JP2003302633A - Mask, substrate with light reflecting film, method for manufacturing light reflecting film, liquid crystal display device and electronic appliance - Google Patents

Mask, substrate with light reflecting film, method for manufacturing light reflecting film, liquid crystal display device and electronic appliance

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JP2003302633A
JP2003302633A JP2003053328A JP2003053328A JP2003302633A JP 2003302633 A JP2003302633 A JP 2003302633A JP 2003053328 A JP2003053328 A JP 2003053328A JP 2003053328 A JP2003053328 A JP 2003053328A JP 2003302633 A JP2003302633 A JP 2003302633A
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JP
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light
base material
substrate
display device
liquid crystal
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JP2003053328A
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Japanese (ja)
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Toshihiro Otake
俊裕 大竹
Mutsumi Matsuo
睦 松尾
Tadashi Tsuyuki
正 露木
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask for manufacturing a light reflecting film with little generation of interference fringes and to provide a light reflecting film by using the mask, a method for manufacturing the light reflecting film, an optical display device having a light reflecting film with little generation of interference fringes, and an electronic appliance having a light reflecting film with little generation of interference fringes. <P>SOLUTION: The mask for the manufacture of a substrate with a light reflecting film has a light transmitting part or a non-transmitting part arranged at random in the plane direction covering 100 to 2,000 RGB dots or the entire screen as a single unit. The mask is used to produce a substrate with a light reflecting film having a plurality of projections or recesses arranged at random in the plane direction covering 100 to 2,000 RGB dots or the entire screen as a single unit. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、光反射膜
付き基板、光反射膜の製造方法、および光学表示装置、
並びに電子機器に関する。より詳細には、干渉縞の発生
が少ない光反射膜を製造するためのマスク、それを用い
てなる光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、および
干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた光学表示装置、
並びに干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた電子機器
にする。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask, a substrate with a light reflecting film, a method for manufacturing the light reflecting film, and an optical display device.
And electronic devices. More specifically, a mask for producing a light-reflecting film with less generation of interference fringes, a substrate with a light-reflecting film using the same, a method for producing a light-reflecting film, and a light-reflecting film with less occurrence of interference fringes are provided. Equipped optical display device,
In addition, the electronic device is provided with a light reflection film with less generation of interference fringes.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、薄型化や省電力化等が図
られることから、各種の電子機器における表示装置とし
て、液晶表示装置が広く用いられている。このような液
晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入し
た状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が
一般的である。そして、このような液晶表示装置を搭載
した電子機器は、液晶表示装置を外部からの衝撃などか
ら保護すべく、当該液晶表示装置の観察側(すなわち、
表示を視認する観察者の側)に、保護板を配設した構成
が採られている。かかる保護板は、通常、光透過性を有
する材料(例えば、透明プラスチックなど)からなる板
状部材である。
2. Description of the Related Art As is well known, a liquid crystal display device is widely used as a display device in various electronic devices because of its thinness and power saving. Such a liquid crystal display device generally has a configuration in which liquid crystal is sealed between a pair of glass substrates or the like and the periphery thereof is adhered by a sealing material. Then, in order to protect the liquid crystal display device from an external impact, an electronic device equipped with such a liquid crystal display device has an observation side (that is,
On the side of the observer who visually recognizes the display), a protective plate is provided. Such a protective plate is usually a plate-shaped member made of a light-transmissive material (for example, transparent plastic).

【0003】しかしながら、このような保護板における
液晶表示装置との対向面を完全な平滑面とすることは困
難であり、微細な凹凸が存在している場合が多い。そし
て、このような保護板を液晶表示装置に配設した場合、
表面の微細な凹凸に起因して表示品位が著しく低下して
しまうという問題があった。このように表示品位が低下
する原因の一つとして、液晶表示装置における観察側の
基板と保護板との間隔が、保護板の表面に存在する凹凸
に応じてばらつくことが挙げられる。すなわち、このよ
うな間隔のばらつきに対応して、液晶表示装置からの出
射光が保護板を透過する際に干渉を生じ、その結果、干
渉縞が発生する。そして、発生した干渉縞が表示画像と
重なりあうことによって、表示品位の低下が引き起こさ
れると推定される。
However, it is difficult to make the surface of such a protective plate facing the liquid crystal display device a perfectly smooth surface, and in many cases fine irregularities are present. And when such a protective plate is arranged in a liquid crystal display device,
There is a problem that the display quality is remarkably deteriorated due to the fine irregularities on the surface. One of the causes of such deterioration in display quality is that the distance between the viewing-side substrate and the protective plate in the liquid crystal display device varies depending on the unevenness present on the surface of the protective plate. That is, in response to such variations in the spacing, interference occurs when the light emitted from the liquid crystal display device passes through the protective plate, and as a result, interference fringes occur. Then, it is estimated that the generated interference fringes overlap with the display image, which causes deterioration of display quality.

【0004】また、特開平6−27481号公報には、
図25に示すように反射型液晶表示装置180を開示し
ており、特開平11−281972号公報には、図26
に示すように反射透過両用型500を開示しており、そ
れぞれ干渉縞の発生を低下すべく、高さが異なる複数の
凹凸構造404a、404b(504a、504b)を
設け、その上に高分子樹脂膜405(505)を形成
し、さらにその上に、連続する波状の反射電極409
(509)が形成されている。また、かかる反射電極を
有する液晶表示装置の製造工程が開示されており、例え
ば、図27に開示されている。まず、図27(a)に示
すように、ガラス基板600上にレジスト膜602を全
面的に形成し、次いで、図27(b)に示すように、直
径が異なる複数の円からなるパターン604を介して、
露光する。その後、図27(c)に示すように現像し、
高さが異なる複数の角のある凸部又は凹部606a、6
06bを設け、さらに、図27(d)に示すように、加
熱して、凸部又は凹部の角部を軟化させて、角落ちした
凸部又は凹部608a、608bを形成する。そして、
図27(e)に示すように、かかる凹凸構造の間610
に所定量の高分子樹脂620を充填して波状表面を有す
る連続層とした後、さらに、高分子樹脂膜620の上
に、スパッタリング法等の積層手段によって、連続する
波状の反射電極624を形成するものである。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-27481 discloses that
As shown in FIG. 25, a reflection type liquid crystal display device 180 is disclosed, and in JP-A-11-281972, FIG.
As shown in FIG. 2, a reflection / transmission dual-use mold 500 is disclosed, and a plurality of uneven structures 404a and 404b (504a and 504b) having different heights are provided in order to reduce the generation of interference fringes, and a polymer resin is provided thereon. A film 405 (505) is formed, and a continuous wavy reflection electrode 409 is further formed thereon.
(509) is formed. Further, a manufacturing process of a liquid crystal display device having such a reflective electrode is disclosed, for example, it is disclosed in FIG. First, as shown in FIG. 27A, a resist film 602 is entirely formed on a glass substrate 600, and then, as shown in FIG. 27B, a pattern 604 composed of a plurality of circles having different diameters is formed. Through,
Expose. After that, development is performed as shown in FIG.
Plural angled convex portions or concave portions 606a, 606a, 6 having different heights
27b, and further, as shown in FIG. 27D, heating is performed to soften the corners of the protrusions or recesses to form the protrusions or recesses 608a, 608b having the corners dropped. And
As shown in FIG. 27E, the space 610
After filling a predetermined amount of the polymer resin 620 into a continuous layer having a wavy surface, a continuous wavy reflection electrode 624 is further formed on the polymer resin film 620 by a laminating means such as a sputtering method. To do.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
6−27481号公報等に開示された反射型液晶表示装
置や反射透過両用型の液晶表示装置は、直径が異なる複
数の円等が規則的又は一部不規則に配列されたマスクを
用い、紫外線露光および現像を利用して、高さが異なる
複数の凹凸構造を設けることを意図しているものの、塗
布厚のばらつき等もあり、光干渉を有効に防止できるよ
うに高さを厳密に調整することは困難であった。また、
高さが異なる複数の凹凸構造上に、反射電極が形成され
ていることから、断線したり、ショートしやすいなどの
問題も見られた。さらに、開示された光反射膜の製造方
法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造上の問
題も見られた。したがって、特開平6−27481号公
報等に開示された光反射膜は、干渉縞の発生を有効に防
止することが困難であるばかりか、かかる光反射膜を、
安定して、しかも効率的に製造することは困難であっ
た。
However, in the reflective liquid crystal display device and the reflective / transmissive liquid crystal display device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-27481, a plurality of circles having different diameters are regularly or Although it is intended to provide a plurality of uneven structures with different heights by using ultraviolet exposure and development using a mask that is irregularly arranged, there is variation in coating thickness, etc. It was difficult to precisely adjust the height so that it can be effectively prevented. Also,
Since the reflective electrode is formed on a plurality of concave-convex structures having different heights, problems such as disconnection and easy short-circuiting have been observed. Further, the disclosed method for producing a light-reflecting film has many manufacturing steps and many management items, which is a problem in production. Therefore, in the light reflecting film disclosed in JP-A-6-27481, it is difficult to effectively prevent the generation of interference fringes, and the light reflecting film is
It was difficult to manufacture stably and efficiently.

【0006】そこで、光透過部又は光不透過部をランダ
ムに配列したマスクを作成し、それを用いて上述した反
射型液晶表示装置や反射透過両用型の液晶表示装置を製
造することも考えられるが、干渉縞の発生は少なくなる
ものの、今度は、画面上に不定形のシミ模様が発現し、
表示品位が著しく低下するという新たな問題が見られ
た。そのため、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意
検討した結果、光反射膜における基材上に、複数の凸部
又は凹部をランダムに設けるとともに、複数の凸部又は
凹部を特定配列することによって、液晶表示装置等に用
いた場合に、不定形のシミ模様の発現を抑制しながら、
干渉縞の発生が少ない光反射膜が得られることを見出し
たものである。すなわち、本発明は、不定形のシミ模様
の発現を抑制しながら、干渉縞の発生が少ない光反射膜
付き基板が得られるマスク、そのようなマスクから得ら
れる光反射膜付き基板、そのような光反射膜の製造方
法、およびそのような光反射膜を設けた液晶表示装置、
並びにそのような光反射膜を有する電子機器を提供する
ことを目的としている。
Therefore, it is considered that a mask in which light transmitting portions or light non-transmitting portions are randomly arranged is prepared and the mask is used to manufacture the reflective liquid crystal display device or the reflective / transmissive liquid crystal display device. However, although the occurrence of interference fringes is reduced, this time, an irregular spot pattern appears on the screen,
There was a new problem that the display quality was significantly reduced. Therefore, the inventors of the present invention have diligently studied the above problems, and as a result, randomly provide a plurality of convex portions or concave portions on the base material in the light reflecting film, and specifically arrange the plurality of convex portions or concave portions. As a result, when used in a liquid crystal display device, etc., while suppressing the development of an irregular spot pattern,
It was discovered that a light reflecting film with less generation of interference fringes can be obtained. That is, the present invention is a mask that can obtain a substrate with a light-reflecting film with less occurrence of interference fringes while suppressing the development of an irregular spot pattern, a substrate with a light-reflecting film obtained from such a mask, and such a Light reflection film manufacturing method, and liquid crystal display device provided with such a light reflection film,
Another object is to provide an electronic device having such a light reflecting film.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、光反射
膜付き基板を製造するためのマスクであって、RGBド
ット100〜2,000又は画面全体を一単位として、
光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列し
てあるマスクが提供され、上述した問題を解決すること
ができる。すなわち、光透過部又は光不透過部が平面方
向にランダムに配列してあることから、光反射膜付き基
板を製造した場合に、優れた光散乱効果を発揮し、干渉
縞の発生を有効に防止することができる。一方、このよ
うにランダム配列した場合に発生する不定形のシミ模様
を、光反射膜付き基板が用いられる液晶表示装置等のR
GBドットの所定ドット以上を基本単位とすることによ
り、著しく低下させることができる。なお、光透過部又
は光不透過部の平面形状を制御する理由は、光反射膜の
基材を構成する感光性樹脂に、光透過部を透過した光が
照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化す
るポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が
感光し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるため
である。
According to the present invention, there is provided a mask for producing a substrate with a light reflecting film, wherein the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen is a unit.
A mask in which light transmitting portions or light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction is provided, and the above-mentioned problems can be solved. That is, since the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction, when a substrate with a light reflecting film is manufactured, an excellent light scattering effect is exhibited, and the generation of interference fringes is effectively performed. Can be prevented. On the other hand, the irregular spot pattern generated in such a random arrangement is used for the R
By using a predetermined unit of GB dots or more as a basic unit, it is possible to significantly reduce the size. The reason for controlling the planar shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is that the photosensitive resin forming the base material of the light reflecting film is photolyzed at the portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion. This is because there are a positive type which is solubilized in the developer and a negative type which is insolubilized in the developer because a portion irradiated with light transmitted through the light transmitting portion is exposed.

【0008】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、予め作成したRGBドット3〜12を一単位とした
光透過部又は光不透過部のランダムパターンを分割し
て、あるいはそのままランダムに配列して、RGBドッ
ト100〜2,000又は画面全体を一単位とした光透
過部又は光不透過部が構成してあることが好ましい。こ
のように構成することにより、光透過部又は光不透過部
のパターンに関する情報量が比較的少なくとも、大面積
のマスクを容易かつ短時間に設計することができる。
Further, in constructing the mask of the present invention, a random pattern of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in which the RGB dots 3 to 12 are formed as one unit is divided, or arranged randomly as it is. It is preferable that a light transmitting portion or a light non-transmitting portion in which the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen is a unit is configured. With this configuration, a mask having a relatively large amount of information regarding the pattern of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion can be designed easily and in a short time.

【0009】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部を横一列方向又は縦一列方
向に帯状のランダムパターンを形成し、当該帯状のラン
ダムパターンを複数列において繰り返すことが好まし
い。このように構成することにより、少ない情報量によ
って、全体として好ましい反射特性を有するランダムパ
ターンを、容易かつ短時間に設計することが可能であ
る。また、横方向又は縦方向に、所定単位のランダムパ
ターンを繰り返すため、全体として好ましい反射特性を
有するランダムパターンを、再現性良く得ることができ
る。
Further, in constructing the mask of the present invention, a band-shaped random pattern is formed in the light transmission part or the light non-transmission part in the horizontal one-row direction or the vertical one-row direction, and the band-shaped random pattern is repeated in a plurality of rows. Is preferred. With this configuration, it is possible to easily and quickly design a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole with a small amount of information. Further, since the random pattern of a predetermined unit is repeated in the horizontal direction or the vertical direction, it is possible to obtain a random pattern having preferable reflective properties as a whole with good reproducibility.

【0010】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を3〜15μmの範囲
内の値とすることが好ましい。このように構成すること
により、干渉縞の発生が少ない光反射膜付き基板を効率
的に製造することができる。すなわち、光反射膜付き基
板を製造した際に、このような径を有する凸部又は凹部
であれば、その平面形状や配置パターンを、露光プロセ
スを用いて、正確に制御することができるためである。
したがって、得られた光反射膜付き基板において光を安
定に散乱させることができるため、干渉縞の発生を有効
に防止することができる。
Further, in constructing the mask of the present invention, it is preferable that the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is set to a value within the range of 3 to 15 μm. With such a configuration, it is possible to efficiently manufacture a substrate with a light reflection film in which the occurrence of interference fringes is small. That is, when a substrate with a light-reflecting film is manufactured, if the protrusions or recesses have such a diameter, the planar shape and arrangement pattern thereof can be accurately controlled by using an exposure process. is there.
Therefore, since light can be stably scattered in the obtained substrate with a light reflection film, it is possible to effectively prevent generation of interference fringes.

【0011】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を異ならせ、複数種類
の光透過部又は光不透過部を設けることが好ましい。こ
のように構成することにより、干渉縞の発生が少ない光
反射膜付き基板をさらに効率的に製造することができ
る。すなわち、光反射膜付き基板を製造した際に、径が
異なる複数の凸部又は凹部が存在することにより、複数
の凸部又は凹部の配列がより分散することになる。した
がって、得られた光反射膜付き基板において光を適当に
散乱させることができるため、干渉縞の発生をさらに有
効に防止することができる。なお、このように光透過部
又は光不透過部の径を異ならせる場合、少なくとも一つ
の径を5μm以上の値とすることが好ましい。逆に、い
ずれも5μm未満の円又は多角形となると、光反射膜付
き基板を製造した際に、光を過度に散乱させる場合が多
くなり、光反射膜付き基板による反射光量が著しく低下
する場合があるためである。
Further, in constructing the mask of the present invention, it is preferable that the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is made different and a plurality of kinds of light transmitting portions or light non-transmitting portions are provided. With this configuration, it is possible to more efficiently manufacture the substrate with the light reflection film, in which the occurrence of interference fringes is small. That is, when a substrate with a light-reflecting film is manufactured, a plurality of convex portions or concave portions having different diameters are present, so that the arrangement of the plurality of convex portions or concave portions becomes more dispersed. Therefore, since light can be appropriately scattered in the obtained substrate with a light reflection film, the generation of interference fringes can be prevented more effectively. When the diameters of the light transmitting portion and the light non-transmitting portion are made different, it is preferable that at least one diameter is set to a value of 5 μm or more. On the other hand, when each of the circles or polygons is less than 5 μm, when the substrate with a light reflecting film is manufactured, light is often scattered excessively, and the amount of light reflected by the substrate with a light reflecting film is significantly reduced. Because there is.

【0012】また、本発明の別の態様は、基材および反
射層を含む光反射膜付き基板であって、当該基材に形成
された複数の凸部又は凹部を、RGBドット100〜
2,000又は画面全体を一単位として、平面方向にラ
ンダムに配列することを特徴とする光反射膜付き基板で
ある。このように複数の凸部又は凹部の平面方向の配置
をランダムにすることによって、干渉縞の発生を有効に
防止することができる。また、複数の凸部又は凹部から
なるランダムパターンが、RGBドット100〜2,0
00又は画面全体を一単位としていることから、不定形
のシミ模様の発生を低下させることができる。
Another aspect of the present invention is a substrate with a light-reflecting film including a base material and a reflective layer, wherein a plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are provided with RGB dots 100 to 100.
It is a substrate with a light-reflecting film, which is randomly arranged in the plane direction with 2,000 or the entire screen as one unit. As described above, by randomly arranging the plurality of convex portions or concave portions in the planar direction, it is possible to effectively prevent the generation of interference fringes. In addition, a random pattern composed of a plurality of convex portions or concave portions has RGB dots 100 to 2,0.
00 or the entire screen as one unit, it is possible to reduce the occurrence of an irregular spot pattern.

