は、例え
ば、図2に示すような光反射膜を製造するためのマスク
20であって、光透過部又は光不透過部22の位置をラ
ンダム関数によって割付け、当該光透過部又は光不透過
部22を平面方向にランダムに配列してあることを特徴
とするマスクである。
[First Embodiment] In the first embodiment, for example, a mask 20 for manufacturing a light reflecting film as shown in FIG. The mask is characterized in that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions 22 are randomly arranged in a plane direction by allocating by a function.

【0027】1.光透過部又は光不透過部 (1)形状 マスクの光透過部又は光不透過部を、図1(a)に示す
ように独立した円(楕円を含む。以下、同様である。)
及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とするこ
とや、あるいは図1(b)に示すように、重なり合う円
(楕円を含む。以下、同様である。)及び重なり合う多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることが好
ましい。この理由は、光透過部又は光不透過部の平面形
状をこのような円又は多角形とすることにより、光反射
膜を製造するために露光プロセスを実施する際、樹脂の
凹凸配置を複雑にすることができるためである。また、
このような円や多角形は、基本図形であることから、マ
スク自体の製造も容易になるためである。なお、好まし
い多角形としては、四角形、五角形、六角形、八角形等
が挙げられる。
1. Light Transmission Portion or Light Non-Transmission Portion (1) The light transmission portion or light non-transmission portion of the shape mask is an independent circle (including an ellipse. The same applies hereinafter) as shown in FIG.
And a polygon, or one of them, or as shown in FIG. 1 (b), overlapping circles (including ellipses. The same applies hereinafter) and overlapping polygons, or either one. It is preferable to have a flat shape. The reason for this is that by making the plane shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion into such a circle or a polygon, when the exposure process is carried out to manufacture the light reflecting film, the uneven arrangement of the resin becomes complicated. This is because it can be done. Also,
This is because such a circle or polygon is a basic figure, so that the mask itself can be easily manufactured. In addition, preferable polygons include quadrangle, pentagon, hexagon, octagon and the like.

【0028】(2)径及び間隔 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を3
〜15μmの範囲内の値とすることが好ましい。この理
由は、光透過部又は光不透過部の径が3μm未満となる
と、光反射膜を製造する際に露光プロセスを用いたとし
ても、凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、正確
に制御することが困難となる場合があるためである。ま
た、光透過部又は光不透過部の径が3μm未満となる
と、マスク自体の製造も困難となる場合があるためであ
る。一方、光透過部又は光不透過部の径が15μmを超
えると、得られた光反射膜光において、光を適度に散乱
させることが困難となって、散乱特性が落ちて暗い反射
となる場合があるためである。したがって、マスクの光
透過部又は光不透過部の径を5〜13μmの範囲内の値
とすることがより好ましく、6〜12μmの範囲内の値
とすることがさらに好ましい。
(2) Diameter and spacing The diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask is 3
It is preferable to set the value within the range of ˜15 μm. The reason for this is that if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is less than 3 μm, even if an exposure process is used in manufacturing the light reflecting film, the planar shape and arrangement pattern of the convex portions or concave portions can be accurately determined. This is because it may be difficult to control. Further, if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is less than 3 μm, it may be difficult to manufacture the mask itself. On the other hand, when the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion exceeds 15 μm, it becomes difficult to appropriately scatter the light in the obtained light reflecting film light, and the scattering characteristic deteriorates to cause dark reflection. Because there is. Therefore, the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask is more preferably set to a value within the range of 5 to 13 μm, and further preferably set to a value within the range of 6 to 12 μm.

【0029】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部の少なくとも一つの径を5μm以上の値とすること
が好ましい。すなわち、径が異なる光透過部又は光不透
過部があった場合に、少なくとも一つの光透過部又は光
不透過部における径を5μm以上の値とするものであっ
て、径が異なる他の光透過部又は光不透過部にあって
は、その径が5μm未満の値であっても良い。この理由
は、かかる光透過部又は光不透過部の平面形状がいずれ
も5μm未満の円又は多角形となると、得られた光反射
膜において、光を過度に散乱させる場合が多くなり、暗
い反射となる場合があるためである。ただし、光透過部
又は光不透過部の径が、過度に大きくなると、鏡面反射
率が増加する一方、暗い反射となる場合がある。
It is preferable that at least one of the light transmitting portion and the light non-transmitting portion of the mask has a diameter of 5 μm or more. That is, when there is a light transmitting portion or a light non-transmitting portion having a different diameter, the diameter of at least one light transmitting portion or the light non-transmitting portion is set to a value of 5 μm or more, and other light having a different diameter is used. The diameter of the transmissive portion or the light non-transmissive portion may be less than 5 μm. The reason for this is that if the planar shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is a circle or a polygon of less than 5 μm, the obtained light reflecting film will often scatter light excessively, resulting in dark reflection. This is because there are cases where However, if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion becomes excessively large, the specular reflectance may increase, but dark reflection may occur.

【0030】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部を独立して存在させた場合、その間隔(ピッチ)を
3.5〜30μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる光透過部又は光不透過部の間隔が
3.5μm未満の値になると、光透過部又は光不透過部
の独立性が低下する場合があるためである。一方、かか
る光透過部又は光不透過部の間隔が30μmを越える
と、光透過部又は光不透過部のランダム配置性が低下す
る場合があるためである。したがって、マスクにおける
光透過部又は光不透過部の間隔(ピッチ)を5〜20μ
mの範囲内の値とすることがより好ましく、マスクにお
ける光透過部又は光不透過部の間隔(ピッチ)を7〜1
5μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。な
お、かかる光透過部又は光不透過部の間隔は、隣接する
光透過部又は光不透過部の中心から中心までの距離であ
って、10箇所以上の平均値である。また、マスクにお
ける光透過部又は光不透過部を重なり合うようにさせた
場合は、上記数値より数μm低目に設定される。
Further, when the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask is independently present, it is preferable to set the interval (pitch) to a value within the range of 3.5 to 30 μm.
The reason for this is that if the distance between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions is less than 3.5 μm, the independence of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions may decrease. On the other hand, if the distance between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions exceeds 30 μm, the random disposition property of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions may deteriorate. Therefore, the interval (pitch) between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask is 5 to 20 μm.
It is more preferable to set the value within the range of m, and the interval (pitch) between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask is 7 to 1
It is more preferable to set the value within the range of 5 μm. The interval between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions is the distance from the center to the center of the adjacent light transmitting portions or the light non-transmitting portions, and is an average value of 10 or more places. When the light transmitting portions or the light non-transmitting portions of the mask are made to overlap with each other, the value is set to be a few μm lower than the above numerical value.

【0031】(3)種類 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を異
ならせ、2〜10種類の光透過部又は光不透過部を設け
ることが好ましい。例えば、図7に示すように、異なる
径を有する光透過部又は光不透過部を一つのランダムパ
ターン内に設けるものである。この理由は、このように
径の異なる光透過部又は光不透過部が存在することによ
り、干渉縞の発生が少ない光反射膜をさらに効率的に製
造することができるためである。すなわち、このような
マスクを用いて光反射膜を製造した際に、得られる凸部
又は凹部の配列がより分散して、光を適当に散乱させる
ことができるためである。したがって、このような光反
射膜を液晶表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生
をさらに有効に防止することができることになる。
(3) Types It is preferable to provide 2 to 10 types of light transmitting portions or light non-transmitting portions with different diameters of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask. For example, as shown in FIG. 7, light transmitting portions or light non-transmitting portions having different diameters are provided in one random pattern. The reason for this is that the presence of such light transmitting portions or light non-transmitting portions having different diameters makes it possible to more efficiently manufacture the light reflecting film with less occurrence of interference fringes. That is, when the light reflecting film is manufactured using such a mask, the resulting array of convex portions or concave portions is more dispersed, and light can be scattered appropriately. Therefore, when such a light reflection film is used in a liquid crystal display device or the like, it is possible to more effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0032】なお、マスクにおける径が異なる光透過部
又は光不透過部からなるパターンの組み合わせとして、
下記の例を挙げることができる。 1)7.5μmの六角形パターンと、9μmの六角形パ
ターンとの組み合わせ 2)5μmの六角形パターンと、7.5μmの六角形パ
ターンと、9μmの六角形パターンとの組み合わせ 3)4.5μmの正方形パターンと、5μmの正方形パ
ターンと、7.5μmの六角形パターンと、9μmの六
角形パターンと、11μmの六角形パターンと、の組み
合わせが好ましい。
As a combination of patterns consisting of light transmitting portions or light non-transmitting portions having different diameters in the mask,
The following examples can be given. 1) Combination of 7.5 μm hexagonal pattern and 9 μm hexagonal pattern 2) Combination of 5 μm hexagonal pattern, 7.5 μm hexagonal pattern and 9 μm hexagonal pattern 3) 4.5 μm The combination of the square pattern of 5 μm, the square pattern of 5 μm, the hexagonal pattern of 7.5 μm, the hexagonal pattern of 9 μm, and the hexagonal pattern of 11 μm is preferable.

【0033】(4)面積比率 また、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、
全体面積に対して、10〜60%の範囲内の値とするこ
とが好ましい。この理由は、かかる面積比率が、10%
未満の値になると、光反射膜を製造した際に、複数の凸
部又は凹部の占有面積が小さくなって、平坦部が増加
し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためであ
る。一方、かかる面積比率が、60%を超えても平坦部
が増加し、光散乱効果が著しく低下する場合があるため
である。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部
の面積比率を、全体面積に対して、15〜50%の範囲
内の値とすることがより好ましく、20〜40%の範囲
内の値とすることがさらに好ましい。なお、基材を構成
する感光性樹脂として、ポジ型を使用した場合には、光
透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現
像剤に対して可溶化することから、マスクの光不透過部
の面積比率が問題となり、ネガ型を使用した場合には、
光透過部を透過した光が照射された箇所が光硬化し、現
像剤に対して不溶化することから、マスクの光透過部の
面積比率が問題となる。
(4) Area ratio Further, the area ratio of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask is
The value is preferably within the range of 10 to 60% with respect to the entire area. The reason is that the area ratio is 10%
This is because when the value is less than 1, the area occupied by the plurality of convex portions or concave portions becomes small when the light reflecting film is manufactured, the flat portion increases, and the light scattering effect may significantly decrease. On the other hand, even if the area ratio exceeds 60%, the flat portion may increase and the light scattering effect may be significantly reduced. Therefore, it is more preferable to set the area ratio of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask to a value within the range of 15 to 50% with respect to the entire area, and a value within the range of 20 to 40%. Is more preferable. As the photosensitive resin constituting the base material, when a positive type is used, the portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion is photolyzed and solubilized in the developer, The area ratio of the light opaque part of the mask becomes a problem, and when a negative type is used,
The area irradiated by the light transmitted through the light transmitting portion is photo-cured and becomes insoluble in the developer, so that the area ratio of the light transmitting portion of the mask becomes a problem.

【0034】2.ランダム配列 (1)ランダム配列1 第1の実施形態では、例えば、図1(a)および(b)
に示すように、マスクにおける光透過部又は光不透過部
を平面方向に、ランダム関数の割付けによりランダムに
配列してあることを特徴とする。すなわち、このような
ランダム関数の割付けによる完全に恣意的でないマスク
を用いることにより、次のような利点を得ることができ
る。 ランダム配列の設計がある程度自動的であるため、マ
スクパターンの設計が容易かつ短時間に済む。 マスクパターンにおける好ましいランダム配列の程度
のサーチが容易である。 ランダム配列の設計が恣意的ではないため、繰り返し
設計した場合におけるマスクパターンの反射特性の再現
性に優れている。 なお、ランダム配列とは、端的には光透過部又は光不透
過部が無秩序に配列されていることを意味するが、より
正確には、マスクを単位面積ごとに切り分け、それらの
マスクを重ねた場合に、それぞれのパターンが完全に異
なっているか、あるいは部分的に重なる箇所はあって
も、完全には一致しない状態を意味する。
2. Random Array (1) Random Array 1 In the first embodiment, for example, FIGS.
As shown in FIG. 5, the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask are randomly arranged in the plane direction by assigning a random function. That is, the following advantages can be obtained by using a mask that is not completely arbitrary by the allocation of such random functions. Since the random array is designed to some extent automatically, the mask pattern can be designed easily and in a short time. It is easy to search the degree of a preferable random arrangement in the mask pattern. Since the random array design is not arbitrary, the reproducibility of the reflection characteristics of the mask pattern when iteratively designed is excellent. Note that the random arrangement simply means that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged, but more accurately, the mask is cut into unit areas and the masks are stacked. In this case, it means that the patterns are completely different from each other or partially overlapped with each other, but not completely matched.

【0035】(2)ランダム配列2 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部をランダ
ム関数によって割付けするにあたり、ランダム関数によ
って、0〜1の任意の数字を発生させ、その数字をもと
に全ドットに対して1〜n(nは2〜1000の任意の
自然数)の数字を分配するとともに、予め作成しておい
たn種類のランダムパターンを、分配された数字に対し
て対応させることが好ましい。このように設計すること
により、0〜1の任意の数字を発生させ簡易なランダム
関数を用いて、恣意的でなく、好ましい反射特性を有す
るマスクパターンを容易かつ短時間に設計することでき
るためである。また、このように設計した場合、n種類
のランダムパターンを予め作成する必要があるものの、
ランダム関数を使用しない場合と比較して、それぞれ小
面積のランダムパターンの設計ですむため、マスクパタ
ーンの設計自体は容易かつ短時間に可能となるためであ
る。例えば、17インチのLCDパネル用のマスクであ
っても、ランダム関数を使用した場合、12種類程度の
ランダムパターンを予め作成しておくだけで、十分であ
る。さらに、予め作成したn種類のランダムパターンを
適宜変更することによって、好ましい反射特性を有する
ランダムパターンを、容易かつ短時間にサーチすること
ができるためである。例えば、17インチのLCDパネ
ル用のマスクであっても、12種類程度のランダムパタ
ーンを適宜変更することによって、好ましい反射特性を
有するランダムパターンを作成することができる。
(2) Random array 2 When allocating the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask by a random function, an arbitrary number of 0 to 1 is generated by the random function, and based on the number. It is possible to distribute numbers 1 to n (n is an arbitrary natural number of 2 to 1000) to all dots and to associate n kinds of random patterns created in advance with the distributed numbers. preferable. By designing in this manner, it is possible to generate a random number of 0 to 1 and use a simple random function to easily and quickly design a mask pattern having a non-arbitrary and preferable reflection characteristic. is there. Further, when designed in this way, although it is necessary to create n kinds of random patterns in advance,
This is because, compared to the case where a random function is not used, a random pattern having a small area can be designed, so that the mask pattern itself can be designed easily and in a short time. For example, even if it is a mask for a 17-inch LCD panel, it is sufficient to create about 12 kinds of random patterns in advance when using a random function. Furthermore, by appropriately changing the n kinds of random patterns created in advance, it is possible to easily search for a random pattern having preferable reflection characteristics in a short time. For example, even with a 17-inch LCD panel mask, a random pattern having preferable reflection characteristics can be created by appropriately changing about 12 kinds of random patterns.

