JP2003186007A - Reflection plate, liquid crystal display element using the same and manufacturing method of liquid crystal display element - Google Patents
Reflection plate, liquid crystal display element using the same and manufacturing method of liquid crystal display elementInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶を用いた表示
素子に使用する反射板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector used in a display device using liquid crystal.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、携帯情報端末、ビデオテープレコ
ーダなどは小型化、ポータブル化が進んでおり、画像表
示装置の消費電力を低減することが課題となっている。2. Description of the Related Art In recent years, portable information terminals, video tape recorders, and the like have become smaller and more portable, and the problem is to reduce the power consumption of image display devices.
【0003】反射型液晶表示装置は、太陽光や室内照明
からの外光を利用して画面を表示させるため、バックラ
イトが不要で低消費電力が実現できることで注目されて
いる。The reflection type liquid crystal display device draws attention because it can realize low power consumption without a backlight because it displays the screen by utilizing sunlight or external light from indoor lighting.
【0004】しかし、反射型液晶表示装置は外光の少な
いときに画面が暗くなるという欠点がある。すなわち、
反射画像は、液晶装置に入射した光を一旦液晶セル内の
液晶層を通過させ、液晶層の背面に設けた反射板表面で
反射させ、再度液晶層を通過させて取り出す形となり、
出射光は入射光に比べてかなり光量が低下する。特に、
光を吸収するカラーフィルタを重ねた場合、その低下が
顕著となる。However, the reflection type liquid crystal display device has a drawback that the screen becomes dark when the external light is small. That is,
The reflected image is a form in which the light incident on the liquid crystal device is once passed through the liquid crystal layer in the liquid crystal cell, reflected by the surface of the reflector provided on the back surface of the liquid crystal layer, and passed through the liquid crystal layer again to be extracted.
The amount of emitted light is considerably lower than that of incident light. In particular,
When color filters that absorb light are stacked, the decrease is remarkable.
【0005】そこで、反射型液晶素子を応用し、屋外な
ど外光が強い環境では反射型、夜間や暗い室内など外光
が弱い環境ではバックライトを用いた透過型として使用
できる半透過型液晶素子が提案されている。Therefore, by applying the reflective liquid crystal element, a semi-transmissive liquid crystal element which can be used as a reflective type in an environment where external light is strong such as outdoors and as a transmissive type using a backlight in an environment where external light is weak such as at night or in a dark room. Is proposed.
【0006】これは、基板の上に反射膜を形成した反射
部及び透過部を作ることにより、反射時はバックライト
なしで反射部における外光の反射表示を、透過時はバッ
クライトの光を透過表示で表示できるというものであ
る。This is because the reflective portion and the transmissive portion formed by forming a reflective film on the substrate are formed so that external light is reflected and displayed in the reflective portion without the backlight during reflection, and the light of the backlight is transmitted during transmission. It can be displayed in a transparent display.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】この際、反射板は外光
を効率よく反射できるような傾斜角をもった凸部を基板
上に設けることにより、外部に反射膜を設ける表示より
視差のない鮮明な表示が可能となる。In this case, the reflection plate is provided with a convex portion having an inclination angle capable of efficiently reflecting external light on the substrate, so that the reflection plate has less parallax than a display provided with an external reflection film. A clear display is possible.
