JPH10325953A - Reflection type-cum-transmission type display device - Google Patents

Reflection type-cum-transmission type display device

Info

Publication number
JPH10325953A
JPH10325953A JP9116155A JP11615597A JPH10325953A JP H10325953 A JPH10325953 A JP H10325953A JP 9116155 A JP9116155 A JP 9116155A JP 11615597 A JP11615597 A JP 11615597A JP H10325953 A JPH10325953 A JP H10325953A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
display device
reflective
transparent substrate
incident
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9116155A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3666181B2 (en
Inventor
Tetsuo Urabe
哲夫 占部
Minoru Morio
稔 森尾
Hideo Kataoka
秀雄 片岡
Nobuyuki Shigeno
信行 重野
Masaki Munakata
昌樹 宗像
Takayuki Fujioka
隆之 藤岡
Yasutoshi Kawate
靖俊 川手
Masataka Matsute
雅隆 松手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP11615597A priority Critical patent/JP3666181B2/en
Publication of JPH10325953A publication Critical patent/JPH10325953A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3666181B2 publication Critical patent/JP3666181B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553Reflecting elements
    • G02F1/133555Transflectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make possible always displaying without being affected with environment by operating as a reflection type in bright environment, saving power consumption and operating as a transmission type assembled with a back side light source in dark environment. SOLUTION: In a reflection type-cum-transmission type display device, a guest host liquid crystal 3 is held in a gap between a pair of transparent substrates 1, 2 as electrooptical substance, and the device modulates incident light according to a voltage applied between electrodes 6, 11 to perform a display. A light reflection layer 9 is arranged on the back transparent substrate 2 side, and the majority of the light made incident from the front is reflected by it to be transmitted partially. The backside light source 30 is arranged backward from the transparent substrate 2, and the light is made incident toward front according to need. In the bright environment, the majority of external light made incident from the outside from the front toward the back is reflected by the light reflection layer 9, and a display is performed, and in the dark environment, a part of light source light made incident from the back side light source 30 from the back toward the front is transmitted to the front without shielding by the light reflection layer 9, and the display is performed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、昼間等外光が明る
い時これを利用して画像を写し出す一方、夜間等外光が
乏しい場合バックライト(背面光源)を利用して画像を
写し出す反射型兼透過型表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection type for displaying an image by using a backlight (back light source) when outside light is poor, such as at night, while using the light when the outside light is bright, such as at daytime. The present invention relates to a transmissive display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気光学物質として液晶を利用した表示
装置には種々のモードがあり、現在ツイスト配向又はス
ーパーツイスト配向されたネマティック液晶を用いたT
NモードあるいはSTNモードが主流となっている。し
かしながら、これらのモードは動作原理上一対の偏光板
が必要であり、その光吸収がある為透過率が低く明るい
表示画面が得られない。これらのモードの他、二色性色
素を利用したゲストホストモードも開発されている。ゲ
ストホストモードの液晶表示装置は液晶に添加した二色
性色素の吸収係数の異方性を利用して表示を行なうもの
である。棒状構造の二色性色素を用いると、色素分子は
液晶分子に平行に配列する性質があるので、電界を印加
して液晶の分子配向を変化させると、色素の配向方向も
変化する。この色素は方向によって着色したりしなかっ
たりするので、電圧を印加することによって液晶表示装
置の着色、無色を切り換えることができる。
2. Description of the Related Art There are various modes in a display device using a liquid crystal as an electro-optical material. At present, a T-mode using a twisted or super-twisted nematic liquid crystal is used.
The N mode or the STN mode is mainly used. However, these modes require a pair of polarizing plates in terms of operation principle, and because of their light absorption, a low transmittance and a bright display screen cannot be obtained. In addition to these modes, a guest-host mode using a dichroic dye has also been developed. The guest-host mode liquid crystal display device performs display using the anisotropy of the absorption coefficient of the dichroic dye added to the liquid crystal. When a dichroic dye having a rod-like structure is used, the dye molecules have a property of being arranged in parallel to the liquid crystal molecules. Therefore, when an electric field is applied to change the molecular alignment of the liquid crystal, the alignment direction of the dye also changes. Since this dye is colored or not depending on the direction, it is possible to switch between coloration and colorlessness of the liquid crystal display device by applying a voltage.