【0036】(3)ランダム配列3 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部をランダ
ム関数によって割付けるにあたり、形成される光反射膜
が使用される液晶表示装置等における画素電極、すなわ
ち、RGBドットを基準として、平面方向にランダムに
配列してあることが好ましい。すなわち、光反射膜が使
用される液晶表示装置等におけるRGBドット100〜
2,000を一単位として、それを繰り返して、平面方
向にランダムに配列することが好ましい。例えば、図2
〜図4に示すように、1画素(RGB:3ドット)、2
画素(RGB:6ドット)、又は4画素(RGB:12
ドット)を一単位とすることも好ましいが、図5に示す
ように、324画素(RGB:972ドット)を一単位
として、光透過部又は光不透過部からなるランダムパタ
ーンを繰り返することがより好ましい。この理由は、こ
のようなRGBドットのいくつかのまとまりを基本単位
としたマスクであれば、これから得られる光反射膜にお
ける複数の凸部又は凹部が、光を適当に散乱させて、干
渉縞の発生を有効に防止することができるためである。
また、単なるランダムパターンを有する光反射膜を液晶
表示装置等に使用すると、不定形のシミ模様が発現する
場合があるが、このような画素数を一単位としたランダ
ムパターンを有する光反射膜であれば、不定形のしみ模
様の発現を有効に低下させることができるためである。
さらに、RGBドットのいくつかのまとまりを基本単位
としてパターン化するため、パターンの情報量を少なく
することができるためである。
(3) Random array 3 Further, when allocating the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask by the random function, the pixel electrode in the liquid crystal display device or the like in which the light reflecting film to be formed is used, that is, RGB The dots are preferably arranged randomly in the plane direction. That is, the RGB dots 100 to 100 in the liquid crystal display device or the like using the light reflecting film
It is preferable to repeat 2,000 units as one unit and arrange them randomly in the plane direction. For example, in FIG.
~ As shown in FIG. 4, 1 pixel (RGB: 3 dots), 2
Pixels (RGB: 6 dots) or 4 pixels (RGB: 12
Although it is also preferable to make one unit as a dot, it is more preferable to repeat a random pattern consisting of a light transmitting portion or a light non-transmitting portion with 324 pixels (RGB: 972 dots) as one unit as shown in FIG. preferable. The reason for this is that in the case of a mask in which some groups of such RGB dots are used as a basic unit, a plurality of convex portions or concave portions in the light reflecting film obtained from this will appropriately scatter light and cause interference fringes. This is because the occurrence can be effectively prevented.
In addition, when a light reflection film having a simple random pattern is used in a liquid crystal display device or the like, an irregular spot pattern may appear, but such a light reflection film having a random pattern with one pixel as a unit is used. This is because the presence of the irregular stain pattern can be effectively reduced.
Furthermore, since the pattern is formed by using some groups of RGB dots as a basic unit, the information amount of the pattern can be reduced.

【0037】(4)ランダム配列4 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部をランダ
ム関数によって割付けるにあたり、図6に示すように、
光透過部又は光不透過部を、横一列方向又は縦一列方向
にランダムに配列することが好ましい。このように構成
することにより、横一列方向又は縦一列方向においてラ
ンダムパターンの配列をするだけでも、光反射膜に起因
した干渉縞を防止することができる一方、少ない情報量
によって、全体として好ましい反射特性を有するランダ
ムパターンを、容易かつ短時間に設計することが可能と
なるためである。例えば、17インチのLCDパネル用
のマスクを横方向に、1/n(nは2〜1000の範囲
の自然数)に均等に分割し、そのうちの横一列方向のマ
スクパターンにおいて、光透過部又は光不透過部をラン
ダム関数によって割付け、それをn回繰り返せば十分で
ある。また、このように横方向又は縦方向に、所定単位
のランダムパターンを繰り返すことにより、全体として
好ましい反射特性を有するランダムパターンを、再現性
良く得ることができる。
(4) Random array 4 In allocating the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask by a random function, as shown in FIG.
It is preferable to randomly arrange the light transmissive portions or the light non-transmissive portions in the horizontal single row direction or the vertical single row direction. With such a configuration, it is possible to prevent the interference fringes caused by the light reflecting film only by arranging the random pattern in the horizontal single-row direction or the vertical single-row direction, while the small amount of information results in a preferable reflection as a whole. This is because a random pattern having characteristics can be designed easily and in a short time. For example, a mask for a 17-inch LCD panel is evenly divided in the horizontal direction into 1 / n (n is a natural number in the range of 2 to 1000), and in the mask pattern in the horizontal single row direction, a light transmitting portion or a light is used. It is sufficient to allocate the opaque part by a random function and repeat it n times. Further, by repeating the random pattern of the predetermined unit in the horizontal direction or the vertical direction in this way, it is possible to obtain a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole with good reproducibility.

【0038】[第2実施形態]第2実施形態は、図8に
示すように、一例として、ネガ型の感光性樹脂を用いた
場合を示しているが、基材77及び反射層72を含む光
反射膜付き基板70であって、当該基材77に形成され
た複数の凸部76の位置をランダム関数によって割付、
平面方向にランダム配列したことを特徴とする光反射膜
付き基板70である。
[Second Embodiment] As shown in FIG. 8, the second embodiment shows a case where a negative photosensitive resin is used as an example, but it includes a base material 77 and a reflective layer 72. In the substrate 70 with a light reflection film, the positions of the plurality of convex portions 76 formed on the base material 77 are assigned by a random function,
It is a substrate 70 with a light reflecting film, which is characterized by being randomly arranged in the plane direction.

【0039】1.基材 基材の構成として、図8に示すように、下方から第1の
基材76及び第2の基材79を順次に含み、当該第1の
基材76が独立した、又は一部重なった複数の凸部から
構成してあり、第2の基材79が連続層であることが好
ましい。このように構成することにより、連続層である
第2の基材79を介して、その上に形成される反射層7
2を平坦部が少ない比較的なだらかな曲面とすることが
できるため、液晶表示装置等に用いられた場合に、干渉
縞の発生を有効に防止することができるためである。ま
た、基材に形成された複数の凸部又は凹部といった場
合、基材が第1の基材及び第2の基材を含むときには、
通常、第1の基材を構成する複数の凸部又は凹部を意味
する。以下、好適例として、図8に示すように、下方か
ら基材77が、第1の基材76及び第2の基材79から
構成された場合を例にとって説明する。
1. As the configuration of the base material, as shown in FIG. 8, a first base material 76 and a second base material 79 are sequentially included from below, and the first base material 76 is independent or partially overlaps. It is preferable that the second base material 79 is composed of a plurality of convex portions and the second base material 79 is a continuous layer. With this configuration, the reflective layer 7 formed on the second base material 79, which is a continuous layer, is formed on the second base material 79.
Since 2 can be a comparatively gentle curved surface with few flat portions, it is possible to effectively prevent the generation of interference fringes when used in a liquid crystal display device or the like. Further, in the case of a plurality of protrusions or depressions formed in the base material, when the base material includes the first base material and the second base material,
Usually, it means a plurality of convex portions or concave portions constituting the first base material. Hereinafter, as a preferable example, as shown in FIG. 8, a case where the base material 77 is composed of a first base material 76 and a second base material 79 from below will be described as an example.

【0040】(1)第1の基材 第1の基材における複数の凸部の高さ又は凹部の深さを
0.5〜5μmの範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが0.5μ
m未満の値になると、第2の基材を介して、適当な曲面
を有する反射層を設けることが困難になる場合があるた
めである。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが5
μmを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度に
光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりする
場合があるためである。したがって、第1の基材におけ
る複数の凸部の高さ又は凹部の深さを0.8〜4μmの
範囲内の値とすることがより好ましく、1〜3μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。
(1) First Base Material It is preferable that the height of the plurality of protrusions or the depth of the plurality of recesses in the first base material is set to a value within the range of 0.5 to 5 μm. The reason for this is that the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 0.5 μm.
This is because if the value is less than m, it may be difficult to provide the reflective layer having an appropriate curved surface via the second base material. On the other hand, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 5
This is because if the thickness exceeds μm, the unevenness of the reflective layer becomes large, which may cause excessive scattering of light or easy disconnection. Therefore, it is more preferable to set the height of the plurality of protrusions or the depth of the plurality of recesses in the first substrate to a value within the range of 0.8 to 4 μm, and preferably a value within the range of 1 to 3 μm. More preferable.

【0041】(2)第2の基材 第2の基材における連続した凸部の高さ又は凹部の深さ
を0.1〜3μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが0.1
μm未満の値になると、その上に、適当な曲面を有する
反射層を設けることが困難になる場合があるためであ
る。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが3μmを
超えると、その上に形成される反射層の凹凸が大きくな
って、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすく
なる場合があるためである。したがって、第2の基材に
おける複数の凸部の高さ又は凹部の深さを0.1〜2μ
mの範囲内の値とすることがより好ましく、0.3〜2
μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(2) Second Substrate It is preferable that the height of the continuous convex portion or the depth of the concave portion in the second substrate is set to a value within the range of 0.1 to 3 μm.
This is because the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 0.1.
This is because if the value is less than μm, it may be difficult to provide a reflective layer having an appropriate curved surface thereon. On the other hand, if the height of the convex portion or the depth of the concave portion exceeds 3 μm, the irregularities of the reflecting layer formed thereon may become large, and light may be excessively scattered or easily broken. This is because. Therefore, the height of the plurality of protrusions or the depth of the recesses in the second base material is set to 0.1 to 2 μm.
It is more preferable to set the value within the range of m, and it is 0.3 to 2
It is more preferable to set the value within the range of μm.

【0042】(3)複数の凸部又は凹部 凸部又は凹部の平面形状 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部の平面形状
に関して、独立した円及び多角形、又は、重なり合う円
及び多角形、あるいはそのいずれかの平面形状とするこ
とが好ましい。この理由は、独立した円及び多角形、又
は、重なり合う円及び多角形、あるいはそのいずれかの
平面形状とすることにより、複数の凸部又は凹部の平面
形状や配置パターンを、露光プロセスを用いて、正確に
制御することができるためである。また、このような平
面形状の凸部又は凹部であれば、光を散乱させることが
でき、干渉縞の発生を有効に防止することができるため
である。
(3) Plural Convex or Recessed Planes of Convex or Recessed Concerning the planar shapes of the plurality of convex or concave formed on the substrate, independent circles and polygons, or overlapping circles and It is preferably polygonal or any one of the planar shapes thereof. The reason for this is that the independent circles and polygons, the overlapping circles and / or polygons, or the planar shape of any one of them are used to form the planar shape or the arrangement pattern of the plurality of convex portions or concave portions by using the exposure process. , Because it can be controlled accurately. Further, it is because such a plane-shaped convex portion or concave portion can scatter light and effectively prevent the generation of interference fringes.

【0043】また、凸部の平面形状の好適例として、図
9(a)に示すようなオフセットした楕円形(液滴形
状)や、図9(b)に示すようなオフセットした四角形
(ピラミッド型)、あるいは凹部の平面形状の好適例と
して、図19〜図23に示す楕円のドーム形状や長円の
ドーム形状等が挙げられる。この理由は、複数の凸部又
は凹部の平面形状を、このような平面形状とすることに
より、高さ方向の斜面と相俟って、図10に示すよう
に、所定の光散乱性を維持したまま、光指向性が向上す
るためである。図10中、一点鎖線aが図9(a)に示
すようなオフセットした楕円形の場合に視覚される光量
を示しており、実線bがオフセットしていない均等な円
形の場合に視覚される光量を示している。したがって、
このような平面形状とすることにより、一定方向から眺
めた場合、例えば、角度が+15°の位置において目に
入ってくる光量が多くなり、その位置では明るい画像を
認識することができる。
As a preferred example of the planar shape of the convex portion, an offset elliptical shape (droplet shape) as shown in FIG. 9A or an offset quadrangular shape (pyramid type) as shown in FIG. 9B. ), Or as a preferred example of the planar shape of the concave portion, an elliptical dome shape and an oval dome shape shown in FIGS. The reason for this is that by setting the planar shape of the plurality of convex portions or concave portions to be such a planar shape, in combination with the slope in the height direction, a predetermined light scattering property is maintained. This is because the light directivity is improved as it is. In FIG. 10, the dashed line a indicates the amount of light that is visible when the ellipse is offset as shown in FIG. 9A, and the solid line b is the amount of light that is seen when the circle is a uniform circle that is not offset. Is shown. Therefore,
With such a planar shape, when viewed from a certain direction, for example, a large amount of light enters the eye at a position where the angle is + 15 °, and a bright image can be recognized at that position.

【0044】凸部又は凹部の径 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部又は凹部の径を3〜15μmの範囲内の値とす
ることが好ましい。この理由は、かかる範囲の径を有す
る複数の凸部又は凹部であれば、平面形状や配置パター
ンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することがで
きるとともに、光を適度に散乱させ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、かかる範
囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、不定形の
シミ模様が観察されることが少なくなるためである。し
たがって、複数の凸部又は凹部の径を5〜13μmの範
囲内の値とすることがより好ましく、6〜12μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。また、複数の凸
部又は凹部の径を異ならせ、例えば、2〜10種類の凸
部又は凹部を設けることが好ましい。このように構成す
ることにより、1種類の凸部又は凹部によっては得られ
ないような複雑な光反射を可能とし、光をより分散して
散乱させることができるためである。したがって、径が
異なる複数の凸部又は凹部を設けることにより、干渉縞
の発生をさらに有効に防止することができる。
Diameter of convex portion or concave portion Further, regarding a plurality of convex portions or concave portions formed on the substrate,
It is preferable to set the diameter of the convex portion or the concave portion to a value within the range of 3 to 15 μm. The reason for this is that if there are a plurality of protrusions or recesses having a diameter in such a range, the planar shape and arrangement pattern can be accurately controlled using the exposure process, and light can be scattered appropriately to cause interference. This is because the occurrence of stripes can be effectively prevented. In addition, if there are a plurality of convex portions or concave portions having a diameter in such a range, an irregular spot pattern is less likely to be observed. Therefore, it is more preferable that the diameters of the plurality of protrusions or recesses be within the range of 5 to 13 μm, and even more preferably within the range of 6 to 12 μm. Further, it is preferable that the plurality of convex portions or concave portions have different diameters, and, for example, 2 to 10 types of convex portions or concave portions are provided. This is because such a configuration enables complicated light reflection that cannot be obtained by one type of convex portion or concave portion, and allows light to be dispersed and scattered. Therefore, by providing a plurality of convex portions or concave portions having different diameters, it is possible to more effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0045】凸部の高さ又は凹部の深さ また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部の高さ又は凹部の深さを0.1〜10μmの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが0.1μm未満の値になる
と、露光プロセスを用いても、凹凸が小さくなり、散乱
特性が低下する場合があるためである。一方、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが10μmを超えると、反射層
の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、ある
いは断線しやすくなる場合があるためである。したがっ
て、凸部の高さ又は凹部の深さを0.2〜3μmの範囲
内の値とすることがより好ましく、0.3〜2μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。
Height of convex portion or depth of concave portion With respect to the plurality of convex portions or concave portions formed on the substrate,
The height of the convex portion or the depth of the concave portion is preferably set to a value within the range of 0.1 to 10 μm. The reason for this is that if the height of the convex portion or the depth of the concave portion is a value less than 0.1 μm, the unevenness may be reduced and the scattering characteristics may be deteriorated even if an exposure process is used. On the other hand, when the height of the convex portion or the depth of the concave portion exceeds 10 μm, the irregularities of the reflective layer become large, and light may be excessively scattered or easily broken. Therefore, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is more preferably set to a value within the range of 0.2 to 3 μm, and further preferably set to a value within the range of 0.3 to 2 μm.

【0046】ランダム配列1 基材表面に形成された複数の凸部又は凹部、特に第1の
基材を構成する複数の凸部又は凹部の位置をランダム関
数によって割付け、平面方向にランダムに配列すること
を特徴とする。この理由は、逆に、複数の凸部又は凹部
が規則的に配列されていると、液晶表示装置等に使用さ
れた場合に、干渉縞が発生し、画像品質が著しく低下す
るためである。また、ランダム関数によってランダム配
列するのは、複数の凸部又は凹部の配列がある程度自動
設計となり、しかも好ましいランダム配列の程度のサー
チが容易となり、さらには、繰り返し設計した場合であ
っても、反射特性の再現性に優れているためである。ま
た、かかる複数の凸部の高さ又は凹部の深さを実質的に
等しくすることが好ましい。この理由は、逆に、特開平
6−27481号公報や特開平11−281972号公
報に記載されたように、複数の凸部の高さ又は凹部の深
さを異ならせると、製造が困難となって、安定して干渉
縞の発生を抑制することができない。
Random Arrangement 1 The positions of a plurality of protrusions or recesses formed on the surface of the base material, particularly the positions of a plurality of protrusions or recesses forming the first base material, are assigned by a random function and arranged randomly in the plane direction. It is characterized by The reason for this is that, conversely, when a plurality of convex portions or concave portions are regularly arranged, interference fringes occur when used in a liquid crystal display device or the like, and the image quality is significantly deteriorated. Further, the random arrangement by the random function makes the arrangement of a plurality of convex portions or concave portions automatically designed to some extent, facilitates the search for the degree of a preferable random arrangement, and further, even in the case of repeated design, This is because the reproducibility of characteristics is excellent. Further, it is preferable that the heights of the plurality of convex portions or the depths of the concave portions are substantially equal. The reason for this is, on the contrary, as described in JP-A-6-27481 and JP-A-11-281972, if the heights of the plurality of protrusions or the depths of the recesses are made different, the manufacturing becomes difficult. Therefore, it is impossible to stably suppress the generation of interference fringes.