【0008】しかし、このような表面をラビングする
と、反射部が凸部形状のために配向の状態が不均一にな
り、そのため、液晶表示においてコントラストが下がる
という問題が発生していた。However, when such a surface is rubbed, the orientation of the alignment becomes non-uniform due to the convex shape of the reflection portion, which causes a problem that the contrast is lowered in the liquid crystal display.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の反射板は、基板
と、基板上に複数設けられた凸部と、凸部を有する基板
上に設けられた反射板とを備え、前記凸部の平面形状に
おける輪郭線の接線のうち、ラビングにおける擦り下げ
(影)にあたる部分に遮光領域を設けること、あるいは
光吸収領域(光吸収層)を設けることを特徴とする。こ
のようにラビングの影となる部分、配向ムラの生じる部
分を遮光領域にしておくことで、配向ムラが発生しても
表示に悪影響を及ぼさないようにすることができる。A reflector of the present invention comprises a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflector provided on the substrate having the convex portion, A light-shielding region or a light-absorbing region (light-absorbing layer) is provided in a portion of the tangent of the contour line in the planar shape, which corresponds to rubbing (shadow) in rubbing. In this way, by making the portion that becomes the shadow of rubbing and the portion in which the alignment unevenness occurs a light-shielding region, it is possible to prevent the display from being adversely affected even if the alignment unevenness occurs.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【0011】(実施の形態1)図5は、半透過液晶表示
装置の凸部を示す平面図である。図6には、図5の断面
図を示した。図5、図6に示すように、半透過液晶表示
装置は絶縁性を有するガラス基板からなる基板1と、こ
れに対向する対向基板2と、基板1および対向基板2の
間に設けられた液晶層3とを有する構成である。基板1
と対向基板2とのセルギャップは所定の間隔となるよう
に設けられている。(Embodiment 1) FIG. 5 is a plan view showing a convex portion of a semi-transmissive liquid crystal display device. FIG. 6 shows a sectional view of FIG. As shown in FIGS. 5 and 6, the transflective liquid crystal display device includes a substrate 1 made of an insulating glass substrate, a counter substrate 2 facing the substrate 1, and a liquid crystal provided between the substrate 1 and the counter substrate 2. And a layer 3. Board 1
The cell gap between the counter substrate 2 and the counter substrate 2 is provided at a predetermined interval.
【0012】対向基板2の内側には、画素ごとにR
(赤)、G(緑)、B(青)の各色が対応するようにカ
ラーフィルタ4が設けられている。さらに、カラーフィ
ルタ4の内側には透明電極からなる共通電極5が設けら
れている。また、対向基板2の外側には位相差板6と偏
光板7が設けられている。Inside the counter substrate 2, R is provided for each pixel.
The color filter 4 is provided so that each color of (red), G (green), and B (blue) corresponds. Further, a common electrode 5 made of a transparent electrode is provided inside the color filter 4. A retardation plate 6 and a polarizing plate 7 are provided outside the counter substrate 2.
【0013】基板1上には、駆動素子12と複数のソー
ス信号線13及びゲート信号線14と複数の凸部8と透
過部9が設けられている。駆動素子12は、ソース端子
12aを介してソース信号線13と接続されている。ま
た、駆動素子12はゲート端子12cを介してゲート信
号線14と接続されている。A driving element 12, a plurality of source signal lines 13, a gate signal line 14, a plurality of convex portions 8 and a transmissive portion 9 are provided on the substrate 1. The drive element 12 is connected to the source signal line 13 via the source terminal 12a. Further, the driving element 12 is connected to the gate signal line 14 via the gate terminal 12c.
【0014】凸部8はフォトレジストなど絶縁性物質か
らなる。フォトレジストを基板1上にスピンコート法に
より塗布して2ミクロン程度の厚さに形成し、プリベイ
ク後にフォトマスクを用いて紫外線照射することで所定
の形状にパターンが形成される。レジストの種類によっ
ては、ベーク後にエッジがなだらかになり、都合のよい
凹凸パターンが形成される。The protrusion 8 is made of an insulating material such as photoresist. A photoresist is applied onto the substrate 1 by a spin coating method to have a thickness of about 2 μm, and after prebaking, a pattern is formed in a predetermined shape by irradiating ultraviolet rays using a photomask. Depending on the type of resist, the edge becomes gentle after baking, and a convenient uneven pattern is formed.
【0015】さらに、基板1上には反射膜10が形成さ
れている。反射膜にはアルミニウムや銀や各々の合金等
が使用できる。Further, a reflective film 10 is formed on the substrate 1. Aluminum, silver, respective alloys or the like can be used for the reflective film.
