JP2003043239A - Color filter substrate and method for manufacturing the same and liquid crystal display device - Google Patents

Color filter substrate and method for manufacturing the same and liquid crystal display device

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JP2003043239A
JP2003043239A JP2001228449A JP2001228449A JP2003043239A JP 2003043239 A JP2003043239 A JP 2003043239A JP 2001228449 A JP2001228449 A JP 2001228449A JP 2001228449 A JP2001228449 A JP 2001228449A JP 2003043239 A JP2003043239 A JP 2003043239A
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transmission hole
liquid crystal
disposed
reflective film
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter substrate capable of displaying both black- and-white and color images when it is used for a liquid crystal display device (in particular, for a transflective liquid crystal display device) both in reflective display and in transmissive display and improving display brightness and visibility in case of the transmissive display and the reflective display without cost increase and to provide a method for manufacturing the same and the liquid crystal display device. SOLUTION: A color filter substrate 10 is provided with a substrate 3, a reflection film 5 disposed on the substrate 3 and having transmission holes 6 practically making light pass therethrough and colored layers 4 disposed in regions corresponding to the transmission holes 6 on the substrate 3 but not disposed on the reflection film 5 except for the transmission holes 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ基
板及びその製造方法並びに液晶表示装置に関する。さら
に詳しくは、液晶表示装置(特に、半透過反射型液晶表
示装置)に用いられた場合に、反射型表示時及び透過型
表示時のいずれの場合においても、白黒表示及びカラー
表示のいずれもが可能であるとともに、コストを上昇さ
せることなく、透過型表示時及び反射型表示時における
表示の明るさ及び視認性を向上させたカラーフィルタ基
板及びその製造方法並びに液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate, a method of manufacturing the same, and a liquid crystal display device. More specifically, when used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), both black-and-white display and color display are achieved in both reflective display and transmissive display. The present invention relates to a color filter substrate, which is capable of improving display brightness and visibility during transmissive display and reflective display without increasing cost, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコ
ンピュータ等の電子機器に液晶表示装置が広く用いられ
るようになっている。また、カラーフィルタ基板を用い
てカラー表示を行う構造の液晶表示装置も広く用いられ
るようになっている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been widely used in electronic devices such as mobile phones and portable personal computers. Further, a liquid crystal display device having a structure for performing color display using a color filter substrate is also widely used.

【0003】カラーフィルタ基板として、従来、ガラ
ス、プラスチック等によって形成した基材の表面に、例
えば、R(赤)、G(緑)及びB(青)のそれぞれの着
色層を所定の配列、例えば、ストライプ配列、モザイク
配列、デルタ配列等に形成してなるものが知られている
(図12参照)。
As a color filter substrate, conventionally, for example, R (red), G (green) and B (blue) colored layers are arranged in a predetermined arrangement on the surface of a base material formed of glass, plastic or the like. It is known to have a stripe array, a mosaic array, a delta array, etc. (see FIG. 12).

【0004】また、自然光や室内照明光等の外光を観察
側から入射させ、この光を反射させて表示を行う反射型
表示と、光源からの光を観察側とは反対側から入射させ
て表示を行う透過型表示とを必要に応じて切換えること
ができる、いわゆる半透過反射型液晶表示装置が知られ
ている。
In addition, external light such as natural light and room illumination light is incident from the observation side, and the reflection type display for reflecting the light for display and light from the light source is incident from the side opposite to the observation side. There is known a so-called transflective liquid crystal display device capable of switching between a transmissive display for displaying and a display as required.

【0005】図13は、従来の半透過反射型液晶表示装
置の一例を模式的に示す断面図であり、二端子型スイッ
チング素子であるTFD(Thin Film Dio
de)を備えたアクティブマトリクス方式の半透過反射
型液晶表示装置の構成を模式的に示している。
FIG. 13 is a sectional view schematically showing an example of a conventional transflective liquid crystal display device, which is a TFD (Thin Film Dio) which is a two-terminal type switching element.
1 schematically shows the configuration of an active matrix type transflective liquid crystal display device including de).

【0006】図13に示すように、この液晶表示装置
は、シール材54を挟んで対向する第1基板51及び第
2基板52の間に液晶53を挟持してなる液晶パネル5
と、この液晶パネル5の第2基板52側に配設されるバ
ックライトユニット6とを含んで構成される。第1基板
51には、TFDを介して走査線に接続され(いずれも
図示せず)、マトリクス状に配列された画素電極511
と、配向膜512とが形成されている。一方、第2基板
52には、第2基板52の大部分を覆う反射膜521
と、この反射膜521が形成された第2基板52の表面
を覆う平坦化膜522と、上記走査線と交差する方向に
延在する複数の帯状の対向電極523と配向膜524と
が形成されている。このような構成の下、第1基板51
側から入射した光は、第2基板52上の反射膜521表
面において反射して第1基板51側から出射し、これに
より反射型表示がなされるようになっている。さらに、
反射膜521には、各画素電極511に対応して開口部
521aが形成されており、バックライトユニット6か
ら出射して第2基板52側から入射した光は、この開口
部521aを通過して第1基板51側に出射する。そし
て、これにより透過型表示がなされるようになってい
る。
As shown in FIG. 13, this liquid crystal display device has a liquid crystal panel 5 in which a liquid crystal 53 is sandwiched between a first substrate 51 and a second substrate 52 which are opposed to each other with a sealing material 54 sandwiched therebetween.
And a backlight unit 6 arranged on the second substrate 52 side of the liquid crystal panel 5. Pixel electrodes 511 connected to the scanning lines via the TFD (none of which are shown) and arranged in a matrix on the first substrate 51.
And an alignment film 512 are formed. On the other hand, on the second substrate 52, a reflective film 521 that covers most of the second substrate 52.
And a flattening film 522 covering the surface of the second substrate 52 on which the reflective film 521 is formed, and a plurality of strip-shaped counter electrodes 523 and an alignment film 524 extending in a direction intersecting the scanning line. ing. Under such a configuration, the first substrate 51
Light incident from the side is reflected on the surface of the reflective film 521 on the second substrate 52 and emitted from the side of the first substrate 51, whereby reflective display is performed. further,
An opening 521a is formed in the reflective film 521 corresponding to each pixel electrode 511, and the light emitted from the backlight unit 6 and incident from the second substrate 52 side passes through the opening 521a. The light is emitted to the first substrate 51 side. Then, as a result, transmissive display is performed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶表示装置においては、反射型表示の場合及び透過型
表示の場合のいずれの場合においても、白黒表示又はカ
ラー表示のいずれかの表示しか行うことができず、例え
ば、携帯電話用の液晶表示装置の場合、待ち受け時(バ
ックライト非点灯による反射表示)とオペレーション時
(バックライト点灯による透過表示)の場合のように、
前者の場合を白黒表示で、また後者の場合をカラー表示
にする等して、多様性を持たせることができないという
問題があった。また、表示の明るさ及び視認性を向上さ
せるためには、バックライトの電力供給量を上げるか、
又は反射型表示又は透過型表示のいずれか一方の明るさ
及び視認性を犠牲にするしかなく、コストを上昇させる
ことなく明るさ及び視認性を向上させた液晶表示装置は
未だ得られていないのが現状である。
However, in the conventional liquid crystal display device, in either of the reflective display and the transmissive display, only the monochrome display or the color display is performed. For example, in the case of a liquid crystal display device for a mobile phone, as in the case of standby (reflection display when the backlight is not lit) and operation (transmission display when the backlight is lit),
There is a problem in that the former case is displayed in black and white and the latter case is displayed in color, so that it is not possible to provide diversity. Also, in order to improve the brightness and visibility of the display, increase the power supply of the backlight,
Alternatively, the brightness and visibility of either the reflective display or the transmissive display must be sacrificed, and a liquid crystal display device having improved brightness and visibility without increasing cost has not yet been obtained. Is the current situation.

【0008】本発明は、上述の問題に鑑みてなされたも
のであり、液晶表示装置(特に、半透過反射型液晶表示
装置)に用いられた場合に、反射型表示時及び透過型表
示時のいずれの場合においても、白黒表示及びカラー表
示のいずれもが可能であるとともに、コストを上昇させ
ることなく、透過型表示時及び反射型表示時における表
示の明るさ及び視認性を向上させたカラーフィルタ基板
及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供することを
目的としている。
The present invention has been made in view of the above problems, and when used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), a reflection type display and a transmission type display are performed. In any case, both a monochrome display and a color display are possible, and a color filter that improves the display brightness and visibility during transmissive display and reflective display without increasing the cost. An object of the present invention is to provide a substrate, a method for manufacturing the substrate, and a liquid crystal display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のカラーフィルタ基板は、基材と、前記基材
上に配置され、実質的に光が通過できる透過孔を有する
反射膜と、前記基材上の前記透過孔に対応する領域内に
配置されるとともに前記透過孔を除く前記反射膜上には
配置されない着色層とを備えてなることを特徴とする
(以下、「第1の発明」ということがある)。
In order to achieve the above object, a color filter substrate of the present invention comprises a base material and a reflective film which is disposed on the base material and has a transmission hole through which light can substantially pass. And a colored layer which is arranged in a region corresponding to the transmission hole on the base material and which is not arranged on the reflection film except the transmission hole (hereinafter, referred to as “first Invention. "

【0010】第1の発明のカラーフィルタ基板は、液晶
表示装置(特に、半透過反射型液晶表示装置)に用いら
れた場合に、反射型表示時に白黒表示及び透過型表示時
にカラー表示が可能であるとともに、コストを上昇させ
ることなく、反射型表示時及び透過型表示時における表
示の明るさ及び視認性を向上させることができる。
When the color filter substrate of the first invention is used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), it is possible to perform monochrome display during reflection type display and color display during transmission type display. In addition, it is possible to improve the brightness and visibility of the display during the reflective display and the transmissive display without increasing the cost.