【0013】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部を横一列方向又は縦一列方
向に帯状のランダムパターンを形成し、当該帯状のラン
ダムパターンを複数列において繰り返すことが好まし
い。このように構成することにより、少ない情報量によ
って、全体として好ましい反射特性を有するランダムパ
ターンを、容易かつ短時間に設計することが可能であ
る。また、横方向又は縦方向に、所定単位のランダムパ
ターンを繰り返すため、全体として好ましい反射特性を
有するランダムパターンを、再現性良く得ることができ
る。
Further, in constructing the mask of the present invention, a light-transmitting portion or a light-impermeable portion is formed into a strip-shaped random pattern in the horizontal single row direction or the vertical single row direction, and the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of rows. Is preferred. With this configuration, it is possible to easily and quickly design a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole with a small amount of information. Further, since the random pattern of a predetermined unit is repeated in the horizontal direction or the vertical direction, it is possible to obtain a random pattern having preferable reflective properties as a whole with good reproducibility.

【0014】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を3〜15μmの
範囲内の値とすることが好ましい。このように構成する
ことにより、凸部又は凹部の平面形状や配置パターン
を、露光プロセスを用いて、正確に制御することができ
るとともに、光を適度に散乱させることができるため、
干渉縞の発生を有効に防止することができる。
Further, in forming the substrate with a light reflecting film of the present invention, it is preferable that the diameter of the plurality of convex portions or concave portions is set to a value within the range of 3 to 15 μm. With such a configuration, the planar shape and the arrangement pattern of the convex portions or the concave portions can be accurately controlled by using the exposure process, and the light can be appropriately scattered,
It is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0015】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部の高さ又は凹部の深さを0.1
〜10μmの範囲内の値とすることが好ましい。このよ
うに構成することにより、凸部又は凹部の平面形状や配
置パターンを、露光プロセスを用いて、正確に制御する
ことができる。また、液晶表示装置等に用いられた場合
に、光を適当に散乱させることができるため、干渉縞の
発生を有効に防止することができる。
In forming the substrate with a light reflecting film of the present invention, the height of the plurality of convex portions or the depth of the concave portions is set to 0.1.
It is preferable to set the value within the range of 10 μm. With this configuration, it is possible to accurately control the planar shape and the arrangement pattern of the convex portions or the concave portions by using the exposure process. In addition, when used in a liquid crystal display device or the like, light can be appropriately scattered, so that the occurrence of interference fringes can be effectively prevented.

【0016】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を異ならせ、複数
種類の凸部又は凹部を設けることが好ましい。このよう
に構成することにより、液晶表示装置等に用いられた場
合に、複数の凸部又は凹部の配置がより分散して、光を
適当に散乱させることができるため、干渉縞の発生をさ
らに有効に防止することができる。
Further, in constructing the substrate with a light reflecting film of the present invention, it is preferable that a plurality of convex portions or concave portions have different diameters and a plurality of types of convex portions or concave portions are provided. With such a configuration, when used in a liquid crystal display device or the like, the arrangement of the plurality of convex portions or concave portions is more dispersed, and light can be appropriately scattered, so that the occurrence of interference fringes is further reduced. It can be effectively prevented.

【0017】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、基材が、下方から第1の基材および第2の
基材を順次に含み、当該第1の基材に複数の凸部又は凹
部が設けてあり、連続層である第2の基材上に、反射層
が設けてあることが好ましい。このように構成すること
により、連続層である第2の基材を介して、反射層を比
較的なだらかな曲面とすることができるため、液晶表示
装置等に用いられた場合に、干渉縞の発生をさらに有効
に防止することができる。
In forming the substrate with a light-reflecting film of the present invention, the base material sequentially includes a first base material and a second base material from below, and the first base material has a plurality of protrusions. It is preferable that the reflective layer is provided on the second base material that is a continuous layer, which is provided with a part or a recess. With this configuration, the reflective layer can have a comparatively gentle curved surface through the second base material that is a continuous layer, and therefore, when used in a liquid crystal display device or the like, interference fringes The occurrence can be prevented more effectively.

【0018】また、本発明の別の態様は、基材および反
射層を含む光反射膜付き基板の製造方法であって、RG
Bドット100〜2,000又は画面全体を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを使用して、塗布された感光性樹脂に対し
て、露光プロセスによって、ランダムに配列された複数
の凸部又は凹部を有する第1の基材を形成する工程と、
当該第1の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プ
ロセスによって、連続した複数の凸部又は凹部を有する
第2の基材を形成する工程と、当該第2の基材の表面に
反射層を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反
射膜付き基板の製造方法である。このように実施する
と、複数の凸部又は凹部からなる第1の基材、およびそ
の上の連続層である第2の基材を介して、反射層を比較
的なだらかな曲面とすることができる。そのため、製造
が容易であって、しかも液晶表示装置等に用いられた場
合に、干渉縞の発生が少ない光反射膜付き基板を効率的
に提供することができる。
Another aspect of the present invention is a method for producing a substrate with a light reflecting film, which comprises a base material and a reflecting layer, wherein RG
By using a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in the plane direction with B dots 100 to 2,000 or the entire screen as one unit, the applied photosensitive resin is exposed by an exposure process. Forming a first base material having a plurality of convex portions or concave portions arranged at random,
A step of applying a photosensitive resin to the surface of the first base material to form a second base material having a plurality of continuous protrusions or recesses by an exposure process, and the surface of the second base material And a step of forming a reflecting layer on the substrate. By carrying out in this way, the reflective layer can be made into a comparatively gentle curved surface through the first base material composed of a plurality of convex portions or concave portions and the second base material which is a continuous layer thereon. . Therefore, it is possible to efficiently provide a substrate with a light-reflecting film that is easy to manufacture and has less generation of interference fringes when used in a liquid crystal display device or the like.

【0019】また、本発明のさらに別の態様は、基板間
に挟持された光学素子と、当該光学素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した光学表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部がR
GBドット100〜2,000又は画面全体を一単位と
して、平面方向にランダムに配列してあることを特徴と
する光学表示装置である。このように構成することによ
り、光反射膜が適度に光散乱させ、光学表示装置におい
て、干渉縞の発生を有効に防止することができる。ま
た、複数の凸部又は凹部からなるランダムパターンが、
RGBドット100〜2,000又は画面全体を一単位
としていることから、不定形のシミ模様の発生を低下さ
せることができる。
Still another aspect of the present invention is an optical display comprising an optical element sandwiched between substrates, and a light reflection film provided on the substrate opposite to the observation side of the optical element. In the device, the light reflecting film is composed of a base material and a reflective layer, and the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are R.
The optical display device is characterized in that the GB dots 100 to 2,000 or the entire screen are arranged as one unit at random in the plane direction. With such a configuration, the light reflection film appropriately scatters light, and it is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes in the optical display device. In addition, a random pattern composed of a plurality of convex portions or concave portions,
Since the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen is set as one unit, it is possible to reduce the occurrence of an irregular spot pattern.

【0020】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学素子の観察側の基板に光散乱膜が設けてあ
ることが好ましい。このように光反射膜を光散乱膜と組
み合わせて使用することにより、不定形のシミ模様の発
現を効果的に抑制することができる。
In constructing the optical display device of the present invention, it is preferable that a light-scattering film is provided on the substrate on the observation side of the optical element. By using the light reflecting film in combination with the light scattering film as described above, it is possible to effectively suppress the appearance of an irregular spot pattern.

【0021】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学表示装置の観察側に保護板が設けてあるこ
とが好ましい。このように構成することにより、光学表
示装置の機械的強度を高めることができるとともに、光
学表示装置の見映えを良くすることができる。
In constructing the optical display device of the present invention, it is preferable that a protective plate is provided on the observation side of the optical display device. With this configuration, the mechanical strength of the optical display device can be increased and the appearance of the optical display device can be improved.

【0022】また、本発明のさらに別の態様は、光反射
膜を具備した光学表示装置を含む電子機器であって、光
反射膜が、基材および反射層を含み、当該基材に形成さ
れた複数の凸部又は凹部がRGBドット100〜2,0
00又は画面全体を一単位として、平面方向にランダム
に配列してあることを特徴とする電子機器である。この
ように構成することにより、光反射膜が適度に光散乱さ
せ、電子機器において、不定形のシミ模様の発生を抑制
しつつ、干渉縞の発生を有効に防止することができる。
また、このような光反射膜を備えた電子機器であれば、
比較的表面が平坦であって、光散乱膜や保護板をさらに
組み合わせた場合であっても、見映えを良くすることが
できる。
Still another aspect of the present invention is an electronic apparatus including an optical display device having a light reflecting film, wherein the light reflecting film includes a base material and a reflective layer, and is formed on the base material. The plurality of convex portions or concave portions are RGB dots 100 to 2,0
00 or the entire screen as one unit, which is randomly arranged in the plane direction. With such a configuration, the light reflecting film appropriately scatters light, and in an electronic device, it is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes while suppressing the occurrence of an irregular spot pattern.
In addition, if it is an electronic device including such a light reflecting film,
Even if the surface is relatively flat and a light scattering film and a protective plate are further combined, the appearance can be improved.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、
以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すもので
あり、何ら本発明を限定するものではなく、本発明の技
術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Needless to say,
The embodiments described below show one aspect of the present invention, and do not limit the present invention at all, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention.

【0024】[第1実施形態]第1実施形態は、例えば、
図1に示すような光反射膜付き基板を製造するためのマ
スク10であって、光透過部又は光不透過部をRGBド
ット100〜2,000又は画面全体を一単位として、
平面方向にランダムに配列してあることを特徴とするマ
スクである。なお、光透過部又は光不透過部がランダム
に配列されているとは、端的には光透過部又は光不透過
部が無秩序に配列されていることを意味するが、より正
確には、マスクを単位面積ごとに切り分け、それらのマ
スクを重ねた場合に、それぞれのパターンが完全に異な
っているか、あるいは部分的に重なる箇所はあっても、
完全には一致しない状態を意味する。
First Embodiment In the first embodiment, for example,
A mask 10 for manufacturing a substrate with a light-reflecting film as shown in FIG. 1, wherein the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen as one unit.
The mask is characterized by being randomly arranged in the plane direction. The random arrangement of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions means that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged, but more accurately, the mask. When the masks are divided into unit areas and these masks are overlapped, each pattern is completely different, or there is a part that partially overlaps,
It means a state where they do not completely match.

【0025】1.光透過部又は光不透過部 (1)形状 マスクの光透過部又は光不透過部を、独立した又は一部
重なった円(楕円を含む。以下、同様である。)および
多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることが
好ましい。この理由は、光透過部又は光不透過部の平面
形状をこのように円又は多角形とすることにより、光反
射膜を製造するために露光プロセスを実施する際、樹脂
の凹凸配置を複雑にすることができるためである。ま
た、円や多角形は、基本図形であることから、マスク自
体の製造も容易になるためである。なお、好ましい多角
形としては、四角形、五角形、六角形、八角形等が挙げ
られる。
1. Light-transmitting part or light-impermeable part (1) The light-transmitting part or light-impermeable part of the shape mask is an independent or partially overlapping circle (including an ellipse. The same applies hereinafter) and / or a polygon. It is preferable that one of them has a planar shape. The reason for this is that by making the plane shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion into a circle or a polygon in this way, when the exposure process is carried out to manufacture the light reflecting film, the uneven arrangement of the resin becomes complicated. This is because it can be done. Further, since the circle and the polygon are basic figures, the mask itself can be easily manufactured. In addition, preferable polygons include quadrangle, pentagon, hexagon, octagon and the like.

【0026】(2)径および間隔 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を3
〜15μmの範囲内の値とすることが好ましい。この理
由は、光透過部又は光不透過部の径が3μm未満となる
と、光反射膜を製造する際に露光プロセスを用いたとし
ても、凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、正確
に制御することが困難となる場合があるためである。ま
た、光透過部又は光不透過部の径が3μm未満となる
と、マスク自体の製造も困難となる場合があるためであ
る。一方、光透過部又は光不透過部の径が15μmを超
えると、得られた光反射膜光において、光を適度に散乱
させることが困難となって、散乱特性が落ちて暗い反射
となる。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部
の径を5〜13μmの範囲内の値とすることがより好ま
しく、6〜12μmの範囲内の値とすることがさらに好
ましい。
(2) Diameter and Distance The diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask is set to 3
It is preferable to set the value within the range of ˜15 μm. The reason for this is that if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is less than 3 μm, even if an exposure process is used in manufacturing the light reflecting film, the planar shape and arrangement pattern of the convex portions or concave portions can be accurately determined. This is because it may be difficult to control. Further, if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is less than 3 μm, it may be difficult to manufacture the mask itself. On the other hand, when the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion exceeds 15 μm, it becomes difficult to appropriately scatter light in the obtained light reflecting film light, and the scattering characteristic deteriorates to cause dark reflection. Therefore, the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask is more preferably set to a value within the range of 5 to 13 μm, and further preferably set to a value within the range of 6 to 12 μm.

【0027】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部の少なくとも一つの径を5μm以上の値とすること
が好ましい。すなわち、径が異なる光透過部又は光不透
過部があった場合に、少なくとも一つの光透過部又は光
不透過部における径を5μm以上の値とするものであっ
て、径が異なる他の光透過部又は光不透過部にあって
は、その径が5μm未満の値であっても良い。この理由
は、かかる光透過部又は光不透過部の平面形状がいずれ
も5μm未満の円又は多角形となると、得られた光反射
膜において、光を過度に散乱させる場合が多くなり、暗
い反射となる。ただし、光透過部又は光不透過部の径
が、過度に大きくなると、光の散乱効果が低下し、干渉
縞が発生する場合がある。
Further, it is preferable that the diameter of at least one of the light transmitting portion and the light non-transmitting portion in the mask is set to a value of 5 μm or more. That is, when there is a light transmitting portion or a light non-transmitting portion having a different diameter, the diameter of at least one light transmitting portion or the light non-transmitting portion is set to a value of 5 μm or more, and other light having a different diameter is used. The diameter of the transmissive portion or the light non-transmissive portion may be less than 5 μm. The reason for this is that if the planar shape of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is a circle or a polygon of less than 5 μm, the resulting light reflecting film often scatters light excessively, resulting in dark reflection. Becomes However, if the diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion becomes excessively large, the light scattering effect may decrease, and interference fringes may occur.

【0028】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部を独立に配置した場合、その間隔(ピッチ)を3.
5〜30μmの範囲内の値とすることが好ましい。この
理由は、かかる光透過部又は光不透過部の間隔が3.5
μm未満の値になると、光透過部又は光不透過部の独立
性が低下する場合があるためである。一方、かかる光透
過部又は光不透過部の間隔が30μmを越えると、光透
過部又は光不透過部のランダム配置性が低下する場合が
あるためである。したがって、マスクにおける光透過部
又は光不透過部の間隔(ピッチ)を5〜20μmの範囲
内の値とすることがより好ましく、マスクにおける光透
過部又は光不透過部の間隔(ピッチ)を7〜15μmの
範囲内の値とすることがさらに好ましい。なお、かかる
光透過部又は光不透過部の間隔は、隣接する光透過部又
は光不透過部の中心から中心までの距離であって、10
箇所以上の平均値である。また、マスクにおける光透過
部又は光不透過部を重なり合うようにさせた場合は、上
記数値より数μm低目に設定される。
Further, when the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in the mask is arranged independently, the interval (pitch) is set to 3.
A value within the range of 5 to 30 μm is preferable. The reason for this is that the distance between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions is 3.5.
This is because if the value is less than μm, the independence of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion may decrease. On the other hand, if the distance between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions exceeds 30 μm, the random disposition property of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions may deteriorate. Therefore, it is more preferable to set the distance (pitch) between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask to a value within the range of 5 to 20 μm, and the distance (pitch) between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask is 7 It is more preferable to set the value within the range of ˜15 μm. The distance between the light transmitting portions or the light non-transmitting portions is the distance from the center to the center of the adjacent light transmitting portions or the light non-transmitting portions, and is 10
It is the average value of more than one place. When the light transmitting portions or the light non-transmitting portions of the mask are made to overlap with each other, the value is set to be a few μm lower than the above numerical value.

【0029】(3)種類 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を異
ならせ、2〜10種類の光透過部又は光不透過部を設け
ることが好ましい。この理由は、このように径の異なる
光透過部又は光不透過部が存在することにより、干渉縞
の発生が少ない光反射膜をさらに効率的に製造すること
ができるためである。すなわち、このようなマスクを用
いて光反射膜を製造した際に、得られる凸部又は凹部の
配列がより分散して、光を適当に散乱させることができ
るためである。したがって、このような光反射膜を液晶
表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生をさらに有
効に防止することができることになる。
(3) Types It is preferable to provide 2 to 10 types of light transmitting portions or light non-transmitting portions by changing the diameters of the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in the mask. The reason for this is that the presence of such light transmitting portions or light non-transmitting portions having different diameters makes it possible to more efficiently manufacture the light reflecting film with less occurrence of interference fringes. That is, when the light reflecting film is manufactured using such a mask, the resulting array of convex portions or concave portions is more dispersed, and light can be scattered appropriately. Therefore, when such a light reflection film is used in a liquid crystal display device or the like, it is possible to more effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0030】なお、マスクにおける径が異なる光透過部
又は光不透過部からなるパターンの組み合わせとして、
下記の例を挙げることができる。 1)7.5μmの六角形パターンと、9μmの六角形パ
ターンとの組み合わせ 2)5μmの六角形パターンと、7.5μmの六角形パ
ターンと、9μmの六角形パターンとの組み合わせ 3)4.5μmの正方形パターンと、5μmの正方形パ
ターンと、7.5μmの六角形パターンと、9μmの六
角形パターンと、11μmの六角形パターンと、の組み
合わせが好ましい。
As a combination of patterns consisting of light transmitting portions or light non-transmitting portions having different diameters in the mask,
The following examples can be given. 1) Combination of 7.5 μm hexagonal pattern and 9 μm hexagonal pattern 2) Combination of 5 μm hexagonal pattern, 7.5 μm hexagonal pattern and 9 μm hexagonal pattern 3) 4.5 μm The combination of the square pattern of 5 μm, the square pattern of 5 μm, the hexagonal pattern of 7.5 μm, the hexagonal pattern of 9 μm, and the hexagonal pattern of 11 μm is preferable.