【0047】ランダム配列2 また、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列
するにあたり、光反射膜が使用される液晶表示装置等に
おけるRGBドット100〜2,000を一単位とし
て、ランダム配列することが好ましい。この理由は、R
GBドットのいくつかを単位とした複数の凸部又は凹部
であっても、複数の凸部又は凹部が光を適当に散乱させ
て、干渉縞の発生を有効に防止することができるためで
ある。また、単なるランダムパターンを有する光反射膜
を液晶表示装置等に使用すると、不定形のしみ模様が発
現する場合があるが、このような画素数を一単位とした
ランダムパターンを有する光反射膜であれば、不定形の
しみ模様の発現を有効に低下させることができるためで
ある。さらに、RGBドットを単位としてパターン化す
るため、パターンの情報量を少なくすることができ、光
反射膜を製造する際のパターンの位置あわせ等が容易に
なるためである。
Random Arrangement 2 In randomly arranging a plurality of convex portions or concave portions in the planar direction, the RGB dots 100 to 2,000 in a liquid crystal display device or the like in which a light reflecting film is used are regarded as one unit and are randomly arranged. Preferably. The reason is R
This is because even with a plurality of convex portions or concave portions having some of the GB dots as a unit, the plurality of convex portions or concave portions can appropriately scatter light and effectively prevent the generation of interference fringes. . Further, when a light reflection film having a simple random pattern is used in a liquid crystal display device or the like, an irregular stain pattern may appear, but such a light reflection film having a random pattern with one pixel as a unit is used. This is because the presence of the irregular stain pattern can be effectively reduced. Furthermore, since the patterning is performed using RGB dots as a unit, the amount of information of the pattern can be reduced, and the alignment of the pattern when manufacturing the light reflecting film becomes easy.

【0048】ランダム配列3 また、複数の凸部又は凹部を平面方向に全体的にランダ
ム配列するにあたり、複数の凸部又は凹部を横一列方向
又は縦一列方向にランダム配列し、それを繰り返すこと
が好ましい。このように構成することにより、少ない情
報量によって、全体として好ましい反射特性を有する複
数の凸部又は凹部からなるランダムパターンを、容易か
つ短時間に設計することが可能となるためである。例え
ば、17インチのLCDパネル用の光反射膜を横方向
に、1/n(nは2〜1000の範囲の自然数)に均等
に分割し、そのうちの横一列方向の光反射膜において、
複数の凸部又は凹部からなるランダムパターンをランダ
ム関数によって割付け、それをn回繰り返せば十分であ
る。また、このように横方向又は縦方向に、複数の凸部
又は凹部からなるランダムパターンを繰り返すことによ
り、全体として好ましい反射特性を有する光反射膜を再
現性良く得ることができる。
Random arrangement 3 In order to randomly arrange a plurality of convex portions or concave portions in the plane direction, a plurality of convex portions or concave portions may be randomly arranged in a horizontal single row direction or a vertical single row direction, and this may be repeated. preferable. With such a configuration, it is possible to easily and quickly design a random pattern composed of a plurality of convex portions or concave portions having a preferable reflection characteristic with a small amount of information. For example, a 17-inch LCD light-reflecting film is evenly divided in the lateral direction into 1 / n (n is a natural number in the range of 2 to 1000), and in the light-reflecting film in the lateral single-row direction,
It is sufficient to allocate a random pattern composed of a plurality of convex portions or concave portions by a random function and repeat it n times. Further, by repeating the random pattern composed of a plurality of convex portions or concave portions in the horizontal direction or the vertical direction in this manner, it is possible to obtain a light reflecting film having a preferable reflection characteristic as a whole with good reproducibility.

【0049】(4)開口部 光反射膜において、光を部分的に通過させるための開口
部が設けてあることが好ましい。このように構成するこ
とにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に使用する
ことができる。すなわち、図11に示すように、光反射
膜100の一部に開口部102を設けることにより、光
反射膜100によって外部からの光を効率的に反射する
ことができるとともに、内部から発せられた光について
も、開口部102を通して、外部に効果的に放出するこ
とができる。なお、開口部の大きさは特に制限されるも
のでなく、光反射膜の用途等によって決定されることが
好ましいが、例えば、光反射膜の全体面積を100%と
したときに、5〜80%の範囲内の値とすることが好ま
しく、10〜70%の範囲内の値とすることがより好ま
しく、20〜60%の範囲内の値とすることがさらに好
ましい。
(4) Opening It is preferable that the light reflecting film is provided with an opening for partially passing light. With this configuration, it can be used in a reflective / transmissive liquid crystal display device and the like. That is, as shown in FIG. 11, by providing the opening 102 in a part of the light reflection film 100, the light reflection film 100 can efficiently reflect the light from the outside, and the light emitted from the inside. Light can also be effectively emitted to the outside through the opening 102. The size of the opening is not particularly limited and is preferably determined depending on the application of the light reflecting film. For example, when the total area of the light reflecting film is 100%, it is 5 to 80. The value is preferably in the range of%, more preferably in the range of 10 to 70%, and even more preferably in the range of 20 to 60%.

【0050】2.反射層 (1)厚さ 光反射膜における反射層の厚さを0.05〜5μmの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる反
射層の厚さが0.05μm未満の値になると、反射効果
が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かか
る反射層の厚さが5μmを越えると、得られる光反射膜
のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長く
なる場合があるためである。したがって、かかる反射層
の厚さを0.07〜1μmの範囲内の値とすることがよ
り好ましく、0.1〜0.3μmの範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。
2. Reflective Layer (1) Thickness The thickness of the reflective layer in the light reflective film is preferably set to a value within the range of 0.05 to 5 μm. The reason for this is that if the thickness of the reflective layer is less than 0.05 μm, the reflective effect may be significantly poor. On the other hand, if the thickness of the reflective layer exceeds 5 μm, the flexibility of the obtained light reflective film may be deteriorated or the manufacturing time may be excessively long. Therefore, the thickness of the reflective layer is more preferably set to a value within the range of 0.07 to 1 μm, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 0.3 μm.

【0051】(2)種類 また、反射層の構成材料は特に制限されるものでなく、
例えば、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、銅(C
u)、金(Au)、クロム(Cr)、タンタル(W)及
びニッケル(Ni)等の導電性や光反射性に優れた金属
材料とすることが好ましい。また、上記反射層の上に酸
化インジスムスズ(ITO)や酸化インジスム、あるい
は酸化スズ等の透明導電材料を使用することも好まし
い。ただし、このような金属材料や透明導電材料を用い
た際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材
料等からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金
属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等する
ことも好ましい。
(2) Type The constituent material of the reflective layer is not particularly limited,
For example, aluminum (Al), silver (Ag), copper (C
u), gold (Au), chromium (Cr), tantalum (W), nickel (Ni), and the like are preferably metal materials having excellent conductivity and light reflectivity. It is also preferable to use a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, or tin oxide on the reflective layer. However, when such a metal material or a transparent conductive material is used, if there is melting into the liquid crystal, an electric insulating film may be provided on the surface of the reflective film made of the metal material, or the like, together with the metal material, It is also preferable to sputter an electric insulator.

【0052】(3)下地層 また、反射層を第2の基板の上に形成するにあたり、密
着力を向上させるとともに、反射層をなだらかな曲面と
するために、厚さ0.01〜2μmの下地層を設けるこ
とが好ましい。なお、このような下地層の構成材料とし
て、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ア
ルミニウムカップリング剤、アルミニウム−マグネシウ
ム合金、アルミニウム−シラン合金、アルミニウム−銅
合金、アルミニウム−マンガン合金、アルミニウム−金
合金等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げ
られる。
(3) Underlayer Further, in forming the reflective layer on the second substrate, in order to improve the adhesion and to form the reflective layer into a gently curved surface, the thickness is 0.01 to 2 μm. It is preferable to provide an underlayer. In addition, as a constituent material of such an underlayer, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent, an aluminum-magnesium alloy, an aluminum-silane alloy, an aluminum-copper alloy, an aluminum-manganese alloy, an aluminum-gold. The alloys may be used alone or in combination of two or more.

【0053】(4)鏡面反射率 また、反射層における鏡面反射率を5〜50%の範囲内
の値とすることが好ましい。この理由は、かかる鏡面反
射率が5%未満の値となると、液晶表示装置等に使用し
た場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する
場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が50
%を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、
外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。し
たがって、反射層における鏡面反射率を10〜40%の
範囲内の値とすることがより好ましく、15〜30%の
範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(4) Specular reflectance Further, it is preferable to set the specular reflectance of the reflective layer to a value within the range of 5 to 50%. The reason for this is that if the specular reflectance is less than 5%, the brightness of the obtained display image may be significantly reduced when used in a liquid crystal display device or the like. On the other hand, the specular reflectance is 50
If it exceeds%, the scattering property will decrease and the background reflection and
This is because the external light may be excessively specularly reflected. Therefore, the specular reflectance of the reflective layer is more preferably set to a value within the range of 10 to 40%, further preferably set to a value within the range of 15 to 30%.

【0054】3.他の構成部材との組み合わせ 上述した光反射膜を、他の構成部材、例えば、図15及
び図16に示すように、カラーフィルタ150、遮光層
151、オーバーコート層157、複数の透明電極15
4と、配向膜等と組み合わせることが好ましい。このよ
うに組み合わせることにより、干渉縞の発生が少ない、
カラー液晶表示装置等の部材を効率的に提供することが
できる。例えば、RGB(赤、青、緑)の3色の色要素
により構成したストライプ配列、モザイク配列、あるい
はデルタ配列等のカラーフィルタ150を組み合わせる
ことにより、容易にカラー化が図れるし、さらに遮光層
151と組み合わせることにより、コントラストに優れ
た画像を得ることができる。また、光反射膜は反射電極
として使用することもできるが、他の電極、例えば、透
明電極154を設けることにより、光吸収を防ぎなが
ら、複数の凸部又は凹部からなる反射膜の影響を排除す
ることができる。さらに、YMC(イエロー、マゼン
ダ、シアン)からなる3色の色要素によってカラーフィ
ルタを構成することも好ましく、光透過特性に優れ、反
射型液晶表示装置として用いた場合に、さらに明るい表
示を得ることができる。
3. Combination with other constituent members The above-described light reflecting film is used for other constituent members, for example, as shown in FIGS. 15 and 16, a color filter 150, a light shielding layer 151, an overcoat layer 157, a plurality of transparent electrodes 15.
4 is preferably combined with an alignment film or the like. By combining in this way, the occurrence of interference fringes is small,
It is possible to efficiently provide members such as a color liquid crystal display device. For example, by combining the color filters 150 such as a stripe array, a mosaic array, or a delta array configured by three color elements of RGB (red, blue, green), colorization can be easily achieved, and the light shielding layer 151 can be further provided. By combining with, it is possible to obtain an image with excellent contrast. Further, although the light reflecting film can be used as a reflecting electrode, by providing another electrode, for example, the transparent electrode 154, the influence of the reflecting film composed of a plurality of convex portions or concave portions is eliminated while preventing light absorption. can do. Further, it is also preferable that the color filter is composed of three color elements of YMC (yellow, magenta, cyan), which is excellent in light transmission characteristics and obtains a brighter display when used as a reflective liquid crystal display device. You can

【0055】[第3実施形態]第3実施形態は、基材及
び反射層を含む光反射膜の製造方法であって、光透過部
又は光不透過部の位置をランダム関数によって割付け、
当該光透過部又は光不透過部をランダム関数によって平
面方向にランダムに配列したマスクを使用して、塗布さ
れた感光性樹脂に対して、露光プロセスによって、平面
方向にランダムに配列された複数の凸部又は凹部を有す
る第1の基材を形成する工程と、当該第1の基材の表面
に感光性樹脂を塗布して、露光プロセスによって、連続
した複数の凸部又は凹部を有する第2の基材を形成する
工程と、当該第2の基材の表面に反射層を形成する工程
と、を含むことを特徴とする光反射膜の製造方法であ
る。以下、図12及び図13を適宜参照しながら、第1
の基材の表面に凹部を形成する場合を例に採って、光反
射膜(光反射膜付き基板)の製造方法を具体的に説明す
る。なお、図12は、光反射膜の製造工程を図式化した
ものであって、図13は、それのフローチャートであ
る。
[Third Embodiment] The third embodiment is a method for manufacturing a light-reflecting film including a base material and a reflecting layer, in which the positions of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are assigned by a random function.
By using a mask in which the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in a plane direction by a random function, the photosensitive resin applied is exposed to a plurality of randomly arranged plane directions by an exposure process. A step of forming a first base material having a convex portion or a concave portion, and a second step having a plurality of continuous convex portions or concave portions by applying a photosensitive resin on the surface of the first base material and performing an exposure process. And a step of forming a reflective layer on the surface of the second base material, the method for producing a light reflecting film. Hereinafter, referring to FIGS. 12 and 13 as appropriate, the first
The method for manufacturing the light reflecting film (the substrate with the light reflecting film) will be specifically described by taking as an example the case where the recess is formed on the surface of the base material. Note that FIG. 12 is a schematic view of the manufacturing process of the light reflecting film, and FIG. 13 is a flowchart thereof.

【0056】1.第1の基材を形成する工程 平面方向にランダム、かつ独立して配列された複数の凸
部又は凹部を、第1の実施形態で説明したマスクを利用
して、露光プロセスによって感光性樹脂から形成するこ
とが好ましい。すなわち、光透過部又は光不透過部を独
立した又は一部重なった円及び多角形、あるいはいずれ
か一方の平面形状とし、平面方向にランダム関数によっ
て配列してあるマスクを利用して、平面方向にランダム
に配列された複数の凸部又は凹部を、露光プロセスによ
って感光性樹脂、例えば、ポジ型感光性樹脂から構成し
てあることが好ましい。
1. A plurality of convex portions or concave portions randomly and independently arranged in the plane direction of the step of forming the first base material are formed from a photosensitive resin by an exposure process by using the mask described in the first embodiment. It is preferably formed. That is, the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is formed into a plane shape of an independent or partially overlapping circle and / or a polygon, and a mask arranged in a plane direction by a random function is used. It is preferable that the plurality of convex portions or concave portions arranged at random are formed of a photosensitive resin, for example, a positive photosensitive resin, by an exposure process.

【0057】(1)感光性樹脂 第1の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセ
タン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙
げられる。また、精度良く、所定の円形又は多角形とす
ることができるように、感光性樹脂中に、シリカ粒子、
酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無
機フィラーを添加しておくことも好ましい。なお、上述
したように、第1の基材を構成する感光性樹脂として
は、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解し
て、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透
過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不
溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用するこ
とができる。
(1) Photosensitive resin The type of the photosensitive resin constituting the first base material is not particularly limited, but for example, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, Examples of the oxetane resin include one kind alone or a combination of two or more kinds. In addition, silica particles, in the photosensitive resin, can be accurately formed into a predetermined circle or polygon.
It is also preferable to add an inorganic filler such as titanium oxide, zirconia oxide, or aluminum oxide. As described above, the photosensitive resin forming the first base material is a positive type resin in which a portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion is photodegraded and solubilized in the developer. There is a negative type in which a part irradiated with light transmitted through the light transmitting part is hardened and becomes insoluble in a developer, but any of them can be preferably used.