【0016】反射膜10は凸部を覆い、凸部と凸部の間
の部分は隙間部としてパターン形成された後、反射膜の
有る部分と無い部分全体にITOからなる透明電極層1
1が形成されている。The reflective film 10 covers the convex portions, and the portion between the convex portions is patterned as a gap portion. Then, the transparent electrode layer 1 made of ITO is formed on the entire portion with and without the reflective film.
1 is formed.
【0017】この透明電極層11は画素ごとに独立して
形成されている。さらに、透明電極層11は駆動素子1
2のドレイン端子12bとコンタクトホール15を介し
て電気的に接続されており、画素電極を兼ねている。こ
の構成により、駆動素子12によって画素電極の透明電
極層11と対向基板上の共通電極5との間に印加する電
圧を変化させることができ、液晶素子の配向が変化して
表示が可能となる。The transparent electrode layer 11 is formed independently for each pixel. Further, the transparent electrode layer 11 is the driving element 1
The second drain terminal 12b is electrically connected to the second drain terminal 12b through the contact hole 15 and also serves as a pixel electrode. With this configuration, the drive element 12 can change the voltage applied between the transparent electrode layer 11 of the pixel electrode and the common electrode 5 on the counter substrate, and the orientation of the liquid crystal element is changed to enable display. .
【0018】図6において、偏光板7の外側から入射し
た光は、偏光板7、位相差板6、対向基板2、カラーフ
ィルタ4、共通電極5、液晶層3を通過し、反射膜10
で反射され、逆の経路を通って観察者の目に入る。この
とき、液晶層3に印加する電圧を駆動素子12で制御す
ることにより、光の反射と吸収を制御することができ
る。さらに、外光が少ない場合は、バックライト17を
点灯して基板1の透過部9を介して液晶層に光を入射
し、反射光とともに観察者の目に到達する。In FIG. 6, light incident from the outside of the polarizing plate 7 passes through the polarizing plate 7, the retardation plate 6, the counter substrate 2, the color filter 4, the common electrode 5, the liquid crystal layer 3, and the reflection film 10.
Is reflected by the observer, and enters the observer's eye through the reverse path. At this time, by controlling the voltage applied to the liquid crystal layer 3 with the driving element 12, the reflection and absorption of light can be controlled. Further, when the amount of external light is small, the backlight 17 is turned on, light is incident on the liquid crystal layer through the transmissive portion 9 of the substrate 1, and reaches the eyes of the observer together with the reflected light.
【0019】液晶層3は共通電極5及び透明電極層11
の上に配向膜を塗布し、ラビングすることにより、液晶
を一定方向に配向させる。しかし、凸部の形状により、
ラビングにムラが発生し、そのために液晶の配向が乱れ
て表示した場合にはコントラストが低下するという問題
が発生した。ラビングムラの発生場所を検討した結果、
ラビングの進行方向に凸部があるとその影の部分に発生
することがわかった。均一にラビングしようとして、ラ
ビング条件を強くすると下地膜が剥がれる場合も見られ
た。凸部におけるラビング方向と液晶の配向の模式図を
図7に示す。凸部のAとBではラビングによる配向が凸
部の傾斜を異ならせるため、チルト角もが基板に対して
異なる。このため、液晶に電圧をかけると、AとBでは
同じ電圧でも立ち上がりに差ができ、バックライトによ
る透過モードにおいて、B部分で光りぬけが生じてコン
トラストの低下が顕著となった。The liquid crystal layer 3 comprises a common electrode 5 and a transparent electrode layer 11.