【0031】(4)面積比率 また、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、
全体面積に対して、10〜60%の範囲内の値とするこ
とが好ましい。この理由は、かかる面積比率が、10%
未満の値になると、光反射膜を製造した際に、複数の凸
部又は凹部の占有面積が小さくなって平坦部が増加し、
光散乱効果が著しく低下する場合があるためである。一
方、かかる面積比率が、60%を越えても平坦部が増加
し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためであ
る。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部の面
積比率を、全体面積に対して、15〜50%の範囲内の
値とすることがより好ましく、20〜40%の範囲内の
値とすることがさらに好ましい。なお、基材を構成する
感光性樹脂として、ポジ型を使用した場合には、光透過
部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤
に対して可溶化することから、マスクの光不透過部の面
積比率が問題となり、ネガ型を使用した場合には、光透
過部を透過した光が照射された箇所が光硬化し、現像剤
に対して不溶化することから、マスクの光透過部の面積
比率が問題となる。
(4) Area ratio Further, the area ratio of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask is
The value is preferably within the range of 10 to 60% with respect to the entire area. The reason is that the area ratio is 10%
When the value is less than, when the light-reflecting film is manufactured, the occupied area of the plurality of convex portions or concave portions becomes small and the flat portion increases,
This is because the light scattering effect may be significantly reduced. On the other hand, even if the area ratio exceeds 60%, the flat portion may increase and the light scattering effect may be significantly reduced. Therefore, it is more preferable to set the area ratio of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask to a value within the range of 15 to 50% with respect to the entire area, and a value within the range of 20 to 40%. Is more preferable. As the photosensitive resin constituting the base material, when a positive type is used, the portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion is photolyzed and solubilized in the developer, The area ratio of the light opaque part of the mask becomes a problem, and when the negative type is used, the part irradiated with the light transmitted through the light transmissive part is photocured and becomes insoluble in the developer. The area ratio of the light-transmitting part of the above becomes a problem.

【0032】2.ランダム配列 (1)ランダム配列1 第1の実施形態では、図1に示すように、RGBドット
100〜2,000又は画面全体を一単位として、光透
過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列してあ
ることを特徴とする。この理由は、かかる一単位中のR
GBドットの数が100ドット未満の値となると、光反
射膜を形成し、それを液晶表示装置等に使用した場合
に、不定形のシミ模様が顕著に視覚される場合が多いた
めである。また、一単位中のRGBドットの数が100
ドット未満では、干渉縞の抑制が不十分な場合があるた
めである。ただし、かかる一単位中のRGBドットの数
が2,000を越えると、ランダムパターンの情報量が
過度に多くなって、マスクの作成が困難となる場合があ
る。したがって、RGBドット300〜1,500を一
単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にラン
ダムに配列してあることがより好ましく、RGBドット
500〜1,200を一単位として、光透過部又は光不
透過部を平面方向にランダムに配列してあることがさら
に好ましい。
2. Random Array (1) Random Array 1 In the first embodiment, as shown in FIG. 1, with the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen as one unit, the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is randomly arranged in the plane direction. It is characterized by being arranged in. The reason is that R in such a unit is
This is because when the number of GB dots is less than 100 dots, an irregular spot pattern is often noticeable when a light reflecting film is formed and used in a liquid crystal display device or the like. In addition, the number of RGB dots in one unit is 100.
This is because if the number is less than the number of dots, suppression of interference fringes may be insufficient. However, when the number of RGB dots in one unit exceeds 2,000, the information amount of the random pattern becomes excessively large, which may make it difficult to create a mask. Therefore, it is more preferable that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction with the RGB dots 300 to 1,500 as one unit. It is further preferable that the transmissive portions or the light non-transmissive portions are randomly arranged in the plane direction.

【0033】ここで、下記表1を参照して、一単位中の
RGBドットの数と、マスクの光透過部又は光不透過部
の配置性と、それから得られた光反射膜を液晶表示装置
に使用した場合の干渉縞の発生と、同様の条件における
シミ模様の視覚性との関係を説明する。すなわち、表1
は、左欄に一単位中のRGBドットの数を1〜1166
4個まで採ってあり、その中で、光透過部又は光不透過
部をランダム配置した場合と、規則配置した場合に分け
て、液晶表示装置干渉縞の発生と、シミ模様の視覚性と
を相対的に評価した結果である。この結果から、一単位
中のRGBドットの数を比較的多くした条件、例えば、
192〜11664個において、光透過部又は光不透過
部をランダム配置することにより、相対的に干渉縞の発
生を抑制できるとともに、シミ模様の視覚性についても
低下させることが理解できる。また、一単位中のRGB
ドットの数が比較的少ない条件、例えば、1〜48個に
おいて、光透過部又は光不透過部をランダム配置した場
合には、干渉縞の発生の抑制効果が若干低下する一方、
顕著にシミ模様が視覚されるようになる場合があること
が理解できる。一方、光透過部又は光不透過部を規則的
に配置した場合には、一単位中のRGBドットの数に限
らず、シミ模様の視覚性は無いものの、干渉縞の発生が
顕著であることが理解される。したがって、干渉縞の発
生を抑制できるとともに、シミ模様の視覚性についても
低下させるためには、例えば、RGBドット100〜
2,000を一単位として、光透過部又は光不透過部を
平面方向にランダムに配列することが有効であると言え
る。
Here, referring to Table 1 below, the number of RGB dots in one unit, the disposition of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion of the mask, and the light reflecting film obtained therefrom are used for the liquid crystal display device. The relationship between the occurrence of interference fringes when used for the above and the visibility of the spot pattern under the same conditions will be described. That is, Table 1
Indicates the number of RGB dots in one unit in the left column from 1 to 1166.
Up to four are taken. Among them, the occurrence of the interference fringes of the liquid crystal display device and the visibility of the stain pattern are classified into the case where the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged and the case where they are arranged regularly. This is the result of relative evaluation. From this result, the condition that the number of RGB dots in one unit is relatively large, for example,
It can be understood that by randomly arranging the light transmitting portions or the light non-transmitting portions in 192 to 11664, the generation of interference fringes can be relatively suppressed and the visibility of the stain pattern is also reduced. Also, RGB in one unit
When the number of dots is relatively small, for example, in 1 to 48, when the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged, the effect of suppressing the generation of interference fringes is slightly reduced,
It can be understood that the spot pattern may become noticeable in some cases. On the other hand, when the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are arranged regularly, not only the number of RGB dots in one unit but the appearance of the stain pattern is not visible, but the occurrence of interference fringes is remarkable. Is understood. Therefore, in order to suppress the occurrence of interference fringes and also reduce the visibility of the stain pattern, for example, the RGB dots 100 to
It can be said that it is effective to randomly arrange the light transmitting portions or the light non-transmitting portions with 2,000 as one unit in the plane direction.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】(2)ランダム配列2 また、本発明のマスクを構成するにあたり、図2〜図4
に示すように、予め作成したRGBドット3〜12を一
単位とした光透過部又は光不透過部のランダムパターン
を分割して、あるいはそのままランダムに配列して、R
GBドット100〜2,000又は画面全体を一単位と
した光透過部又は光不透過部が構成してあることが好ま
しい。このように構成することにより、光透過部又は光
不透過部のパターンに関する情報量を少なくすることが
できるとともに、RGBドット3〜12のランダムパタ
ーンを繰り返すことによって、大面積のマスクを容易か
つ短時間に設計することできる。なお、図2〜図4に示
すようなRGBドット3〜12を一単位とした光透過部
又は光不透過部のランダムパターンを分割する場合に
は、適当に分割しても良いし、あるいは、ランダム関数
等を用いて、恣意的条件を取り除いた条件下に、分割し
ても良い。
(2) Random array 2 In constructing the mask of the present invention, FIGS.
As shown in FIG. 3, the random pattern of the light transmission part or the light non-transmission part in which the RGB dots 3 to 12 that are created in advance as one unit are divided or randomly arranged as they are, and R
It is preferable that the GB dots 100 to 2,000 or the light transmissive portion or the light non-transmissive portion with the entire screen as one unit is configured. With this configuration, the amount of information regarding the pattern of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion can be reduced, and by repeating the random pattern of the RGB dots 3 to 12, a large-area mask can be easily and shortly formed. Can be designed in time. When a random pattern of a light transmitting portion or a light non-transmitting portion with RGB dots 3 to 12 as one unit as shown in FIGS. 2 to 4 is divided, it may be divided appropriately, or It may be divided under a condition in which the arbitrary condition is removed by using a random function or the like.

【0036】(3)ランダム配列3 また、本発明のマスクを構成するにあたり、図5に示す
ように、光透過部又は光不透過部244を横一列方向又
は縦一列方向に帯状のランダムパターンを形成し、当該
帯状のランダムパターンを複数列において繰り返すこと
が好ましい。このように構成することにより、横一列方
向又は縦一列方向のいずれかの箇所において、一つの帯
状のランダムパターンを構成し、それを適宜繰り返すこ
とにより、光反射膜に起因した干渉縞の発生を有効に防
止することができるためである。また、このように構成
することにより、少ない情報量によって、全体として好
ましい反射特性を有するランダムパターンを、容易かつ
短時間に設計することが可能となるためである。例え
ば、17インチのLCDパネル用のマスクを横方向に、
1/n(nは2〜1000の範囲の自然数)に均等に分
割し、そのうちの横一列方向のマスクにおいて、光透過
部又は光不透過部をランダム関数によって割付け、それ
をn回繰り返せば、干渉縞の発生を有効に防止すること
ができる。また、このように横方向又は縦方向に、所定
単位のランダムパターンを繰り返すことにより、全体と
して好ましい反射特性を有するランダムパターンを、再
現性良く得ることができる。
(3) Random Arrangement 3 Further, in constructing the mask of the present invention, as shown in FIG. 5, the light transmitting portions or the light non-transmitting portions 244 are formed into a striped random pattern in the horizontal single row direction or the vertical single row direction. It is preferable to form and repeat the strip-shaped random pattern in a plurality of rows. With such a configuration, in one of the horizontal single-column direction or the vertical single-column direction, one band-shaped random pattern is formed, and by repeating it as appropriate, the occurrence of interference fringes due to the light reflecting film is generated. This is because it can be effectively prevented. Further, with this configuration, it is possible to easily design a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole in a short time with a small amount of information. For example, a mask for a 17-inch LCD panel in the horizontal direction,
1 / n (n is a natural number in the range of 2 to 1000) is evenly divided, and in the mask in the horizontal single row direction, the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is assigned by a random function, and if repeated n times, It is possible to effectively prevent the occurrence of interference fringes. Further, by repeating the random pattern of the predetermined unit in the horizontal direction or the vertical direction in this way, it is possible to obtain a random pattern having a preferable reflection characteristic as a whole with good reproducibility.

【0037】[第2実施形態]第2実施形態は、図6に示
すように、一例として、ネガ型の感光性樹脂を用いた場
合を示しているが、基材77および反射層72を含む光
反射膜付き基板70であって、当該基材77に形成され
た複数の凸部76をRGBドット100〜2,000又
は画面全体を一単位として、平面方向にランダムに配列
してあることを特徴とする光反射膜付き基板70であ
る。
[Second Embodiment] As shown in FIG. 6, the second embodiment shows the case where a negative photosensitive resin is used as an example, but includes a base material 77 and a reflective layer 72. In the substrate 70 with a light reflection film, the plurality of convex portions 76 formed on the base material 77 are randomly arranged in the plane direction with the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen as one unit. This is a substrate 70 with a light reflecting film.

【0038】1.基材 基材の構成として、図6に示すように、下方から第1の
基材76および第2の基材79を順次に含み、当該第1
の基材76が独立した、又は一部重なった複数の凸部か
ら構成してあり、第2の基材79が連続層であることが
好ましい。このように構成することにより、連続層であ
る第2の基材79を介して、その上に形成される反射層
72を、平坦部が少ない比較的なだらかな曲面とするこ
とができるため、液晶表示装置等に用いられた場合に、
干渉縞の発生を有効に防止することができるためであ
る。また、基材に形成された複数の凸部又は凹部といっ
た場合、基材が第1の基材および第2の基材を含むとき
には、通常、第1の基材を構成する複数の凸部又は凹部
を意味する。以下、好適例として、図6に示すように、
下方から基材77が、第1の基材76および第2の基材
79から構成された場合を例にとって説明する。
1. As the structure of the base material, as shown in FIG. 6, a first base material 76 and a second base material 79 are sequentially included from the lower side, and
It is preferable that the base material 76 is composed of a plurality of independent or partially overlapped convex portions, and the second base material 79 is a continuous layer. With this structure, the reflective layer 72 formed on the second base material 79, which is a continuous layer, can be formed into a comparatively gentle curved surface with few flat portions, and thus the liquid crystal is formed. When used for display devices,
This is because the generation of interference fringes can be effectively prevented. Further, in the case of a plurality of convex portions or concave portions formed on a base material, when the base material includes a first base material and a second base material, usually, a plurality of convex portions or Means a recess. Hereinafter, as a preferred example, as shown in FIG.
The case where the base material 77 is composed of the first base material 76 and the second base material 79 from below will be described as an example.

【0039】(1)第1の基材 第1の基材における複数の凸部の高さ又は凹部の深さを
0.5〜5μmの範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが0.5μ
m未満の値になると、第2の基材を介して、適当な曲面
を有する反射層を設けることが困難になる場合があるた
めである。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが5
μmを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度に
光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりする
場合があるためである。したがって、第1の基材におけ
る複数の凸部の高さ又は凹部の深さを0.8〜4μmの
範囲内の値とすることがより好ましく、1〜3μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。
(1) First Base Material It is preferable that the height of the plurality of convex portions or the depth of the plurality of concave portions in the first base material is set to a value within the range of 0.5 to 5 μm. The reason for this is that the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 0.5 μm.
This is because if the value is less than m, it may be difficult to provide the reflective layer having an appropriate curved surface via the second base material. On the other hand, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 5
This is because if the thickness exceeds μm, the unevenness of the reflective layer becomes large, which may cause excessive scattering of light or easy disconnection. Therefore, it is more preferable to set the height of the plurality of protrusions or the depth of the plurality of recesses in the first substrate to a value within the range of 0.8 to 4 μm, and preferably a value within the range of 1 to 3 μm. More preferable.

【0040】(2)第2の基材 第2の基材における連続した凸部の高さ又は凹部の深さ
を0.1〜3μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが0.1
μm未満の値になると、その上に、適当な曲面を有する
反射層を設けることが困難になる場合があるためであ
る。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが3μmを
超えると、その上に形成される反射層の凹凸が大きくな
って、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすく
なる場合があるためである。したがって、第2の基材に
おける複数の凸部の高さ又は凹部の深さを0.1〜2μ
mの範囲内の値とすることがより好ましく、0.3〜2
μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(2) Second Base Material It is preferable that the height of the continuous convex portions or the depth of the concave portions of the second base material is set to a value within the range of 0.1 to 3 μm.
This is because the height of the convex portion or the depth of the concave portion is 0.1.
This is because if the value is less than μm, it may be difficult to provide a reflective layer having an appropriate curved surface thereon. On the other hand, if the height of the convex portion or the depth of the concave portion exceeds 3 μm, the irregularities of the reflecting layer formed thereon may become large, and light may be excessively scattered or easily broken. This is because. Therefore, the height of the plurality of protrusions or the depth of the recesses in the second base material is set to 0.1 to 2 μm.
It is more preferable to set the value within the range of m, and it is 0.3 to 2
It is more preferable to set the value within the range of μm.

【0041】(3)複数の凸部又は凹部 ランダム配列1 基材表面に形成された複数の凸部又は凹部、特に第1の
基材を構成する複数の凸部又は凹部をRGBドット10
0〜2,000又は画面全体を一単位として、平面方向
にランダムに配列することを特徴とする。この理由は、
複数の凸部又は凹部が全て規則的に配列されていると、
液晶表示装置等に使用された場合に、干渉縞が発生し、
画像品質が著しく低下するためである。また、複数の凸
部又は凹部をRGBドットの所定単位で平面方向にラン
ダムに配列するにあたり、RGBドット単位が100ド
ット未満の値になると、液晶表示装置等に使用した場合
に、不定形のシミ模様が明確に認識されるためである。
したがって、RGBドット300〜1,500を一単位
として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダム
に配列してあることがより好ましく、RGBドット50
0〜1,200ドットを一単位として、光透過部又は光
不透過部を平面方向にランダムに配列してあることがさ
らに好ましい。
(3) Random array of a plurality of convex portions or concave portions 1 The plurality of convex portions or concave portions formed on the surface of the base material, in particular, the plurality of convex portions or concave portions constituting the first base material, are used as the RGB dots 10.
It is characterized in that 0 to 2,000 or the entire screen is taken as one unit and arranged randomly in the plane direction. The reason for this is
If all the convex portions or concave portions are regularly arranged,
When used in liquid crystal display devices, interference fringes occur,
This is because the image quality is significantly reduced. Further, when randomly arranging a plurality of convex portions or concave portions in a predetermined unit of RGB dots in the plane direction, if the RGB dot unit has a value of less than 100 dots, an irregular stain is generated when used in a liquid crystal display device or the like. This is because the pattern is clearly recognized.
Therefore, it is more preferable that the light transmissive portions or the light non-transmissive portions are randomly arranged in the plane direction with the RGB dots 300 to 1,500 as one unit.
It is more preferable that the light transmitting portions or the light non-transmitting portions are randomly arranged in the plane direction with 0 to 1,200 dots as one unit.

【0042】また、かかる複数の凸部の高さ又は凹部の
深さを実質的に等しくすることが好ましい。この理由
は、特開平6−27481号公報や特開平11−281
972号公報に記載されたように、逆に、複数の凸部の
高さ又は凹部の深さを異ならせると、製造が困難となっ
て、安定して干渉縞の発生を抑制することができない。
Further, it is preferable that the heights of the plurality of convex portions or the depths of the concave portions are substantially equal to each other. The reason for this is as follows: JP-A-6-27481 and JP-A-11-281.
As described in Japanese Patent No. 972, conversely, if the heights of the plurality of convex portions or the depths of the concave portions are made different, manufacturing becomes difficult and it is not possible to stably suppress the generation of interference fringes. .

【0043】凸部又は凹部の平面形状 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部の平面形状
に関して、独立した又は一部重なった円および多角形、
あるいはいずれか一方の平面形状とすることが好まし
い。この理由は、独立した又は一部重なった円および多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることによ
り、複数の凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、
露光プロセスを用いて、正確に制御することができるた
めである。また、このような平面形状の凸部又は凹部で
あれば、光を散乱させることができ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、凸部又は
凹部の平面形状の好適例として、図7(a)に示すよう
なオフセットした楕円形(液滴形状)や、図7(b)に
示すようなオフセットした四角形(ピラミッド型)、あ
るいは凹部の平面形状の好適例として、図17〜図21
に示す楕円のドーム形状や長円のドーム形状等が挙げら
れる。この理由は、複数の凸部又は凹部の平面形状を、
このような非対称の平面形状とすることにより、高さ方
向の斜面と相俟って、図8に示すように、所定の光散乱
性を維持したまま、光指向性が向上するためである。図
8中、一点鎖線aが図7(a)に示すようなオフセット
した楕円形の場合に視覚される光量を示しており、実線
bがオフセットしていない均等な円形の場合に視覚され
る光量を示している。したがって、このような非対称の
平面形状とすることにより、一定方向から眺めた場合、
例えば、角度が+15°の位置において目に入ってくる
光量が多くなり、その位置では明るい画像を認識するこ
とができる。
Planar shapes of convex portions or concave portions Further, regarding the planar shapes of a plurality of convex portions or concave portions formed on the base material, independent or partially overlapped circles and polygons,
Alternatively, it is preferable that either one of them has a planar shape. The reason for this is that the independent and partially overlapped circles and polygons, or any one of them has a planar shape so that the planar shape and the arrangement pattern of the plurality of convex portions or concave portions are
This is because accurate control can be performed using the exposure process. Further, it is because such a plane-shaped convex portion or concave portion can scatter light and effectively prevent the generation of interference fringes. Further, as a preferable example of the planar shape of the convex portion or the concave portion, an offset elliptical shape (droplet shape) as shown in FIG. 7A or an offset quadrangle (pyramid type) as shown in FIG. 7B. Alternatively, as a preferable example of the planar shape of the recess, FIGS.
The elliptical dome shape and the oval dome shape shown in FIG. The reason is that the planar shape of the plurality of protrusions or recesses is
This is because such an asymmetrical flat shape improves the light directivity while maintaining a predetermined light scattering property, as shown in FIG. 8, in combination with the slope in the height direction. In FIG. 8, the dot-dash line a shows the amount of light that is visible when the ellipse is offset as shown in FIG. 7A, and the solid line b is the amount of light that is seen when the circle is a uniform circle that is not offset. Is shown. Therefore, when viewed from a certain direction by using such an asymmetrical planar shape,
For example, the amount of light entering the eye increases at a position where the angle is + 15 °, and a bright image can be recognized at that position.