【0011】また、本発明のカラーフィルタ基板は、基
材と、前記基材上に配置され、実質的に光が通過できる
透過孔を有する反射膜と、前記透過孔を除く前記反射膜
上に配置されるとともに前記基材上の前記透過孔に対応
する領域内には配置されない着色層とを備えてなること
を特徴とする(以下、「第2の発明」ということがあ
る)。
Further, the color filter substrate of the present invention comprises a base material, a reflective film disposed on the base material and having a transmission hole through which light can substantially pass, and the reflection film excluding the transmission hole. A colored layer that is disposed and is not disposed in a region corresponding to the transmission hole on the base material (hereinafter, may be referred to as “second invention”).

【0012】第2の発明のカラーフィルタ基板は、液晶
表示装置(特に、半透過反射型液晶表示装置)に用いら
れた場合に、透過型表示時に白黒表示及び反射型表示時
にカラー表示が可能であるとともに、コストを上昇させ
ることなく、透過型表示時及び反射型表示時における表
示の明るさ及び視認性を向上させることができる。
When the color filter substrate of the second invention is used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), it is possible to perform monochrome display during transmission type display and color display during reflection type display. In addition, the brightness and visibility of the display during the transmissive display and the reflective display can be improved without increasing the cost.

【0013】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基材上に、実質的に光が通過できる透過孔を有
する反射膜を形成する工程と、前記透過孔を除く前記反
射膜上には前記着色層を形成することなく、前記基材上
の前記透過孔に対応する領域内に前記着色層を形成する
工程とを含むことを特徴とする(以下、「第3の発明」
ということがある)。
Further, the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention comprises a step of forming a reflective film having a transmission hole on which light can substantially pass, and a step of forming the reflection film on the reflection film excluding the transmission hole. Includes a step of forming the colored layer in a region corresponding to the transmission hole on the base material without forming the colored layer (hereinafter, referred to as “third invention”).
Sometimes).

【0014】第3の発明のカラーフィルタ基板の製造方
法は、第1の発明のカラーフィルタ基板を効率よく、安
価に製造することができる。
According to the method of manufacturing the color filter substrate of the third invention, the color filter substrate of the first invention can be manufactured efficiently and inexpensively.

【0015】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基材上に、実質的に光が通過できる透過孔を有
する反射膜を形成する工程と、前記基材上の前記透過孔
に対応する領域内には前記着色層を形成することなく、
前記透過孔を除く前記反射膜上に前記着色層を形成する
工程とを含むことを特徴とする(以下、「第4の発明」
ということがある)。
Further, the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention corresponds to the step of forming a reflection film having a transmission hole on which light can substantially pass through on the base material and the transmission hole on the base material. Without forming the colored layer in the area to
And a step of forming the colored layer on the reflective film excluding the transmission holes (hereinafter, referred to as "fourth invention").
Sometimes).

【0016】第4の発明のカラーフィルタ基板の製造方
法は、第2の発明のカラーフィルタ基板を効率よく、安
価に製造することができる。
According to the method of manufacturing the color filter substrate of the fourth invention, the color filter substrate of the second invention can be efficiently manufactured at low cost.

【0017】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基材上に、実質的に光が通過できる透過孔を有
する反射膜を形成する工程と、前記透過孔を除く前記反
射膜上及び前記基材上の前記透過孔に対応する領域内に
前記着色層を形成する工程と、前記基材上の前記透過孔
に対応する領域内に形成された前記着色層を除去する工
程とを含むことを特徴とする(以下、「第5の発明」と
いうことがある)。
Further, the method of manufacturing a color filter substrate of the present invention comprises a step of forming a reflective film having a transmission hole through which light can substantially pass through on a substrate, A step of forming the colored layer in a region corresponding to the transmission hole on the base material; and a step of removing the colored layer formed in a region corresponding to the transmission hole on the base material It is characterized in that (hereinafter, sometimes referred to as "fifth invention").

【0018】第5の発明のカラーフィルタ基板の製造方
法は、第4の発明と同様に、第2の発明のカラーフィル
タ基板を効率よく、安価に製造することができる。
According to the method of manufacturing the color filter substrate of the fifth invention, the color filter substrate of the second invention can be manufactured efficiently and inexpensively as in the case of the fourth invention.

【0019】また、本発明の液晶表示装置は、一対の基
板と、一対の基板のうち一方の基板上に配置され、実質
的に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記一方
の基板上の前記透過孔に対応する領域内に配置されると
ともに前記透過孔を除く前記反射膜上には配置されない
着色層とを備えてなることを特徴とする(以下、「第6
の発明」ということがある)。
In addition, the liquid crystal display device of the present invention includes a pair of substrates, a reflective film disposed on one of the pair of substrates and having a transmission hole that substantially allows light to pass through, and the one substrate. And a colored layer which is disposed in a region corresponding to the transmission hole above and which is not disposed on the reflection film excluding the transmission hole (hereinafter, referred to as “sixth embodiment”.
Invention. "

【0020】第6の発明の液晶表示装置は、透過型表示
時にカラー表示及び反射型表示時に白黒表示が可能であ
るとともに、コストを上昇させることなく、透過型表示
時及び反射型表示時における表示の明るさ及び視認性を
向上させることができる。
The liquid crystal display device according to the sixth aspect of the invention is capable of color display during transmissive display and black-and-white display during reflective display, and displays at the time of transmissive display and reflective display without increasing costs. Brightness and visibility can be improved.

【0021】また、本発明の液晶表示装置は、一対の基
板と、前記一対の基板のうち一方の基板上に配置され、
実質的に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記
透過孔を除く前記反射膜上に配置されるとともに前記一
方の基板上の前記透過孔に対応する領域内には配置され
ない着色層とを備えてなることを特徴とする(以下、
「第7の発明」ということがある)。
Further, the liquid crystal display device of the present invention is arranged on a pair of substrates and one of the pair of substrates,
A reflective film having a transmission hole that substantially allows light to pass through, and a colored layer that is disposed on the reflective film excluding the transmission hole and is not disposed in a region corresponding to the transmission hole on the one substrate. Is provided (hereinafter,
Sometimes referred to as the "seventh invention."

【0022】第7の発明の液晶表示装置は、透過型表示
時に白黒表示及び反射型表示時にカラー表示が可能であ
るとともに、コストを上昇させることなく、透過型表示
時及び反射型表示時における表示の明るさ及び視認性を
向上させることができる。
The liquid crystal display device according to the seventh aspect of the present invention can perform monochrome display during transmissive display and color display during reflective display, and display at the time of transmissive display and reflective display without increasing the cost. Brightness and visibility can be improved.

【0023】また、本発明の液晶表示装置は、一対の基
板と、前記一対の基板のうち一方の基板上に配置され、
実質的に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記
一対の基板のうち他方の基板上に配置された着色層とを
備え、前記着色層が、前記他方の基板上の、前記透過孔
に対応する領域内に配置されるとともに、前記透過孔を
除く前記反射膜に対応する領域内には配置されないこと
を特徴とするものであってもよい(以下、「第8の発
明」ということがある)。
Further, the liquid crystal display device of the present invention is arranged on a pair of substrates and one of the pair of substrates,
A reflective film having a transmission hole that substantially allows light to pass therethrough, and a colored layer disposed on the other substrate of the pair of substrates, the colored layer being on the other substrate, the transmission hole. May be arranged in a region corresponding to the above, and may not be arranged in a region corresponding to the reflection film excluding the transmission hole (hereinafter, referred to as “eighth invention”). There is).

【0024】第8の発明の液晶表示装置は、透過型表示
時にカラー表示及び反射型表示時に白黒表示が可能であ
るとともに、コストを上昇させることなく、透過型表示
時及び反射型表示時における表示の明るさ及び視認性を
向上させることができる。
The liquid crystal display device according to the eighth invention is capable of color display during transmissive display and black-and-white display during reflective display, and displays during transmissive display and reflective display without increasing costs. Brightness and visibility can be improved.

【0025】また、本発明の液晶表示装置は、一対の基
板と、前記一対の基板のうち一方の基板上に配置され、
実質的に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記
一対の基板のうち他方の基板上に配置された着色層とを
備え、前記着色層が、前記他方の基板上の、前記透過孔
を除く前記反射膜に対応する領域内に配置されるととも
に、前記透過孔に対応する領域内には配置されないこと
を特徴とするものであってもよい(以下、「第9の発
明」ということがある)。
Further, the liquid crystal display device of the present invention is arranged on a pair of substrates and one of the pair of substrates,
A reflective film having a transmission hole that substantially allows light to pass therethrough, and a colored layer disposed on the other substrate of the pair of substrates, the colored layer being on the other substrate, the transmission hole. May be arranged in a region corresponding to the reflection film except for the above, and may not be arranged in a region corresponding to the transmission hole (hereinafter, referred to as “the ninth invention”). There is).

【0026】第9の発明の液晶表示装置は、透過型表示
時に白黒表示及び反射型表示時にカラー表示が可能であ
るとともに、コストを上昇させることなく、透過型表示
時及び反射型表示時における表示の明るさ及び視認性を
向上させることができる。
The liquid crystal display device according to the ninth aspect of the invention can perform monochrome display during transmissive display and color display during reflective display, and display at the time of transmissive display and reflective display without increasing the cost. Brightness and visibility can be improved.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、本発明
の実施の形態について具体的に説明する。かかる実施の
形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を何
ら限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更
可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, does not limit the present invention at all, and can be arbitrarily modified within the scope of the present invention.