The liquid crystal is aligned in a certain direction by applying an alignment film on the above and rubbing. However, due to the shape of the protrusion,
There was a problem that unevenness occurred in rubbing, and when the liquid crystal orientation was disturbed and displayed, the contrast was lowered. As a result of examining the location of rubbing unevenness,
It was found that when there is a convex portion in the direction of rubbing, it occurs in the shadow portion. When the rubbing conditions were strengthened in an attempt to uniformly rub, the underlayer film was sometimes peeled off. FIG. 7 shows a schematic diagram of the rubbing direction and the alignment of the liquid crystal in the convex portion. In the convex portions A and B, the tilt angle is different with respect to the substrate because the orientation due to rubbing makes the inclination of the convex portion different. For this reason, when a voltage is applied to the liquid crystal, there is a difference in the rising edges of A and B even if the voltage is the same, and in the transmissive mode by the backlight, light leakage occurs at the B portion, and the contrast is significantly reduced.
【0020】そこで、ラビングの擦り下げ(影)の部分
に遮光層を設けることにした。図1にその一例を示す。
まず、凸状部分を形成した後、凸状部分の擦り下げ部分
を含む領域に反射膜を所定のパターンに加工した。次
に、ITO膜を全面に形成した後、擦り下げ部分を含む
所定領域以外の場所をレジストで覆い、露出したITO
膜を還元処理して黒変させた。この方法により、ラビン
グムラになる擦り下げ部分に遮光部を形成することによ
り、コントラストを改善することができた。この還元処
理はITO膜とAl膜の酸化還元反応を用いればフォト
マスクの図面レイアウト変更のみで、工程を増やすこと
なく現像工程で簡単に形成することができるものであ
る。このとき、反射膜の形成領域を擦り下げ部以外の全
面に設けて反射型、反射膜の形成領域を局所的にパター
ン形成すれば半透過型の液晶表示装置となるものであ
る。Therefore, a light-shielding layer is provided on the rubbing rubbing (shadow) portion. FIG. 1 shows an example thereof.
First, after forming a convex portion, a reflective film was processed into a predetermined pattern in a region including a scraped portion of the convex portion. Next, after the ITO film is formed on the entire surface, the exposed area of the ITO is covered with a resist other than a predetermined area including the abrasion portion.
The film was reduced and blackened. By this method, it was possible to improve the contrast by forming a light-shielding portion in the rubbing-down portion that causes uneven rubbing. This reduction treatment can be easily performed by a development process without increasing the number of processes by changing the drawing layout of the photomask by using the redox reaction of the ITO film and the Al film. At this time, if a reflective film forming region is provided on the entire surface other than the abrasion portion and the reflective film forming region is locally patterned, a semi-transmissive liquid crystal display device is obtained.
【0021】(実施の形態2)実施の形態1では遮光部
を2種の金属間の電位差を利用した酸化還元処理によっ
て簡易的に行った。本実施の形態2では、凸状部分の擦
り下げにあたるITO膜の所定部分を水素アニールや水
素ドーピングすることにより黒化させて遮光膜を形成し
た(図2)。この場合も所定部以外をレジストで覆うこ
とで実現した。プロセスフローは図3〜4に示した。実
施の形態1では反射膜を透明電極の前に成膜してパター
ン形成しており、図8に示した従来のプロセスフローと
ほとんど同じ工程で形成できる。一方、実施の形態2で
は透明電極を反射膜の前に成膜してから反射膜を成膜し
パターン形成するものである。この場合、反射膜は銀な
どAl膜以外の金属膜が使用できるものである。(Second Embodiment) In the first embodiment, the light-shielding portion is simply formed by the redox treatment utilizing the potential difference between two kinds of metals. In the second embodiment, the light shielding film is formed by blackening a predetermined portion of the ITO film, which is to rub down the convex portion, by hydrogen annealing or hydrogen doping (FIG. 2). Also in this case, it was realized by covering the portion other than the predetermined portion with a resist. The process flow is shown in FIGS. In the first embodiment, the reflective film is formed before the transparent electrode to form a pattern, which can be formed by almost the same steps as the conventional process flow shown in FIG. On the other hand, in the second embodiment, the transparent electrode is formed before the reflective film, and then the reflective film is formed and patterned. In this case, a metal film other than the Al film such as silver can be used as the reflective film.