【0003】図26は透過方式のハイルマイアー(HE
ILMEIER)型ゲストホスト液晶表示装置の構造を
示しており、(A)は電圧無印加状態を表わし、(B)
は電圧印加状態を表わしている。この液晶表示装置はp
型色素と誘電異方性が正のネマティック液晶(Np
晶)を用いている。p型の二色性色素は分子軸にほぼ平
行な吸収軸を持っており、分子軸に平行な偏光成分Lx
を強く吸収し、それに垂直な偏光成分Lyはほとんど吸
収しない。(A)に示す電圧無印加状態では、光源から
の入射光に含まれる偏光成分Lxがp型色素により強く
吸収され、液晶表示装置は着色する。これに対し、
(B)に示す電圧印加状態では、誘電異方性が正のNp
液晶が電界に応答して立ち上がり、これに合わせてp型
色素も垂直方向に整列する。この為、偏光成分Lxはわ
ずかに吸収されるだけで液晶表示装置はほぼ無色を呈す
る。入射光に含まれる他方の偏光成分Lyは電圧印加状
態及び電圧無印加状態のいずれであっても二色性色素に
よって吸収されることはほとんどない。従って、透過型
のゲストホスト液晶表示装置では、予め一枚の偏光板を
介在させ、他方の偏光成分Lyを取り除き、コントラス
トの改善を図っている。
FIG. 26 shows a transmission type Heilmeier (HE).
(A) shows the structure of a (ILMEIER) type guest-host liquid crystal display device, (A) shows a state where no voltage is applied, and (B)
Indicates a voltage applied state. This liquid crystal display device
Type dye and dielectric anisotropy are using positive nematic liquid crystal (N p LCD). The p-type dichroic dye has an absorption axis substantially parallel to the molecular axis, and a polarized light component Lx parallel to the molecular axis.
Is strongly absorbed, and the polarization component Ly perpendicular to it is hardly absorbed. In the state where no voltage is applied as shown in (A), the polarization component Lx contained in the incident light from the light source is strongly absorbed by the p-type dye, and the liquid crystal display is colored. In contrast,
In the voltage application state shown in (B), N p has a positive dielectric anisotropy.
The liquid crystal rises in response to the electric field, and the p-type dye is aligned in the vertical direction accordingly. Therefore, the liquid crystal display device is almost colorless only by absorbing the polarization component Lx slightly. The other polarization component Ly contained in the incident light is hardly absorbed by the dichroic dye in both the voltage applied state and the voltage non-applied state. Therefore, in the transmission type guest-host liquid crystal display device, one polarizing plate is interposed in advance, and the other polarization component Ly is removed to improve the contrast.