【0028】A:第1の発明の実施の形態 図1は、本発明(第1の発明)のカラーフィルタ基板の
一の実施の形態を模式的に示す断面図である。図1に示
すように、本実施の形態のカラーフィルタ基板10は、
基材3と、基材3上に配置され、実質的に光が通過でき
る透過孔6を有する反射膜5と、基材3上の透過孔6に
対応する領域内に配置されるとともに透過孔6を除く反
射膜5上には配置されない着色層4とを備えてなること
を特徴とする。
A: Embodiment of First Invention FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention (first invention). As shown in FIG. 1, the color filter substrate 10 of the present embodiment is
The base material 3, the reflective film 5 which is disposed on the base material 3 and has the transmission holes 6 through which light can substantially pass, and the transmission film which is disposed in a region corresponding to the transmission holes 6 on the base material 3 It is characterized by comprising a colored layer 4 which is not disposed on the reflective film 5 except for 6.

【0029】ここで、基材3としては、例えば、ガラス
や石英、プラスティック等の光透過性を有する板状部材
を挙げることができる。
Here, as the base material 3, for example, a plate-like member having a light-transmitting property such as glass, quartz, or plastic can be used.

【0030】また、着色層4は、通常、R(赤)、G
(緑)及びB(青)のそれぞれの着色層を、基材3上の
着色層形成領域に、所定の配列、例えば、ストライプ配
列、モザイク配列、デルタ配列等の形状に形成される
(図12参照)。具体的には、着色層4は、所定の色の
樹脂材料、例えば、R(赤色)の感光性レジスト、顔料
レジスト又はアクリル樹脂等によって、例えば、スピン
コート法やインクジェット法を用いて、かつ所定のパタ
ーニング手法(例えば、フォトリソグラフィ法)を用い
て基材3上の着色層形成領域に形成される。この場合、
個々の着色層形成領域の平面寸法は、例えば、30μm
m×100μm程度に形成される。
The colored layer 4 is usually R (red), G
The respective colored layers of (green) and B (blue) are formed in a colored layer forming region on the base material 3 in a predetermined arrangement, for example, a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement or the like (FIG. 12). reference). Specifically, the colored layer 4 is made of a resin material of a predetermined color, for example, an R (red) photosensitive resist, a pigment resist, an acrylic resin, or the like, for example, using a spin coating method or an inkjet method, and a predetermined color. Is formed in the colored layer forming region on the base material 3 by using the patterning method (for example, photolithography method). in this case,
The plane size of each colored layer forming region is, for example, 30 μm.
It is formed to have a size of about m × 100 μm.

【0031】また、反射膜5は、基材3側からの入射光
を反射させるための膜であり、例えば、反射性を有する
材料(例えば、アルミニウムや銀等)によって形成され
る。反射膜5は、通常、基材3の全面を覆うように形成
されるが、その一部には透過孔6が形成されている。後
述するように、透過型表示時に、バックライトユニット
からの入射光は、この反射膜5の透過孔6を通過して基
材3側に出射する。また、反射膜5の表面は、拡散性
(乱反射性)を高めるため、多数の微細な凹凸が形成さ
れている。
The reflection film 5 is a film for reflecting incident light from the base material 3 side, and is formed of, for example, a material having reflectivity (eg, aluminum or silver). The reflection film 5 is usually formed so as to cover the entire surface of the base material 3, and a transmission hole 6 is formed in a part thereof. As will be described later, at the time of transmissive display, incident light from the backlight unit passes through the transmissive hole 6 of the reflective film 5 and is emitted to the base material 3 side. Further, the surface of the reflective film 5 is formed with a large number of fine irregularities in order to enhance the diffusivity (diffusive reflectivity).

【0032】このように構成することによって、液晶表
示装置(特に、半透過反射型液晶表示装置)に用いられ
た場合に、反射型表示時に白黒表示及び透過型表示時に
カラー表示が可能であるとともに、コストを上昇させる
ことなく、反射型表示時及び透過型表示時における表示
の明るさ及び視認性を向上させることができる。この場
合、反射型表示時における白黒表示は、反射膜5の表面
上又は表面上方に、着色層4等の反射効率を低減するも
のが一切配置されることがないので、従来と比べて透過
率を下げることなく、反射率を上げることができ、反射
表示の明るさ及び視認性を向上させることができる。一
方、透過率を上げたい場合には、反射膜5の領有面積を
減らし(透過孔6の面積を増やす)ことによって、反射
率を下げることなく、透過率を上げることができ、透過
表示の明るさ及び視認性を向上させることができる。こ
のように、反射膜5の領有面積を増減する(透過孔6の
面積を減増する)ことによって、透過表示及び反射表示
の明るさ及び視認性を向上させることができるととも
に、いずれか一方の犠牲を伴うことなく、透過表示及び
反射表示の明るさ及び視認性をそれぞれ所望の大きさに
無段階で調整することもできる。
With this structure, when used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), it is possible to perform monochrome display during reflection type display and color display during transmission type display. It is possible to improve the brightness and visibility of the display during the reflective display and the transmissive display without increasing the cost. In this case, in the black-and-white display during the reflective display, since the coloring layer 4 or the like that reduces the reflection efficiency is not disposed at all on or above the surface of the reflective film 5, the transmittance is higher than that in the conventional case. The reflectance can be increased without lowering the brightness, and the brightness and visibility of the reflective display can be improved. On the other hand, when it is desired to increase the transmittance, it is possible to increase the transmittance without lowering the reflectance by decreasing the area occupied by the reflective film 5 (increasing the area of the transmission hole 6), and the brightness of the transmissive display is improved. And the visibility can be improved. In this way, by increasing or decreasing the area occupied by the reflective film 5 (decreasing the area of the transmission hole 6), the brightness and visibility of the transmissive display and the reflective display can be improved, and at the same time, either one of them can be improved. It is also possible to adjust the brightness and visibility of the transmissive display and the reflective display to desired sizes steplessly without sacrificing them.

【0033】B:第2の発明の実施の形態 図2は、本発明(第2の発明)のカラーフィルタ基板の
一の実施の形態を模式的に示す断面図である。図2に示
すように、本実施の形態のカラーフィルタ基板10は、
基材3と、基材3上に配置され、実質的に光が通過でき
る透過孔6を有する反射膜5と、透過孔6を除く反射膜
5上に配置されるとともに基材3上の透過孔6に対応す
る領域内には配置されない着色層4とを備えてなること
を特徴とする。
B: Embodiment of Second Invention FIG. 2 is a sectional view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention (second invention). As shown in FIG. 2, the color filter substrate 10 of the present embodiment is
The base material 3, the reflective film 5 that is disposed on the base material 3, and has the transmission holes 6 that allow light to substantially pass therethrough, and the transmission film on the base material 3 that is disposed on the reflection film 5 excluding the transmission holes 6 The colored layer 4 is not provided in the region corresponding to the hole 6.

【0034】ここで、基材3、着色層4及び反射膜5と
しては第1の発明の実施の形態の場合と同様のものを用
いることができる。
Here, as the base material 3, the colored layer 4 and the reflective film 5, the same materials as those in the embodiment of the first invention can be used.

【0035】このように構成することによって、液晶表
示装置(特に、半透過反射型液晶表示装置)に用いられ
た場合に、透過型表示時に白黒表示及び反射型表示時に
カラー表示が可能であるとともに、コストを上昇させる
ことなく、透過型表示時及び反射型表示時における表示
の明るさ及び視認性を向上させることができる。この場
合、透過型表示時における白黒表示は、反射膜5の透過
孔6に対応する領域上に、着色層4等の反射効率を低減
するものが一切配置されることがないので、反射率を下
げることなく、透過率を上げることができ、透過表示の
明るさ及び視認性を向上させることができる。一方、反
射率を上げたい場合には、反射膜5の領有面積を増やし
(透過孔6の面積を減らす)ことによって、従来と比べ
て透過率を下げることなく、反射率を上げることがで
き、反射表示の明るさ及び視認性を向上させることがで
きる。このように、反射膜5の領有面積を増減する(透
過孔6の面積を減増する)ことによって、透過表示及び
反射表示の明るさ及び視認性を向上させることができる
とともに、いずれか一方の犠牲を伴うことなく、透過表
示及び反射表示の明るさ及び視認性をそれぞれ所望の大
きさに無段階で調整することもできる。
With this structure, when used in a liquid crystal display device (particularly, a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device), monochrome display can be performed during transmissive display and color display can be performed during reflective display. It is possible to improve display brightness and visibility during transmissive display and reflective display without increasing costs. In this case, in the black-and-white display at the time of the transmissive display, since the coloring layer 4 or the like that reduces the reflection efficiency is not disposed on the area corresponding to the transmission hole 6 of the reflection film 5, the reflectance is reduced. The transmittance can be increased without lowering, and the brightness and visibility of the transmissive display can be improved. On the other hand, when it is desired to increase the reflectance, the area occupied by the reflection film 5 is increased (the area of the transmission hole 6 is decreased), so that the reflectance can be increased without lowering the transmittance as compared with the conventional case. The brightness and visibility of the reflective display can be improved. In this way, by increasing or decreasing the area occupied by the reflective film 5 (decreasing the area of the transmission hole 6), the brightness and visibility of the transmissive display and the reflective display can be improved, and at the same time, either one of them can be improved. It is also possible to adjust the brightness and visibility of the transmissive display and the reflective display to desired sizes steplessly without sacrificing them.