【0044】凸部又は凹部の径 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部又は凹部の径を3〜15μmの範囲内の値とす
ることが好ましい。この理由は、かかる範囲の径を有す
る複数の凸部又は凹部であれば、平面形状や配置パター
ンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することがで
きるとともに、光を適度に散乱させ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、かかる範
囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、不定形の
シミ模様が観察されることが少なくなるためである。し
たがって、複数の凸部又は凹部の径を5〜13μmの範
囲内の値とすることがより好ましく、6〜12μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。また、複数の凸
部又は凹部の径を異ならせ、例えば、2〜10種類の凸
部又は凹部を設けることが好ましい。このように構成す
ることにより、1種類の凸部又は凹部によっては得られ
ないような複雑な光反射を可能とし、光をより分散して
散乱させることができるためである。したがって、径が
異なる複数の凸部又は凹部を設けることにより、干渉縞
の発生をさらに有効に防止することができる。
Diameter of convex portion or concave portion Further, regarding a plurality of convex portions or concave portions formed on the substrate,
It is preferable to set the diameter of the convex portion or the concave portion to a value within the range of 3 to 15 μm. The reason for this is that if there are a plurality of protrusions or recesses having a diameter in such a range, the planar shape and arrangement pattern can be accurately controlled using the exposure process, and light can be scattered appropriately to cause interference. This is because the occurrence of stripes can be effectively prevented. In addition, if there are a plurality of convex portions or concave portions having a diameter in such a range, an irregular spot pattern is less likely to be observed. Therefore, it is more preferable that the diameters of the plurality of protrusions or recesses be within the range of 5 to 13 μm, and even more preferably within the range of 6 to 12 μm. Further, it is preferable that the plurality of convex portions or concave portions have different diameters, and, for example, 2 to 10 types of convex portions or concave portions are provided. This is because such a configuration enables complicated light reflection that cannot be obtained by one type of convex portion or concave portion, and allows light to be dispersed and scattered. Therefore, by providing a plurality of convex portions or concave portions having different diameters, it is possible to more effectively prevent the occurrence of interference fringes.

【0045】凸部の高さ又は凹部の深さ また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部の高さ又は凹部の深さを0.1〜10μmの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが0.1μm未満の値になる
と、露光プロセスを用いても、凹凸が小さくなり、散乱
特性が低下する場合があるためである。一方、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが10μmを超えると、反射層
の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、ある
いは断線しやすくなる場合があるためである。したがっ
て、凸部の高さ又は凹部の深さを0.2〜3μmの範囲
内の値とすることがより好ましく、0.3〜2μmの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。
Height of convex portion or depth of concave portion With respect to the plurality of convex portions or concave portions formed on the substrate,
The height of the convex portion or the depth of the concave portion is preferably set to a value within the range of 0.1 to 10 μm. The reason for this is that if the height of the convex portion or the depth of the concave portion is a value less than 0.1 μm, the unevenness may be reduced and the scattering characteristics may be deteriorated even if an exposure process is used. On the other hand, when the height of the convex portion or the depth of the concave portion exceeds 10 μm, the irregularities of the reflective layer become large, and light may be excessively scattered or easily broken. Therefore, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is more preferably set to a value within the range of 0.2 to 3 μm, and further preferably set to a value within the range of 0.3 to 2 μm.

【0046】(4)開口部 光反射膜において、光を部分的に通過させるための開口
部が設けてあることが好ましい。このように構成するこ
とにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に使用する
ことができる。すなわち、図9に示すように、光反射膜
100の一部に開口部102を設けることにより、光反
射膜100によって外部からの光を効率的に反射するこ
とができるとともに、内部から発せられた光について
も、開口部102を通して、外部に効果的に放出するこ
とができる。なお、開口部の大きさは特に制限されるも
のでなく、光反射膜の用途等によって決定されることが
好ましいが、例えば、光反射膜の全体面積を100%と
したときに、5〜80%の範囲内の値とすることが好ま
しく、10〜70%の範囲内の値とすることがより好ま
しく、20〜60%の範囲内の値とすることがさらに好
ましい。
(4) Opening The light reflecting film is preferably provided with an opening for partially passing light. With this configuration, it can be used in a reflective / transmissive liquid crystal display device and the like. That is, as shown in FIG. 9, by providing the opening 102 in a part of the light reflection film 100, the light reflection film 100 can efficiently reflect the light from the outside and the light emitted from the inside. Light can also be effectively emitted to the outside through the opening 102. The size of the opening is not particularly limited and is preferably determined depending on the application of the light reflecting film. For example, when the total area of the light reflecting film is 100%, it is 5 to 80. The value is preferably in the range of%, more preferably in the range of 10 to 70%, and even more preferably in the range of 20 to 60%.

【0047】2.反射層 (1)厚さ 光反射膜における反射層の厚さを0.05〜5μmの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる反
射層の厚さが0.05μm未満の値になると、反射効果
が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かか
る反射層の厚さが5μmを越えると、得られる光反射膜
のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長く
なる場合があるためである。したがって、かかる反射層
の厚さを0.07〜1μmの範囲内の値とすることがよ
り好ましく、0.1〜0.3μmの範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。
2. Reflective Layer (1) Thickness The thickness of the reflective layer in the light reflective film is preferably set to a value within the range of 0.05 to 5 μm. The reason for this is that if the thickness of the reflective layer is less than 0.05 μm, the reflective effect may be significantly poor. On the other hand, if the thickness of the reflective layer exceeds 5 μm, the flexibility of the obtained light reflective film may be deteriorated or the manufacturing time may be excessively long. Therefore, the thickness of the reflective layer is more preferably set to a value within the range of 0.07 to 1 μm, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 0.3 μm.

【0048】(2)種類 また、反射層の構成材料は特に制限されるものでなく、
例えば、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、銅(C
u)、金(Au)、クロム(Cr)、タンタル(W)お
よびニッケル(Ni)等の導電性や光反射性に優れた金
属材料とすることが好ましい。また、上記反射層の上に
酸化インジスムスズ(ITO)や酸化インジスム、ある
いは酸化スズ等の透明導電材料を使用することも好まし
い。ただし、このような金属材料や透明導電材料を用い
た際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材
料等からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金
属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等する
ことも好ましい。
(2) Types The constituent material of the reflective layer is not particularly limited,
For example, aluminum (Al), silver (Ag), copper (C
u), gold (Au), chromium (Cr), tantalum (W), nickel (Ni), and the like are preferably metal materials having excellent conductivity and light reflectivity. It is also preferable to use a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, or tin oxide on the reflective layer. However, when such a metal material or a transparent conductive material is used, if there is melting into the liquid crystal, an electric insulating film may be provided on the surface of the reflective film made of the metal material, or the like, together with the metal material, It is also preferable to sputter an electric insulator.

【0049】(3)下地層 また、反射層を第2の基板の上に形成するにあたり、密
着力を向上させるとともに、反射層をなだらかな曲面と
するために、厚さ0.01〜2μmの下地層を設けるこ
とが好ましい。なお、このような下地層の構成材料とし
て、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ア
ルミニウムカップリング剤、アルミニウム−マグネシウ
ム合金、アルミニウム−シラン合金、アルミニウム−銅
合金、アルミニウム−マンガン合金、アルミニウム−金
合金等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げ
られる。
(3) Underlayer Further, in forming the reflective layer on the second substrate, in order to improve the adhesion and to form the reflective layer into a gently curved surface, the thickness is 0.01 to 2 μm. It is preferable to provide an underlayer. In addition, as a constituent material of such an underlayer, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent, an aluminum-magnesium alloy, an aluminum-silane alloy, an aluminum-copper alloy, an aluminum-manganese alloy, an aluminum-gold. The alloys may be used alone or in combination of two or more.

【0050】(4)鏡面反射率 また、反射層における鏡面反射率を5〜50%の範囲内
の値とすることが好ましい。この理由は、かかる鏡面反
射率が5%未満の値となると、液晶表示装置等に使用し
た場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する
場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が50
%を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、
外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。し
たがって、反射層における鏡面反射率を10〜40%の
範囲内の値とすることがより好ましく、15〜30%の
範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(4) Specular reflectance Further, it is preferable to set the specular reflectance of the reflective layer to a value within the range of 5 to 50%. The reason for this is that if the specular reflectance is less than 5%, the brightness of the obtained display image may be significantly reduced when used in a liquid crystal display device or the like. On the other hand, the specular reflectance is 50
If it exceeds%, the scattering property will decrease and the background reflection and
This is because the external light may be excessively specularly reflected. Therefore, the specular reflectance of the reflective layer is more preferably set to a value within the range of 10 to 40%, further preferably set to a value within the range of 15 to 30%.

【0051】3.他の構成部材との組み合わせ 上述した光反射膜を、他の構成部材、例えば、図13お
よび図14に示すように、カラーフィルタ150、遮光
層151、オーバーコート層157、複数の透明電極1
54と、配向膜等と組み合わせることが好ましい。この
ように組み合わせることにより、干渉縞の発生が少な
い、カラー液晶表示装置等の部材を効率的に提供するこ
とができる。例えば、RGB(赤、青、緑)の3色の色
要素により構成したストライプ配列、モザイク配列、あ
るいはデルタ配列等のカラーフィルタ150を組み合わ
せることにより、容易にカラー化が図れるし、さらに遮
光層151と組み合わせることにより、コントラストに
優れた画像を得ることができる。また、光反射膜は反射
電極として使用することもできるが、他の電極、例え
ば、透明電極154を設けることにより、光吸収を防ぎ
ながら、複数の凸部又は凹部からなる反射膜の影響を排
除することができる。さらに、YMC(イエロー、マゼ
ンダ、シアン)からなる3色の色要素によってカラーフ
ィルタを構成することも好ましく、光透過特性に優れ、
反射型液晶表示装置として用いた場合に、さらに明るい
表示を得ることができる。
3. Combination with other constituent members The above-described light reflecting film is combined with another constituent member, for example, as shown in FIGS. 13 and 14, a color filter 150, a light shielding layer 151, an overcoat layer 157, a plurality of transparent electrodes 1.
It is preferable to combine 54 with an alignment film or the like. By combining in this way, it is possible to efficiently provide a member such as a color liquid crystal display device in which interference fringes are less likely to occur. For example, by combining the color filters 150 such as a stripe array, a mosaic array, or a delta array configured by three color elements of RGB (red, blue, green), colorization can be easily achieved, and the light shielding layer 151 can be further provided. By combining with, it is possible to obtain an image with excellent contrast. Further, although the light reflecting film can be used as a reflecting electrode, by providing another electrode, for example, the transparent electrode 154, the influence of the reflecting film composed of a plurality of convex portions or concave portions is eliminated while preventing light absorption. can do. Further, it is also preferable to form a color filter with three color elements of YMC (yellow, magenta, cyan), which is excellent in light transmission characteristics.
When used as a reflection type liquid crystal display device, a brighter display can be obtained.

【0052】[第3実施形態]第3実施形態は、基材およ
び反射層を含む光反射膜の製造方法であって、RGBド
ット100〜2,000又は画面全体を一単位として、
光透過部又は光非透過部が平面方向にランダムに配列さ
れたマスクを使用して、塗布された感光性樹脂に対し
て、露光プロセスによって平面方向にランダムに配列さ
れた複数の凸部又は凹部を有する第1の基材を形成する
工程と、当該第1の基材の表面に感光性樹脂を塗布し
て、露光プロセスによって、連続した複数の凸部又は凹
部を有する第2の基材を形成する工程と、当該第2の基
材の表面に反射層を形成する工程と、を含むことを特徴
とする光反射膜の製造方法である。以下、図10および
図11を適宜参照しながら、第1の基材の表面に凹部を
形成する場合を例に採って、光反射膜(光反射膜付き基
板)の製造方法を具体的に説明する。なお、図10は、
光反射膜の製造工程を図式化したものであって、図11
は、それのフローチャートである。
[Third Embodiment] A third embodiment is a method of manufacturing a light-reflecting film including a base material and a reflecting layer, wherein the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen is used as one unit.
Using a mask in which light transmitting portions or light non-transmitting portions are randomly arranged in a plane direction, a plurality of convex portions or concave portions randomly arranged in a plane direction by an exposure process is applied to a photosensitive resin applied. Forming a first base material, and applying a photosensitive resin to the surface of the first base material to form a second base material having a plurality of continuous convex portions or concave portions by an exposure process. A method of manufacturing a light-reflecting film, comprising: a forming step; and a step of forming a reflective layer on the surface of the second base material. Hereinafter, the manufacturing method of the light reflecting film (substrate with the light reflecting film) will be specifically described with reference to FIGS. 10 and 11 and taking as an example the case where the recess is formed on the surface of the first base material. To do. In addition, in FIG.
11 is a schematic view of the manufacturing process of the light reflecting film,
Is a flow chart for it.

【0053】1.第1の基材を形成する工程 平面方向にランダムに配列された複数の凸部又は凹部
を、第1の実施形態で説明したマスクを利用して、感光
性樹脂から、露光プロセスによって形成することが好ま
しい。すなわち、光透過部又は光不透過部を独立した、
又は一部重なった円および多角形、あるいはいずれか一
方の平面形状とし、平面方向にランダムに配列してある
マスクを介して、平面方向にランダムに配列された複数
の凸部又は凹部を、感光性樹脂、例えば、ポジ型感光性
樹脂から構成してあることが好ましい。
1. Step of forming the first base material A plurality of convex portions or concave portions randomly arranged in the plane direction are formed from a photosensitive resin by an exposure process using the mask described in the first embodiment. Is preferred. That is, the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is independent,
Alternatively, a plurality of convex portions or concave portions that are randomly arranged in the plane direction are exposed through a mask that has a partially overlapped circle and / or a polygon, or has a plane shape that is randomly arranged in the plane direction. It is preferable that it is made of a positive resin, for example, a positive photosensitive resin.

【0054】(1)感光性樹脂 第1の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセ
タン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙
げられる。また、精度良く、所定の円形又は多角形とす
ることができるように、感光性樹脂中に、シリカ粒子、
酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無
機フィラーを添加しておくことも好ましい。なお、上述
したように、第1の基材を構成する感光性樹脂として
は、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解し
て、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透
過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不
溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用するこ
とができる。
(1) Photosensitive resin The type of the photosensitive resin constituting the first base material is not particularly limited, but for example, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, Examples of the oxetane resin include one kind alone or a combination of two or more kinds. In addition, silica particles, in the photosensitive resin, can be accurately formed into a predetermined circle or polygon.
It is also preferable to add an inorganic filler such as titanium oxide, zirconia oxide, or aluminum oxide. As described above, the photosensitive resin forming the first base material is a positive type resin in which a portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion is photodegraded and solubilized in the developer. There is a negative type in which a part irradiated with light transmitted through the light transmitting part is hardened and becomes insoluble in a developer, but any of them can be preferably used.

【0055】(2)露光プロセス 図10(a)および図11の工程P31に示すように、
第1の基材112を形成するにあたり、スピンコーター
等を用いて、第1の基材を構成する感光性樹脂を、支持
部114上に均一に塗布して、第1層110を形成する
ことが好ましい。その場合、スピンコーターの条件とし
て、例えば、600〜2、000rpmの回転数で、5
〜20秒とすることが好ましい。次いで、解像度を向上
させるために、図11の工程P32に示すように、第1
層110をプリベークすることが好ましい。その場合、
例えば、ホットプレートを用いて、80〜120℃、1
〜10分の加熱条件とすることが好ましい。次いで、図
10(b)および図11の工程P33に示すように、第
1の実施形態のマスク119を使用し、露光プロセス法
によって、平面方向にランダムに配列され、独立した又
は一部重なった複数の凸部又は凹部からなる第1の基材
112を形成することが好ましい。すなわち、均一に塗
布された感光性樹脂からなる第1層110の上に、第1
の実施形態のマスク119を載置した後、i線等を露光
することが好ましい。その場合、i線等の露光量を例え
ば50〜300mJ/cm2の範囲内の値とすることが
好ましい。
(2) Exposure process As shown in step P31 of FIG. 10A and FIG.
In forming the first base material 112, a photosensitive resin forming the first base material is uniformly applied on the support 114 using a spin coater or the like to form the first layer 110. Is preferred. In that case, as the spin coater condition, for example, at a rotation speed of 600 to 2,000 rpm, 5
It is preferably set to -20 seconds. Then, in order to improve the resolution, as shown in step P32 of FIG.
It is preferred to pre-bake layer 110. In that case,
For example, using a hot plate, 80-120 ℃, 1
It is preferable to set heating conditions for 10 minutes. Then, as shown in Step P33 of FIG. 10B and FIG. 11, the mask 119 of the first embodiment is used and randomly arranged in the plane direction by the exposure process method to be independent or partially overlap. It is preferable to form the first base material 112 including a plurality of convex portions or concave portions. That is, the first layer 110 made of the photosensitive resin applied uniformly is coated on the first layer 110.
After placing the mask 119 of the above embodiment, it is preferable to expose the i-line or the like. In that case, it is preferable to set the exposure amount of the i-line or the like to a value within a range of 50 to 300 mJ / cm 2 , for example.