【0004】上述した透過型のゲストホスト液晶表示装
置では、十分なコントラストを得る為に、液晶表示装置
の入射側に一枚の偏光板を配置し、入射光の偏光方向を
液晶の配向方向と一致させている。しかしながら、この
ようにすると偏光板により原理的には入射光の50%
(実際には40%程度)が失われる為、表示がTNモー
ドのように暗くなってしまう。この問題を改善する手法
として、単に偏光板を取り除いただけでは吸光度のオン
オフ比が著しく低下するので適当ではなく、種々の改善
策が提案されている。例えば図27に示すように、入射
側から偏光板を除去する一方、出射側に四分の一波長板
及び反射板を取り付けた反射型のゲストホスト液晶表示
装置が提案されている。この方式では、互いに直交する
2つの偏光成分Lx,Lyが、四分の一波長板によって
往路及び復路で偏光方向を90°回転させ、偏光平分の
入れ替えが行なわれる。従って、(A)に示すオフ状態
(吸収状態)では、偏光成分Lx,Lyが入射光路か反
射光路のいずれかで吸収を受けることになる。又(B)
に示すオン状態(透過状態)ではいずれの偏光成分L
x,Lyもほとんど吸収を受けることはない。これによ
り、入射光の利用効率が顕著に改善でき、表示装置が明
るくなる。
In the transmission type guest-host liquid crystal display device described above, in order to obtain a sufficient contrast, one polarizing plate is disposed on the incident side of the liquid crystal display device, and the polarization direction of the incident light is aligned with the orientation direction of the liquid crystal. Are matched. However, in this case, in principle, 50% of the incident light is
(Actually, about 40%) is lost, and the display becomes dark as in the TN mode. As a method for solving this problem, simply removing the polarizing plate is not appropriate because the on / off ratio of absorbance is remarkably reduced, and various measures have been proposed. For example, as shown in FIG. 27, a reflection type guest-host liquid crystal display device has been proposed in which a polarizing plate is removed from the incident side and a quarter-wave plate and a reflecting plate are attached to the output side. In this method, two polarization components Lx and Ly orthogonal to each other are rotated by 90 ° in the forward and backward directions by a quarter-wave plate, and the polarization planes are exchanged. Therefore, in the off state (absorption state) shown in (A), the polarization components Lx and Ly are absorbed in either the incident optical path or the reflected optical path. Also (B)
In the ON state (transmission state) shown in FIG.
x and Ly are hardly absorbed. Thereby, the utilization efficiency of the incident light can be remarkably improved, and the display device becomes bright.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
ゲストホスト液晶表示装置は、図26に示した透過型と
図27に示した反射型がある。透過型は観察者が位置す
る表示装置の前面とは反対側の後面に照明用の背面光源
(バックライト)を配置して画面を明るく照らし出して
いる。一方、反射型は太陽光等の外光を利用して画面を
写し出す。前者はバックライトを利用するので明るい表
示が可能であり特にカラー表示に適しているが、バック
ライトが大きな電力を消費する。例えば屋外で使用する
場合、消費電力が大きい為携帯機器のディスプレイとし
ては不適当である。又、外光が豊富な明るい環境下で
は、逆にコントラストが低下する。これに対し、後者は
外光を利用する為バックライトが不要となりその分消費
電力を抑制できる。又、透過型と異なり反射型は明るい
環境下でコントラストが高くなる。しかしながら、反射
型は絶対的な画像輝度が低く高品位のカラー表示は難し
い。又、夜間等外光が乏しくなる環境では表示の視認性
が著しく低下する。
As described above, the conventional guest-host liquid crystal display devices include the transmission type shown in FIG. 26 and the reflection type shown in FIG. In the transmission type, a rear light source (backlight) for illumination is arranged on the rear surface opposite to the front surface of the display device where the observer is located, to illuminate the screen brightly. On the other hand, the reflection type projects a screen using external light such as sunlight. The former uses a backlight, so that a bright display is possible and is particularly suitable for color display, but the backlight consumes a large amount of power. For example, when used outdoors, the power consumption is large, so it is not suitable as a display for a portable device. In contrast, in a bright environment with abundant external light, the contrast is reduced. On the other hand, the latter uses external light and does not require a backlight, thereby reducing power consumption. Also, unlike the transmission type, the reflection type has a high contrast in a bright environment. However, the reflection type has a low absolute image luminance and is difficult to display high-quality color. Further, in an environment where external light is scarce such as at night, the visibility of display is significantly reduced.

【0006】[0006]