【0036】C:第3の発明の実施の形態 図3は、本発明(第3の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。図3に示すように、本実施の形態のカラーフィルタ
基板の製造方法は、基材3上に、実質的に光が通過でき
る透過孔6を有する反射膜5を形成する工程(反射膜形
成工程)と、透過孔6を除く反射膜5上には着色層4を
形成することなく、基材3上の透過孔6に対応する領域
内に着色層4を形成する工程(着色層形成工程)とを含
むことを特徴とする。
C: Embodiment of Third Invention FIG. 3 is a process chart schematically showing one embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (third invention). As shown in FIG. 3, in the method for manufacturing a color filter substrate of the present embodiment, a step of forming a reflective film 5 having a transmission hole 6 through which light can substantially pass on the base material 3 (reflective film forming step). ) And a step of forming the colored layer 4 in a region corresponding to the transparent hole 6 on the base material 3 without forming the colored layer 4 on the reflective film 5 except the transparent hole 6 (colored layer forming step) It is characterized by including and.

【0037】反射膜形成工程については、第6の発明の
実施の形態のところで具体的に説明する。
The reflective film forming step will be specifically described in the sixth embodiment of the invention.

【0038】着色層形成工程については、第1の発明の
実施の形態のところで具体的に説明したように、着色層
4が、所定の色の樹脂材料、例えば、R(赤色)の感光
性レジスト、顔料レジスト又はアクリル樹脂等によっ
て、例えば、スピンコート法やインクジェット法を用い
て、かつ所定のパターニング手法(例えば、フォトリソ
グラフィ法)を用いて基材3上の着色層形成領域に形成
されるが、この場合、基材3の表面上の、反射膜5の透
過孔6に対応する領域内に形成するようなパターニング
手法(例えば、フォトリソグラフィ法)を用いることが
好ましい。
Regarding the colored layer forming step, as described in detail in the first embodiment of the present invention, the colored layer 4 is made of a resin material of a predetermined color, for example, an R (red) photosensitive resist. , A pigment resist, an acrylic resin, or the like is formed in the colored layer forming region on the base material 3 by using, for example, a spin coating method or an inkjet method, and using a predetermined patterning method (for example, photolithography method). In this case, it is preferable to use a patterning method (for example, a photolithography method) such that the patterning method is formed on the surface of the base material 3 in the region corresponding to the transmission hole 6 of the reflective film 5.

【0039】このように構成することによって、第1の
発明のカラーフィルタ基板を効率よくかつ安価に製造す
ることができる。
With this structure, the color filter substrate of the first invention can be manufactured efficiently and inexpensively.

【0040】D:第4の発明の実施の形態 図4は、本発明(第4の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。図4に示すように、本実施の形態のカラーフィルタ
基板の製造方法は、基材3上に、実質的に光が通過でき
る透過孔6を有する反射膜5を形成する工程(反射膜形
成工程)と、基材3上の透過孔6に対応する領域内には
着色層4を形成することなく、透過孔6を除く反射膜5
上に着色層4を形成する工程(着色層形成工程)とを含
むことを特徴とする。
D: Embodiment of Fourth Invention FIG. 4 is a process chart schematically showing one embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (fourth invention). As shown in FIG. 4, in the method of manufacturing a color filter substrate according to the present embodiment, a step of forming a reflection film 5 having a transmission hole 6 through which light can substantially pass on the base material 3 (reflection film formation step). ) And the reflective film 5 excluding the transmission holes 6 without forming the colored layer 4 in the region corresponding to the transmission holes 6 on the base material 3.
And a step of forming the colored layer 4 thereon (colored layer forming step).

【0041】反射膜形成工程については第3の発明の実
施の形態の場合と同様であり、着色層形成工程について
は、第6の発明の実施の形態の場合において説明する。
The reflective film forming step is the same as that in the third embodiment, and the colored layer forming step will be described in the sixth embodiment.

【0042】このように構成することによって、第2の
発明のカラーフィルタ基板を効率よくかつ安価に製造す
ることができる。
With this structure, the color filter substrate of the second invention can be manufactured efficiently and inexpensively.

【0043】E:第5の発明の実施の形態 図5は、本発明(第5の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。図5に示すように、本実施の形態のカラーフィルタ
基板の製造方法は、基材3上に、実質的に光が通過でき
る透過孔6を有する反射膜5を形成する工程(反射膜形
成工程)と、透過孔6を除く反射膜5上及び基材3上の
透過孔6に対応する領域内に着色層4を形成する工程
(着色層形成工程)と、基材3上の透過孔6に対応する
領域内に形成された着色層4を除去する工程(着色層除
去工程)とを含むことを特徴とする。
E: Embodiment of Fifth Invention FIG. 5 is a process chart schematically showing one embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (fifth invention). As shown in FIG. 5, in the method for manufacturing a color filter substrate according to the present embodiment, a step of forming a reflection film 5 having a transmission hole 6 through which light can substantially pass on the base material 3 (reflection film formation step). ), A step of forming the colored layer 4 on the reflective film 5 excluding the transmission holes 6 and a region corresponding to the transmission holes 6 on the base material 3 (colored layer forming step), and the transmission holes 6 on the base material 3). And a step of removing the colored layer 4 formed in the region corresponding to (colored layer removing step).

【0044】ここで、着色層を除去する方法としては、
例えば、フォトリソグラフィやエッチング等の汎用の技
術を用いた方法を挙げることができる。
Here, as a method for removing the colored layer,
For example, a method using a general-purpose technique such as photolithography or etching can be used.

【0045】反射膜形成工程については第3の発明の実
施の形態の場合と同様であり、着色層形成工程について
は、第6の発明の実施の形態の場合において説明する。
The reflective film forming step is the same as in the third embodiment of the invention, and the colored layer forming step will be described in the sixth embodiment of the invention.

【0046】このように構成することによって、第4の
発明の実施の形態の場合と同様に、第2の発明のカラー
フィルタ基板を効率よくかつ安価に製造することができ
る。
With this structure, the color filter substrate of the second invention can be manufactured efficiently and inexpensively, as in the case of the embodiment of the fourth invention.

【0047】F:第6の発明の実施の形態 第6の発明の液晶表示装置の実施の形態としては、第1
の発明のカラーフィルタ基板を備えてなるアクティブマ
トリクス方式の半透過反射型液晶表示装置に適用した場
合について説明する。なお、以下では、スイッチング素
子として二端子型スイッチング素子を用いた場合を示
す。
F: Sixth Embodiment of the Invention The first embodiment of the liquid crystal display device of the sixth invention is as follows.
A case where the invention is applied to a semi-transmissive reflection type liquid crystal display device of the active matrix system including the color filter substrate will be described. In addition, below, the case where a two-terminal switching element is used as a switching element is shown.

【0048】図6は、本発明(第6の発明)の液晶表示
装置の一の実施の形態を模式的に示す断面図である。図
6に示すように、この液晶表示装置は、シール材(図示
せず)を介して対向する一対の基板(第1基板11及び
第2基板12)の間に液晶13を挟持してなる液晶パネ
ル1と、この液晶パネル1の第2基板12側に配設され
るバックライトユニット2とを含んで構成され、一対の
基板(第1基板11及び第2基板12)のうち第2基板
(一方の基板)12上に配置され、実質的に光が通過で
きる透過孔121aを有する反射膜121と、一方の基
板12上の透過孔121aに対応する領域内に配置され
るとともに透過孔121aを除く反射膜121上には配
置されない着色層123とを備えてなることを特徴とす
る。なお、実際には、第1基板11及び第2基板12の
外側(液晶13とは反対側)の表面に、入射光を偏光さ
せるための偏光板や位相差板等が貼着されるが、本発明
とは直接関係がないため、その説明及び図示を省略す
る。
FIG. 6 is a sectional view schematically showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention (sixth invention). As shown in FIG. 6, this liquid crystal display device has a liquid crystal 13 sandwiched between a pair of substrates (a first substrate 11 and a second substrate 12) facing each other with a sealing material (not shown) interposed therebetween. The panel 1 and the backlight unit 2 arranged on the second substrate 12 side of the liquid crystal panel 1 are configured to be included, and the second substrate (the first substrate 11 and the second substrate 12) of the pair of substrates (the first substrate 11 and the second substrate 12). A reflective film 121 having a transmission hole 121a through which light can substantially pass, and a transmission film 121a which is disposed in a region corresponding to the transmission hole 121a on the one substrate 12. It is characterized in that it is provided with a colored layer 123 which is not disposed on the reflective film 121 except for. In addition, in practice, a polarizing plate, a retardation plate, or the like for polarizing the incident light is attached to the outer surface (the side opposite to the liquid crystal 13) of the first substrate 11 and the second substrate 12, Since it is not directly related to the present invention, its description and illustration are omitted.

【0049】バックライトユニット2は、光を照射する
線状の蛍光管と、蛍光管から発せられる光を反射して導
光板21に導く反射板と(いずれも図示せず)、蛍光管
からの光を液晶パネル1の全面に導く導光板21と、こ
の導光板21に導かれた光を液晶パネル1に対して一様
に拡散させる拡散板22と、導光板21から液晶パネル
1とは反対側に出射される光を液晶パネル1側へ反射さ
せる反射板23とを有している。ここで、上記蛍光管
は、常に点灯しているのではなく、外光がほとんどない
ような環境において使用される場合に、ユーザからの指
示やセンサからの検出信号に応じて点灯し、これにより
透過型表示が行われるようになっている。
The backlight unit 2 includes a linear fluorescent tube for irradiating light, a reflector for reflecting the light emitted from the fluorescent tube and guiding it to the light guide plate 21 (neither is shown), and a fluorescent tube for emitting light. The light guide plate 21 that guides light to the entire surface of the liquid crystal panel 1, the diffusion plate 22 that uniformly diffuses the light guided to the light guide plate 21 with respect to the liquid crystal panel 1, and the light guide plate 21 is opposite to the liquid crystal panel 1. And a reflection plate 23 that reflects the light emitted to the side toward the liquid crystal panel 1 side. Here, the fluorescent tube is not always lit, but when used in an environment where there is almost no external light, it illuminates according to an instruction from the user or a detection signal from the sensor, and Transmissive display is performed.