【0056】次いで、図10(c)および図11の工程
P34に示すように、現像液によって、例えばポジ現像
することにより、平面方向にランダムに配列され、独立
した又は一部重なった複数の凸部又は凹部からなる第1
の基材112を形成することができる。なお、第2の基
材113を形成する前に、図11の工程P35に示すよ
うに、一例として、露光量が300mJ/cm2となる
ように全面的にポスト露光した後、220℃、50分の
条件で加熱することによってポストベークし、第1の基
材112をさらに強固にすることも好ましい。
Next, as shown in step P34 of FIG. 10C and FIG. 11, a plurality of convexes which are randomly arranged in the plane direction and are independent or partially overlap by being positively developed with a developing solution. First consisting of a part or a recess
The base material 112 can be formed. Before forming the second base material 113, as an example, as shown in Step P35 of FIG. 11, after the entire surface is post-exposed so that the exposure amount is 300 mJ / cm 2 , the temperature is set to 220 ° C. and 50 ° C. It is also preferable to post-bake by heating under the condition of minutes to further strengthen the first base material 112.

【0057】2.第2の基材を形成する工程 第2の基材を形成する工程は、樹脂塗布等によって、第
1の基材上、すなわち、平面方向にランダムに配列され
た複数の凹部上に、連続層としての第2の基材を形成す
る工程である。
2. Step of forming the second base material In the step of forming the second base material, a continuous layer is formed on the first base material, that is, on the plurality of concave portions randomly arranged in the planar direction by resin coating or the like. Is a step of forming the second base material.

【0058】(1)感光性樹脂 第2の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げ
られる。また、第1の基材と第2の基材との間の密着力
が向上するため、第2の基材を構成する感光性樹脂と、
第1の基材を構成する感光性樹脂とを同種とすることが
好ましい。なお、第1の基材と第2の基材との間の密着
力が向上するため、第1の基材の表面に、シランカップ
リング剤等の処理を施しておくことが好ましい。
(1) Photosensitive resin The type of the photosensitive resin constituting the second base material is not particularly limited, but for example, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, etc. Is mentioned. Further, since the adhesion between the first base material and the second base material is improved, the photosensitive resin forming the second base material,
It is preferable that the same kind as the photosensitive resin that constitutes the first base material. Since the adhesion between the first base material and the second base material is improved, the surface of the first base material is preferably treated with a silane coupling agent or the like.

【0059】(2)露光工程 図10(d)および図11の工程P37〜P40に示す
ように、第2の基材113を形成するにあたっては、第
2の基材113を構成する感光性樹脂を塗布した後、パ
ネル表示領域周辺の実装領域にi線等を露光し、樹脂層
を除去することが好ましい。この場合も、第1の基材1
12を露光させるのと同様に、i線等の露光量を例えば
50〜300mJ/cm2の範囲内の値とすることが好
ましい。さらに、図11の工程P41〜P42に示すよ
うに、第2の基材113を形成した後に、一例として、
露光量が300mJ/cm2となるように全面的にポス
ト露光した後、220℃、50分の条件で加熱すること
によってポストベークし、第1の基材112および第2
の基材113をそれぞれさらに強固にすることも好まし
い。
(2) Exposure step As shown in steps P37 to P40 of FIG. 10D and FIG. 11, in forming the second base material 113, the photosensitive resin forming the second base material 113 is used. It is preferable to expose the mounting area around the panel display area with an i-line or the like to remove the resin layer after the application. Also in this case, the first base material 1
Similarly to the case of exposing No. 12, it is preferable to set the exposure amount of the i-line or the like to a value within the range of 50 to 300 mJ / cm 2 , for example. Furthermore, as shown in steps P41 to P42 of FIG. 11, after forming the second base material 113, as an example,
Post-exposure is performed on the entire surface so that the exposure amount is 300 mJ / cm 2, and then post-baking is performed by heating at 220 ° C. for 50 minutes, and the first base material 112 and the second base material 112
It is also preferable to further strengthen each of the base materials 113.

【0060】3.反射層を形成する工程 反射層を形成する工程は、図10(e)および図11の
工程P43〜P44に示すように、第2の基材113の
表面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有
する反射層116を形成する工程である。
3. Step of forming the reflective layer In the step of forming the reflective layer, as shown in Steps P43 to P44 of FIG. This is a step of forming the reflective layer 116 having a smooth curved surface.

【0061】(1)反射層材料 反射層材料としては、第2の実施形態で説明したよう
に、アルミニウム(Al)および銀(Ag)等の光反射
性に優れた金属材料とすることが好ましい。
(1) Reflective Layer Material As the reflective layer material, as described in the second embodiment, it is preferable to use a metal material having excellent light reflectivity such as aluminum (Al) and silver (Ag). .

【0062】(2)形成方法 スパッタリング等の手法を用いて、反射層を形成するこ
とが好ましい。また、所望の箇所以外の反射層材料は、
フォトエッチング等の手法で除去することができる。ま
た、第2の基材の表面に凹凸があるため、反射層材料が
均一な厚さに積層しない場合があるが、そのようなとき
には、回転蒸着法や回転スパッタリング法を採用するこ
とが好ましい。さらにまた、反射層を形成するととも
に、当該反射層をTFT(Thin Film Transistor)や、
MIM(Metal Insulating Metal)等の端子に対して、電
気接続することが好ましい。
(2) Forming Method It is preferable to form the reflecting layer by using a technique such as sputtering. In addition, the reflective layer material other than the desired portion,
It can be removed by a technique such as photoetching. Further, since the surface of the second base material has irregularities, the reflective layer material may not be laminated to have a uniform thickness. In such a case, it is preferable to employ the rotary evaporation method or the rotary sputtering method. Furthermore, while forming a reflection layer, the reflection layer is formed by a TFT (Thin Film Transistor),
It is preferable to electrically connect to a terminal such as MIM (Metal Insulating Metal).

【0063】[第4実施形態]第4実施形態は、アクテ
ィブ素子として2端子型の能動素子であるTFD(Thin
Film Diode)を用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、
当該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反
射膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板
が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複
数の凸部又は凹部を、RGBドット100〜2,000
又は画面全体を一単位として、ランダムに配列してある
ことを特徴とした液晶表示装置である。以下、図22〜
図24を参照して具体的に説明するが、外部光を用いた
反射表示と照明装置を用いた透過表示を選択的に行うこ
とができる方式の半透過反射型液晶装置を例にとって説
明する。
[Fourth Embodiment] In the fourth embodiment, as an active element, a TFD (Thin
A liquid crystal display device of an active matrix system using a film diode, comprising a liquid crystal element sandwiched between substrates,
A substrate with a light reflection film provided on a substrate on the side opposite to the observation side of the liquid crystal element, and the substrate with the light reflection film includes a base material and a reflection layer, and is formed on the base material. The plurality of convex portions or concave portions are provided with RGB dots 100 to 2,000.
Alternatively, the liquid crystal display device is characterized in that the entire screen is set as one unit and arranged randomly. Hereinafter, FIG. 22-
This will be specifically described with reference to FIG. 24, but a semi-transmissive reflective liquid crystal device of a system capable of selectively performing reflective display using external light and transmissive display using an illumination device will be described as an example.

【0064】まず、本実施形態においても液晶装置23
0は、図22に示すように、第1基板231aと第2基
板231bとをシール材(図示せず)によって貼り合わ
せ、さらに、第1基板231a、第2基板231b及び
シール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内
に液晶を封入することによって形成される。なお、一方
の基板231bの表面に、液晶駆動用IC(図示せず)
が、例えば、COG(Chip on glass)方式によって直
接的に実装されていることが好ましい。そして、図22
において、液晶装置230の表示領域を構成する複数の
表示ドットのうち、数個の断面構造を拡大して示してお
り、図23は、1つの表示ドット部分の断面構造を示し
ている。
First, also in the present embodiment, the liquid crystal device 23
As shown in FIG. 22, 0 indicates that the first substrate 231a and the second substrate 231b are bonded to each other with a sealing material (not shown), and further, a gap surrounded by the first substrate 231a, the second substrate 231b and the sealing material. That is, it is formed by enclosing the liquid crystal in the cell gap. A liquid crystal driving IC (not shown) is provided on the surface of one substrate 231b.
However, it is preferable to be directly mounted by, for example, a COG (Chip on glass) method. And FIG.
In FIG. 23, some of the plurality of display dots forming the display area of the liquid crystal device 230 are shown in an enlarged scale, and FIG. 23 shows the sectional structure of one display dot portion.

【0065】ここで、図22に示すように、第2基板2
31bのシール材によって囲まれる内部領域には、複数
の画素電極が、行方向XX及び列方向YYに関してドッ
トマトリクス状の配列で形成される。また、第1基板2
31aのシール材によって囲まれる内部領域にはストラ
イプ状の電極が形成され、そのストライプ状電極が第2
基板231b側の複数の画素電極に対向して配置される
ことになる。また、第1基板231a上のストライプ状
電極と、第2基板231b上の1つの画素電極によって
液晶を挟んだ部分が1つの表示ドットを形成し、この表
示ドットの複数個がシール材によって囲まれる内部領域
内で、ドットマトリクス状に配列することによって表示
領域が形成される。また、液晶駆動用ICは複数の表示
ドット内の対向電極間に選択的に走査信号及びデータ信
号を印加することにより、液晶の配向を表示ドット毎に
制御することになる。すなわち、液晶の配向制御により
該液晶を通過する光が変調されて、表示領域内に文字、
数字等といった像が表示される。
Here, as shown in FIG. 22, the second substrate 2
A plurality of pixel electrodes are formed in a dot matrix arrangement in the row direction XX and the column direction YY in the inner region surrounded by the seal material 31b. In addition, the first substrate 2
A striped electrode is formed in the inner region surrounded by the sealing material 31a, and the striped electrode is the second electrode.
It is arranged so as to face the plurality of pixel electrodes on the substrate 231b side. Further, a portion where the liquid crystal is sandwiched between the stripe-shaped electrode on the first substrate 231a and one pixel electrode on the second substrate 231b forms one display dot, and a plurality of the display dots are surrounded by the sealant. A display area is formed by arranging in a dot matrix shape in the internal area. Further, the liquid crystal driving IC selectively controls the orientation of the liquid crystal for each display dot by selectively applying the scanning signal and the data signal between the counter electrodes in the plurality of display dots. That is, the light passing through the liquid crystal is modulated by controlling the alignment of the liquid crystal, and characters are displayed in the display area.
Images such as numbers are displayed.

【0066】また、図23において、第1基板231a
は、ガラス、プラスチック等によって形成された基材2
36aと、その基材236aの内側表面に形成された光
反射膜231と、その光反射膜231の上に形成された
カラーフィルタ242と、そのカラーフィルタ242の
上に形成された透明なストライプ状電極243とを有す
る。そのストライプ状電極243の上には、配向膜24
1aが形成される。この配向膜241aに対して配向処
理としてのラビング処理が施される。ストライプ状電極
243は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明
導電材料によって形成される。
Further, in FIG. 23, the first substrate 231a
Is a base material 2 formed of glass, plastic, or the like.
36a, a light reflection film 231 formed on the inner surface of the base material 236a, a color filter 242 formed on the light reflection film 231, and a transparent stripe shape formed on the color filter 242. An electrode 243. The alignment film 24 is formed on the striped electrode 243.
1a is formed. A rubbing process as an alignment process is performed on the alignment film 241a. The striped electrodes 243 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

【0067】また、第1基板231aに対向する第2基
板231bは、ガラス、プラスチック等によって形成さ
れた基材236bと、その基材236bの内側表面に形
成されたスイッチング素子として機能するアクティブ素
子としてのTFD(Thin Film Diode)247と、この
TFD247に接続された画素電極239とを有する。
TFD247及び画素電極239の上には、配向膜24
1bが形成され、この配向膜241bに対して配向処理
としてのラビング処理が施される。画素電極239は、
例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料に
よって形成される。
The second substrate 231b facing the first substrate 231a is a base material 236b made of glass, plastic or the like and an active element functioning as a switching element formed on the inner surface of the base material 236b. TFD (Thin Film Diode) 247 and a pixel electrode 239 connected to this TFD 247.
The alignment film 24 is formed on the TFD 247 and the pixel electrode 239.
1b is formed, and the alignment film 241b is subjected to a rubbing process as an alignment process. The pixel electrode 239 is
For example, it is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

【0068】また、第1基板231aに属するカラーフ
ィルタ242は、第2基板231b側の画素電極239
に対向する位置にR(赤),G(緑),B(青)又はY
(イエロー),M(マゼンタ),C(シアン)等といっ
た各色のいずれかの色フィルタエレメント242aを有
し、画素電極239に対向しない位置にブラックマスク
242bを有することが好ましい。
Further, the color filter 242 belonging to the first substrate 231a has the pixel electrode 239 on the second substrate 231b side.
R (red), G (green), B (blue) or Y at the position facing
It is preferable to have a color filter element 242a of any color such as (yellow), M (magenta), and C (cyan), and to have a black mask 242b at a position not facing the pixel electrode 239.

【0069】また、図23に示すように、第1基板23
1aと第2基板231bとの間の間隔、すなわちセルギ
ャップはいずれか一方の基板の表面に分散された球状の
スペーサ304によって寸法が維持され、そのセルギャ
ップ内に液晶が封入される。ここで、TFD247は、
図23に示すように、第1金属層244と、その第1金
属層244の表面に形成された絶縁層246と、その絶
縁層246の上に形成された第2金属層248とによっ
て構成されている。このようにTFD247は、第1金
属層/絶縁層/第2金属層から成る積層構造、いわゆる
MIM(Metal Insulator Metal)構造によって構成さ
れている。
As shown in FIG. 23, the first substrate 23
The space between 1a and the second substrate 231b, that is, the cell gap, is maintained in size by the spherical spacers 304 dispersed on the surface of one of the substrates, and the liquid crystal is sealed in the cell gap. Here, TFD247 is
As shown in FIG. 23, the first metal layer 244, the insulating layer 246 formed on the surface of the first metal layer 244, and the second metal layer 248 formed on the insulating layer 246 are formed. ing. As described above, the TFD 247 has a laminated structure including the first metal layer / insulating layer / second metal layer, that is, a so-called MIM (Metal Insulator Metal) structure.

【0070】また、第1金属層244は、例えば、タン
タル単体、タンタル合金等によって形成される。第1金
属層244としてタンタル合金を用いる場合には、主成
分のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリ
ブデン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプ
ロリウム等といった周期律表において第6〜第8族に属
する元素が添加される。
The first metal layer 244 is made of, for example, tantalum simple substance, tantalum alloy, or the like. When a tantalum alloy is used as the first metal layer 244, tantalum as a main component is added to groups 6 to 8 in the periodic table such as tungsten, chromium, molybdenum, rhenium, yttrium, lanthanum, and disprolium. The element to which it belongs is added.

【0071】また、第1金属層244はライン配線24
9の第1層249aと一体に形成される。このライン配
線249は画素電極239を間に挟んでストライプ状に
形成され、画素電極239へ走査信号を供給するための
走査線又は画素電極239へデータ信号を供給するため
のデータ線として作用する。また、絶縁層246は、例
えば、陽極酸化法によって第1金属層244の表面を酸
化することによって形成された酸化タンタル(Ta
25)によって構成される。なお、第1金属層244を
陽極酸化したときには、ライン配線249の第1層24
9aの表面も同時に酸化されて、同様に酸化タンタルか
ら成る第2層249bが形成される。
The first metal layer 244 is the line wiring 24.
9 of the first layer 249a is integrally formed. The line wiring 249 is formed in a stripe shape with the pixel electrode 239 interposed therebetween, and functions as a scanning line for supplying a scanning signal to the pixel electrode 239 or a data line for supplying a data signal to the pixel electrode 239. In addition, the insulating layer 246 is formed of, for example, tantalum oxide (Ta) formed by oxidizing the surface of the first metal layer 244 by an anodic oxidation method.
2 O 5 ). When the first metal layer 244 is anodized, the first layer 24 of the line wiring 249 is
The surface of 9a is also oxidized at the same time to form a second layer 249b also made of tantalum oxide.

【0072】また、第2金属層248は、例えばCr等
といった導電材によって形成される。画素電極239
は、その一部が第2金属層248の先端に重なるように
基材236bの表面に形成される。なお、基材236b
の表面には、第1金属層244及びライン配線の第1層
249aを形成する前に酸化タンタル等によって下地層
を形成することがある。これは、第2金属層248の堆
積後における熱処理によって第1金属層244が下地か
ら剥離しないようにしたり、第1金属層244に不純物
が拡散しないようにしたりするためである。
The second metal layer 248 is made of a conductive material such as Cr. Pixel electrode 239
Is formed on the surface of the base material 236b so that a part thereof overlaps the tip of the second metal layer 248. The base material 236b
An underlying layer may be formed on the surface of the above with tantalum oxide or the like before forming the first metal layer 244 and the first layer 249a of the line wiring. This is to prevent the first metal layer 244 from being separated from the base by heat treatment after the deposition of the second metal layer 248, and to prevent impurities from diffusing into the first metal layer 244.

【0073】そして、第1基板231aに形成された光
反射膜231は、例えば、アルミニウム等といった光反
射性の金属によって形成され、第2基板231bに属す
る各画素電極239に対応する位置、すなわち各表示ド
ットに対応する位置に光透過用の開口241が形成され
る。また、光反射膜231の液晶側表面には、例えば、
図7及び図17〜図21に示すような長円形状でドーム
形状の谷部又は山部80、84、180、190、20
0、210、220が形成してあることが好ましい。す
なわち、かかる谷部又は山部80、84、180、19
0、200、210、220は、ライン配線の延在方向
であるX軸線方向を長軸とし、それと直角なY軸線方向
が短軸となるように配列されていることが好ましい。ま
た、谷部又は山部80、84、180、190、20
0、210、220の長軸方向Xは、基材のXX方向に
延びる端辺に対して平行に設定され、短軸方向Yは基材
のYY方向に延びる端辺に対して平行に設定されている
ことが好ましい。
The light reflecting film 231 formed on the first substrate 231a is formed of a light reflecting metal such as aluminum, and is located at a position corresponding to each pixel electrode 239 belonging to the second substrate 231b. An opening 241 for transmitting light is formed at a position corresponding to the display dot. Further, on the liquid crystal side surface of the light reflection film 231, for example,
As shown in FIG. 7 and FIGS. 17 to 21, the dome-shaped valleys or ridges 80, 84, 180, 190, 20 having an oval shape.
It is preferable that 0, 210 and 220 are formed. That is, such valleys or peaks 80, 84, 180, 19
It is preferable that 0, 200, 210, and 220 are arranged such that the X-axis direction, which is the extending direction of the line wiring, has a long axis and the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction has a short axis. In addition, valleys or mountains 80, 84, 180, 190, 20
The major axis X of 0, 210, 220 is set parallel to the edge of the base material extending in the XX direction, and the minor axis Y is set parallel to the edge of the base material extending in the YY direction. Preferably.