【課題を解決する為の手段】上述した従来の技術の課題
を解決する為、本発明は昼間、夜間を問わず良好な表示
状態が得られる反射型兼透過型表示装置を提供すること
を目的とする。係る目的を達成する為に以下の手段を講
じた。即ち、本発明に係る反射型兼透過型表示装置は基
本的な構成として、前方に位置し電極を備えた第1の透
明基板と、これから所定の間隙を介して後方に位置し電
極を備えた第2の透明基板と、該間隙に保持され入射す
る光を該電極に印加される電圧に応じて変調し表示を行
なう電気光学物質と、第2の透明基板側に配され入射す
る光の大部分を反射するとともに一部分を透過可能な光
反射層と、第2の透明基板より後方に配され必要に応じ
て前方に向って光を入射する背面光源とを備えている。
係る構成において、通常は前方から後方に向って外部か
ら入射する光の大部分を該光反射層で前方に反射して表
示を行なうとともに、必要に応じ後方から前方に向って
該背面光源から入射する光の一部分を該光反射層で遮る
ことなく前方に透過して表示を行なう。好ましくは、第
1及び第2の透明基板に設けた各電極は互いに対面して
マトリクス状の画素を規定し、前記光反射層は個々の画
素に対応して細分化された反射要素の集合からなり、各
反射要素は前方から入射した光の大部分を反射する金属
膜及び後方から入射した光の一部分を透過する為に該金
属膜の一部を除去した微小な開口を有しており、加えて
該光反射層の後方に位置し該背面光源から発した光を各
画素の開口に向けて集光するマイクロレンズを備えてい
る。また好ましくは、前記電気光学物質はホストとなる
ネマティック液晶にゲストとなる二色性色素を添加した
ゲストホスト液晶であり、前記第2の透明基板は該光反
射層と該ゲストホスト液晶との間に外部から入射する光
の変調を効率化する四分の一波長層を備えており、前記
背面光源は該第2の透明基板との間に該背面光源から入
射する光の変調を可能にする偏光板及び四分の一波長板
を備えている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a reflection-type and transmission-type display device capable of obtaining a good display state regardless of daytime or nighttime. And The following measures were taken to achieve this purpose. That is, the reflective / transmissive display device according to the present invention has, as a basic configuration, a first transparent substrate provided with an electrode at the front and an electrode located at a rear from the first transparent substrate via a predetermined gap. A second transparent substrate, an electro-optical material that modulates incident light held in the gap in accordance with a voltage applied to the electrode and performs display, and a large amount of incident light arranged on the second transparent substrate side. A light reflecting layer that reflects a part and allows a part to pass therethrough, and a back light source that is arranged behind the second transparent substrate and that enters light forward as necessary.
In such a configuration, usually, most of the light incident from the outside from the front to the rear is reflected forward by the light reflection layer to perform display, and if necessary, the light is incident from the rear light source from the rear to the front. The display is performed by transmitting a part of the light to be transmitted forward without being blocked by the light reflection layer. Preferably, each electrode provided on the first and second transparent substrates faces each other to define a matrix-shaped pixel, and the light reflection layer is formed from a set of reflection elements subdivided corresponding to each pixel. Each reflective element has a metal film that reflects most of the light incident from the front and a small opening in which a part of the metal film is removed to transmit a part of the light that is incident from the rear, In addition, a microlens located behind the light reflecting layer and condensing light emitted from the rear light source toward the opening of each pixel is provided. Also preferably, the electro-optical material is a guest host liquid crystal in which a dichroic dye serving as a guest is added to a nematic liquid crystal serving as a host, and the second transparent substrate is provided between the light reflection layer and the guest host liquid crystal. And a quarter-wave layer for efficiently modulating light incident from the outside, wherein the back light source enables modulation of light incident from the back light source between the back light source and the second transparent substrate. A polarizing plate and a quarter-wave plate are provided.