【0022】実施の形態1及び2に示した方法は反射膜
とITO膜と凸部の形成領域を組み合わせることで透過
領域と反射領域の比率を自由に変化することが可能であ
る。In the methods shown in the first and second embodiments, it is possible to freely change the ratio of the transmissive area and the reflective area by combining the reflective film, the ITO film and the area where the convex portion is formed.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上のように本発明の反射板によれば、
基板と、基板上に複数設けられた凸部と、凸部を有する
基板上に設けられた反射板とを備え、前記凸部の平面形
状における輪郭線の接線のうち、ラビングにおける擦り
下げ(影)にあたる部分に遮光領域、あるいは光吸収領
域を設けることでラビングの影となる部分、配向ムラの
生じる部分を遮光領域にし、配向ムラが発生しても表示
に悪影響を及ぼさないようにすることができる。As described above, according to the reflector of the present invention,
A substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflection plate provided on the substrate having the convex portion are provided. Of the tangents of the contour line in the planar shape of the convex portion, the rubbing (shadow ) By providing a light-shielding region or a light-absorbing region in a portion corresponding to), a portion that becomes a shadow of rubbing and a portion in which alignment unevenness occurs can be set as a light-shielding area so that even if alignment unevenness occurs, display is not adversely affected. it can.
【図1】凸部とAlの反射膜とITOの黒化部を示した
図FIG. 1 is a diagram showing a convex portion, a reflective film of Al, and a blackened portion of ITO.
【図2】凸部と反射膜とITOの黒化部を示した図FIG. 2 is a view showing a convex portion, a reflection film, and a blackened portion of ITO.
【図3】本発明のアレイ基板のプロセスフローを示す図
(その1)FIG. 3 is a diagram showing a process flow of the array substrate of the present invention (No. 1)
【図4】本発明のアレイ基板のプロセスフローを示す図
(その2)FIG. 4 is a diagram showing a process flow of the array substrate of the present invention (No. 2)
【図5】液晶表示素子の平面図を示した図FIG. 5 is a diagram showing a plan view of a liquid crystal display element.
【図6】液晶表示素子の断面図を示した図FIG. 6 is a diagram showing a cross-sectional view of a liquid crystal display element.
【図7】ラビング時の液晶の模式図を示した図FIG. 7 is a diagram showing a schematic view of liquid crystal during rubbing.
【図8】従来発明のアレイ基板のプロセスフローを示す
図FIG. 8 is a diagram showing a process flow of a conventional array substrate.
1 基板 2 対向基板 3 液晶層 4 カラーフィルタ 5 共通電極 6 位相差板 7 偏光板 8 凸部 9 透過部 10 反射膜 11 透明電極層 12 駆動素子 12a ソース端子 12b ドレイン端子 12c ゲート端子 13 ソース信号線 14 ゲート信号線 15 コンタクトホール 16 ITO黒化部 17 バックライト 1 substrate 2 Counter substrate 3 Liquid crystal layer 4 color filters 5 common electrode 6 Phase plate 7 Polarizer 8 convex 9 Transparent part 10 Reflective film 11 Transparent electrode layer 12 Drive element 12a source terminal 12b drain terminal 12c gate terminal 13 Source signal line 14 Gate signal line 15 contact holes 16 ITO blackening part 17 Backlight
フロントページの続き (72)発明者 山北 裕文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H042 AA02 AA09 AA26 DA02 DA04 DA11 DA21 2H091 FA02Y FA16Y FA34Y FB02 FB06 FB08 FC25 GA02 HA06 LA17 Continued front page (72) Inventor Hirofumi Yamakita 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 2H042 AA02 AA09 AA26 DA02 DA04 DA11 DA21 2H091 FA02Y FA16Y FA34Y FB02 FB06 FB08 FC25 GA02 HA06 LA17
Claims (11)
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に遮光層を設けること
を特徴とする反射板。1. A reflection plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflective film provided on the substrate having the convex portions, the rubbing of the convex portions during rubbing. A reflection plate, wherein a light-shielding layer is provided in a region including a portion corresponding to the above.