【0074】第4実施形態の液晶表示装置230は以上
のように構成されているので、当該液晶表示装置230
が反射型表示を行う場合には、図23において、観察者
側すなわち第2基板231b側から液晶表示装置230
の内部へ入った外部光は、液晶を通過して光反射膜23
1に到達し、当該反射膜231で反射して再び液晶へ供
給される(図23の矢印F1参照)。液晶は、画素電極
239とストライプ状対向電極243との間に印加され
る電圧、すなわち走査信号及びデータ信号によって表示
ドット毎にその配向が制御され、これにより、液晶に供
給された反射光は表示ドット毎に変調され、これにより
観察者側に文字、数字等といった像が表示される。
Since the liquid crystal display device 230 of the fourth embodiment is configured as described above, the liquid crystal display device 230 concerned.
23 performs liquid crystal display, the liquid crystal display device 230 is viewed from the viewer side, that is, the second substrate 231b side in FIG.
Light that has entered the inside of the light passes through the liquid crystal and is reflected by the light reflection film 23.
1 is reached, reflected by the reflective film 231, and supplied again to the liquid crystal (see arrow F1 in FIG. 23). The orientation of the liquid crystal is controlled for each display dot by the voltage applied between the pixel electrode 239 and the stripe-shaped counter electrode 243, that is, the scanning signal and the data signal, whereby the reflected light supplied to the liquid crystal is displayed. It is modulated for each dot, so that an image such as letters and numbers is displayed on the observer side.

【0075】他方、液晶表示装置230が透過型表示を
行う場合には、第1基板231aの外側に配置された照
明装置(図示せず)、いわゆるバックライトが発光し、
この発光が偏光板233a、位相差板232a、基材2
36a、光反射膜231の開口241、カラーフィルタ
242、電極243及び配向膜241aを通過した後に
液晶に供給される(図23の矢印F2参照)。この後、
反射型表示の場合と同様にして表示が行われる。
On the other hand, when the liquid crystal display device 230 performs a transmissive display, an illuminating device (not shown) arranged outside the first substrate 231a, a so-called backlight, emits light.
This emitted light serves as a polarizing plate 233a, a retardation film 232a, and a base material 2.
36a, the opening 241 of the light reflection film 231, the color filter 242, the electrode 243, and the alignment film 241a, and then is supplied to the liquid crystal (see arrow F2 in FIG. 23). After this,
Display is performed in the same manner as in the case of reflective display.

【0076】そして、第4実施形態では、光反射膜付基
板における基材上に、複数の凸部又は凹部を、RGBド
ット100〜2、000又は画面全体を一単位として、
平面方向にランダムに配列してあることから、干渉縞の
発生を少なくすることができる。また、第4実施形態に
おいて、上述したように、複数の凸部又は凹部における
X軸線に沿った立体形状とY軸線に沿った立体形状とを
互いに異ならせた場合には、一定の視野角方向への反射
光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への反射
光量を増大させることができる。この結果、観察者は、
光反射膜を用いて行われる反射型表示の際に、液晶表示
装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方向に
関して非常に明るい表示として観察できる。
In the fourth embodiment, a plurality of convex portions or concave portions are formed on the base material of the substrate with the light reflecting film, the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen as one unit.
Since they are randomly arranged in the plane direction, it is possible to reduce the occurrence of interference fringes. Further, in the fourth embodiment, as described above, when the three-dimensional shape along the X-axis and the three-dimensional shape along the Y-axis in the plurality of protrusions or recesses are different from each other, a constant viewing angle direction is obtained. It is possible to increase the amount of reflected light in another specific viewing angle direction while suppressing the amount of reflected light to be low. As a result, the observer
In the reflective display performed using the light reflecting film, the image displayed in the display area of the liquid crystal display device can be observed as a very bright display in a specific viewing angle direction.

【0077】[第5実施形態]第5実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、
RGBドット100〜2,000又は画面全体を一単位
として、平面方向にランダムに配列してあることを特徴
とした液晶表示装置である。以下、図13を適宜参照し
ながら、第5実施形態におけるパッシブマトリクス方式
の反射型液晶表示装置を、具体的に説明する。なお、以
下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識
可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮
尺を異ならせてある場合がある。
[Fifth Embodiment] A fifth embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light-reflecting film provided on the substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light-reflecting film is composed of a base material and a reflective layer, and the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material,
The liquid crystal display device is characterized in that the RGB dots 100 to 2,000 or the entire screen are randomly arranged in a plane direction. Hereinafter, the passive-matrix reflective liquid crystal display device according to the fifth embodiment will be specifically described with reference to FIG. 13 as appropriate. In each drawing shown below, the scale may be different for each layer and each member in order to make each layer and each member recognizable in the drawing.

【0078】1.構成図13に示すように、この液晶表
示装置140は、相互に対向する第1基板141と第2
基板142とがシール材158を介して貼り合わされ、
両基板の間に液晶144が封入された構成となってい
る。さらに、この液晶表示装置141の観察側には、光
透過性を有する保護板145が配設される。この保護板
145は、当該液晶表示装置140を外部から与えられ
る衝撃などから保護するための板状部材であり、例えば
液晶表示装置140が搭載される電子機器の筐体に設け
られる。また、保護板145は、液晶表示装置140に
おける第1基板141(観察側の基板)の基板面と近接
するように配設される。なお、本実施形態においては、
プラスチックからなる保護板145を、第1基板141
の構成要素のうち最も観察側に位置する偏光板146の
表面に当接させた場合を想定する。このように保護板1
45をプラスチックにより構成した場合、成形が容易で
安価に製造できるという利点がある反面、その表面に微
細な凹凸が形成されやすい。
1. Configuration As shown in FIG. 13, the liquid crystal display device 140 includes a first substrate 141 and a second substrate 141 which face each other.
The substrate 142 and the substrate 142 are attached to each other via the sealing material 158,
A liquid crystal 144 is enclosed between both substrates. Further, on the observation side of the liquid crystal display device 141, a light-transmitting protective plate 145 is provided. The protection plate 145 is a plate-like member for protecting the liquid crystal display device 140 from an impact given from the outside, and is provided, for example, in a housing of an electronic device in which the liquid crystal display device 140 is mounted. In addition, the protective plate 145 is arranged so as to be close to the substrate surface of the first substrate 141 (observation-side substrate) in the liquid crystal display device 140. In the present embodiment,
The protective plate 145 made of plastic is attached to the first substrate 141.
It is assumed that the surface of the polarizing plate 146 located closest to the observation side among the above components is brought into contact with the surface. In this way the protective plate 1
When 45 is made of plastic, it has the advantage of being easy to mold and can be manufactured at low cost, but on the other hand, fine irregularities are easily formed on the surface.

【0079】一方、液晶表示装置140の第1基板14
1および第2基板142は、ガラスや石英、プラスチッ
ク等の光透過性を有する板状部材である。このうち、観
察側に位置する第1基板141の内側(液晶144側)
表面には、所定の方向に延在する複数の透明電極143
が形成されている。各透明電極143は、ITO(Indi
um Tin Oxide)等の透明導電材料によって形成された帯
状の電極である。さらに、これらの透明電極143が形
成された第1基板141の表面は、配向膜(図示略)に
よって覆われている。この配向膜はポリイミド等の有機
薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶144
の配向方向を規定するためのラビング処理が施されてい
る。
On the other hand, the first substrate 14 of the liquid crystal display device 140.
The first and second substrates 142 are light-transmissive plate-shaped members made of glass, quartz, plastic, or the like. Of these, the inside of the first substrate 141 located on the observation side (the liquid crystal 144 side)
The surface has a plurality of transparent electrodes 143 extending in a predetermined direction.
Are formed. Each transparent electrode 143 is made of ITO (Indi
um Tin Oxide) is a strip-shaped electrode made of a transparent conductive material. Further, the surface of the first substrate 141 on which these transparent electrodes 143 are formed is covered with an alignment film (not shown). This alignment film is an organic thin film such as polyimide, and is a liquid crystal 144 when no voltage is applied.
Rubbing treatment for defining the orientation direction of the.

【0080】2.光散乱膜 第1基板141の外側(液晶144とは反対側)には、
入射光を所定方向に偏光させる偏光板146と、第1基
板141と偏光板146との間に介在する散乱層147
とが設けられている。散乱層147は、当該散乱層14
7を透過する光を散乱させるための層であり、偏光板1
46を第1基板141に貼着するための接着剤148a
と、当該接着剤148a中に分散された多数の微粒子1
48bとを有する。この散乱層147としては、例えば
アクリル系又はエポキシ系等の接着剤148aに、シリ
カからなる微粒子148bを分散させたものを用いるこ
とができる。そして、接着剤148aの屈折率と微粒子
148bの屈折率とは異なっており、当該散乱層147
に入射した光は接着剤148aと微粒子148bとの境
界において屈折するようになっている。この結果、散乱
層147への入射光を、適度に散乱させた状態で出射さ
せることができる。
2. Outside the light-scattering film first substrate 141 (on the side opposite to the liquid crystal 144),
A polarizing plate 146 that polarizes incident light in a predetermined direction, and a scattering layer 147 that is interposed between the first substrate 141 and the polarizing plate 146.
And are provided. The scattering layer 147 is the scattering layer 14
Polarizing plate 1 is a layer for scattering the light passing through 7.
Adhesive 148a for attaching 46 to the first substrate 141
And a large number of fine particles 1 dispersed in the adhesive 148a.
And 48b. As the scattering layer 147, for example, an acrylic or epoxy adhesive 148a in which fine particles 148b made of silica are dispersed can be used. The refractive index of the adhesive 148a and the refractive index of the fine particles 148b are different, and the scattering layer 147
The light incident on is refracted at the boundary between the adhesive 148a and the fine particles 148b. As a result, the incident light on the scattering layer 147 can be emitted while being appropriately scattered.

【0081】さらに、第5実施形態における散乱層14
7は、そのヘイズ値(曇価)Hが10〜60%の範囲内
の値となるように、接着剤148a中に分散される微粒
子148bの数や両者の屈折率などが選定されている。
ここで、ヘイズ値Hとは、ある部材への入射光が当該部
材を透過する際に散乱する程度を表す値であり、以下の
式により定義される。 ヘイズ値(曇価)H=(Td/Tt)×100(%)
Furthermore, the scattering layer 14 in the fifth embodiment.
For No. 7, the number of fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a, the refractive index of both of them, and the like are selected so that the haze value (cloudiness value) H is within the range of 10 to 60%.
Here, the haze value H is a value that represents the degree to which light incident on a member is scattered when passing through the member, and is defined by the following formula. Haze value (cloudiness value) H = (Td / Tt) × 100 (%)

【0082】ここで、Ttは全光線透過率(%)であ
り、Tdは散乱光透過率(%)である。全光線透過率T
tは、ヘイズ値Hの測定対象となる試料への入射光量の
うち当該試料を透過した光量の割合を表す値である。一
方、散乱光透過率Tdは、試料に対して所定方向から光
を照射した場合に、当該試料を透過した光量のうち上記
所定方向以外の方向に出射した光量(すなわち、散乱光
量)の割合を表す値である。つまり、試料からの出射光
量のうち入射光と平行な方向への出射光量の割合を平行
光透過率Tp(%)とすると、上記散乱光透過率Td
は、上記全光線透過率Ttと平行光透過率Tpとの差
(Td=Tt−Tp)により表される。上記からも明ら
かなように、ヘイズ値Hが高ければ散乱の程度が大きく
(すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が大き
く)、逆にヘイズ値Hが低ければ散乱の程度が小さい
(すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が小さい)
ということができる。なお、上記ヘイズ値(曇価)Hに
ついては、JIS(Japanese Industrial Standards) K6714
-1977に詳述されている。
Here, Tt is the total light transmittance (%), and Td is the scattered light transmittance (%). Total light transmittance T
t is a value representing the ratio of the amount of light transmitted through the sample to the amount of light incident on the sample for which the haze value H is measured. On the other hand, the scattered light transmittance Td is the ratio of the amount of light emitted in a direction other than the predetermined direction (that is, the scattered light amount) to the amount of light transmitted through the sample when the sample is irradiated with light from the predetermined direction. It is a value to represent. That is, when the ratio of the amount of light emitted from the sample in the direction parallel to the incident light is taken as the parallel light transmittance Tp (%), the scattered light transmittance Td is obtained.
Is represented by the difference (Td = Tt−Tp) between the total light transmittance Tt and the parallel light transmittance Tp. As is clear from the above, when the haze value H is high, the degree of scattering is large (that is, the proportion of the scattered light amount in the transmitted light amount is large), and conversely, when the haze value H is low, the degree of scattering is small (that is, the transmitted light amount). The proportion of the scattered light amount in the
Can be said. Regarding the haze value (haze value) H, JIS (Japanese Industrial Standards) K6714
-1977.

【0083】3.反射層(光反射膜) 一方、第2基板142の内側(液晶144側)表面には
反射層149が形成されている。この反射層149は、
液晶表示装置140に対して観察側から入射した光を反
射させるための層であり、例えばアルミニウムや銀とい
った光反射性を有する金属によって形成される。ここ
で、図13に示すように、第2基板142の内側表面の
うち反射層149によって覆われる領域は多数の微細な
突起および窪みが形成された粗面となっている。より具
体的には、基材と、反射層とを含む光反射膜であって、
当該基材の表面に形成された複数の凸部の高さ又は凹部
の深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部
又は凹部の平面形状を独立した又は一部重なった円およ
び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、か
つ、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列し
た反射層149である。このため、反射層149の表面
は、第2基板142表面の突起および窪みを反映した粗
面となる。すなわち、反射層149は、当該表面におけ
る反射光を適度に散乱させて広い視野角を実現するため
の散乱構造を有している。より具体的には、反射層14
9が、複数の凸部又は凹部からなる基材上に形成されて
おり、そして、基材に形成された複数の凸部の高さ又は
凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複
数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した又は一部重な
った円および多角形、あるいはいずれか一方の平面形状
とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にラン
ダムに配列してある構造である。
3. Reflecting Layer (Light Reflecting Film) On the other hand, a reflecting layer 149 is formed on the inner surface (on the side of the liquid crystal 144) of the second substrate 142. This reflective layer 149 is
It is a layer for reflecting the light incident on the liquid crystal display device 140 from the observation side, and is formed of a metal having a light reflectivity such as aluminum or silver. Here, as shown in FIG. 13, a region of the inner surface of the second substrate 142, which is covered by the reflective layer 149, is a rough surface on which a large number of fine protrusions and depressions are formed. More specifically, a light reflection film including a base material and a reflective layer,
The heights of the plurality of protrusions or the depths of the recesses formed on the surface of the base material are made substantially equal, and the planar shapes of the plurality of protrusions or recesses are independent or partially overlapped circles and multiple The reflection layer 149 has a prismatic shape or a planar shape of either one and has a plurality of convex portions or concave portions randomly arranged in the planar direction. Therefore, the surface of the reflective layer 149 is a rough surface that reflects the protrusions and depressions on the surface of the second substrate 142. That is, the reflective layer 149 has a scattering structure for appropriately scattering the reflected light on the surface and realizing a wide viewing angle. More specifically, the reflective layer 14
9 is formed on a base material composed of a plurality of protrusions or recesses, and the height of the plurality of protrusions or the depth of the recesses formed on the base material are made substantially equal, and The planar shape of the plurality of protrusions or recesses is an independent or partially overlapping circle and polygon, or any one of the planar shapes, and the plurality of protrusions or recesses are randomly arranged in the plane direction. It has a certain structure.

【0084】4.その他の構成 さらに、第2基板142を覆う反射層149の面上に
は、カラーフィルタ150と、遮光層151と、カラー
フィルタ150および遮光層151によって形成される
凹凸を平坦化するためのオーバーコート層157と、複
数の透明電極154と、配向膜(図示略)とが形成され
ている。各透明電極154は、第1基板141上の透明
電極143の延在方向と交差する方向(図13における
紙面左右方向)に延在する帯状の電極であり、透明電極
143と同様にITO等の透明導電材料によって形成さ
れる。かかる構成の下、液晶144は、透明電極143
と透明電極154との間に印加された電圧に応じてその
配向方向が変化する。すなわち、透明電極143と透明
電極154とが交差する領域が画素(サブ画素)として
機能するのである。カラーフィルタ150は、これらの
画素の各々に対応して設けられた樹脂層であり、染料や
顔料によってR、G、Bのいずれかに着色されている。
また、遮光層151は、各画素の間隙部分を遮光するた
めの格子状の層であり、例えばカーボンブラックが分散
された黒色樹脂材料などによって形成される。
4. Other Configurations Further, on the surface of the reflective layer 149 covering the second substrate 142, the color filter 150, the light shielding layer 151, and an overcoat for flattening the unevenness formed by the color filter 150 and the light shielding layer 151. A layer 157, a plurality of transparent electrodes 154, and an alignment film (not shown) are formed. Each transparent electrode 154 is a strip-shaped electrode extending in a direction intersecting the extending direction of the transparent electrode 143 on the first substrate 141 (left-right direction on the paper surface in FIG. 13), and like the transparent electrode 143, is made of ITO or the like. It is made of a transparent conductive material. Under such a configuration, the liquid crystal 144 has the transparent electrode 143.
The orientation direction changes according to the voltage applied between the transparent electrode 154 and the transparent electrode 154. That is, the area where the transparent electrode 143 and the transparent electrode 154 intersect functions as a pixel (sub-pixel). The color filter 150 is a resin layer provided corresponding to each of these pixels, and is colored R, G, or B with a dye or a pigment.
In addition, the light shielding layer 151 is a lattice-shaped layer for shielding the gap between the pixels from light, and is formed of, for example, a black resin material in which carbon black is dispersed.

【0085】5.動作 以上説明した構成によって反射型表示が実現される。す
なわち、太陽光や室内照明光等の外光は、保護板145
を透過して液晶表示装置140に入射し、反射層149
の表面で反射する。この反射光は、液晶144及び第1
基板141を透過し、散乱層147において適度に散乱
された後に偏光板146を透過して液晶表示装置140
の観察側に出射する。そして液晶表示装置140からの
出射光は、保護板145を透過して観察者に視認され
る。
5. Operation The reflective display is realized by the configuration described above. That is, outside light such as sunlight or indoor illumination light is protected by the protective plate 145.
And then enters the liquid crystal display device 140, and the reflective layer 149
Reflected on the surface of. This reflected light is transmitted to the liquid crystal 144 and the first
The liquid crystal display device 140 is transmitted through the substrate 141, is appropriately scattered in the scattering layer 147, and then is transmitted through the polarizing plate 146.
To the observation side. Then, the light emitted from the liquid crystal display device 140 passes through the protective plate 145 and is visually recognized by an observer.