【0050】液晶パネル1の第1基板11は、ガラスや
石英、プラスティック等の光透過性を有する板状部材で
ある。この第1基板11の内側(液晶13側)表面に
は、複数の画素電極111がマトリクス状に配列して形
成される。各画素電極111は、例えば、ITO(In
dium Tin Oxide)等の透明導電材料によ
って形成される。
The first substrate 11 of the liquid crystal panel 1 is a light-transmissive plate-shaped member such as glass, quartz, or plastic. A plurality of pixel electrodes 111 are arranged in a matrix on the inner surface (on the liquid crystal 13 side) of the first substrate 11. Each pixel electrode 111 is formed of, for example, ITO (In
It is formed of a transparent conductive material, such as aluminum (Din Tin Oxide).

【0051】図7は、画素電極111等が形成された第
1基板11の表面を拡大して表す斜視図である。なお、
図7と図6とでは、上下関係が逆になっている。
FIG. 7 is an enlarged perspective view showing the surface of the first substrate 11 on which the pixel electrodes 111 and the like are formed. In addition,
In FIG. 7 and FIG. 6, the vertical relationship is reversed.

【0052】図7に示すように、画素電極111は、T
FD113を介して画素電圧供給用の走査線(図6にお
いては紙面と垂直方向に延在して形成される)114に
接続される。また、各TFD113は、走査線114か
ら分岐した部分である第1金属膜113aと、この第1
金属膜113aの表面に陽極酸化によって形成された絶
縁体たる酸化膜113bと、この酸化膜113bの上面
に例えばクロム等によって形成された第2金属膜113
cとからなり、非線形な電流−電圧特性を有する二端子
型スイッチング素子である。そして、このTFD113
の第2金属膜113cが画素電極111に接続された構
成となっている。
As shown in FIG. 7, the pixel electrode 111 has a T
It is connected via the FD 113 to a scanning line (formed in FIG. 6 that extends in the direction perpendicular to the paper) 114 for supplying a pixel voltage. In addition, each TFD 113 includes a first metal film 113 a that is a portion branched from the scanning line 114 and the first metal film 113 a.
An oxide film 113b which is an insulator formed on the surface of the metal film 113a by anodic oxidation, and a second metal film 113 formed of, for example, chromium on the upper surface of the oxide film 113b.
c is a two-terminal switching element having a non-linear current-voltage characteristic. And this TFD113
The second metal film 113c is connected to the pixel electrode 111.

【0053】図6において、画素電極111及びTFD
(図示せず)等が形成された第1基板11の表面は、配向
膜112によって覆われている。この配向膜112は、
ポリイミド等の有機薄膜であり、電圧が印加されていな
いときの液晶13の配向方向を規定するためのラビング
処理が施されている。
In FIG. 6, the pixel electrode 111 and the TFD are
The surface of the first substrate 11 on which (not shown) and the like are formed is covered with an alignment film 112. This alignment film 112 is
It is an organic thin film made of polyimide or the like, and is subjected to rubbing treatment for defining the alignment direction of the liquid crystal 13 when no voltage is applied.

【0054】一方、第2基板12は、ガラス基板等の基
材12aと、必要に応じて樹脂層12bとを積層して構
成される。この第2基板12の内側表面(つまり、樹脂
層の表面)には、透過孔(開口部)121aを有する反
射膜121と、遮光膜(図示せず)と、カラーフィルタ
(着色層)123と、オーバーコート層124と、対向
電極125と、配向膜126とが上述の配置関係で形成
されている。すなわち、カラーフィルタ(着色層)12
3は、第2基板12の内側表面側に、反射膜121の透
過孔121aに対応する領域内に積層して形成され、透
過孔121aを除いた反射膜121上には形成されてい
ない。
On the other hand, the second substrate 12 is formed by laminating a base material 12a such as a glass substrate and a resin layer 12b as required. On the inner surface of the second substrate 12 (that is, the surface of the resin layer), a reflective film 121 having a transmission hole (opening) 121a, a light shielding film (not shown), and a color filter (colored layer) 123. The overcoat layer 124, the counter electrode 125, and the alignment film 126 are formed in the above-mentioned arrangement relationship. That is, the color filter (coloring layer) 12
3 is laminated on the inner surface side of the second substrate 12 in a region corresponding to the transmission hole 121a of the reflection film 121, and is not formed on the reflection film 121 except the transmission hole 121a.

【0055】反射膜121は、反射性を有する材料(例
えばアルミニウムや銀等)によって形成され、第1基板
11側からの入射光を反射させるための膜である。
The reflective film 121 is a film made of a material having reflectivity (for example, aluminum or silver) for reflecting incident light from the first substrate 11 side.

【0056】図8は、この反射膜121の形状を模式的
に示す平面図である。なお、図8においては、反射膜1
21のうち、第1基板11に形成された画素電極111
と対向する領域を破線で示している。図8に示すよう
に、反射膜121は、第2基板12の全面を覆うように
形成されるが、第2基板12の表面のうち、第1基板1
1に形成された各画素電極111と対向する領域の一部
には開口部(透過孔)121aが形成された形状となっ
ている。後述するように、バックライトユニット2から
の入射光は、この反射膜121の開口部121aを通過
して第1基板11側に出射し、透過型表示をする。
FIG. 8 is a plan view schematically showing the shape of the reflection film 121. In FIG. 8, the reflective film 1
Pixel electrode 111 formed on the first substrate 11
The region opposite to is shown by a broken line. As shown in FIG. 8, the reflective film 121 is formed so as to cover the entire surface of the second substrate 12, but the first substrate 1 is included in the surface of the second substrate 12.
1 has a shape in which an opening (transmission hole) 121a is formed in a part of a region facing each pixel electrode 111 formed in 1. As will be described later, the incident light from the backlight unit 2 passes through the opening 121a of the reflective film 121 and is emitted to the first substrate 11 side to perform a transmissive display.

【0057】ここで、第2基板12の内側表面(より詳
細には、樹脂層12bの表面)のうち、反射膜121に
よって覆われる領域(以下、「反射領域」という)は、
多数の微細な凹凸が形成された粗面となっている。この
ため、反射膜121の表面には、反射領域上の凹凸を反
映した凹凸が形成されることとなる。
Here, of the inner surface of the second substrate 12 (more specifically, the surface of the resin layer 12b), the area covered by the reflective film 121 (hereinafter referred to as "reflective area") is
It is a rough surface on which many fine irregularities are formed. Therefore, the surface of the reflective film 121 is formed with irregularities that reflect the irregularities on the reflective region.

【0058】遮光膜(図示せず)は、第1基板11に形
成された各画素電極111の間隙部分に位置するように
格子状に形成された膜であり、各画素間の隙間を遮光す
るためのものである。カラーフィルタ(着色層)123
は、上述のように、染料や顔料によってR(赤色)、G
(緑色)及びB(青色)のいずれかに着色された樹脂材
料で形成された膜である。また、反射膜121、遮光膜
(図示せず)及びカラーフィルタ123が形成された第
2基板12の表面は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂から
なるオーバーコート層124によって覆われている。こ
れは、反射膜121、遮光膜及びカラーフィルタ(着色
層)123によって第2基板12上に形成された凸部を
平坦化するとともに、カラーフィルタ(着色層)123
から有機材料が染み出して液晶を劣化させるのを防止す
る。
The light-shielding film (not shown) is a film formed in a grid pattern so as to be located in the gaps between the pixel electrodes 111 formed on the first substrate 11, and shields the gaps between the pixels. It is for. Color filter (coloring layer) 123
As described above, depending on the dye or pigment, R (red), G
It is a film formed of a resin material colored in either (green) or B (blue). The surface of the second substrate 12 on which the reflective film 121, the light shielding film (not shown) and the color filter 123 are formed is covered with an overcoat layer 124 made of acrylic resin or epoxy resin. This flattens the convex portion formed on the second substrate 12 by the reflective film 121, the light shielding film, and the color filter (coloring layer) 123, and at the same time, the color filter (coloring layer) 123.
The organic material is prevented from seeping out and deteriorating the liquid crystal.

【0059】さらに、このオーバーコート層124の表
面には、複数の対向電極125が形成されている。各対
向電極125は、第1基板11上に列をなす複数の画素
電極111の各々と対向するように所定の方向に延在し
て形成された帯状の電極であり、透明導電材料、例え
ば、ITO等によって形成される。第1基板11と第2
基板12との間に挟持された液晶13は、画素電極11
1と対向電極125との間に電圧が印加されることによ
ってその配向方向が変化する。すなわち、各画素電極1
11と各対向電極125とが対向する領域が画素として
機能することとなる。
Further, a plurality of counter electrodes 125 are formed on the surface of the overcoat layer 124. Each counter electrode 125 is a strip-shaped electrode formed to extend in a predetermined direction so as to face each of the plurality of pixel electrodes 111 in a row on the first substrate 11, and is made of a transparent conductive material, for example, It is made of ITO or the like. First substrate 11 and second
The liquid crystal 13 sandwiched between the substrate 12 and the substrate 12
When a voltage is applied between 1 and the counter electrode 125, the orientation direction changes. That is, each pixel electrode 1
A region where 11 and each counter electrode 125 face each other functions as a pixel.