【0058】(2)露光プロセス 図12(a)及び図13の工程P31に示すように、第
1の基材112を形成するにあたり、スピンコーター等
を用いて、第1の基材を構成する感光性樹脂を、支持部
114上に均一に塗布して、第1層110を形成するこ
とが好ましい。その場合、スピンコーターの条件とし
て、例えば、600〜2、000rpmの回転数で、5
〜20秒とすることが好ましい。次いで、解像度を向上
させるために、図13の工程P32に示すように、第1
層110をプリベークすることが好ましい。その場合、
例えば、ホットプレートを用いて、80〜120℃、1
〜10分の加熱条件とすることが好ましい。
(2) Exposure Process As shown in step P31 of FIG. 12A and FIG. 13, in forming the first base 112, a spin coater or the like is used to form the first base. It is preferable that the first resin layer 110 is formed by uniformly coating a photosensitive resin on the support 114. In that case, as the spin coater condition, for example, at a rotation speed of 600 to 2,000 rpm, 5
It is preferably set to -20 seconds. Then, in order to improve the resolution, as shown in step P32 of FIG.
It is preferred to pre-bake layer 110. In that case,
For example, using a hot plate, 80-120 ℃, 1
It is preferable to set heating conditions for 10 minutes.

【0059】次いで、図12(b)及び図13の工程P
33に示すように、第1の実施形態のマスク119を使
用し、均一に塗布された感光性樹脂からなる第1層11
0の上に、第1の実施形態のマスク119を載置した
後、i線等を露光することが好ましい。その場合、i線
等の露光量を例えば50〜300mJ/cm2の範囲内
の値とすることが好ましい。
Next, step P in FIG. 12B and FIG.
As shown in 33, the first layer 11 made of a photosensitive resin uniformly applied using the mask 119 of the first embodiment.
It is preferable to expose the i-line and the like after placing the mask 119 of the first embodiment on 0. In that case, it is preferable to set the exposure amount of the i-line or the like to a value within a range of 50 to 300 mJ / cm 2 , for example.

【0060】次いで、図12(c)及び図13の工程P
34に示すように、現像液によって、例えば、マスク1
19の光透過部117を透過した部分をポジ現像するこ
とにより、平面方向にランダムに配列され、独立した又
は一部重なった複数の凸部又は凹部からなる第1の基材
112を形成することができる。なお、第2の基材11
3を形成する前に、図13の工程P35及び図36に示
すように、一例として、露光量が300mJ/cm2
なるように全面的にポスト露光した後、220℃、50
分の条件で加熱することによってポストベークし、第1
の基材112をさらに強固にすることも好ましい。
Then, step P in FIGS.
As shown in FIG. 34, by the developing solution, for example, the mask 1
By positively developing the part of the light-transmitting part 117 that has passed through the light-transmitting part 117, the first base material 112 which is randomly arranged in the plane direction and has a plurality of convex parts or concave parts which are independent or partially overlap each other is formed. You can The second base material 11
Before forming No. 3, as shown in process P35 of FIG. 13 and FIG. 36, for example, after post-exposure over the entire surface so that the exposure amount is 300 mJ / cm 2 , 220 ° C., 50
Post bake by heating under the condition of minutes, the first
It is also preferable to further strengthen the base material 112.

【0061】2.第2の基材を形成する工程 第2の基材を形成する工程は、樹脂塗布等によって、第
1の基材上、すなわち、平面方向にランダムに配列され
た複数の凹部上に、連続層としての第2の基材を形成す
る工程である。
2. Step of forming the second base material In the step of forming the second base material, a continuous layer is formed on the first base material, that is, on the plurality of concave portions randomly arranged in the planar direction by resin coating or the like. Is a step of forming the second base material.

【0062】(1)感光性樹脂 第2の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げ
られる。また、第1の基材と第2の基材との間の密着力
が向上するため、第2の基材を構成する感光性樹脂と、
第1の基材を構成する感光性樹脂とを同種とすることが
好ましい。なお、第1の基材と第2の基材との間の密着
力が向上するため、第1の基材の表面に、シランカップ
リング剤等の処理を施しておくことが好ましい。
(1) Photosensitive resin The type of the photosensitive resin constituting the second base material is not particularly limited, but for example, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, etc. Is mentioned. Further, since the adhesion between the first base material and the second base material is improved, the photosensitive resin forming the second base material,
It is preferable that the same kind as the photosensitive resin that constitutes the first base material. Since the adhesion between the first base material and the second base material is improved, the surface of the first base material is preferably treated with a silane coupling agent or the like.

【0063】(2)露光工程 図12(d)及び図13の工程P37〜P40に示すよ
うに、第2の基材113を形成するにあたっては、第2
の基材113を構成する感光性樹脂を塗布した後、パネ
ル表示領域周辺の実装領域にi線等を露光し、樹脂層を
除去することが好ましい。この場合も、第1の基材11
2を露光させるのと同様に、i線等の露光量を例えば5
0〜300mJ/cm2の範囲内の値とすることが好ま
しい。
(2) Exposure step As shown in steps P37 to P40 of FIG. 12D and FIG. 13, in forming the second base material 113, the second step is performed.
After applying the photosensitive resin that constitutes the base material 113, it is preferable to remove the resin layer by exposing the mounting area around the panel display area with an i-line or the like. Also in this case, the first base material 11
Similarly to the case of exposing 2, the exposure amount of the i-line or the like is set to, for example, 5
The value is preferably in the range of 0 to 300 mJ / cm 2 .

【0064】さらに、図13の工程P41〜P42に示
すように、第2の基材113を形成した後に、一例とし
て、露光量が300mJ/cm2となるように全面的に
ポスト露光した後、220℃、50分の条件で加熱する
ことによってポストベークし、第1の基材112及び第
2の基材113をそれぞれさらに強固にすることも好ま
しい。
Further, as shown in steps P41 to P42 of FIG. 13, after forming the second base material 113, as an example, after the entire surface is post-exposed so that the exposure amount is 300 mJ / cm 2 , It is also preferable that the first base material 112 and the second base material 113 are further strengthened by being post-baked by heating at 220 ° C. for 50 minutes.

【0065】3.反射層を形成する工程 反射層を形成する工程は、図12(e)及び図13の工
程P43〜P44に示すように、第2の基材113の表
面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有す
る反射層116を形成する工程である。
3. Step of forming the reflective layer In the step of forming the reflective layer, as shown in Steps P43 to P44 of FIG. 12 (e) and FIG. This is a step of forming the reflective layer 116 having a smooth curved surface.

【0066】(1)反射層材料 反射層材料としては、第2の実施形態で説明したよう
に、アルミニウム(Al)及び銀(Ag)等の光反射性
に優れた金属材料とすることが好ましい。
(1) Reflective Layer Material As the reflective layer material, as described in the second embodiment, it is preferable to use a metal material having excellent light reflectivity such as aluminum (Al) and silver (Ag). .

【0067】(2)形成方法 スパッタリング等の手法を用いて、反射層を形成するこ
とが好ましい。また、所望の箇所以外の反射層材料は、
フォトエッチング等の手法で除去することができる。ま
た、第2の基材の表面に凹凸があるため、反射層材料が
均一な厚さに積層しない場合があるが、そのようなとき
には、回転蒸着法や回転スパッタリング法を採用するこ
とが好ましい。さらにまた、反射層を形成するととも
に、当該反射層をTFT(Thin Film Transistor)や、
MIM(Metal Insulating Metal)等の端子に対して、電
気接続することが好ましい。
(2) Forming Method It is preferable to form the reflecting layer by using a technique such as sputtering. In addition, the reflective layer material other than the desired portion,
It can be removed by a technique such as photoetching. Further, since the surface of the second base material has irregularities, the reflective layer material may not be laminated to have a uniform thickness. In such a case, it is preferable to employ the rotary evaporation method or the rotary sputtering method. Furthermore, while forming a reflection layer, the reflection layer is formed by a TFT (Thin Film Transistor),
It is preferable to electrically connect to a terminal such as MIM (Metal Insulating Metal).

【0068】[第4実施形態]第4実施形態は、アクテ
ィブ素子として2端子型の能動素子であるTFD(Thin
Film Diode)を用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、
当該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反
射膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板
が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複
数の凸部又は凹部の位置をランダム関数によって割り付
けし、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに
配列してあることを特徴とした液晶表示装置である。以
下、図24〜図26を参照して具体的に説明するが、外
部光を用いた反射表示と照明装置を用いた透過表示を選
択的に行うことができる方式の半透過反射型液晶装置を
例にとって説明する。
[Fourth Embodiment] In the fourth embodiment, as an active element, a two-terminal active element TFD (Thin
A liquid crystal display device of an active matrix system using a film diode, comprising a liquid crystal element sandwiched between substrates,
A substrate with a light reflection film provided on a substrate on the side opposite to the observation side of the liquid crystal element, wherein the substrate with the light reflection film comprises a base material and a reflection layer, and is formed on the base material. The liquid crystal display device is characterized in that positions of the plurality of convex portions or concave portions are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in a plane direction. Hereinafter, a specific description will be given with reference to FIGS. 24 to 26. A semi-transmissive reflective liquid crystal device of a system capable of selectively performing reflective display using external light and transmissive display using an illuminating device. Take for example.

【0069】まず、本実施形態においても液晶装置23
0は、図24に示すように、第1基板231aと第2基
板231bとをシール材(図示せず)によって貼り合わ
せ、さらに、第1基板231a、第2基板231b及び
シール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内
に液晶を封入することによって形成される。なお、一方
の基板231bの表面に、液晶駆動用IC(図示せず)
が、例えば、COG(Chip on glass)方式によって直
接的に実装されていることが好ましい。そして、図24
において、液晶装置230の表示領域を構成する複数の
表示ドットのうち、数個の断面構造を拡大して示してお
り、図25は、1つの表示ドット部分の断面構造を示し
ている。
First, also in this embodiment, the liquid crystal device 23
As shown in FIG. 24, 0 indicates that the first substrate 231a and the second substrate 231b are bonded to each other with a sealing material (not shown), and further, a gap surrounded by the first substrate 231a, the second substrate 231b and the sealing material. That is, it is formed by enclosing the liquid crystal in the cell gap. A liquid crystal driving IC (not shown) is provided on the surface of one substrate 231b.
However, it is preferable to be directly mounted by, for example, a COG (Chip on glass) method. And in FIG.
In FIG. 25, some of the plurality of display dots forming the display area of the liquid crystal device 230 are shown in an enlarged scale, and FIG. 25 shows the sectional structure of one display dot portion.

【0070】ここで、図24に示すように、第2基板2
31bのシール材によって囲まれる内部領域には、複数
の画素電極が、行方向XX及び列方向YYに関してドッ
トマトリクス状の配列で形成される。また、第1基板2
31aのシール材によって囲まれる内部領域にはストラ
イプ状の電極が形成され、そのストライプ状電極が第2
基板231b側の複数の画素電極に対向して配置される
ことになる。また、第1基板231a上のストライプ状
電極と、第2基板231b上の1つの画素電極によって
液晶を挟んだ部分が1つの表示ドットを形成し、この表
示ドットの複数個がシール材によって囲まれる内部領域
内で、ドットマトリクス状に配列することによって表示
領域が形成される。また、液晶駆動用ICは複数の表示
ドット内の対向電極間に選択的に走査信号及びデータ信
号を印加することにより、液晶の配向を表示ドット毎に
制御することになる。すなわち、液晶の配向制御により
該液晶を通過する光が変調されて、表示領域内に文字、
数字等といった像が表示される。
Here, as shown in FIG. 24, the second substrate 2
A plurality of pixel electrodes are formed in a dot matrix arrangement in the row direction XX and the column direction YY in the inner region surrounded by the seal material 31b. In addition, the first substrate 2
A striped electrode is formed in the inner region surrounded by the sealing material 31a, and the striped electrode is the second electrode.
It is arranged so as to face the plurality of pixel electrodes on the substrate 231b side. Further, a portion where the liquid crystal is sandwiched between the stripe-shaped electrode on the first substrate 231a and one pixel electrode on the second substrate 231b forms one display dot, and a plurality of the display dots are surrounded by the sealant. A display area is formed by arranging in a dot matrix shape in the internal area. Further, the liquid crystal driving IC selectively controls the orientation of the liquid crystal for each display dot by selectively applying the scanning signal and the data signal between the counter electrodes in the plurality of display dots. That is, the light passing through the liquid crystal is modulated by controlling the alignment of the liquid crystal, and characters are displayed in the display area.
Images such as numbers are displayed.

【0071】また、図25において、第1基板231a
は、ガラス、プラスチック等によって形成された基材2
36aと、その基材236aの内側表面に形成された光
反射膜231と、その光反射膜231の上に形成された
カラーフィルタ242と、そのカラーフィルタ242の
上に形成された透明なストライプ状電極243とを有す
る。そのストライプ状電極243の上には、配向膜24
1aが形成される。この配向膜241aに対して配向処
理としてのラビング処理が施される。ストライプ状電極
243は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明
導電材料によって形成される。また、第1基板231a
に対向する第2基板231bは、ガラス、プラスチック
等によって形成された基材236bと、その基材236
bの内側表面に形成されたスイッチング素子として機能
するアクティブ素子としてのTFD(Thin Film Diod
e)247と、このTFD247に接続された画素電極
239とを有する。TFD247及び画素電極239の
上には、配向膜241bが形成され、この配向膜241
bに対して配向処理としてのラビング処理が施される。
画素電極239は、例えばITO(Indium Tin Oxide)
等の透明導電材料によって形成される。また、第1基板
231aに属するカラーフィルタ242は、第2基板2
31b側の画素電極239に対向する位置にR(赤),
G(緑),B(青)又はY(イエロー),M(マゼン
タ),C(シアン)等といった各色のいずれかの色フィ
ルタエレメント242aを有し、画素電極239に対向
しない位置にブラックマスク242bを有することが好
ましい。
Further, in FIG. 25, the first substrate 231a
Is a base material 2 formed of glass, plastic, or the like.
36a, a light reflection film 231 formed on the inner surface of the base material 236a, a color filter 242 formed on the light reflection film 231, and a transparent stripe shape formed on the color filter 242. An electrode 243. The alignment film 24 is formed on the striped electrode 243.
1a is formed. A rubbing process as an alignment process is performed on the alignment film 241a. The striped electrodes 243 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). In addition, the first substrate 231a
The second substrate 231b facing the substrate 236b and the substrate 236b formed of glass, plastic, or the like, and the substrate 236b.
b as an active element that functions as a switching element formed on the inner surface of b.
e) 247 and a pixel electrode 239 connected to this TFD 247. An alignment film 241b is formed on the TFD 247 and the pixel electrode 239, and the alignment film 241 is formed.
A rubbing process as an alignment process is performed on b.
The pixel electrode 239 is, for example, ITO (Indium Tin Oxide)
And the like are formed of a transparent conductive material. In addition, the color filters 242 belonging to the first substrate 231a are
R (red) at a position facing the pixel electrode 239 on the 31b side,
G (green), B (blue) or Y (yellow), M (magenta), C (cyan), or any other color filter element 242a of each color is provided, and a black mask 242b is provided at a position not facing the pixel electrode 239. It is preferable to have

【0072】また、図25に示すように、第1基板23
1aと第2基板231bとの間の間隔、すなわちセルギ
ャップはいずれか一方の基板の表面に分散された球状の
スペーサ304によって寸法が維持され、そのセルギャ
ップ内に液晶が封入される。ここで、TFD247は、
図25に示すように、第1金属層244と、その第1金
属層244の表面に形成された絶縁層246と、その絶
縁層246の上に形成された第2金属層248とによっ
て構成されている。このようにTFD247は、第1金
属層/絶縁層/第2金属層から成る積層構造、いわゆる
MIM(Metal Insulator Metal)構造によって構成さ
れている。また、第1金属層244は、例えば、タンタ
ル単体、タンタル合金等によって形成される。第1金属
層244としてタンタル合金を用いる場合には、主成分
のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリブ
デン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプロ
リウム等といった周期律表において第6〜第8族に属す
る元素が添加される。
Further, as shown in FIG. 25, the first substrate 23
The space between 1a and the second substrate 231b, that is, the cell gap, is maintained in size by the spherical spacers 304 dispersed on the surface of one of the substrates, and the liquid crystal is sealed in the cell gap. Here, TFD247 is
As shown in FIG. 25, a first metal layer 244, an insulating layer 246 formed on the surface of the first metal layer 244, and a second metal layer 248 formed on the insulating layer 246 are formed. ing. As described above, the TFD 247 has a laminated structure including the first metal layer / insulating layer / second metal layer, that is, a so-called MIM (Metal Insulator Metal) structure. The first metal layer 244 is formed of, for example, a tantalum simple substance, a tantalum alloy, or the like. When a tantalum alloy is used as the first metal layer 244, tantalum as a main component is added to groups 6 to 8 in the periodic table such as tungsten, chromium, molybdenum, rhenium, yttrium, lanthanum, and disprolium. The element to which it belongs is added.