【0086】ここで、上述したように、保護板145の
材料としてプラスチックを用いた場合、その表面を完全
な平面とすることは困難であり、複数の微細な凹凸が形
成されやすい。このように微細な凹凸が形成された保護
板145を液晶表示装置140の第1基板141と近接
するように配設した場合、当該液晶表示装置140から
の出射光が保護板145を透過するときに干渉する結
果、当該凹凸に対応する干渉縞が表示画像に重なって表
示品位の低下を招き得る。しかしながら、本発明者によ
る試験の結果、上記実施形態に示したように、液晶14
4を通過して保護板145に至る光を散乱層147によ
って散乱させた場合には、高品位の表示を実現すること
ができる。
Here, as described above, when plastic is used as the material of the protective plate 145, it is difficult to make the surface of the protective plate 145 completely flat, and a plurality of fine irregularities are likely to be formed. When the protective plate 145 having such fine irregularities is arranged close to the first substrate 141 of the liquid crystal display device 140, when the light emitted from the liquid crystal display device 140 passes through the protective plate 145. As a result, the interference fringes corresponding to the unevenness may overlap the display image, resulting in deterioration of display quality. However, as a result of the test by the present inventor, as shown in the above embodiment, the liquid crystal 14
In the case where the light that passes through 4 and reaches the protective plate 145 is scattered by the scattering layer 147, high-quality display can be realized.

【0087】また、図13に示した液晶表示装置の構成
において、干渉縞の発生を抑えるという観点からは、散
乱層147のヘイズ値Hが高い、つまり、散乱の程度が
高いことが望ましい。しかしながら、このヘイズ値Hを
あまりに高い値(例えば70%以上の値)とした場合、
液晶表示装置140から保護板145に至る光が散乱し
過ぎて表示画像のコントラストが低下する、すなわち表
示画像がぼやけるという新たな問題が生じ得る。一方、
散乱層147のヘイズ値Hをあまりに低い値とした場
合、例えば10%以下の値とした場合、凹凸に起因する
シミが見え易い。
Further, in the structure of the liquid crystal display device shown in FIG. 13, from the viewpoint of suppressing the generation of interference fringes, it is desirable that the haze value H of the scattering layer 147 is high, that is, the degree of scattering is high. However, when the haze value H is set to a too high value (for example, a value of 70% or more),
The light from the liquid crystal display device 140 to the protective plate 145 may be scattered too much, which may cause a new problem that the contrast of the display image is lowered, that is, the display image is blurred. on the other hand,
When the haze value H of the scattering layer 147 is set to a value that is too low, for example, a value of 10% or less, spots due to the unevenness are easily visible.

【0088】本発明者による試験の結果、散乱層147
のヘイズ値Hを10%〜40%の範囲内の値に設定した
場合には、表示画像のコントラストが著しく低下するの
を回避しつつ、保護板145の表面の凹凸に起因した表
示品位の低下を有効に抑えることができ、良好な表示品
位を確保できるという知見を得るに至った。したがっ
て、散乱層147のヘイズ値Hをこの範囲内の値に設定
することが望ましく、特に20%近傍の値に設定するこ
とが望ましい。
As a result of the test by the present inventors, the scattering layer 147
When the haze value H is set to a value within the range of 10% to 40%, the deterioration of the display quality due to the unevenness of the surface of the protective plate 145 is avoided while avoiding a significant decrease in the contrast of the display image. Therefore, we have obtained the knowledge that the display quality can be effectively suppressed and a good display quality can be secured. Therefore, it is desirable to set the haze value H of the scattering layer 147 to a value within this range, particularly to a value near 20%.

【0089】なお、第5実施形態に示したように、接着
剤148a中に微粒子148bを分散させた散乱層14
7を用いた場合、例えば微粒子148bの添加量(数)
を調節することによってヘイズ値Hを任意に選定するこ
とができる。すなわち、接着剤148a中に分散させる
微粒子148bの添加量を増やせば、当該散乱層147
への入射光はより散乱することとなるため、当該散乱層
147のヘイズ値Hを高くすることができ、逆に微粒子
の添加量を減らせば散乱層147のヘイズ値Hを低くす
ることができるといった具合である。
As shown in the fifth embodiment, the scattering layer 14 in which the fine particles 148b are dispersed in the adhesive 148a.
7 is used, for example, the addition amount (number) of the fine particles 148b
The haze value H can be arbitrarily selected by adjusting. That is, if the amount of the fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a is increased, the scattering layer 147 is increased.
Since the incident light on the light is further scattered, the haze value H of the scattering layer 147 can be increased, and conversely, the haze value H of the scattering layer 147 can be decreased by reducing the addition amount of the fine particles. And so on.

【0090】また、第5実施形態によれば、液晶表示装
置140から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたっ
て容易に選定できるという利点がある。すなわち、上記
散乱層147を有しない液晶表示装置において、液晶表
示装置140から出射する光の散乱の程度を調節するた
めには、反射層149の表面の形状、例えば凸部の高さ
や凹部の深さ、もしくは隣接する凸部(又は凹部)間の
距離などを調節する必要がある。しかしながら、このよ
うに反射層149の表面を正確に所望の形状にすること
は、第2基板142上に所望の凹凸を形成する製造技術
上の事情などを考慮すると必ずしも容易ではない。さら
に、反射層149表面の形状を調節することのみによっ
ては、液晶表示装置140から出射する光の散乱の程度
を調節可能な幅が極めて狭い範囲に限定されてしまう。
これに対し、本実施形態によれば、反射層149の表面
の形状を大幅に変更しなくても、散乱層147のヘイズ
値Hを変更することによって、例えば接着剤148a中
に分散する微粒子148bの添加量などを適宜調節する
ことによって、液晶表示装置140から出射する光の散
乱の程度を広範囲にわたって容易に調節できるという利
点がある。
According to the fifth embodiment, there is an advantage that the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140 can be easily selected over a wide range. That is, in a liquid crystal display device that does not have the scattering layer 147, in order to adjust the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140, the shape of the surface of the reflective layer 149, for example, the height of the convex portion or the depth of the concave portion is adjusted. It is necessary to adjust the distance between adjacent convex portions (or concave portions) or the like. However, it is not always easy to accurately form the surface of the reflective layer 149 into a desired shape in consideration of the circumstances of the manufacturing technique for forming the desired unevenness on the second substrate 142. Further, only by adjusting the shape of the surface of the reflective layer 149, the width in which the degree of scattering of light emitted from the liquid crystal display device 140 can be adjusted is limited to an extremely narrow range.
On the other hand, according to the present embodiment, even if the shape of the surface of the reflective layer 149 is not significantly changed, by changing the haze value H of the scattering layer 147, for example, the fine particles 148b dispersed in the adhesive 148a. There is an advantage that the degree of scattering of the light emitted from the liquid crystal display device 140 can be easily adjusted over a wide range by appropriately adjusting the addition amount of the.

【0091】[第6実施形態]第6実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、
RGBドット100〜2,000ドット又は画面全体を
一単位として、平面方向にランダムに配列してあるパッ
シブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置であ
る。そこで、図14を参照して、第6実施形態のパッシ
ブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置につい
て、具体的に説明する。なお、図14に示す構成要素の
うち、前掲図13に示した構成要素と共通するものにつ
いては同一の符号を付してその説明を省略する。
[Sixth Embodiment] The sixth embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light reflecting film provided on a substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light-reflecting film is composed of a base material and a reflective layer, and the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material,
It is a passive-matrix transflective liquid crystal display device in which 100 to 2,000 RGB dots or the entire screen are randomly arranged in the plane direction. Therefore, the passive matrix type transflective liquid crystal display device of the sixth embodiment will be specifically described with reference to FIG. Note that among the constituent elements shown in FIG. 14, those common to the constituent elements shown in FIG. 13 above are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0092】1.基本構成 図14に示すように、第6実施形態においては、液晶表
示装置160の背面側(観察側とは反対側)にバックラ
イトユニット153が配設される。このバックライトユ
ニット153は、光源として機能する複数のLED15
(図14においてはひとつのLED15のみが図示され
ている。)と、側端面に入射したLED15からの光を
液晶表示装置160における第2基板142の全面に導
く導光板152と、この導光板152により導かれた光
を液晶表示装置160に対して一様に拡散させる拡散板
155と、導光板152から液晶表示装置160とは反
対側に出射した光を液晶表示装置160側に反射させる
反射板156とを有する。ここで、LED15は常に点
灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないよ
うな環境において使用される場合に、ユーザからの指示
やセンサからの検出信号に応じて点灯する。
1. Basic Configuration As shown in FIG. 14, in the sixth embodiment, a backlight unit 153 is provided on the back side (opposite to the observation side) of the liquid crystal display device 160. The backlight unit 153 includes a plurality of LEDs 15 functioning as a light source.
(Only one LED 15 is shown in FIG. 14), a light guide plate 152 for guiding the light from the LED 15 incident on the side end face to the entire surface of the second substrate 142 in the liquid crystal display device 160, and the light guide plate 152. The diffuser plate 155 that uniformly diffuses the light guided by the liquid crystal display device 160, and the reflector plate that reflects the light emitted from the light guide plate 152 to the side opposite to the liquid crystal display device 160 to the liquid crystal display device 160 side. 156 and. Here, the LED 15 is not always lit, and when used in an environment where there is almost no external light, it illuminates according to an instruction from the user or a detection signal from the sensor.

【0093】さらに、第6実施形態に係る液晶表示装置
160においては、反射層149のうち各画素の中央部
近傍に対応する領域に開口部159が形成されている。
また、第2基板142の外側(液晶144とは反対側)
にはもう一対の偏光板が貼着されるが、図14において
はその偏光板については、図示が省略されている。
Further, in the liquid crystal display device 160 according to the sixth embodiment, the opening 159 is formed in the region corresponding to the vicinity of the central portion of each pixel in the reflective layer 149.
The outside of the second substrate 142 (the side opposite to the liquid crystal 144)
Another pair of polarizing plates are attached to the sheet, but the polarizing plate is not shown in FIG.

【0094】2.動作 かかる構成の液晶表示装置160によれば、上記第5実
施形態において示した反射型表示に加えて、透過型表示
を実現することができる。すなわち、バックライトユニ
ット153から液晶表示装置160に照射された光は、
反射層149の開口部159を通過する。この光は、液
晶144および第1基板141を透過し、散乱層147
において散乱した後に偏光板146を透過して液晶表示
装置160の観察側に出射する。そして、この出射光が
保護板145を透過して観察側に出射することにより、
透過型表示が実現されるのである。したがって、本実施
形態においても、上述した第5実施形態と同様、表面に
微細な凹凸が形成された保護板145を液晶表示装置1
60と近接して設けた場合であっても、当該凹凸に起因
した表示品位の低下を抑えることができる。
2. According to the liquid crystal display device 160 having such a configuration, a transmissive display can be realized in addition to the reflective display shown in the fifth embodiment. That is, the light emitted from the backlight unit 153 to the liquid crystal display device 160 is
It passes through the opening 159 of the reflective layer 149. This light passes through the liquid crystal 144 and the first substrate 141, and the scattering layer 147.
After being scattered at, the light passes through the polarizing plate 146 and is emitted to the observation side of the liquid crystal display device 160. Then, the emitted light passes through the protective plate 145 and is emitted to the observation side,
The transmissive display is realized. Therefore, also in the present embodiment, as in the fifth embodiment described above, the protective plate 145 having fine irregularities formed on the surface thereof is used as the liquid crystal display device 1.
Even when it is provided close to 60, it is possible to suppress the deterioration of display quality due to the unevenness.

【0095】[第7実施形態]第7実施形態は、基板間に
挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対
側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表示
装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層から
なり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、R
GBドット100〜2,000又は画面全体を一単位と
して、平面方向にランダムに配列してある液晶表示装置
の変形例である。
[Seventh Embodiment] A seventh embodiment is a liquid crystal including a liquid crystal element sandwiched between substrates and a light reflection film provided on a substrate opposite to the viewing side of the liquid crystal element. In the display device, the light reflection film includes a base material and a reflective layer, and the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are R
This is a modification of the liquid crystal display device in which the GB dots 100 to 2,000 or the entire screen is taken as one unit and arranged randomly in the plane direction.

【0096】(1)変形例1 上記各実施形態においては、散乱層147を第1基板1
41と偏光板146との間に設けた構成としたが、散乱
層147の位置はこれに限られるものではない。例え
ば、干渉色を補償するための位相差板を偏光板146と
第1基板141との間に設ける場合、当該位相差板と第
1基板141との間に散乱層147を介挿してもよい
し、又は位相差板と偏光板146との間に散乱層147
を介挿してもよい。要は、散乱層147が、液晶144
に対して保護板145側に設けられた構成であればよい
のである。
(1) Modified Example 1 In each of the above embodiments, the scattering layer 147 is provided on the first substrate 1.
Although the structure is provided between 41 and the polarizing plate 146, the position of the scattering layer 147 is not limited to this. For example, when a retardation plate for compensating the interference color is provided between the polarizing plate 146 and the first substrate 141, the scattering layer 147 may be interposed between the retardation plate and the first substrate 141. Or a scattering layer 147 between the retardation plate and the polarizing plate 146.
May be inserted. In short, the scattering layer 147 is the liquid crystal 144.
On the other hand, the structure provided on the side of the protective plate 145 is sufficient.

【0097】また、上記各実施形態においては、接着剤
148a中に多数の微粒子148bを分散させた構成の
散乱層147を用いたが、散乱層147の構成はこれに
限られるものではなく、入射光を散乱させることができ
る層であれば、いかなる構成であってもよい。もっと
も、接着剤148aを含む散乱層147を用いた場合に
は、当該散乱層147を挟む部材(例えば、上記各実施
形態における第1基板141と偏光板146同士を当該
接着剤148aによって接着することができるから、接
着剤148aを含まない散乱層147を用いた場合と比
較して、製造コストの低減および製造工程の簡素化を図
ることができるという利点がある。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the scattering layer 147 having a structure in which a large number of fine particles 148b are dispersed in the adhesive 148a is used, but the structure of the scattering layer 147 is not limited to this, and is incident. Any structure may be used as long as it can scatter light. However, when the scattering layer 147 including the adhesive 148a is used, the members sandwiching the scattering layer 147 (for example, the first substrate 141 and the polarizing plates 146 in each of the above embodiments may be bonded by the adhesive 148a). Therefore, as compared with the case where the scattering layer 147 not containing the adhesive 148a is used, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified.

【0098】(2)変形例2 上記第5実施形態においては反射型液晶表示装置を、第
6実施形態においては半透過反射型液晶表示装置を例示
したが、反射層149を有さず透過型表示のみを行う透
過型液晶表示装置にも本発明を適用可能である。すなわ
ち、透過型液晶表示装置においては、図14に示した半
透過反射型液晶表示装置のうち反射層149を除いた構
成とすればよい。また、上記第4実施形態においては、
開口部159を有する反射層149によって反射型表示
と透過型表示の双方を実現する構成としたが、かかる反
射層149に代えて、照射された光のうちの一部を透過
させて他の一部を反射させる、いわゆるハーフミラーを
用いた半透過反射型液晶表示装置にも、本発明を適用で
きることはいうまでもない。
(2) Modified Example 2 In the fifth embodiment, the reflective liquid crystal display device and the transflective liquid crystal display device in the sixth embodiment are exemplified, but the reflective layer 149 is not provided and the transmissive liquid crystal display device is used. The present invention can be applied to a transmissive liquid crystal display device that performs only display. That is, in the transmissive liquid crystal display device, the transflective liquid crystal display device shown in FIG. 14 may be configured without the reflective layer 149. In addition, in the fourth embodiment,
Although both the reflective display and the transmissive display are realized by the reflective layer 149 having the opening 159, instead of the reflective layer 149, a part of the irradiated light is transmitted and the other one is transmitted. It goes without saying that the present invention can also be applied to a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device using a so-called half mirror that reflects a portion.

【0099】(3)変形例3 上記各実施形態においては、保護板145としてプラス
チックの板状部材を用いた場合を例示した。かかる保護
板145の表面には凹凸が形成されやすいため、本発明
を適用することによって特に顕著な効果を奏し得る。し
かしながら、保護板145の材料はこれに限られるもの
ではなく、他にも様々な材料の板状部材を保護板145
として用いることができる。
(3) Modified Example 3 In each of the above embodiments, the case where a plastic plate member is used as the protective plate 145 has been illustrated. Since irregularities are likely to be formed on the surface of the protective plate 145, the application of the present invention can exert a particularly remarkable effect. However, the material of the protective plate 145 is not limited to this, and plate members made of various other materials may be used as the protective plate 145.
Can be used as

【0100】(4)変形例4 上記各実施形態においては、パッシブマトリクス方式の
液晶表示装置に本発明を適用した場合を例示したが、T
FD(Thin Film Diode)に代表される二端子型スイッ
チング素子や、TFT(Thin Film Transistor)に代表
される三端子型スイッチング素子を用いたアクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置にも、本発明を適用可能で
ある。また、上記各実施形態においては、カラーフィル
タ150や遮光層151が第2基板142上に形成され
た場合を例示したが、これらの要素が第1基板141上
に形成された構成の液晶表示装置や、カラーフィルタ1
50又は遮光層151を具備しない液晶表示装置にも、
本発明を適用可能であることはいうまでもない。このよ
うに、観察側に近接して保護板145が配設される構成
の液晶表示装置160であれば、その他の要素の態様の
如何に拘わらず、本発明を適用することができる。
(4) Modified Example 4 In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device has been illustrated.
The present invention is also applicable to an active matrix type liquid crystal display device using a two-terminal switching element represented by FD (Thin Film Diode) and a three-terminal switching element represented by TFT (Thin Film Transistor). Is. Further, in each of the above-described embodiments, the case where the color filter 150 and the light shielding layer 151 are formed on the second substrate 142 is illustrated, but a liquid crystal display device having a configuration in which these elements are formed on the first substrate 141. Or color filter 1
50 or a liquid crystal display device that does not include the light shielding layer 151,
It goes without saying that the present invention is applicable. As described above, the present invention can be applied to the liquid crystal display device 160 having the configuration in which the protective plate 145 is arranged close to the observation side regardless of the aspect of other elements.

【0101】(5)変形例5 上記第4実施形態においては、アクティブ素子として2
端子型の能動素子であるTFDを用いたアクティブマト
リクス方式の液晶表示装置を例示したが、図13に示す
ように、アクティブ素子として3端子型の能動素子であ
るTFTを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示
装置でもよい。この場合には、図13に示すように、遮
光領域にTFT素子を設けることが好ましい。
(5) Modified Example 5 In the fourth embodiment described above, 2 active elements are used.
Although an active matrix type liquid crystal display device using a TFD which is a terminal type active element has been exemplified, as shown in FIG. 13, an active matrix type liquid crystal using a TFT which is a three terminal type active element as an active element. It may be a display device. In this case, it is preferable to provide a TFT element in the light shielding area as shown in FIG.

【0102】[第8実施形態]第8実施形態は、光反射膜
を具備した液晶表示装置を含む電子機器であって、光反
射膜が、基材および反射層を含み、当該基材に形成され
た複数の凸部又は凹部は、RGBドット100〜2,0
00又は画面全体を一単位として、平面方向にランダム
に配列してあることを特徴とする電子機器である。
[Eighth Embodiment] An eighth embodiment is an electronic apparatus including a liquid crystal display device having a light reflection film, in which the light reflection film includes a base material and a reflection layer, and is formed on the base material. The plurality of convex portions or concave portions formed are the RGB dots 100 to 2,0.
00 or the entire screen as one unit, which is randomly arranged in the plane direction.