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に光吸収層を設けるこ
とを特徴とする反射板。2. A reflection plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflective film provided on the substrate having the convex portions, wherein the convex portions are rubbed down during rubbing. A reflection plate, wherein a light absorbing layer is provided in a region including a portion corresponding to the above.
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に黒色のITO電極を
設けることを特徴とする半透過用反射板。3. A reflection plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflection film provided on the substrate having the convex portions, the rubbing of the convex portions during rubbing. A semi-transmissive reflection plate, characterized in that a black ITO electrode is provided in a region including a corresponding portion.
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に遮光層を設けること
を特徴とする反射板を有する液晶表示素子。4. A reflection plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflection film provided on the substrate having the convex portions, the rubbing of the convex portions during rubbing. A liquid crystal display device having a reflection plate, characterized in that a light-shielding layer is provided in a region including a portion corresponding thereto.
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に黒色のITO電極を
設けることを特徴とする反射板を有する液晶表示素子。5. A reflecting plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflective film provided on the substrate having the convex portions, the rubbing of the convex portions during rubbing. A liquid crystal display element having a reflection plate, characterized in that a black ITO electrode is provided in a region including a portion corresponding to the above.
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える反射板であり、前記凸部のラビングにおける
擦り下げにあたる部分を含む領域に黒色のITO電極を
設けることを特徴とする半透過用反射板を有する液晶表
示素子。6. A reflection plate comprising a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate, and a reflective film provided on the substrate having the convex portions, the rubbing of the convex portions during rubbing. A liquid crystal display device having a semi-transmissive reflection plate, characterized in that a black ITO electrode is provided in a region including a corresponding portion.
ソース信号線をマトリクス状に形成したアレイ基板上
に、複数の凸部と反射膜と透明電極を形成した後、前記
凸部のラビングにおける擦り下げにあたる部分を含む領
域に黒色のITO電極を形成することを特徴とする液晶
表示素子の製造方法。7. A plurality of convex portions, a reflective film, and a transparent electrode are formed on an array substrate in which driving elements, gate signal lines, and source signal lines are formed in a matrix on the substrate, and then the convex portions are rubbed. A method for manufacturing a liquid crystal display element, characterized in that a black ITO electrode is formed in a region including a portion corresponding to abrasion.
ソース信号線をマトリクス状に形成したアレイ基板上
に、複数の凸部と反射膜と透明電極を形成した後、前記
凸部のラビングにおける擦り下げにあたる部分を含む領
域に黒色のITO電極を形成することを特徴とする半透
過型液晶表示素子の製造方法。8. A plurality of convex portions, a reflective film, and a transparent electrode are formed on an array substrate in which driving elements, gate signal lines, and source signal lines are formed in a matrix on the substrate, and then the rubbing of the convex portions is performed. A method for manufacturing a semi-transmissive liquid crystal display element, characterized in that a black ITO electrode is formed in a region including a portion to be worn down.
形成することを特徴とする請求項8記載の半透過型液晶
表示素子の製造方法。9. The method of manufacturing a semi-transmissive liquid crystal display device according to claim 8, wherein the black ITO film is formed by a reduction treatment.
によって形成することを特徴とする請求項8記載の半透
過型液晶表示素子の製造方法。10. The method of manufacturing a semi-transmissive liquid crystal display device according to claim 8, wherein the black ITO film is formed by hydrogen doping.
還元反応によって形成することを特徴とする請求項8記
載の半透過型液晶表示素子の製造方法。11. The method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to claim 8, wherein the black ITO film is formed by a redox reaction with a reflective film.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005266206A (en) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Hitachi Chem Co Ltd | Liquid crystal display device |
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2001
- 2001-12-18 JP JP2001384309A patent/JP2003186007A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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