【0073】また、第1金属層244はライン配線24
9の第1層249aと一体に形成される。このライン配
線249は画素電極239を間に挟んでストライプ状に
形成され、画素電極239へ走査信号を供給するための
走査線又は画素電極239へデータ信号を供給するため
のデータ線として作用する。また、絶縁層246は、例
えば、陽極酸化法によって第1金属層244の表面を酸
化することによって形成された酸化タンタル(Ta
25)によって構成される。なお、第1金属層244を
陽極酸化したときには、ライン配線249の第1層24
9aの表面も同時に酸化されて、同様に酸化タンタルか
ら成る第2層249bが形成される。また、第2金属層
248は、例えばCr等といった導電材によって形成さ
れる。画素電極239は、その一部が第2金属層248
の先端に重なるように基材236bの表面に形成され
る。なお、基材236bの表面には、第1金属層244
及びライン配線の第1層249aを形成する前に酸化タ
ンタル等によって下地層を形成することがある。これ
は、第2金属層248の堆積後における熱処理によって
第1金属層244が下地から剥離しないようにしたり、
第1金属層244に不純物が拡散しないようにしたりす
るためである。
The first metal layer 244 is the line wiring 24.
9 of the first layer 249a is integrally formed. The line wiring 249 is formed in a stripe shape with the pixel electrode 239 interposed therebetween, and functions as a scanning line for supplying a scanning signal to the pixel electrode 239 or a data line for supplying a data signal to the pixel electrode 239. In addition, the insulating layer 246 is formed of, for example, tantalum oxide (Ta) formed by oxidizing the surface of the first metal layer 244 by an anodic oxidation method.
2 O 5 ). When the first metal layer 244 is anodized, the first layer 24 of the line wiring 249 is
The surface of 9a is also oxidized at the same time to form a second layer 249b also made of tantalum oxide. The second metal layer 248 is formed of a conductive material such as Cr. Part of the pixel electrode 239 is the second metal layer 248.
Is formed on the surface of the base material 236b so as to overlap the tip of the base material 236b. The first metal layer 244 is formed on the surface of the base material 236b.
In addition, before forming the first layer 249a of the line wiring, a base layer may be formed of tantalum oxide or the like. This is to prevent the first metal layer 244 from being separated from the base by heat treatment after the deposition of the second metal layer 248,
This is to prevent impurities from diffusing into the first metal layer 244.

【0074】そして、第1基板231aに形成された光
反射膜231は、例えば、アルミニウム等といった光反
射性の金属によって形成され、第2基板231bに属す
る各画素電極239に対応する位置、すなわち各表示ド
ットに対応する位置に光透過用の開口241が形成され
る。また、光反射膜231の液晶側表面には、例えば、
図8及び図19〜図23に示すような長円形状でドーム
形状の谷部又は山部80、84、180、190、20
0、210、220が形成してあることが好ましい。す
なわち、かかる谷部又は山部80、84、180、19
0、200、210、220は、ライン配線の延在方向
であるX軸線方向を長軸とし、それと直角なY軸線方向
が短軸となるように配列されていることが好ましい。ま
た、谷部又は山部80、84、180、190、20
0、210、220の長軸方向Xは、基材のXX方向に
延びる端辺に対して平行に設定され、短軸方向Yは基材
のYY方向に延びる端辺に対して平行に設定されている
ことが好ましい。
The light-reflecting film 231 formed on the first substrate 231a is formed of a light-reflecting metal such as aluminum, and is located at a position corresponding to each pixel electrode 239 belonging to the second substrate 231b. An opening 241 for transmitting light is formed at a position corresponding to the display dot. Further, on the liquid crystal side surface of the light reflection film 231, for example,
As shown in FIGS. 8 and 19 to 23, the oval and dome-shaped troughs or peaks 80, 84, 180, 190, 20.
It is preferable that 0, 210 and 220 are formed. That is, such valleys or peaks 80, 84, 180, 19
It is preferable that 0, 200, 210, and 220 are arranged such that the X-axis direction, which is the extending direction of the line wiring, has a long axis and the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction has a short axis. In addition, valleys or mountains 80, 84, 180, 190, 20
The major axis X of 0, 210, 220 is set parallel to the edge of the base material extending in the XX direction, and the minor axis Y is set parallel to the edge of the base material extending in the YY direction. Preferably.

【0075】第4実施形態の液晶表示装置230は以上
のように構成されているので、当該液晶表示装置230
が反射型表示を行う場合には、図25において、観察者
側すなわち第2基板231b側から液晶表示装置230
の内部へ入った外部光は、液晶を通過して光反射膜23
1に到達し、当該反射膜231で反射して再び液晶へ供
給される(図25の矢印F1参照)。液晶は、画素電極
239とストライプ状対向電極243との間に印加され
る電圧、すなわち走査信号及びデータ信号によって表示
ドット毎にその配向が制御され、これにより、液晶に供
給された反射光は表示ドット毎に変調され、これにより
観察者側に文字、数字等といった像が表示される。他
方、液晶表示装置230が透過型表示を行う場合には、
第1基板231aの外側に配置された照明装置(図示せ
ず)、いわゆるバックライトが発光し、この発光が偏光
板233a、位相差板232a、基材236a、光反射
膜231の開口241、カラーフィルタ242、電極2
43及び配向膜241aを通過した後に液晶に供給され
る(図25の矢印F2参照)。この後、反射型表示の場
合と同様にして表示が行われる。
Since the liquid crystal display device 230 of the fourth embodiment is configured as described above, the liquid crystal display device 230 concerned.
When performing the reflective display, the liquid crystal display device 230 is viewed from the viewer side, that is, the second substrate 231b side in FIG.
Light that has entered the inside of the light passes through the liquid crystal and is reflected by the light reflection film 23.
1 is reached, reflected by the reflective film 231, and supplied again to the liquid crystal (see arrow F1 in FIG. 25). The orientation of the liquid crystal is controlled for each display dot by the voltage applied between the pixel electrode 239 and the stripe-shaped counter electrode 243, that is, the scanning signal and the data signal, whereby the reflected light supplied to the liquid crystal is displayed. It is modulated for each dot, so that an image such as letters and numbers is displayed on the observer side. On the other hand, when the liquid crystal display device 230 performs transmissive display,
A lighting device (not shown) arranged outside the first substrate 231a, a so-called backlight emits light, and the emitted light emits light through the polarizing plate 233a, the retardation film 232a, the base material 236a, the opening 241 of the light reflection film 231, and the color. Filter 242, electrode 2
After passing through 43 and the alignment film 241a, the liquid crystal is supplied to the liquid crystal (see arrow F2 in FIG. 25). After that, the display is performed in the same manner as in the case of the reflective display.

【0076】そして、第4実施形態では、光反射膜付基
板における基材上に、凸部又は凹部の位置をランダム関
数によって割り付けるとともに、当該複数の凸部又は凹
部を平面方向にランダムに配列してあることから、干渉
縞の発生を少なくすることができる。また、第4実施形
態において、上述したように、複数の凸部又は凹部にお
けるX軸線に沿った立体形状とY軸線に沿った立体形状
とを互いに異ならせた場合には、一定の視野角方向への
反射光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への
反射光量を増大させることができる。この結果、観察者
は、光反射膜を用いて行われる反射型表示の際に、液晶
表示装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方
向に関して非常に明るい表示として観察できる。
In the fourth embodiment, the positions of the projections or recesses are assigned by a random function on the base material of the substrate with the light reflection film, and the projections or recesses are randomly arranged in the plane direction. Therefore, the occurrence of interference fringes can be reduced. Further, in the fourth embodiment, as described above, when the three-dimensional shape along the X-axis and the three-dimensional shape along the Y-axis in the plurality of protrusions or recesses are different from each other, a constant viewing angle direction is obtained. It is possible to increase the amount of reflected light in another specific viewing angle direction while suppressing the amount of reflected light to be low. As a result, the observer can observe the image displayed in the display area of the liquid crystal display device as a very bright display in a specific viewing angle direction during the reflective display performed using the light reflecting film.

【0077】[第5実施形態]第5実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材及び反射層から
なり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部の位置
をランダム関数によって割り付けるとともに、当該複数
の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列したことを
特徴とした液晶表示装置である。以下、図15を適宜参
照しながら、第5実施形態におけるパッシブマトリクス
方式の反射型液晶表示装置を、具体的に説明する。な
お、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上
で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ご
とに縮尺を異ならせてある場合がある。
[Fifth Embodiment] A fifth embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light-reflecting film provided on a substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light reflecting film is composed of a base material and a reflective layer, and the positions of the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are formed. A liquid crystal display device characterized by being randomly arranged in a plane direction. Hereinafter, the passive-matrix reflective liquid crystal display device according to the fifth embodiment will be specifically described with reference to FIG. 15 as appropriate. In each drawing shown below, the scale may be different for each layer and each member in order to make each layer and each member recognizable in the drawing.

【0078】1.構成 図15に示すように、この液晶表示装置140は、相互
に対向する第1基板141と第2基板142とがシール
材158を介して貼り合わされ、両基板の間に液晶14
4が封入された構成となっている。さらに、この液晶表
示装置141の観察側には、光透過性を有する保護板1
45が配設される。この保護板145は、当該液晶表示
装置140を外部から与えられる衝撃などから保護する
ための板状部材であり、例えば液晶表示装置140が搭
載される電子機器の筐体に設けられる。また、保護板1
45は、液晶表示装置140における第1基板141
(観察側の基板)の基板面と近接するように配設され
る。なお、本実施形態においては、プラスチックからな
る保護板145を、第1基板141の構成要素のうち最
も観察側に位置する偏光板146の表面に当接させた場
合を想定する。このように保護板145をプラスチック
により構成した場合、成形が容易で安価に製造できると
いう利点がある反面、その表面に微細な凹凸が形成され
やすい。
1. Configuration As shown in FIG. 15, in the liquid crystal display device 140, a first substrate 141 and a second substrate 142 facing each other are bonded together via a sealing material 158, and the liquid crystal 14 is provided between both substrates.
4 is enclosed. Further, on the observation side of the liquid crystal display device 141, the protective plate 1 having a light transmitting property is provided.
45 are provided. The protection plate 145 is a plate-like member for protecting the liquid crystal display device 140 from an impact given from the outside, and is provided, for example, in a housing of an electronic device in which the liquid crystal display device 140 is mounted. Also, the protective plate 1
Reference numeral 45 denotes a first substrate 141 in the liquid crystal display device 140.
It is arranged so as to be close to the substrate surface of the (observation side substrate). In addition, in the present embodiment, it is assumed that the protective plate 145 made of plastic is brought into contact with the surface of the polarizing plate 146 located closest to the observation side among the constituent elements of the first substrate 141. When the protective plate 145 is made of plastic as described above, it has advantages that it is easy to mold and can be manufactured at low cost, but on the other hand, fine irregularities are easily formed.

【0079】一方、液晶表示装置140の第1基板14
1及び第2基板142は、ガラスや石英、プラスチック
等の光透過性を有する板状部材である。このうち、観察
側に位置する第1基板141の内側(液晶144側)表
面には、所定の方向に延在する複数の透明電極143が
形成されている。各透明電極143は、ITO(Indium
Tin Oxide)等の透明導電材料によって形成された帯状
の電極である。さらに、これらの透明電極143が形成
された第1基板141の表面は、配向膜(図示略)によ
って覆われている。この配向膜はポリイミド等の有機薄
膜であり、電圧が印加されていないときの液晶144の
配向方向を規定するためのラビング処理が施されてい
る。
On the other hand, the first substrate 14 of the liquid crystal display device 140.
The first and second substrates 142 are light-transmissive plate-shaped members made of glass, quartz, plastic, or the like. Among these, a plurality of transparent electrodes 143 extending in a predetermined direction are formed on the inner surface (on the liquid crystal 144 side) of the first substrate 141 located on the observation side. Each transparent electrode 143 is made of ITO (Indium).
It is a strip-shaped electrode made of a transparent conductive material such as tin oxide. Further, the surface of the first substrate 141 on which these transparent electrodes 143 are formed is covered with an alignment film (not shown). This alignment film is an organic thin film of polyimide or the like, and is subjected to rubbing treatment for defining the alignment direction of the liquid crystal 144 when no voltage is applied.

【0080】2.光散乱膜 第1基板141の外側(液晶144とは反対側)には、
入射光を所定方向に偏光させる偏光板146と、第1基
板141と偏光板146との間に介在する散乱層147
とが設けられている。散乱層147は、当該散乱層14
7を透過する光を散乱させるための層であり、偏光板1
46を第1基板141に貼着するための接着剤148a
と、当該接着剤148a中に分散された多数の微粒子1
48bとを有する。この散乱層147としては、例えば
アクリル系又はエポキシ系等の接着剤148aに、シリ
カからなる微粒子148bを分散させたものを用いるこ
とができる。そして、接着剤148aの屈折率と微粒子
148bの屈折率とは異なっており、当該散乱層147
に入射した光は接着剤148aと微粒子148bとの境
界において屈折するようになっている。この結果、散乱
層147への入射光を、適度に散乱させた状態で出射さ
せることができる。
2. Outside the light-scattering film first substrate 141 (on the side opposite to the liquid crystal 144),
A polarizing plate 146 that polarizes incident light in a predetermined direction, and a scattering layer 147 that is interposed between the first substrate 141 and the polarizing plate 146.
And are provided. The scattering layer 147 is the scattering layer 14
Polarizing plate 1 is a layer for scattering the light passing through 7.
Adhesive 148a for attaching 46 to the first substrate 141
And a large number of fine particles 1 dispersed in the adhesive 148a.
And 48b. As the scattering layer 147, for example, an acrylic or epoxy adhesive 148a in which fine particles 148b made of silica are dispersed can be used. The refractive index of the adhesive 148a and the refractive index of the fine particles 148b are different, and the scattering layer 147
The light incident on is refracted at the boundary between the adhesive 148a and the fine particles 148b. As a result, the incident light on the scattering layer 147 can be emitted while being appropriately scattered.