【0103】(1)モバイル型コンピュータ まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナ
ルコンピュータ(いわゆるノート型パーソナルコンピュ
ータ)の表示部に適用した例について説明する。図15
は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図で
ある。同図に示すように、パーソナルコンピュータ16
1は、キーボード162を備えた本体部163と、本発
明に係る液晶表示装置(図示略)を用いた表示部164
とを備えている。表示部164は、窓部165に対応し
てプラスチックの保護板145が配設された筐体166
に、本発明に係る液晶表示装置160が収容された構成
となっている。より詳細には、液晶表示装置160は、
その観察側の基板面が保護板145と近接するように、
筐体166に収容されている。なお、かかるパーソナル
コンピュータ161においては、外光が十分に存在しな
い状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第
7実施形態に示したように、背面側にバックライトユニ
ット153を備えた半透過反射型液晶表示装置を用いる
ことが望ましい。
(1) Mobile Computer First, an example in which the liquid crystal display device according to the present invention is applied to the display portion of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. Figure 15
FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in FIG.
Reference numeral 1 denotes a main body portion 163 having a keyboard 162, and a display portion 164 using a liquid crystal display device (not shown) according to the present invention.
It has and. The display unit 164 has a housing 166 in which a plastic protective plate 145 is arranged corresponding to the window 165.
In addition, the liquid crystal display device 160 according to the present invention is housed. More specifically, the liquid crystal display device 160 is
So that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 145,
It is housed in a housing 166. In the personal computer 161, the backlight unit 153 is provided on the back side as shown in the seventh embodiment in order to ensure the visibility of the display even under the condition that the external light is not sufficiently present. It is desirable to use the provided transflective liquid crystal display device.

【0104】(2)携帯電話機 次に、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示
部に適用した例について説明する。図16は、この携帯
電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、
携帯電話機170は、複数の操作ボタン171のほか、
受話口172、送話口173とともに、本発明に係る液
晶表示装置(図示略)を用いた表示部174を備えてい
る。この携帯電話機170においては、窓部174bに
対応してプラスチックの保護板175が配設された筐体
176に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成
となっている。なお、携帯電話機170においても、上
記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、そ
の観察側の基板面が保護板175に近接するように、筐
体176に収容されている。
(2) Mobile Phone Next, an example in which the liquid crystal display device according to the present invention is applied to the display portion of a mobile phone will be described. FIG. 16 is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure,
The mobile phone 170 has a plurality of operation buttons 171 as well as
An earpiece 172, a mouthpiece 173, and a display unit 174 using the liquid crystal display device (not shown) according to the present invention are provided. In this mobile phone 170, the liquid crystal display device according to the present invention is housed in a housing 176 in which a plastic protection plate 175 is arranged corresponding to the window 174b. In the mobile phone 170 as well, like the personal computer, the liquid crystal display device is housed in the housing 176 such that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 175.

【0105】なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可
能な電子機器としては、図15に示したパーソナルコン
ピュータや図16に示した携帯電話機のほかにも、液晶
テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、
電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機
器などが挙げられる。上述したように、本発明に係る液
晶表示装置によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板
を、当該液晶表示装置の基板面と近接するように配設し
た場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下
を抑えることができる。したがって、表示品位を損なう
ことなく、保護板を液晶表示装置に近接して配設するこ
とによって電子機器の薄型化ないし小型化を図ることが
できる。
As the electronic apparatus to which the liquid crystal display device according to the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 15 and the mobile phone shown in FIG. 16, a liquid crystal television, a viewfinder type monitor, etc. Direct-view video tape recorder, car navigation system, pager,
Examples include electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices equipped with a touch panel, and the like. As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, even when the protective plate having fine irregularities on the surface is arranged in proximity to the substrate surface of the liquid crystal display device, the irregularities are It is possible to suppress the deterioration of display quality due to. Therefore, it is possible to reduce the thickness or size of the electronic device by disposing the protective plate close to the liquid crystal display device without degrading the display quality.

【0106】[0106]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスクお
よびそれから得られる光反射膜によれば、それぞれ所定
数以上のRGBドット数を一単位として、ランダムパタ
ーンが形成されていることから、液晶表示装置等に使用
した場合には、不定形のシミ模様の視覚を抑制しなが
ら、干渉縞の発生についても効果的に抑制することがで
きるようになった。また、本発明のマスクによれば、情
報量が少なくてすむことから、小型の液晶表示装置等は
もちろんのこと、大型の液晶表示装置等においても、干
渉縞の発生が少ない光反射膜が得られるマスクを、容易
かつ迅速に設計することができるようになった。
As described above, according to the mask of the present invention and the light-reflecting film obtained therefrom, a random pattern is formed with a predetermined number or more of RGB dots as one unit. When used in a display device or the like, it has become possible to effectively suppress the occurrence of interference fringes while suppressing the visual perception of irregular spot patterns. Further, according to the mask of the present invention, since the amount of information can be small, it is possible to obtain a light reflecting film with less occurrence of interference fringes not only in a small liquid crystal display device or the like but also in a large liquid crystal display device or the like. It has become possible to easily and quickly design the masks used.

【0107】また、本発明の光反射膜を設けた液晶表示
装置および光反射膜を有する電子機器によれば、不定形
のシミ模様の視覚を抑制しながら、干渉縞の発生が少な
くなるとともに、設計や製造についても容易になった。
さらに、本発明の光反射膜を設けた液晶表示装置、並び
に光反射膜を有する電子機器によれば、表面に微細な凹
凸を有する保護板を近接して配設した場合であっても、
当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができ
るようになった。
Further, according to the liquid crystal display device provided with the light reflecting film and the electronic apparatus having the light reflecting film of the present invention, the occurrence of interference fringes is reduced while suppressing the visual sense of the irregular spot pattern. Design and manufacturing have also become easier.
Further, according to the liquid crystal display device provided with the light reflection film of the present invention, and the electronic device having the light reflection film, even when the protective plate having fine irregularities on the surface is disposed in proximity,
It has become possible to suppress deterioration in display quality due to the unevenness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のマスクを説明するために供する平面
図である。
FIG. 1 is a plan view provided for explaining a mask of the present invention.

【図2】 1画素(RGB:3ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 2 is a plan view provided for explaining a mask in which one pixel (RGB: 3 dots) is one unit and light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a planar direction.

【図3】 2画素(RGB:6ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 3 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with two pixels (RGB: 6 dots) as one unit.

【図4】 3画素(RGB:12ドット)を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。
FIG. 4 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with three pixels (RGB: 12 dots) as one unit.

【図5】 横一列を一単位として、光透過部又は光不透
過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明する
ために供する平面図である。
FIG. 5 is a plan view provided for explaining a mask in which light transmissive portions or light non-transmissive portions are randomly arranged in a plane direction with one horizontal row as one unit.

【図6】 第1の基板および第2の基板を含む光反射膜
の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a light reflecting film including a first substrate and a second substrate.

【図7】 非対称の実質的に涙型の凸部からなる光反射
膜の平面図および断面図である。
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view of a light reflecting film including an asymmetrical substantially tear-shaped convex portion.

【図8】 視覚される光量と、視認する角度の関係を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a visually sensed light amount and a visually recognized angle.

【図9】 開口部を有する光反射膜の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a light reflecting film having an opening.

【図10】 光反射膜の製造工程図である。FIG. 10 is a manufacturing process diagram of a light reflecting film.

【図11】 光反射膜の製造工程のフローチャートであ
る。
FIG. 11 is a flowchart of a manufacturing process of a light reflecting film.

【図12】 TFT素子に電気接続された光反射膜を説
明するために供する断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view provided for explaining a light reflecting film electrically connected to a TFT element.

【図13】 パッシブマトリクス方式の液晶表示装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a configuration of a passive matrix type liquid crystal display device.

【図14】 別な液晶表示装置の構成を示す断面図であ
る。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the configuration of another liquid crystal display device.

【図15】 電子機器の一例たるパーソナルコンピュー
タの構成を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of a personal computer which is an example of an electronic device.

【図16】 電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示
す斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone which is an example of an electronic device.

【図17】 実質的に円錐型の凹部からなる光反射膜付
基板の平面図及び断面図である。
17A and 17B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film which is substantially a conical recess.

【図18】 非対称の実質的に涙型の凹部からなる光反
射膜付基板の平面図及び断面図である。
FIG. 18 is a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which is composed of an asymmetrical substantially tear-shaped concave portion.

【図19】 非対称の実質的にピラミッド状の凹部から
なる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
FIG. 19 is a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which is composed of an asymmetrical substantially pyramidal recess.

【図20】 実質的に水平断面が曲率半径の小さい放物
線で垂直断面がそれより曲率半径の大きい放物線の凹部
からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
20A and 20B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film whose substantially horizontal section is a parabola having a small radius of curvature and whose vertical section is a parabolic recess having a larger radius of curvature.

【図21】 実質的に水平断面が矩形であって、垂直方
向に角錐状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び
断面図である。
21A and 21B are a plan view and a cross-sectional view of a substrate with a light-reflecting film, which has a substantially horizontal cross section and a rectangular pyramidal recess in the vertical direction.

【図22】 TFD方式の液晶表示装置の分解図であ
る。
FIG. 22 is an exploded view of a TFD type liquid crystal display device.

【図23】 TFD方式の液晶表示装置の部分断面図で
ある。
FIG. 23 is a partial cross-sectional view of a TFD type liquid crystal display device.

【図24】 TFD方式の液晶表示装置の部分斜視図で
ある。
FIG. 24 is a partial perspective view of a TFD type liquid crystal display device.

【図25】 従来の液晶表示装置の構成を示す断面図で
ある。
FIG. 25 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional liquid crystal display device.

【図26】 従来の液晶表示装置の別の構成を示す断面
図である。
FIG. 26 is a cross-sectional view showing another configuration of the conventional liquid crystal display device.

【図27】 従来の液晶表示装置の製造工程図である。FIG. 27 is a manufacturing process diagram of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:マスク 70、100:光反射膜 72、116:反射層 76、112:第1の基材 79、113:第2の基材 102:開口部 140:液晶表示装置 141:第1基板(観察側の基板) 142:第2基板 143:透明電極 144:液晶 145:保護板 146:偏光板 147:散乱層 148a:接着剤 148b:微粒子 149:反射層 150:カラーフィルタ 151:遮光層 152:導光板 153:バックライトユニット 154:透明電極 155:拡散板 156:反射板 157:オーバーコート層 158:シール材 159:開口部 160:液晶表示装置 161:パーソナルコンピュータ(電子機器) 170:携帯電話機(電子機器) 230:液晶表示装置 247:TFD 10: Mask 70, 100: light reflecting film 72, 116: reflective layer 76, 112: First base material 79, 113: Second base material 102: opening 140: Liquid crystal display device 141: First substrate (observation-side substrate) 142: Second substrate 143: transparent electrode 144: Liquid crystal 145: Protective plate 146: Polarizing plate 147: Scattering layer 148a: adhesive 148b: Fine particles 149: Reflective layer 150: Color filter 151: Light shielding layer 152: Light guide plate 153: Backlight unit 154: Transparent electrode 155: Diffusion plate 156: reflector 157: Overcoat layer 158: Seal material 159: opening 160: Liquid crystal display device 161: Personal computer (electronic device) 170: Mobile phone (electronic device) 230: Liquid crystal display device 247: TFD

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 露木 正 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA01 DA12 DA14 DC02 2H091 FA16Y FB03 FB08 FC10 FD04 GA13 LA18 2H095 BB02 BB36 BC09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tadashi Tsuzuki             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 2H042 DA01 DA12 DA14 DC02                 2H091 FA16Y FB03 FB08 FC10                       FD04 GA13 LA18                 2H095 BB02 BB36 BC09

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光反射膜付き基板を製造するためのマス
クであって、100〜2,000ドット又は画面全体を
一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にラ
ンダムに配列することを特徴とするマスク。
1. A mask for producing a substrate with a light reflection film, wherein 100 to 2,000 dots or the entire screen is one unit, and light transmitting portions or light non-transmitting portions are randomly arranged in a plane direction. A mask characterized by that.
【請求項2】 予め作成したRGBドット3〜12を一
単位とした光透過部又は光不透過部のランダムパターン
を分割して、あるいはそのままランダムに配列して、前
記100〜2,000ドット又は画面全体を一単位とし
た光透過部又は光不透過部が構成してあることを特徴と
する請求項1に記載のマスク。
2. The 100 to 2,000 dots or the random patterns of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion in which the RGB dots 3 to 12 which are created in advance as one unit are divided, or randomly arranged as they are. The mask according to claim 1, wherein a light transmitting portion or a light non-transmitting portion is formed with the entire screen as one unit.
【請求項3】 前記光透過部又は光不透過部を横一列方
向又は縦一列方向に帯状のランダムパターンを形成し、
当該帯状のランダムパターンを複数列において繰り返す
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のマスク。
3. A strip-shaped random pattern is formed in the light transmissive portion or the light non-transmissive portion in the horizontal single row direction or the vertical single row direction,
The mask according to claim 1, wherein the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of columns.
【請求項4】 前記光透過部又は光不透過部の径を3〜
15μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1
〜3のいずれか一項に記載のマスク。
4. The diameter of the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is 3 to.
A value within a range of 15 μm is set.
The mask according to any one of to 3.
【請求項5】 前記光透過部又は光不透過部の径を異な
らせ、複数種類の光透過部又は光不透過部を設けること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のマス
ク。
5. The light transmissive portion or the light non-transmissive portion having different diameters, and a plurality of types of light transmissive portions or light non-transmissive portions are provided, according to any one of claims 1 to 4. mask of.
【請求項6】 基材と、反射層とを含む光反射膜付き基
板であって、当該基材の表面に形成された複数の凸部又
は凹部を、100〜2,000ドット又は画面全体を一
単位として、平面方向にランダムに配列することを特徴
とする光反射膜付き基板。
6. A substrate with a light-reflecting film including a base material and a reflective layer, wherein a plurality of convex portions or concave portions formed on the surface of the base material are provided in 100 to 2,000 dots or the entire screen. A substrate with a light-reflecting film, which is randomly arranged as a unit in a plane direction.
【請求項7】 前記複数の凸部又は凹部を、横一列方向
又は縦一列方向に配列して帯状のランダムパターンを形
成し、当該帯状のランダムパターンを複数列において繰
り返すことを特徴とする請求項6に記載の光反射膜付き
基板。
7. The strip-shaped random pattern is formed by arranging the plurality of convex portions or recesses in a horizontal single-column direction or a vertical single-column direction, and the strip-shaped random pattern is repeated in a plurality of columns. 6. The substrate with a light reflecting film according to 6.
【請求項8】 前記複数の凸部又は凹部の径を3〜15
μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項6又は
7に記載の光反射膜付き基板。
8. The diameter of the plurality of convex portions or concave portions is 3 to 15
The substrate with a light-reflecting film according to claim 6 or 7, wherein the substrate has a value in the range of μm.
【請求項9】 前記複数の凸部又は凹部の径を異なら
せ、複数種類の凸部又は凹部を設けることを特徴とする
請求項6〜8のいずれか一項に記載の光反射膜付き基
板。
9. The substrate with a light-reflecting film according to claim 6, wherein the plurality of convex portions or concave portions have different diameters to provide a plurality of types of convex portions or concave portions. .
【請求項10】 前記基材が、下方から第1の基材およ
び第2の基材を順次に含み、当該第1の基材が複数の凸
部又は凹部から構成してあり、第2の基材が連続した複
数の凸部又は凹部から構成してあることを特徴とする請
求項6〜9のいずれか一項に記載の光反射膜付き基板。
10. The base material sequentially includes a first base material and a second base material from the bottom, and the first base material is composed of a plurality of convex portions or concave portions, and a second base material. The substrate with a light-reflecting film according to any one of claims 6 to 9, wherein the substrate comprises a plurality of continuous convex portions or concave portions.
【請求項11】 基材および反射層を含む光反射膜の製
造方法であって、100〜2,000ドット又は画面全
体を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向
にランダムに配列したマスクを使用して、塗布された感
光性樹脂に対して、露光プロセスによって、複数の凸部
又は凹部を有する第1の基材を形成する工程と、当該第
1の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プロセス
によって、連続した複数の凸部又は凹部を有する第2の
基材を形成する工程と、当該第2の基材の表面に反射層
を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反射膜の
製造方法。
11. A method for producing a light-reflecting film including a base material and a reflecting layer, wherein 100 to 2,000 dots or the entire screen is set as one unit, and the light transmitting portion or the light non-transmitting portion is randomly arranged in a plane direction. Forming a first base material having a plurality of protrusions or recesses on the applied photosensitive resin by an exposure process using an arrayed mask, and forming a first base material on the surface of the first base material. A step of applying a photosensitive resin and forming a second base material having a plurality of continuous convex parts or concave parts by an exposure process, and a step of forming a reflective layer on the surface of the second base material, A method of manufacturing a light-reflecting film, comprising:
【請求項12】 基板間に挟持された光学素子と、当該
光学素子の観察側とは反対側の基板に設けられた光反射
膜と、を具備した光学表示装置であって、当該光反射膜
が、基材および反射層からなり、当該基材に形成された
複数の凸部又は凹部は、100〜2,000ドット又は
画面全体を一単位として、平面方向にランダムに配列し
てあることを特徴とする光学表示装置。
12. An optical display device comprising: an optical element sandwiched between substrates; and a light reflection film provided on a substrate opposite to an observation side of the optical element, the light reflection film. Is composed of a base material and a reflection layer, and the plurality of convex portions or concave portions formed on the base material are randomly arranged in the plane direction with 100 to 2,000 dots or the entire screen as one unit. Characteristic optical display device.
【請求項13】 前記光学素子の観察側の基板に光散乱
膜が設けてあることを特徴とする請求項12に記載の光
学表示装置。
13. The optical display device according to claim 12, wherein a light-scattering film is provided on a substrate on the observation side of the optical element.
【請求項14】 光学表示装置の観察側に保護板が設け
てあることを特徴とする請求項12又は13に記載の光
学表示装置。
14. The optical display device according to claim 12, wherein a protective plate is provided on the observation side of the optical display device.
【請求項15】 光反射膜を具備した光学表示装置を含
む電子機器であって、前記光反射膜が、基材および反射
層を含み、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部
は、100〜2,000ドット又は画面全体を一単位と
して、平面方向にランダムに配列してあることを特徴と
する電子機器。
15. An electronic device including an optical display device having a light reflection film, wherein the light reflection film includes a base material and a reflection layer, and the plurality of protrusions or recesses formed on the base material. , 100 to 2,000 dots or the entire screen as one unit, which are randomly arranged in the plane direction.
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US7701535B2 (en) 2004-07-29 2010-04-20 Nec Lcd Technologies, Ltd. LCD device including a reflective film having a convex and concave pattern

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