【0060】上述した開口部121aは、画素が形成さ
れる領域に対応して形成される。一方、これらの対向電
極125が形成されたオーバーコート層124の表面
は、上記配向膜112と同様の配向膜126によって覆
われている。
The above-mentioned opening 121a is formed corresponding to the area where the pixel is formed. On the other hand, the surface of the overcoat layer 124 on which the counter electrodes 125 are formed is covered with an alignment film 126 similar to the alignment film 112.

【0061】以上説明した構成により、以下に示す反射
型表示及び透過型表示がなされることとなる。
With the structure described above, the following reflective type display and transmissive type display are performed.

【0062】まず、反射型表示の場合、太陽光や室内照
明等の外光は、第1基板11側から入射し、第1基板1
1、画素電極111、配向膜112、液晶13、配向膜
126、対向電極125、オーバーコート層124、カ
ラーフィルタ123、反射膜121という経路を順に辿
り、反射膜121に達し、この反射膜121の表面で反
射した後、上記経路を逆に辿って第1基板11側から出
射して観察者に視認される。ここで、上述したように、
反射膜121の表面には、第2基板12の反射領域に形
成された凹凸を反映した凹凸が形成されている。このた
め、第1基板11側からの入射光は、この反射膜121
の凹凸によって適度に散乱された後に第1基板11側か
ら出射するから、観察者によって視認される画像に背景
が映り込んだり、室内照明からの光が反射するといった
事態を回避することができる。
First, in the case of the reflection type display, external light such as sunlight and indoor lighting enters from the first substrate 11 side and the first substrate 1
1, the pixel electrode 111, the alignment film 112, the liquid crystal 13, the alignment film 126, the counter electrode 125, the overcoat layer 124, the color filter 123, and the reflective film 121 in order, and reaches the reflective film 121. After the light is reflected on the surface, the above-mentioned path is followed in reverse and the light is emitted from the first substrate 11 side and is visually recognized by an observer. Here, as mentioned above,
The surface of the reflective film 121 has irregularities that reflect the irregularities formed in the reflective region of the second substrate 12. Therefore, the incident light from the first substrate 11 side is reflected by the reflective film 121.
Since the light is appropriately scattered by the irregularities of the first substrate 11 and then emitted from the first substrate 11 side, it is possible to avoid a situation in which the background is reflected in the image visually recognized by the observer and the light from the room illumination is reflected.

【0063】一方、透過型表示の場合、バックライトユ
ニット2による照射光は、第2基板12、反射膜121
の開口部121a、カラーフィルタ(着色層)123、
オーバーコート層124、対向電極125、配向膜12
6、液晶13、配向膜112、画素電極111、第1基
板11という経路を順に辿って出射して観察者に視認さ
れる。
On the other hand, in the case of the transmissive display, the irradiation light from the backlight unit 2 is the second substrate 12 and the reflection film 121.
Opening 121a, color filter (coloring layer) 123,
Overcoat layer 124, counter electrode 125, alignment film 12
6, the liquid crystal 13, the alignment film 112, the pixel electrode 111, and the first substrate 11 are sequentially emitted to be visually recognized by an observer.

【0064】また、反射型表示の場合の表示(白黒表
示)は、反射膜121の表面上又は表面上方に、カラー
フィルタ(着色層)123等の反射効率を低減するもの
が一切配置されることがないので、従来と比べて透過率
を下げることなく、反射率を上げることができ、反射表
示の明るさ及び視認性を向上させることができる。一
方、透過率を上げたい場合には、反射膜121の領有面
積を減らす(透過孔(開口部)121aの面積を増や
す)ことによって、反射率を下げることなく、透過率を
上げることができ、透過表示(カラー表示)の明るさ及
び視認性を向上させることができる。このように、反射
膜121の領有面積(透過孔121aの面積)を増減す
ることによって、透過表示及び反射表示の明るさ及び視
認性を向上させることができるとともに、いずれか一方
の犠牲を伴うことなく、透過表示及び反射表示の明るさ
及び視認性をそれぞれ所望の大きさに無段階で調整する
こともできる。
In the case of the reflection type display (black and white display), a color filter (coloring layer) 123 or the like that reduces the reflection efficiency is arranged on the surface of the reflection film 121 or above the surface. Therefore, the reflectance can be increased without lowering the transmittance as compared with the related art, and the brightness and visibility of the reflective display can be improved. On the other hand, when it is desired to increase the transmittance, it is possible to increase the transmittance without decreasing the reflectance by decreasing the area occupied by the reflective film 121 (increasing the area of the transmission hole (opening) 121a). The brightness and visibility of transmissive display (color display) can be improved. As described above, by increasing or decreasing the area occupied by the reflective film 121 (the area of the transmission hole 121a), the brightness and visibility of the transmissive display and the reflective display can be improved, and one of the sacrifices is involved. Alternatively, the brightness and the visibility of the transmissive display and the reflective display can be adjusted steplessly to desired sizes.

【0065】以下、このような液晶表示装置の製造方法
について説明する。
A method of manufacturing such a liquid crystal display device will be described below.

【0066】まず、図9(a)に示すように、ガラス基
板等の基材12aの一方の表面を覆うように、樹脂材料
を塗布・焼成して樹脂層12bを形成する。次に、この
樹脂層12bを覆うフォトレジスト32を形成し、反射
領域に対応する領域に多数の微小な孔32aを形成する
(図9(b))。
First, as shown in FIG. 9A, a resin material is applied and baked to cover one surface of a substrate 12a such as a glass substrate to form a resin layer 12b. Next, a photoresist 32 that covers the resin layer 12b is formed, and a large number of minute holes 32a are formed in a region corresponding to the reflection region (FIG. 9B).

【0067】次に、このような多数の孔32aが形成さ
れたフォトレジスト32をマスクとして、樹脂層12b
に対して等方性エッチングを施す。この結果、図9
(c)に示すように、樹脂層12bのうちのフォトレジ
スト32の孔32aに対応する部分に、多数の微細な凹
部が形成される。一方、孔が形成されていない領域はエ
ッチングによって除去されないので、平坦なままとな
る。上記エッチングの後、フォトレジスト32を除去す
る(図9(d))。
Next, with the photoresist 32 having such a large number of holes 32a formed as a mask, the resin layer 12b is formed.
Isotropically etched. As a result, FIG.
As shown in (c), a large number of fine recesses are formed in the portion of the resin layer 12b corresponding to the holes 32a of the photoresist 32. On the other hand, the region where no hole is formed is not removed by etching, and thus remains flat. After the above etching, the photoresist 32 is removed (FIG. 9D).

【0068】次に、こうして多数の凹部が形成された樹
脂層12bを、この樹脂材料の熱変形温度以上に加熱す
る。この加熱により樹脂層12bは軟化し、その熱変形
性及び表面張力の作用によって樹脂層12bの角の部分
が丸められる。この結果、図9(e)に示すように、滑
らかな凹凸を有する粗面である反射領域Aと、平坦面で
ある透過領域Bとを有する第2基板12が得られる。
Next, the resin layer 12b thus formed with a large number of recesses is heated to a temperature above the thermal deformation temperature of this resin material. By this heating, the resin layer 12b is softened, and the corner portions of the resin layer 12b are rounded by the action of its thermal deformability and surface tension. As a result, as shown in FIG. 9E, the second substrate 12 having the reflection area A which is a rough surface having smooth unevenness and the transmission area B which is a flat surface is obtained.

【0069】続いて、上記のようにして粗面と平坦面と
が選択的に形成された第2基板12の全面に、アルミニ
ウム等の反射性を有する材料の膜33をスパッタリング
法等によって形成する。さらに、図9(f)に示すよう
に、この膜33のうちの反射領域に対応する領域にフォ
トレジスト34を形成する。
Subsequently, a film 33 of a reflective material such as aluminum is formed on the entire surface of the second substrate 12 on which the rough surface and the flat surface are selectively formed as described above by a sputtering method or the like. . Further, as shown in FIG. 9F, a photoresist 34 is formed on a region of the film 33 corresponding to the reflection region.

【0070】次に、上記フォトレジスト34が形成され
た膜33に対してエッチングを施し、フォトレジスト3
4によって覆われていない領域の膜33を除去する。こ
の結果、エッチングによって除去された領域を開口部1
21aとする反射膜121が形成される。
Next, the film 33 having the photoresist 34 formed thereon is etched to form the photoresist 3
The film 33 in the area not covered by 4 is removed. As a result, the area removed by the etching is used as the opening 1
The reflection film 121 to be 21a is formed.

【0071】次に、反射膜121が形成された第2基板
12の表面にクロム等の薄膜を形成するとともに、この
薄膜をパターニングして遮光膜(図示せず)を形成す
る。そして、反射膜121及び遮光膜(図示せず)が形
成された第2基板12の表面に、R、G、Bのうちのい
ずれかの色に着色された樹脂膜を形成するとともに、エ
ッチングやフォトリソグラフィを施し、この色のカラー
フィルタ(着色層)123を、開口部(透過孔)121
aに対応した領域内に形成する。他の2色についても、
同様の工程によってカラーフィルタ123(着色層)を
形成する(図9(h))。
Next, a thin film of chromium or the like is formed on the surface of the second substrate 12 on which the reflective film 121 is formed, and this thin film is patterned to form a light shielding film (not shown). Then, a resin film colored in any one of R, G, and B is formed on the surface of the second substrate 12 on which the reflective film 121 and the light shielding film (not shown) are formed, and etching or etching is performed. Photolithography is performed, and a color filter (coloring layer) 123 of this color is formed in the opening (transmission hole) 121.
It is formed in the region corresponding to a. For the other two colors,
The color filter 123 (colored layer) is formed by the same process (FIG. 9 (h)).