【0081】さらに、第5実施形態における散乱層14
7は、そのヘイズ値(曇価)Hが10〜60%の範囲内
の値となるように、接着剤148a中に分散される微粒
子148bの数や両者の屈折率などが選定されている。
ここで、ヘイズ値Hとは、ある部材への入射光が当該部
材を透過する際に散乱する程度を表す値であり、以下の
式により定義される。 ヘイズ値(曇価)H=(Td/Tt)×100(%)
Furthermore, the scattering layer 14 in the fifth embodiment.
For No. 7, the number of fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a, the refractive index of both of them, and the like are selected so that the haze value (cloudiness value) H is within the range of 10 to 60%.
Here, the haze value H is a value that represents the degree to which light incident on a member is scattered when passing through the member, and is defined by the following formula. Haze value (cloudiness value) H = (Td / Tt) × 100 (%)

【0082】ここで、Ttは全光線透過率(%)であ
り、Tdは散乱光透過率(%)である。全光線透過率T
tは、ヘイズ値Hの測定対象となる試料への入射光量の
うち当該試料を透過した光量の割合を表す値である。一
方、散乱光透過率Tdは、試料に対して所定方向から光
を照射した場合に、当該試料を透過した光量のうち上記
所定方向以外の方向に出射した光量(すなわち、散乱光
量)の割合を表す値である。つまり、試料からの出射光
量のうち入射光と平行な方向への出射光量の割合を平行
光透過率Tp(%)とすると、上記散乱光透過率Td
は、上記全光線透過率Ttと平行光透過率Tpとの差
(Td=Tt−Tp)により表される。上記からも明ら
かなように、ヘイズ値Hが高ければ散乱の程度が大きく
(すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が大き
く)、逆にヘイズ値Hが低ければ散乱の程度が小さい
(すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が小さい)
ということができる。なお、上記ヘイズ値(曇価)Hに
ついては、JIS(Japanese Industrial Standards) K6714
-1977に詳述されている。
Here, Tt is the total light transmittance (%), and Td is the scattered light transmittance (%). Total light transmittance T
t is a value representing the ratio of the amount of light transmitted through the sample to the amount of light incident on the sample for which the haze value H is measured. On the other hand, the scattered light transmittance Td is the ratio of the amount of light emitted in a direction other than the predetermined direction (that is, the scattered light amount) to the amount of light transmitted through the sample when the sample is irradiated with light from the predetermined direction. It is a value to represent. That is, when the ratio of the amount of light emitted from the sample in the direction parallel to the incident light is taken as the parallel light transmittance Tp (%), the scattered light transmittance Td is obtained.
Is represented by the difference (Td = Tt−Tp) between the total light transmittance Tt and the parallel light transmittance Tp. As is clear from the above, when the haze value H is high, the degree of scattering is large (that is, the proportion of the scattered light amount in the transmitted light amount is large), and conversely, when the haze value H is low, the degree of scattering is small (that is, the transmitted light amount). The proportion of the scattered light amount in the
Can be said. Regarding the haze value (haze value) H, JIS (Japanese Industrial Standards) K6714
-1977.

【0083】3.反射層(光反射膜) 一方、第2基板142の内側(液晶144側)表面には
反射層149が形成されている。この反射層149は、
液晶表示装置140に対して観察側から入射した光を反
射させるための層であり、例えばアルミニウムや銀とい
った光反射性を有する金属によって形成される。ここ
で、図15に示すように、第2基板142の内側表面の
うち反射層149によって覆われる領域は多数の微細な
突起及び窪みが形成された粗面となっている。より具体
的には、基材と、反射層とを含む光反射膜であって、当
該基材の表面に形成された複数の凸部又は凹部の位置を
ランダム関数によって割付け、複数の凸部又は凹部を平
面方向にランダムに配列した反射層149である。この
ため、反射層149の表面は、第2基板142表面の突
起及び窪みを反映した粗面となる。すなわち、反射層1
49は、当該表面における反射光を適度に散乱させて広
い視野角を実現するための散乱構造を有している。より
具体的には、反射層149が、複数の凸部又は凹部から
なる基材上に形成されており、そして、基材に形成され
た複数の凸部又は凹部の位置をランダム関数によって割
付け、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに
配列してある構造である。
3. Reflecting Layer (Light Reflecting Film) On the other hand, a reflecting layer 149 is formed on the inner surface (on the side of the liquid crystal 144) of the second substrate 142. This reflective layer 149 is
It is a layer for reflecting the light incident on the liquid crystal display device 140 from the observation side, and is formed of a metal having a light reflectivity such as aluminum or silver. Here, as shown in FIG. 15, a region of the inner surface of the second substrate 142, which is covered by the reflective layer 149, is a rough surface on which a large number of fine protrusions and depressions are formed. More specifically, a light reflection film including a base material and a reflective layer, the positions of the plurality of convex portions or concave portions formed on the surface of the base material are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or It is a reflection layer 149 in which concave portions are randomly arranged in the plane direction. Therefore, the surface of the reflective layer 149 is a rough surface that reflects the protrusions and depressions on the surface of the second substrate 142. That is, the reflective layer 1
49 has a scattering structure for appropriately scattering the reflected light on the surface to realize a wide viewing angle. More specifically, the reflective layer 149 is formed on a base material composed of a plurality of convex portions or concave portions, and the positions of the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are assigned by a random function, This is a structure in which the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in the plane direction.

【0084】4.その他の構成 さらに、第2基板142を覆う反射層149の面上に
は、カラーフィルタ150と、遮光層151と、カラー
フィルタ150及び遮光層151によって形成される凹
凸を平坦化するためのオーバーコート層157と、複数
の透明電極154と、配向膜(図示略)とが形成されて
いる。各透明電極154は、第1基板141上の透明電
極143の延在方向と交差する方向(図15における紙
面左右方向)に延在する帯状の電極であり、透明電極1
43と同様にITO等の透明導電材料によって形成され
る。かかる構成の下、液晶144は、透明電極143と
透明電極154との間に印加された電圧に応じてその配
向方向が変化する。すなわち、透明電極143と透明電
極154とが交差する領域が画素(サブ画素)として機
能するのである。カラーフィルタ150は、これらの画
素の各々に対応して設けられた樹脂層であり、染料や顔
料によってR、G、Bのいずれかに着色されている。ま
た、遮光層151は、各画素の間隙部分を遮光するため
の格子状の層であり、例えばカーボンブラックが分散さ
れた黒色樹脂材料などによって形成される。
4. Other Configurations Further, on the surface of the reflective layer 149 covering the second substrate 142, the color filter 150, the light shielding layer 151, and the overcoat for flattening the unevenness formed by the color filter 150 and the light shielding layer 151. A layer 157, a plurality of transparent electrodes 154, and an alignment film (not shown) are formed. Each transparent electrode 154 is a strip-shaped electrode extending in a direction intersecting the extending direction of the transparent electrode 143 on the first substrate 141 (left-right direction on the paper surface in FIG. 15).
Like 43, it is made of a transparent conductive material such as ITO. Under such a configuration, the alignment direction of the liquid crystal 144 changes according to the voltage applied between the transparent electrode 143 and the transparent electrode 154. That is, the area where the transparent electrode 143 and the transparent electrode 154 intersect functions as a pixel (sub-pixel). The color filter 150 is a resin layer provided corresponding to each of these pixels, and is colored R, G, or B with a dye or a pigment. In addition, the light shielding layer 151 is a lattice-shaped layer for shielding the gap between the pixels from light, and is formed of, for example, a black resin material in which carbon black is dispersed.

【0085】5.動作 以上説明した構成によって反射型表示が実現される。す
なわち、太陽光や室内照明光等の外光は、保護板145
を透過して液晶表示装置140に入射し、反射層149
の表面で反射する。この反射光は、液晶144及び第1
基板141を透過し、散乱層147において適度に散乱
された後に偏光板146を透過して液晶表示装置140
の観察側に出射する。そして液晶表示装置140からの
出射光は、保護板145を透過して観察者に視認され
る。
5. Operation The reflective display is realized by the configuration described above. That is, outside light such as sunlight or indoor illumination light is protected by the protective plate 145.
And then enters the liquid crystal display device 140, and the reflective layer 149
Reflected on the surface of. This reflected light is transmitted to the liquid crystal 144 and the first
The liquid crystal display device 140 is transmitted through the substrate 141, is appropriately scattered in the scattering layer 147, and then is transmitted through the polarizing plate 146.
To the observation side. Then, the light emitted from the liquid crystal display device 140 passes through the protective plate 145 and is visually recognized by an observer.

【0086】ここで、上述したように、保護板145の
材料としてプラスチックを用いた場合、その表面を完全
な平面とすることは困難であり、複数の微細な凹凸が形
成されやすい。このように微細な凹凸が形成された保護
板145を液晶表示装置140の第1基板141と近接
するように配設した場合、当該液晶表示装置140から
の出射光が保護板145を透過するときに干渉する結
果、当該凹凸に対応する干渉縞が表示画像に重なって表
示品位の低下を招き得る。しかしながら、本発明者によ
る試験の結果、上記実施形態に示したように、液晶14
4を通過して保護板145に至る光を散乱層147によ
って散乱させた場合には、高品位の表示を実現すること
ができる。
Here, as described above, when plastic is used as the material of the protective plate 145, it is difficult to make the surface of the protective plate 145 completely flat, and a plurality of fine irregularities are likely to be formed. When the protective plate 145 having such fine irregularities is arranged close to the first substrate 141 of the liquid crystal display device 140, when the light emitted from the liquid crystal display device 140 passes through the protective plate 145. As a result, the interference fringes corresponding to the unevenness may overlap the display image, resulting in deterioration of display quality. However, as a result of the test by the present inventor, as shown in the above embodiment, the liquid crystal 14
In the case where the light that passes through 4 and reaches the protective plate 145 is scattered by the scattering layer 147, high-quality display can be realized.

【0087】また、図15に示した液晶表示装置の構成
において、干渉縞の発生を抑えるという観点からは、散
乱層147のヘイズ値Hが高い、つまり、散乱の程度が
高いことが望ましい。しかしながら、このヘイズ値Hを
あまりに高い値(例えば70%以上の値)とした場合、
液晶表示装置140から保護板145に至る光が散乱し
過ぎて表示画像のコントラストが低下する、すなわち表
示画像がぼやけるという新たな問題が生じ得る。一方、
散乱層147のヘイズ値Hをあまりに低い値とした場
合、例えば10%以下の値とした場合、凹凸に起因する
シミが見え易い。
Further, in the structure of the liquid crystal display device shown in FIG. 15, it is desirable that the haze value H of the scattering layer 147 is high, that is, the degree of scattering is high, from the viewpoint of suppressing the generation of interference fringes. However, when the haze value H is set to a too high value (for example, a value of 70% or more),
The light from the liquid crystal display device 140 to the protective plate 145 may be scattered too much, which may cause a new problem that the contrast of the display image is lowered, that is, the display image is blurred. on the other hand,
When the haze value H of the scattering layer 147 is set to a value that is too low, for example, a value of 10% or less, spots due to the unevenness are easily visible.

【0088】本発明者による試験の結果、凸部又は凹部
により形成されるパターンが、1ドット又は2ドットに
より定義される一単位内において不規則に配列されてい
る場合には、散乱層147のヘイズ値Hを40%〜60
%の範囲内の値に設定するのが好ましく、表示画像のコ
ントラストが著しく低下するのを回避しつつ、保護板1
45の表面の凹凸に起因した表示品位の低下を有効に抑
えることができ、良好な表示品位を確保できるという知
見を得るに至った。また、凸部又は凹部により形成され
るパターンが、3ドット以上で定義される一単位内にお
いて不規則に配列されている場合には、散乱層147の
ヘイズ値Hを10%〜40%の範囲内の値に設定するこ
とで、コントラストを高く設定することができた。
As a result of the test by the present inventor, when the pattern formed by the convex portions or the concave portions is irregularly arranged within one unit defined by 1 dot or 2 dots, the scattering layer 147 is Haze value H of 40% to 60
It is preferable to set the value within the range of%, and it is possible to prevent the contrast of the display image from being remarkably deteriorated, and the protective plate 1
It was found that it is possible to effectively suppress the deterioration of the display quality due to the unevenness of the surface of 45, and to secure a good display quality. When the patterns formed by the convex portions or the concave portions are irregularly arranged within one unit defined by 3 dots or more, the haze value H of the scattering layer 147 is in the range of 10% to 40%. The contrast could be set high by setting the value within.

【0089】なお、第5実施形態に示したように、接着
剤148a中に微粒子148bを分散させた散乱層14
7を用いた場合、例えば微粒子148bの添加量(数)
を調節することによってヘイズ値Hを任意に選定するこ
とができる。すなわち、接着剤148a中に分散させる
微粒子148bの添加量を増やせば、当該散乱層147
への入射光はより散乱することとなるため、当該散乱層
147のヘイズ値Hを高くすることができ、逆に微粒子
の添加量を減らせば散乱層147のヘイズ値Hを低くす
ることができるといった具合である。
As shown in the fifth embodiment, the scattering layer 14 in which the fine particles 148b are dispersed in the adhesive 148a.
7 is used, for example, the addition amount (number) of the fine particles 148b
The haze value H can be arbitrarily selected by adjusting. That is, if the amount of the fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a is increased, the scattering layer 147 is increased.
Since the incident light on the light is further scattered, the haze value H of the scattering layer 147 can be increased, and conversely, the haze value H of the scattering layer 147 can be decreased by reducing the addition amount of the fine particles. And so on.

【0090】また、第5実施形態によれば、液晶表示装
置140から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたっ
て容易に選定できるという利点がある。すなわち、上記
散乱層147を有しない液晶表示装置において、液晶表
示装置140から出射する光の散乱の程度を調節するた
めには、反射層149の表面の形状、例えば凸部の高さ
や凹部の深さ、もしくは隣接する凸部(又は凹部)間の
距離などを調節する必要がある。しかしながら、このよ
うに反射層149の表面を正確に所望の形状にすること
は、第2基板142上に所望の凹凸を形成する製造技術
上の事情などを考慮すると必ずしも容易ではない。さら
に、反射層149表面の形状を調節することのみによっ
ては、液晶表示装置140から出射する光の散乱の程度
を調節可能な幅が極めて狭い範囲に限定されてしまう。
これに対し、本実施形態によれば、反射層149の表面
の形状を大幅に変更しなくても、散乱層147のヘイズ
値Hを変更することによって、例えば接着剤148a中
に分散する微粒子148bの添加量などを適宜調節する
ことによって、液晶表示装置140から出射する光の散
乱の程度を広範囲にわたって容易に調節できるという利
点がある。
According to the fifth embodiment, there is an advantage that the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140 can be easily selected over a wide range. That is, in a liquid crystal display device that does not have the scattering layer 147, in order to adjust the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140, the shape of the surface of the reflective layer 149, for example, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is adjusted. It is necessary to adjust the distance between adjacent convex portions (or concave portions) or the like. However, it is not always easy to accurately form the surface of the reflective layer 149 into a desired shape in consideration of the circumstances of the manufacturing technique for forming the desired unevenness on the second substrate 142. Further, only by adjusting the shape of the surface of the reflective layer 149, the width in which the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140 can be adjusted is limited to an extremely narrow range.
On the other hand, according to the present embodiment, even if the shape of the surface of the reflective layer 149 is not significantly changed, by changing the haze value H of the scattering layer 147, for example, the fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a. There is an advantage that the degree of scattering of the light emitted from the liquid crystal display device 140 can be easily adjusted over a wide range by appropriately adjusting the addition amount of the.

【0091】[第6実施形態]第6実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材及び反射層から
なり、当該複数の凸部又は凹部の位置をランダム関数に
よって割り付け、複数の凸部又は凹部を平面方向にラン
ダムに配列してあるパッシブマトリクス方式の半透過反
射型液晶表示装置である。そこで、図16を参照して、
第6実施形態のパッシブマトリクス方式の半透過反射型
液晶表示装置について、具体的に説明する。
[Sixth Embodiment] The sixth embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light reflecting film provided on a substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light-reflecting film is composed of a base material and a reflecting layer, the positions of the plurality of convex portions or concave portions are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in a plane direction. It is a passive matrix type transflective liquid crystal display device. Therefore, referring to FIG.
The passive matrix type transflective liquid crystal display device of the sixth embodiment will be specifically described.

【0092】1.基本構成 図16に示すように、第6実施形態においては、液晶表
示装置160の背面側(観察側とは反対側)にバックラ
イトユニット153が配設される。このバックライトユ
ニット153は、光源として機能する複数のLED15
(図16においてはひとつのLED15のみが図示され
ている。)と、側端面に入射したLED15からの光を
液晶表示装置160における第2基板142の全面に導
く導光板152と、この導光板152により導かれた光
を液晶表示装置160に対して一様に拡散させる拡散板
155と、導光板152から液晶表示装置160とは反
対側に出射した光を液晶表示装置160側に反射させる
反射板156とを有する。ここで、LED15は常に点
灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないよ
うな環境において使用される場合に、ユーザからの指示
やセンサからの検出信号に応じて点灯する。
1. Basic Configuration As shown in FIG. 16, in the sixth embodiment, a backlight unit 153 is arranged on the back side (the side opposite to the observation side) of the liquid crystal display device 160. The backlight unit 153 includes a plurality of LEDs 15 functioning as a light source.
(Only one LED 15 is shown in FIG. 16), a light guide plate 152 for guiding the light from the LED 15 incident on the side end face to the entire surface of the second substrate 142 in the liquid crystal display device 160, and the light guide plate 152. The diffuser plate 155 that uniformly diffuses the light guided by the liquid crystal display device 160, and the reflector plate that reflects the light emitted from the light guide plate 152 to the side opposite to the liquid crystal display device 160 to the liquid crystal display device 160 side. 156 and. Here, the LED 15 is not always lit, and when used in an environment where there is almost no external light, it illuminates according to an instruction from the user or a detection signal from the sensor.

【0093】さらに、第6実施形態に係る液晶表示装置
160においては、反射層149のうち各画素の中央部
近傍に対応する領域に開口部159が形成されている。
また、第2基板142の外側(液晶144とは反対側)
には、もう一対の偏光板が貼着されるが、図16におい
てはその偏光板については、図示が省略されている。
Further, in the liquid crystal display device 160 according to the sixth embodiment, the opening 159 is formed in the region corresponding to the vicinity of the central portion of each pixel in the reflective layer 149.
The outside of the second substrate 142 (the side opposite to the liquid crystal 144)
Another pair of polarizing plates are attached to the sheet, but the polarizing plate is not shown in FIG.

【0094】2.動作 かかる構成の液晶表示装置160によれば、上記第5実
施形態において示した反射型表示に加えて、透過型表示
を実現することができる。すなわち、バックライトユニ
ット153から液晶表示装置160に照射された光は、
反射層149の開口部159を通過する。この光は、液
晶144及び第1基板141を透過し、散乱層147に
おいて散乱した後に偏光板146を透過して液晶表示装
置160の観察側に出射する。そして、この出射光が保
護板145を透過して観察側に出射することにより、透
過型表示が実現されるのである。したがって、本実施形
態においても、上述した第5実施形態と同様、表面に微
細な凹凸が形成された保護板145を液晶表示装置16
0と近接して設けた場合であっても、当該凹凸に起因し
た表示品位の低下を抑えることができる。
2. According to the liquid crystal display device 160 having such a configuration, a transmissive display can be realized in addition to the reflective display shown in the fifth embodiment. That is, the light emitted from the backlight unit 153 to the liquid crystal display device 160 is
It passes through the opening 159 of the reflective layer 149. This light passes through the liquid crystal 144 and the first substrate 141, is scattered by the scattering layer 147, then passes through the polarizing plate 146, and is emitted to the observation side of the liquid crystal display device 160. Then, the emitted light passes through the protective plate 145 and is emitted to the observing side, whereby a transmissive display is realized. Therefore, also in the present embodiment, as in the fifth embodiment described above, the liquid crystal display device 16 is provided with the protective plate 145 having fine irregularities formed on its surface.
Even when it is provided close to 0, it is possible to suppress the deterioration of the display quality due to the unevenness.

【0095】[第7実施形態]第7実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材及び反射層から
なり、当該複数の凸部又は凹部の位置をランダム関数に
よって割付け、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダ
ムに配列してある液晶表示装置の変形例である。
[Seventh Embodiment] A seventh embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light-reflecting film provided on the substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light reflection film is composed of a base material and a reflection layer, the positions of the plurality of convex portions or concave portions are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in the plane direction. It is a modification of a certain liquid crystal display device.

【0096】(1)変形例1 上記各実施形態においては、散乱層147を第1基板1
41と偏光板146との間に設けた構成としたが、散乱
層147の位置はこれに限られるものではない。例え
ば、干渉色を補償するための位相差板を偏光板146と
第1基板141との間に設ける場合、当該位相差板と第
1基板141との間に散乱層147を介挿してもよい
し、又は位相差板と偏光板146との間に散乱層147
を介挿してもよい。要は、散乱層147が、液晶144
に対して保護板145側に設けられた構成であればよい
のである。
(1) Modified Example 1 In each of the above embodiments, the scattering layer 147 is provided on the first substrate 1.
Although the structure is provided between 41 and the polarizing plate 146, the position of the scattering layer 147 is not limited to this. For example, when a retardation plate for compensating the interference color is provided between the polarizing plate 146 and the first substrate 141, the scattering layer 147 may be interposed between the retardation plate and the first substrate 141. Or a scattering layer 147 between the retardation plate and the polarizing plate 146.
May be inserted. In short, the scattering layer 147 is the liquid crystal 144.
On the other hand, the structure provided on the side of the protective plate 145 is sufficient.

【0097】また、上記各実施形態においては、接着剤
148a中に多数の微粒子148bを分散させた構成の
散乱層147を用いたが、散乱層147の構成はこれに
限られるものではなく、入射光を散乱させることができ
る層であれば、いかなる構成であってもよい。もっと
も、接着剤148aを含む散乱層147を用いた場合に
は、当該散乱層147を挟む部材(例えば、上記各実施
形態における第1基板141と偏光板146同士を当該
接着剤148aによって接着することができるから、接
着剤148aを含まない散乱層147を用いた場合と比
較して、製造コストの低減及び製造工程の簡素化を図る
ことができるという利点がある。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the scattering layer 147 having a structure in which a large number of fine particles 148b are dispersed in the adhesive 148a is used, but the structure of the scattering layer 147 is not limited to this, and is incident. Any structure may be used as long as it can scatter light. However, when the scattering layer 147 including the adhesive 148a is used, the members sandwiching the scattering layer 147 (for example, the first substrate 141 and the polarizing plates 146 in each of the above embodiments may be bonded by the adhesive 148a). Therefore, as compared with the case where the scattering layer 147 not containing the adhesive 148a is used, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified.

【0098】(2)変形例2 上記第5実施形態においては反射型液晶表示装置を、第
6実施形態においては半透過反射型液晶表示装置を例示
したが、反射層149を有さず透過型表示のみを行う透
過型液晶表示装置にも本発明を適用可能である。すなわ
ち、透過型液晶表示装置においては、図16に示した半
透過反射型液晶表示装置のうち反射層149を除いた構
成とすればよい。また、上記第4実施形態においては、
開口部159を有する反射層149によって反射型表示
と透過型表示の双方を実現する構成としたが、かかる反
射層149に代えて、照射された光のうちの一部を透過
させて他の一部を反射させる、いわゆるハーフミラーを
用いた半透過反射型液晶表示装置にも、本発明を適用で
きることはいうまでもない。
(2) Modified Example 2 In the fifth embodiment, the reflective liquid crystal display device and the transflective liquid crystal display device in the sixth embodiment are exemplified, but the reflective layer 149 is not provided and the transmissive liquid crystal display device is used. The present invention can be applied to a transmissive liquid crystal display device that performs only display. That is, in the transmissive liquid crystal display device, the transflective liquid crystal display device shown in FIG. 16 may be configured without the reflective layer 149. In addition, in the fourth embodiment,
Although both the reflective display and the transmissive display are realized by the reflective layer 149 having the opening 159, instead of the reflective layer 149, a part of the irradiated light is transmitted and the other one is transmitted. It goes without saying that the present invention can also be applied to a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device using a so-called half mirror that reflects a portion.

【0099】(3)変形例3 上記各実施形態においては、保護板145としてプラス
チックの板状部材を用いた場合を例示した。かかる保護
板145の表面には凹凸が形成されやすいため、本発明
を適用することによって特に顕著な効果を奏し得る。し
かしながら、保護板145の材料はこれに限られるもの
ではなく、他にも様々な材料の板状部材を保護板145
として用いることができる。
(3) Modified Example 3 In each of the above embodiments, the case where a plastic plate member is used as the protective plate 145 has been illustrated. Since irregularities are likely to be formed on the surface of the protective plate 145, the application of the present invention can exert a particularly remarkable effect. However, the material of the protective plate 145 is not limited to this, and plate members made of various other materials may be used as the protective plate 145.
Can be used as

【0100】(4)変形例4 また、上記各実施形態においては、カラーフィルタ15
0や遮光層151が第2基板142上に形成された場合
を例示したが、これらの要素が第1基板141上に形成
された構成の液晶表示装置や、カラーフィルタ150又
は遮光層151を具備しない液晶表示装置にも、本発明
を適用可能であることはいうまでもない。このように、
観察側に近接して保護板145が配設される構成の液晶
表示装置160であれば、その他の要素の態様の如何に
拘わらず、本発明を適用することができる。
(4) Modification 4 In each of the above embodiments, the color filter 15 is used.
0 and the light shielding layer 151 are formed on the second substrate 142, the liquid crystal display device in which these elements are formed on the first substrate 141, the color filter 150 or the light shielding layer 151 is provided. It goes without saying that the present invention can be applied to liquid crystal display devices that do not. in this way,
The present invention can be applied to the liquid crystal display device 160 having the configuration in which the protective plate 145 is disposed close to the observation side regardless of the aspect of other elements.

【0101】(5)変形例5 上記第4実施形態においては、アクティブ素子として2
端子型の能動素子であるTFDを用いたアクティブマト
リクス方式の液晶表示装置を例示したが、図13に示す
ように、アクティブ素子として3端子型の能動素子であ
るTFTを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示
装置でもよい。この場合には、図13に示すように、遮
光領域にTFT素子を設けることが好ましい。
(5) Modified Example 5 In the fourth embodiment described above, 2 active elements are used.
Although an active matrix type liquid crystal display device using a TFD which is a terminal type active element has been exemplified, as shown in FIG. 13, an active matrix type liquid crystal using a TFT which is a three terminal type active element as an active element. It may be a display device. In this case, it is preferable to provide a TFT element in the light shielding area as shown in FIG.

【0102】[第8実施形態]第8実施形態は、光反射
膜を具備した液晶表示装置を含む電子機器であって、光
反射膜が、基材及び反射層を含み、当該当該複数の凸部
又は凹部をランダム関数によって平面方向にランダムに
配列してあることを特徴とする電子機器である。
[Eighth Embodiment] The eighth embodiment is an electronic apparatus including a liquid crystal display device provided with a light reflection film, wherein the light reflection film includes a base material and a reflection layer, and the plurality of projections. The electronic device is characterized in that parts or recesses are randomly arranged in a plane direction by a random function.

【0103】(1)モバイル型コンピュータ まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナ
ルコンピュータ(いわゆるノート型パーソナルコンピュ
ータ)の表示部に適用した例について説明する。図17
は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図で
ある。同図に示すように、パーソナルコンピュータ16
1は、キーボード162を備えた本体部163と、本発
明に係る液晶表示装置(図示略)を用いた表示部164
とを備えている。表示部164は、窓部165に対応し
てプラスチックの保護板145が配設された筐体166
に、本発明に係る液晶表示装置160が収容された構成
となっている。より詳細には、液晶表示装置160は、
その観察側の基板面が保護板145と近接するように、
筐体166に収容されている。なお、かかるパーソナル
コンピュータ161においては、外光が十分に存在しな
い状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第
6実施形態に示したように、背面側にバックライトユニ
ット153を備えた半透過反射型液晶表示装置を用いる
ことが望ましい。
(1) Mobile Computer First, an example in which the liquid crystal display device according to the present invention is applied to the display portion of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 17
FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in FIG.
Reference numeral 1 denotes a main body portion 163 having a keyboard 162, and a display portion 164 using a liquid crystal display device (not shown) according to the present invention.
It has and. The display unit 164 has a housing 166 in which a plastic protective plate 145 is arranged corresponding to the window 165.
In addition, the liquid crystal display device 160 according to the present invention is housed. More specifically, the liquid crystal display device 160 is
So that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 145,
It is housed in a housing 166. In addition, in the personal computer 161, the backlight unit 153 is provided on the back side as shown in the sixth embodiment in order to secure the visibility of the display even in the situation where the outside light is not sufficiently present. It is desirable to use the provided transflective liquid crystal display device.

【0104】(2)携帯電話機 次に、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示
部に適用した例について説明する。図18は、この携帯
電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、
携帯電話機170は、複数の操作ボタン171のほか、
受話口172、送話口173とともに、本発明に係る液
晶表示装置(図示略)を用いた表示部174を備えてい
る。この携帯電話機170においては、窓部174bに
対応してプラスチックの保護板175が配設された筐体
176に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成
となっている。なお、携帯電話機170においても、上
記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、そ
の観察側の基板面が保護板175に近接するように、筐
体176に収容されている。
(2) Mobile Phone Next, an example in which the liquid crystal display device according to the present invention is applied to the display portion of a mobile phone will be described. FIG. 18 is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure,
The mobile phone 170 has a plurality of operation buttons 171 as well as
An earpiece 172, a mouthpiece 173, and a display unit 174 using the liquid crystal display device (not shown) according to the present invention are provided. In this mobile phone 170, the liquid crystal display device according to the present invention is housed in a housing 176 in which a plastic protection plate 175 is arranged corresponding to the window 174b. In the mobile phone 170 as well, like the personal computer, the liquid crystal display device is housed in the housing 176 such that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 175.

【0105】なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可
能な電子機器としては、図17に示したパーソナルコン
ピュータや図18に示した携帯電話機のほかにも、液晶
テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、
電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機
器などが挙げられる。上述したように、本発明に係る液
晶表示装置によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板
を、当該液晶表示装置の基板面と近接するように配設し
た場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下
を抑えることができる。したがって、表示品位を損なう
ことなく、保護板を液晶表示装置に近接して配設するこ
とによって電子機器の薄型化ないし小型化を図ることが
できる。
As the electronic equipment to which the liquid crystal display device according to the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 17 and the mobile phone shown in FIG. 18, a liquid crystal television, a viewfinder type monitor, etc. Direct-view video tape recorder, car navigation system, pager,
Examples include electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices equipped with a touch panel, and the like. As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, even when the protective plate having fine irregularities on the surface is arranged in proximity to the substrate surface of the liquid crystal display device, the irregularities are It is possible to suppress the deterioration of display quality due to. Therefore, it is possible to reduce the thickness or size of the electronic device by disposing the protective plate close to the liquid crystal display device without degrading the display quality.