【0072】次に、これらの各部が形成された第2基板
12の全面にアクリル樹脂等の樹脂材料を塗布し、その
後焼成してオーバーコート層124を形成する。さら
に、こうして形成されたオーバーコート層124の表面
に、スパッタリング法等によってITOの薄膜を形成
し、この薄膜に対してエッチングやフォトリソグラフィ
等を施すことにより、複数の帯状の対向電極125を形
成する。次に、これらの対向電極125が形成されたオ
ーバーコート層124の表面にポリイミド等の有機材料
を塗布・焼成して配向膜126を形成した後、この配向
膜126に対して、用いる液晶13のツイスト角に応じ
た一軸配向処理(例えばラビング処理)を施す(図9
(i))。
Next, a resin material such as acrylic resin is applied to the entire surface of the second substrate 12 on which these parts are formed, and then baked to form an overcoat layer 124. Further, a thin film of ITO is formed on the surface of the overcoat layer 124 thus formed by a sputtering method or the like, and the thin film is subjected to etching, photolithography or the like to form a plurality of strip-shaped counter electrodes 125. . Next, after an organic material such as polyimide is applied and baked on the surface of the overcoat layer 124 on which the counter electrodes 125 are formed to form an alignment film 126, the alignment film 126 is covered with a liquid crystal 13 to be used. Uniaxial orientation processing (for example, rubbing processing) according to the twist angle is performed (FIG. 9).
(I)).

【0073】一方、第1基板11の表面に、走査線11
4、TFD113及び画素電極111を形成する。これ
らの各部は、公知の各種方法を用いて形成することがで
きる。
On the other hand, the scanning line 11 is formed on the surface of the first substrate 11.
4, the TFD 113 and the pixel electrode 111 are formed. Each of these portions can be formed using various known methods.

【0074】次に、上記のようにして得られた第2基板
12上に、この第2基板12の縁部を囲む形状のシール
材を印刷するとともに、この第2基板12と、画素電極
111等が形成された第1基板と11をシール材を介し
て接合し、液晶13を封入して液晶パネル1が得られ
る。この後、液晶パネル1の第2基板12側にバックラ
イトユニット2を配設して、図6に示す液晶表示装置が
完成する。
Next, a sealant having a shape surrounding the edge of the second substrate 12 is printed on the second substrate 12 obtained as described above, and the second substrate 12 and the pixel electrode 111 are printed. The liquid crystal panel 1 is obtained by bonding the first substrate 11 on which the above are formed and the like through a sealant, and enclosing the liquid crystal 13 therein. After that, the backlight unit 2 is disposed on the second substrate 12 side of the liquid crystal panel 1, and the liquid crystal display device shown in FIG. 6 is completed.

【0075】以上、本発明の液晶表示装置の一実施の形
態について説明したが、上記実施の形態はあくまでも例
示であり、上記実施の形態に対しては、本発明の趣旨か
ら逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。
変形例としては、例えば、以下のようなものが考えられ
る。
Although one embodiment of the liquid crystal display device of the present invention has been described above, the above embodiment is merely an example, and various modifications can be made to the above embodiment without departing from the spirit of the present invention. It can be modified.
For example, the following may be considered as modifications.

【0076】<変形例1>上記各実施の形態において
は、二端子型スイッチング素子を用いたアクティブマト
リクス方式の液晶表示装置を示したが、本発明は、例え
ば、TFT(Thin Film Transisto
r;薄膜トランジスタ)に代表される三端子型スイッチ
ング素子を用いた液晶表示装置又はパッシブマトリクス
方式の液晶表示装置にも適用可能である。これらの液晶
表示装置の場合も、上記各実施の形態におけると同様、
液晶を挟持する一対の基板のうちの観察側とは反対側の
基板に、透過孔(開口部)を有する反射膜及びカラーフ
ィルタ(着色層)を設け、カラーフィルタ(着色層)を
透過孔(開口部)に対応する領域に形成すればよい。ま
た、上記各実施の形態においては、観察側の第1基板1
1に画素電極111及びTFD113等を設ける一方、
観察側とは反対側の第2基板12に画素電極111と対
向する対向電極125を設ける構成としたが、これとは
逆に、第1基板11に対向電極を、第2基板12に画素
電極及びスイッチング素子等を設ける構成としてもよ
い。一方、TFT等の三端子型スイッチング素子を用い
た場合にあっても、観察側の基板をスイッチング素子が
設けられた素子基板とし、他方の基板を対向電極が形成
された対向基板としてもよいし、これとは逆に、観察側
の基板を対向電極とし、観察側とは反対側の基板を素子
基板としてもよい。
<Modification 1> In each of the above embodiments, an active matrix type liquid crystal display device using a two-terminal switching element has been shown. However, the present invention is, for example, a TFT (Thin Film Transistor).
The present invention is also applicable to a liquid crystal display device using a three-terminal type switching element typified by r: thin film transistor) or a passive matrix liquid crystal display device. Also in the case of these liquid crystal display devices, as in the above embodiments,
A reflective film having a transmission hole (opening) and a color filter (coloring layer) are provided on the substrate opposite to the observation side of the pair of substrates holding the liquid crystal, and the color filter (coloring layer) is provided through the transmission hole ( It may be formed in a region corresponding to the opening). In each of the above embodiments, the first substrate 1 on the observation side
1, the pixel electrode 111 and the TFD 113 are provided,
The counter electrode 125 facing the pixel electrode 111 is provided on the second substrate 12 on the side opposite to the observation side. On the contrary, the counter electrode is provided on the first substrate 11 and the pixel electrode is provided on the second substrate 12. Alternatively, a configuration in which a switching element or the like is provided may be used. On the other hand, even when a three-terminal switching element such as a TFT is used, the substrate on the observation side may be the element substrate provided with the switching element, and the other substrate may be the opposite substrate having the opposite electrode. On the contrary, the substrate on the observation side may be the counter electrode and the substrate on the opposite side to the observation side may be the element substrate.

【0077】<変形例2>上記各実施の形態において
は、第2基板12側に反射膜121と対向電極125と
を別個に設ける構成としたが、反射膜121及び対向電
極125の機能を兼ね備える反射電極を形成するように
してもよい。
<Modification 2> In each of the above-described embodiments, the reflective film 121 and the counter electrode 125 are separately provided on the second substrate 12 side. However, the reflective film 121 and the counter electrode 125 also have the functions. You may make it form a reflective electrode.

【0078】G:第7の発明の実施の形態 第7の発明の液晶表示装置の実施の形態としては、第6
の発明の液晶表示装置の実施の形態と、基本的に同様に
適用することができる。すなわち、着色層を、基材上の
透過孔に対応する領域内に配置する代わりに、透過孔を
除く反射膜上に配置することにより構成することができ
る。
G: Seventh Embodiment of the Invention A sixth embodiment of the liquid crystal display device of the seventh invention is as follows.
The liquid crystal display device of the present invention can be basically applied in the same manner. That is, instead of arranging the colored layer in the region corresponding to the transmission hole on the base material, the coloring layer can be arranged on the reflection film excluding the transmission hole.

【0079】H:第8の発明の実施の形態 第6の発明及び第7の発明の液晶表示装置の実施の形態
が、それぞれ着色層を、一対の基板のうちの一方の基板
側に形成した場合を示すが、第8の発明の液晶表示装置
の実施の形態の場合には、図10に示すように、着色層
123を、一対の基板11、12のうちの他方の基板1
1上の、透過孔121aに対応する領域内に配置すると
ともに、透過孔121aを除く反射膜121に対応する
領域内には配置しないことによって同様に構成すること
ができる。
H: Embodiment of the eighth invention In the embodiments of the liquid crystal display device of the sixth invention and the seventh invention, the coloring layers are respectively formed on one substrate side of the pair of substrates. In the case of the embodiment of the liquid crystal display device of the eighth invention, as shown in FIG. 10, the coloring layer 123 is provided on the other substrate 1 of the pair of substrates 11 and 12, as shown in FIG.
A similar configuration can be achieved by arranging the same in a region corresponding to the transmission hole 121a on the first structure and not in a region corresponding to the reflection film 121 except the transmission hole 121a.

【0080】I:第9の発明の実施の形態 第9の発明の液晶表示装置の実施の形態は、第8の発明
の実施の形態の場合と同様に、図11に示すように、着
色層123を、他方の基板11上の、透過孔121aを
除く反射膜121に対応する領域内に配置するととも
に、透過孔121aに対応する領域内には配置しないこ
とによって同様に構成することができる。
I: Embodiment of Ninth Invention As in the case of the embodiment of the eighth invention, the embodiment of the liquid crystal display device of the ninth invention is as shown in FIG. The same configuration can be achieved by arranging 123 on the other substrate 11 in a region corresponding to the reflective film 121 excluding the transmission hole 121a and not arranging it in a region corresponding to the transmission hole 121a.

【0081】[0081]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
液晶表示装置(特に、半透過反射型液晶表示装置)に用
いられた場合に、反射型表示時及び透過型表示時のいず
れの場合においても、白黒表示及びカラー表示のいずれ
もが可能であるとともに、コストを上昇させることな
く、透過型表示時及び反射型表示時における表示の明る
さ及び視認性を向上させた、カラーフィルタ基板及びそ
の製造方法並びに液晶表示装置を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
When used in a liquid crystal display device (particularly, a transflective liquid crystal display device), both black and white display and color display are possible in both reflective display and transmissive display. It is possible to provide a color filter substrate, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display device, which have improved display brightness and visibility during transmissive display and reflective display without increasing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明(第1の発明)のカラーフィルタ基板の
一の実施の形態を模式的に示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention (first invention).

【図2】本発明(第2の発明)のカラーフィルタ基板の
一の実施の形態を模式的に示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention (second invention).

【図3】本発明(第3の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。
FIG. 3 is a process drawing schematically showing an embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (third invention).