【0106】[0106]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスク及
びそれから得られる光反射膜によれば、それぞれランダ
ム関数を用いて容易に製造することができ、その結果、
複数の凸部又は凹部を有する基材上に、滑らかな反射層
を有し、液晶表示装置等に使用した場合には、干渉縞の
発生を効果的に抑制することができるようになった。ま
た、本発明のマスクによれば、小型の液晶表示装置等は
もちろんのこと、大型の液晶表示装置等においても、干
渉縞の発生が少ない光反射膜が得られるマスクパターン
を、容易かつ迅速に設計することができるようになっ
た。また、本発明の光反射膜を設けた液晶表示装置及び
光反射膜を有する電子機器によれば、干渉縞の発生が少
なくなるとともに、設計や製造についても容易になっ
た。また、本発明の光反射膜を設けた液晶表示装置及び
光反射膜を有する電子機器によれば、光散乱膜と組み合
わせることにより、あるいは特定の設計配置を行うこと
により、光反射膜における複数の凸部又は凹部をランダ
ムパターンにした場合に発生する不定形のシミ模様につ
いても効果的に抑制することができるようになった。さ
らに、本発明の光反射膜を設けた液晶表示装置、並びに
光反射膜を有する電子機器によれば、表面に微細な凹凸
を有する保護板を近接して配設した場合であっても、当
該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができる
ようになった。なお、本発明の光反射膜付基板、及び電
気光学装置、並びに電子機器は、実施形態で説明した液
晶表示装置等の他、電気泳動を利用した表示デバイス等
にも好適に適用することができる。
As described above, the mask of the present invention and the light-reflecting film obtained therefrom can be easily manufactured by using a random function, respectively, and as a result,
A smooth reflective layer is provided on a base material having a plurality of convex portions or concave portions, and when used in a liquid crystal display device or the like, it has become possible to effectively suppress the generation of interference fringes. Further, according to the mask of the present invention, it is possible to easily and quickly form a mask pattern that can obtain a light reflecting film with less occurrence of interference fringes not only in a small liquid crystal display device or the like but also in a large liquid crystal display device or the like. You can now design. Further, according to the liquid crystal display device provided with the light reflection film and the electronic device having the light reflection film of the present invention, the occurrence of interference fringes is reduced, and the design and manufacturing are facilitated. Further, according to the liquid crystal display device provided with the light reflection film and the electronic device having the light reflection film of the present invention, a plurality of light reflection films in the light reflection film can be obtained by combining with the light scattering film or by performing a specific design arrangement. It has also become possible to effectively suppress an irregular spot pattern that occurs when the convex portions or the concave portions are formed in a random pattern. Further, according to the liquid crystal display device provided with the light reflecting film of the present invention, and the electronic device having the light reflecting film, even when the protective plate having fine irregularities on the surface is arranged in proximity, It has become possible to suppress deterioration of display quality due to unevenness. The substrate with a light-reflecting film, the electro-optical device, and the electronic device of the present invention can be suitably applied to a display device using electrophoresis as well as the liquid crystal display device described in the embodiments. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のマスクを説明するために供する平面
図である。
FIG. 1 is a plan view provided for explaining a mask of the present invention.

【図2】 1画素(RGB:3ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 2 is a plan view provided for explaining a mask in which one pixel (RGB: 3 dots) is one unit and light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a planar direction.

【図3】 2画素(RGB:6ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 3 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with two pixels (RGB: 6 dots) as one unit.

【図4】 3画素(RGB:12ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 4 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with three pixels (RGB: 12 dots) as one unit.

【図5】 324画素(RGB:972ドット)を一単
位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダ
ムに配列したマスクを説明するために供する平面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view used for explaining a mask in which 324 pixels (RGB: 972 dots) are set as one unit and light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a planar direction.

【図6】 横一列を一単位として、光透過部又は光不透
過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明する
ために供する平面図である。
FIG. 6 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with one horizontal row as one unit.

【図7】 光透過部又は光不透過部の径が異なるマスク
を説明するために供する平面図である。
FIG. 7 is a plan view provided for explaining a mask in which a light transmitting portion or a light non-transmitting portion has different diameters.

【図8】 第1の基板及び第2の基板を含む光反射膜の
断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a light reflecting film including a first substrate and a second substrate.

【図9】 非対称の実質的に涙型の凸部からなる光反射
膜の平面図及び断面図である。
9A and 9B are a plan view and a cross-sectional view of a light reflecting film including an asymmetrical substantially tear-shaped convex portion.

【図10】 視覚される光量と、視認する角度の関係を
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a relationship between a visually sensed light amount and a visually recognized angle.

【図11】 開口部を有する光反射膜の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a light reflecting film having an opening.

【図12】 光反射膜の製造工程図である。FIG. 12 is a manufacturing process diagram of a light reflecting film.

【図13】 光反射膜の製造工程のフローチャートであ
る。
FIG. 13 is a flowchart of a manufacturing process of a light reflecting film.

【図14】 TFT素子に電気接続された光反射膜を説
明するために供する断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view provided for explaining a light reflecting film electrically connected to a TFT element.

【図15】 パッシブマトリクス方式の液晶表示装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a configuration of a passive matrix type liquid crystal display device.

【図16】 別な液晶表示装置の構成を示す断面図であ
る。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing the configuration of another liquid crystal display device.

【図17】 電子機器の一例たるパーソナルコンピュー
タの構成を示す斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view showing a configuration of a personal computer which is an example of an electronic device.

【図18】 電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示
す斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone which is an example of an electronic device.

【図19】 実質的に円錐型の凹部からなる光反射膜付
基板の平面図及び断面図である。
19A and 19B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film which is substantially a conical recess.

【図20】 非対称の実質的に涙型の凹部からなる光反
射膜付基板の平面図及び断面図である。
FIG. 20 is a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which is composed of an asymmetrical substantially tear-shaped concave portion.

【図21】 非対称の実質的にピラミッド状の凹部から
なる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
FIG. 21 is a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which is composed of an asymmetrical substantially pyramidal recess.

【図22】 実質的に水平断面が曲率半径の小さい放物
線で垂直断面がそれより曲率半径の大きい放物線の凹部
からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
22A and 22B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film whose substantially horizontal section is a parabola having a small radius of curvature and whose vertical section is a parabola having a larger radius of curvature.

【図23】 実質的に水平断面が矩形であって、垂直方
向に角錐状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び
断面図である。
23A and 23B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which has a substantially rectangular horizontal cross section and is formed of a pyramidal recess in the vertical direction.

【図24】 TFD方式の液晶表示装置の分解図であ
る。
FIG. 24 is an exploded view of a TFD type liquid crystal display device.

【図25】 TFD方式の液晶表示装置の部分断面図で
ある。
FIG. 25 is a partial cross-sectional view of a TFD liquid crystal display device.

【図26】 TFD方式の液晶表示装置の部分斜視図で
ある。
FIG. 26 is a partial perspective view of a TFD type liquid crystal display device.

【図27】 従来の液晶表示装置の構成を示す断面図で
ある。
FIG. 27 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional liquid crystal display device.

【図28】 従来の液晶表示装置の別の構成を示す断面
図である。
FIG. 28 is a cross-sectional view showing another configuration of the conventional liquid crystal display device.

【図29】 従来の液晶表示装置の製造工程図である。FIG. 29 is a manufacturing process diagram of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、15、20、30、40、50、230、24
0:マスク 70、100:光反射膜 72、116:反射層 76、112:第1の基材 79、113:第2の基材 102:開口部 140:液晶表示装置 141:第1基板(観察側の基板) 142:第2基板 143:透明電極 144:液晶 145:保護板 146:偏光板 147:散乱層 148a:接着剤 148b:微粒子 149:反射層 150:カラーフィルタ 151:遮光層 152:導光板 153:バックライトユニット 154:透明電極 155:拡散板 156:反射板 157:オーバーコート層 158:シール材 159:開口部 160:液晶表示装置 161:パーソナルコンピュータ(電子機器) 170:携帯電話機(電子機器) 230:液晶表示装置 247:TFD
10, 15, 20, 30, 40, 50, 230, 24
0: Mask 70, 100: Light reflection film 72, 116: Reflection layer 76, 112: First base material 79, 113: Second base material 102: Opening 140: Liquid crystal display device 141: First substrate (observation Substrate) 142: second substrate 143: transparent electrode 144: liquid crystal 145: protective plate 146: polarizing plate 147: scattering layer 148a: adhesive 148b: fine particles 149: reflective layer 150: color filter 151: light-shielding layer 152: conductive Light plate 153: Backlight unit 154: Transparent electrode 155: Diffusion plate 156: Reflection plate 157: Overcoat layer 158: Seal material 159: Opening 160: Liquid crystal display device 161: Personal computer (electronic device) 170: Mobile phone (electronic Equipment) 230: Liquid crystal display device 247: TFD

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 露木 正 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA02 DA03 DA04 DA05 DA11 DA15 DA18 DC08 DD10 DE00 2H091 FA15Y FA16Y FA41Z FC26 FD04 LA16 LA19 LA21 2H095 BB02 BB36 BC09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tadashi Tsuzuki             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 2H042 DA02 DA03 DA04 DA05 DA11                       DA15 DA18 DC08 DD10 DE00                 2H091 FA15Y FA16Y FA41Z FC26                       FD04 LA16 LA19 LA21                 2H095 BB02 BB36 BC09

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光反射膜付き基板を製造するためのマス
クであって、光透過部又は光不透過部の位置をランダム
関数によって割付け、当該光透過部又は光不透過部を平
面方向にランダムに配列することを特徴とするマスク。
1. A mask for manufacturing a substrate with a light-reflecting film, wherein positions of light-transmitting parts or light-impermeable parts are assigned by a random function, and the light-transmitting parts or light-impermeable parts are randomly arranged in a plane direction. A mask characterized by being arranged in.
【請求項2】 前記ランダム関数によって、0〜1の任
意の数字を発生させ、その数字をもとに全ドットに対し
て1〜n(nは2〜1000の任意の自然数)の数字を
分配するとともに、予め作成しておいたn種類のランダ
ムパターンを、分配された数字に対して対応させること
により、前記光透過部又は光不透過部を平面方向にラン
ダムに配列すること特徴とする請求項1に記載のマス
ク。
2. An arbitrary number of 0 to 1 is generated by the random function, and a number of 1 to n (n is an arbitrary natural number of 2 to 1000) is distributed to all dots based on the number. At the same time, the n kinds of random patterns created in advance are made to correspond to the distributed numbers, whereby the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction. The mask according to Item 1.
【請求項3】 100〜2,000ドット又は画面全体
を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向に
ランダムに配列することを特徴とする請求項1又は2に
記載のマスク。
3. The mask according to claim 1, wherein 100 to 2,000 dots or the entire screen is set as one unit, and the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction.
【請求項4】 前記光透過部又は光不透過部を横一列方
向又は縦一列方向に帯状のランダムパターンを形成し、
当該帯状のランダムパターンを複数列において繰り返す
こと特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のマ
スク。
4. A band-shaped random pattern is formed in the light transmissive portion or the light non-transmissive portion in a horizontal single row direction or a vertical single row direction,
The mask according to claim 1, wherein the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of columns.
【請求項5】 前記光透過部又は光不透過部の径を3〜
15μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1
〜4のいずれか一項に記載のマスク。
5. The diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is 3 to
A value within a range of 15 μm is set.
The mask according to any one of 4 to 4.
【請求項6】 前記光透過部又は光不透過部の径を異な
らせ、2〜10種の光透過部又は光不透過部を設けるこ
とを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のマ
スク。
6. The light transmissive portion or the light non-transmissive portion is made to have different diameters, and 2 to 10 kinds of the light transmissive portions or the light non-transmissive portions are provided. Mask described in.
【請求項7】 基材と、反射層とを含む光反射膜付き基
板であって、当該基材の表面に形成された複数の凸部又
は凹部の位置をランダム関数によって割付け、当該光透
過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列するこ
とを特徴とする光反射膜付き基板。
7. A substrate with a light-reflecting film including a base material and a reflective layer, wherein the positions of a plurality of protrusions or recesses formed on the surface of the base material are assigned by a random function, and the light-transmitting portion is provided. Alternatively, a substrate with a light-reflecting film, characterized in that light-impermeable parts are randomly arranged in a plane direction.
【請求項8】 前記複数の凸部又は凹部を、100〜
2,000ドット又は画面全体を一単位として、平面方
向にランダムに配列することを特徴とする請求項7に記
載の光反射膜付き基板。
8. The plurality of convex portions or concave portions are 100 to
8. The substrate with a light reflection film according to claim 7, wherein the substrate is randomly arranged in the plane direction with 2,000 dots or the entire screen as one unit.
【請求項9】 前記複数の凸部又は凹部を、横一列方向
又は縦一列方向に配列して帯状のランダムパターンを形
成し、当該帯状のランダムパターンを複数列において繰
り返すこと特徴とする請求項7又は8に記載の光反射膜
付き基板。
9. The strip-shaped random pattern is formed by arranging the plurality of convex portions or recesses in a horizontal single row direction or a vertical single row direction, and the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of rows. Or the substrate with a light reflecting film according to item 8.
【請求項10】 前記複数の凸部又は凹部の径を3〜1
5μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項7〜
9のいずれか一項に記載の光反射膜付き基板。
10. The diameter of the plurality of protrusions or recesses is 3 to 1.
The value within the range of 5 μm is set.
9. The substrate with a light reflecting film according to any one of 9 above.
【請求項11】 前記複数の凸部又は凹部の径を異なら
せ、2〜10種の凸部又は凹部を設けることを特徴とす
る請求項7〜10のいずれか一項に記載の光反射膜付き
基板。
11. The light-reflecting film according to claim 7, wherein the plurality of protrusions or recesses have different diameters, and 2 to 10 types of protrusions or recesses are provided. Substrate with.
【請求項12】 前記基材が、下方から第1の基材及び
第2の基材を順次に含み、当該第1の基材が複数の凸部
又は凹部から構成してあり、第2の基材が連続した複数
の凸部又は凹部から構成してあることを特徴とする請求
項7〜11のいずれか一項に記載の光反射膜付き基板。
12. The base material sequentially includes a first base material and a second base material from below, and the first base material is composed of a plurality of convex portions or concave portions, and a second base material. The substrate with a light reflection film according to any one of claims 7 to 11, wherein the substrate is composed of a plurality of continuous convex portions or concave portions.
【請求項13】 基材及び反射層を含む光反射膜の製造
方法であって、光透過部又は光不透過部の位置をランダ
ム関数によって割付け、当該光透過部又は光不透過部を
平面方向にランダムに配列したマスクを使用して、塗布
された感光性樹脂に対して、露光プロセスによって、平
面方向にランダムに配列され、かつ、複数の凸部又は凹
部を有する第1の基材を形成する工程と、当該第1の基
材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プロセスによっ
て、連続した複数の凸部又は凹部を有する第2の基材を
形成する工程と、当該第2の基材の表面に反射層を形成
する工程と、を含むことを特徴とする光反射膜の製造方
法。
13. A method of manufacturing a light-reflecting film including a substrate and a reflecting layer, wherein the positions of the light-transmitting portion or the light-impermeable portion are assigned by a random function, and the light-transmitting portion or the light-impermeable portion is arranged in a plane direction. Forming a first base material having a plurality of convex portions or concave portions which are randomly arranged in a plane direction on the applied photosensitive resin by an exposure process using a mask which is randomly arranged And a step of applying a photosensitive resin to the surface of the first base material to form a second base material having a plurality of continuous convex portions or concave portions by an exposure process, and And a step of forming a reflective layer on the surface of the base material.
【請求項14】 基板間に挟持された光学素子と、当該
光学素子の観察側とは反対側の基板に設けられた光反射
膜と、を具備した光学表示装置であって、当該光反射膜
が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複
数の凸部又は凹部の位置がランダム関数によって割付け
られ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに
配列してあることを特徴とする光学表示装置。
14. An optical display device comprising an optical element sandwiched between substrates, and a light reflection film provided on a substrate opposite to an observation side of the optical element, the light reflection film. Is composed of a base material and a reflective layer, the positions of the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in the plane direction. An optical display device characterized by.
【請求項15】 光学表示装置の観察側の基板に光散乱
膜が設けてあることを特徴とする請求項14に記載の光
学表示装置。
15. The optical display device according to claim 14, wherein a light-scattering film is provided on a substrate on the observation side of the optical display device.
【請求項16】 光学表示装置の観察側に保護板が設け
てあることを特徴とする請求項14又は15に記載の光
学表示装置。
16. The optical display device according to claim 14, wherein a protective plate is provided on the observation side of the optical display device.
【請求項17】 光反射膜を具備した光学表示装置を含
む電子機器であって、前記光反射膜が、基材及び反射層
を含み、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部の位
置がランダム関数によって割付けられ、当該複数の凸部
又は凹部が平面方向にランダムに配列してあることを特
徴とする電子機器。
17. An electronic apparatus including an optical display device having a light reflecting film, wherein the light reflecting film includes a base material and a reflective layer, and comprises a plurality of protrusions or recesses formed on the base material. An electronic device, wherein positions are assigned by a random function, and the plurality of convex portions or concave portions are randomly arranged in a plane direction.
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