【図4】本発明(第4の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。
FIG. 4 is a process chart schematically showing an embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (fourth invention).

【図5】本発明(第5の発明)のカラーフィルタ基板の
製造方法の一の実施の形態を模式的に示す工程図であ
る。
FIG. 5 is a process chart schematically showing one embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate of the present invention (fifth invention).

【図6】本発明(第6の発明)の液晶表示装置の一の実
施の形態を模式的に示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view schematically showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention (sixth invention).

【図7】図6に示す液晶表示装置の第1基板における画
素電極近傍の構成を模式的に示す斜視図である。
7 is a perspective view schematically showing a configuration near a pixel electrode on the first substrate of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図8】図6に示す液晶表示装置の反射膜の構成を模式
的に示す平面図である。
8 is a plan view schematically showing the configuration of a reflective film of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図9】図6に示す液晶表示装置の製造方法を模式的に
示す工程図である。
FIG. 9 is a process chart schematically showing a manufacturing method of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図10】本発明(第8の発明)の液晶表示装置の一の
実施の形態を模式的に示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view schematically showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention (eighth invention).

【図11】本発明(第9の発明)の液晶表示装置の一の
実施の形態を模式的に示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view schematically showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention (ninth invention).

【図12】カラーフィルタ(着色層)におけるR
(赤)、G(緑)及びB(青)三色の絵素の配列例を示
す平面図である。
FIG. 12: R in the color filter (coloring layer)
It is a top view showing an example of arrangement of picture elements of three colors (red), G (green), and B (blue).

【図13】従来の半透過反射型液晶表示装置の一例を模
式的に示す断面図である。
FIG. 13 is a sectional view schematically showing an example of a conventional transflective liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶パネル 10…カラーフィルタ基板 11…第1基板 111…画素電極 112…配向膜 113…TFD 114…走査線 12…第2基板 12a…基材 12b…樹脂層 121…反射膜 121a…開口部(透過孔) 123…カラーフィルタ(着色層) 124…オーバーコート層 125…対向電極 126…配向膜 127…反射電極 127a…開口部 13…液晶 2…バックライトユニット 21…導光板 22…拡散板 23…反射板 3…基材 4…着色層(カラーフィルタ) 5…反射膜 6…透過孔(開口部) 1 ... Liquid crystal panel 10 ... Color filter substrate 11 ... First substrate 111 ... Pixel electrode 112 ... Alignment film 113 ... TFD 114 ... Scan line 12 ... Second substrate 12a ... Base material 12b ... Resin layer 121 ... Reflective film 121a ... Opening (transmission hole) 123 ... Color filter (coloring layer) 124 ... Overcoat layer 125 ... Counter electrode 126 ... Alignment film 127 ... Reflective electrode 127a ... opening 13 ... Liquid crystal 2 ... Backlight unit 21 ... Light guide plate 22 ... Diffusion plate 23 ... Reflector 3 ... Base material 4 ... Colored layer (color filter) 5 ... Reflective film 6 ... Transmission hole (opening)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 520 G02F 1/1335 520 G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B 349D 9/35 9/35 Fターム(参考) 2H042 BA03 BA15 BA20 DA02 DA04 DA11 DA12 DA17 DA22 DB01 DC01 DE00 2H048 BA45 BB02 BB08 BB10 BB44 2H091 FA02Y FA14Y FA41Z FB02 FB08 FC10 GA01 GA03 GA13 LA12 LA15 LA16 5C094 AA01 AA10 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA06 EA07 EB02 ED03 ED11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1335 520 G02F 1/1335 520 G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B 349D 9/35 9/35 F term (reference) 2H042 BA03 BA15 BA20 DA02 DA04 DA11 DA12 DA17 DA22 DB01 DC01 DE00 2H048 BA45 BB02 BB08 BB10 BB44 2H091 FA02Y FA14Y FA41Z FB02 FB08 FC10 GA01 GA03 GA13 LA12 LA15 LA16 5C094 AA19 CA04 DAA19 CA04 DAA19 CA04 DAA19 CA10 DA02 ED11

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材と、前記基材上に配置され、実質的
に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記基材上
の前記透過孔に対応する領域内に配置されるとともに前
記透過孔を除く前記反射膜上には配置されない着色層と
を備えてなることを特徴とするカラーフィルタ基板。
1. A base material, a reflective film disposed on the base material and having a transmission hole that allows light to substantially pass therethrough, and a reflective film disposed on a region of the base material corresponding to the transmission hole. A color filter substrate comprising: a colored layer that is not disposed on the reflective film except the transmission holes.
【請求項2】 基材と、前記基材上に配置され、実質的
に光が通過できる透過孔を有する反射膜と、前記透過孔
を除く前記反射膜上に配置されるとともに前記基材上の
前記透過孔に対応する領域内には配置されない着色層と
を備えてなることを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. A base material, a reflective film which is disposed on the base material and has a transmission hole through which light can substantially pass, and a reflective film which is disposed on the reflection film excluding the transmission hole and on the base material. 2. A color filter substrate comprising: a colored layer which is not disposed in a region corresponding to the transmission hole.
【請求項3】 基材上に、実質的に光が通過できる透過
孔を有する反射膜を形成する工程と、前記透過孔を除く
前記反射膜上には前記着色層を形成することなく、前記
基材上の前記透過孔に対応する領域内に前記着色層を形
成する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基
板の製造方法。
3. A step of forming a reflective film having a transmission hole through which light can substantially pass through on a base material, and the step of forming the colored layer on the reflection film excluding the transmission hole without forming the colored layer. And a step of forming the colored layer in a region corresponding to the transmission hole on the base material.
【請求項4】 基材上に、実質的に光が通過できる透過
孔を有する反射膜を形成する工程と、前記基材上の前記
透過孔に対応する領域内には前記着色層を形成すること
なく、前記透過孔を除く前記反射膜上に前記着色層を形
成する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基
板の製造方法。
4. A step of forming a reflective film having a transmission hole that substantially allows light to pass through on a base material, and forming the colored layer in a region corresponding to the transmission hole on the base material. And a step of forming the colored layer on the reflective film excluding the transmission holes.
【請求項5】 基材上に、実質的に光が通過できる透過
孔を有する反射膜を形成する工程と、前記透過孔を除く
前記反射膜上及び前記基材上の前記透過孔に対応する領
域内に前記着色層を形成する工程と、前記基材上の前記
透過孔に対応する領域内に形成された前記着色層を除去
する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板
の製造方法。
5. A step of forming a reflective film having a transmissive hole through which light can substantially pass through on a base material, and the transmissive hole on the reflective film excluding the transmissive hole and on the base material. A method of manufacturing a color filter substrate, comprising: a step of forming the colored layer in a region; and a step of removing the colored layer formed in a region corresponding to the transmission hole on the base material. .
【請求項6】 一対の基板と、前記一対の基板のうち一
方の基板上に配置され、実質的に光が通過できる透過孔
を有する反射膜と、前記一方の基板上の前記透過孔に対
応する領域内に配置されるとともに前記透過孔を除く前
記反射膜上には配置されない着色層とを備えてなること
を特徴とする液晶表示装置。
6. A pair of substrates, a reflective film disposed on one of the pair of substrates and having a transmission hole that allows light to substantially pass therethrough, and the reflection film corresponding to the transmission hole on the one substrate. A liquid crystal display device, comprising: a colored layer which is disposed in the region where the colored film is disposed and which is not disposed on the reflective film except the transmission hole.
【請求項7】 一対の基板と、前記一対の基板のうち一
方の基板上に配置され、実質的に光が通過できる透過孔
を有する反射膜と、前記透過孔を除く前記反射膜上に配
置されるとともに前記一方の基板上の前記透過孔に対応
する領域内には配置されない着色層とを備えてなること
を特徴とする液晶表示装置。
7. A pair of substrates, a reflective film that is disposed on one of the pair of substrates and has a transmission hole that allows light to substantially pass therethrough, and disposed on the reflection film excluding the transmission hole. And a colored layer which is not disposed in a region corresponding to the transmission hole on the one substrate.
【請求項8】 一対の基板と、前記一対の基板のうち一
方の基板上に配置され、実質的に光が通過できる透過孔
を有する反射膜と、前記一対の基板のうち他方の基板上
に配置された着色層とを備え、 前記着色層が、前記他方の基板上の、前記透過孔に対応
する領域内に配置されるとともに、前記透過孔を除く前
記反射膜に対応する領域内には配置されないことを特徴
とする液晶表示装置。
8. A pair of substrates, a reflection film disposed on one of the pair of substrates and having a transmission hole through which light can substantially pass, and on the other substrate of the pair of substrates. And a colored layer disposed, wherein the colored layer is disposed in the region corresponding to the transmission hole on the other substrate, and in the region corresponding to the reflective film excluding the transmission hole. A liquid crystal display device characterized by not being arranged.
【請求項9】 一対の基板と、前記一対の基板のうち一
方の基板上に配置され、実質的に光が通過できる透過孔
を有する反射膜と、前記一対の基板のうち他方の基板上
に配置された着色層とを備え、 前記着色層が、前記他方の基板上の、前記透過孔を除く
前記反射膜に対応する領域内に配置されるとともに、前
記透過孔に対応する領域内には配置されないことを特徴
とする液晶表示装置。
9. A pair of substrates, a reflective film which is disposed on one of the pair of substrates and has a transmission hole through which light can substantially pass, and on the other substrate of the pair of substrates. And a colored layer disposed, wherein the colored layer is disposed in a region corresponding to the reflective film excluding the transmission hole on the other substrate, and in a region corresponding to the transmission hole. A liquid crystal display device characterized by not being arranged.
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