【0007】本発明に係る反射型兼透過型表示装置は入
射する光の大部分を反射するとともに一部分を透過可能
な光反射層を備えている。昼間等通常使用時には、前方
から後方に向って外部から入射する太陽光等の外光の大
部分を光反射層で前方に反射して表示を行なう。この時
には背面光源を点灯する必要が無いので消費電力を節約
できる。一方、夜間等外光が乏しい場合には、後方から
前方に向って背面光源から入射する光の一部分を光反射
層で遮ることなく前方に透過して表示を行なう。すなわ
ち、本反射型兼透過型表示装置は外光が乏しい場合でも
表示が視認できるようにしている。
A reflective / transmissive display device according to the present invention includes a light reflecting layer that reflects most of incident light and transmits part of the light. During normal use, such as in the daytime, display is performed by reflecting most of external light such as sunlight, which is incident from the outside from the front toward the rear, forward on the light reflection layer. At this time, there is no need to turn on the back light source, so that power consumption can be saved. On the other hand, when external light is poor, such as at night, display is performed by transmitting a part of the light incident from the rear light source from the rear toward the front without being blocked by the light reflection layer. That is, the present reflective and transmissive display device allows the display to be visually recognized even when external light is poor.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
形態を詳細に説明する。図1は、本発明に係る反射型兼
透過型表示装置の第1実施形態を示す模式的な部分断面
図である。図示する様に、本表示装置は所定の間隙を介
して互いに接合した上下一対の基板1,2を用いて構成
されている。上側基板1は入射側に位置しガラス等の透
明基材からなる。一方下側の基板2は反射側に位置し、
これもガラス等の透明基材を用いている。一対の基板
1,2の間隙には電気光学物質としてゲストホスト液晶
3が保持されている。このゲストホスト液晶3は負の誘
電異方性を有するネマティック液晶分子4を主体とし、
かつ二色性色素5を所定の割合で含有している。上側の
基板1の内表面には対向電極6と配向層7が形成されて
いる。対向電極6はITO等の透明導電膜からなる。配
向層7は例えばポリイミドフィルムからなり、ゲストホ
スト液晶3を垂直配向している。なお、本発明はこれに
限られるものではなく、図26や図27に示した様にゲ
ストホスト液晶を水平配向してもよい。本実施形態では
電圧無印加状態でゲストホスト液晶3は垂直配向し、電
圧印加状態では水平配向に移行する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic partial sectional view showing a first embodiment of a reflective / transmissive display device according to the present invention. As shown in the figure, this display device is configured using a pair of upper and lower substrates 1 and 2 joined to each other with a predetermined gap therebetween. The upper substrate 1 is located on the incident side and is made of a transparent base material such as glass. On the other hand, the lower substrate 2 is located on the reflection side,
This also uses a transparent substrate such as glass. In the gap between the pair of substrates 1 and 2, a guest-host liquid crystal 3 is held as an electro-optical material. The guest-host liquid crystal 3 mainly includes nematic liquid crystal molecules 4 having negative dielectric anisotropy.
And the dichroic dye 5 is contained in a predetermined ratio. On the inner surface of the upper substrate 1, a counter electrode 6 and an alignment layer 7 are formed. The counter electrode 6 is made of a transparent conductive film such as ITO. The alignment layer 7 is made of, for example, a polyimide film, and vertically aligns the guest-host liquid crystal 3. The present invention is not limited to this, and the guest-host liquid crystal may be horizontally aligned as shown in FIG. 26 and FIG. In the present embodiment, the guest host liquid crystal 3 is vertically aligned when no voltage is applied, and shifts to horizontal alignment when a voltage is applied.

【0009】下側の基板2には少くとも、薄膜トランジ
スタ8からなるスイッチング素子と光反射層9と四分の
一波長層10と画素電極11とが形成されている。四分
の一波長層10は薄膜トランジスタ8や光反射層9の上
方に成膜されており、且つ薄膜トランジスタ8に連通す
るコンタクトホール12が設けられている。画素電極1
1はこの四分の一波長層10の上にパタニングされてい
る。従って、画素電極11と対向電極6との間でゲスト
ホスト液晶3に十分な電界を印加することが可能であ
る。この画素電極11は四分の一波長層10に開口した
コンタクトホール12を介して薄膜トランジスタ8に電
気接続している。光反射層9は入射する光の大部分を反
射するとともに一部分を透過可能な構造を有している。
具体的には、光反射層9は平面に沿って形成された微細
な凸部9aとその上に成膜された金属膜9bからなる。
この金属膜9bの一部をエッチングで除去した開口9c
を設けており、前方から入射した光の大部分を散乱的に
反射する一方、後方から入射した光の一部分を開口9c
から透過する。この開口9cは凸部9aの一部に形成さ
れている。
On the lower substrate 2, at least a switching element comprising a thin film transistor 8, a light reflecting layer 9, a quarter wavelength layer 10, and a pixel electrode 11 are formed. The quarter wavelength layer 10 is formed above the thin film transistor 8 and the light reflection layer 9, and has a contact hole 12 communicating with the thin film transistor 8. Pixel electrode 1
1 is patterned on the quarter-wave layer 10. Therefore, it is possible to apply a sufficient electric field to the guest-host liquid crystal 3 between the pixel electrode 11 and the counter electrode 6. This pixel electrode 11 is electrically connected to the thin film transistor 8 via a contact hole 12 opened in the quarter wavelength layer 10. The light reflecting layer 9 has a structure capable of reflecting most of the incident light and transmitting part of the light.
Specifically, the light reflection layer 9 is composed of a fine projection 9a formed along a plane and a metal film 9b formed thereon.
An opening 9c in which a part of the metal film 9b is removed by etching.
Is provided, and most of the light incident from the front is scattered and reflected, while a part of the light incident from the rear is
Transmitted through. The opening 9c is formed in a part of the projection 9a.

【0010】後方に位置する基板2のさらに後側には背
面光源30が配されており、必要に応じて前方に向って
光を入射する。本実施形態では、背面光源30と基板2
との間に偏光板31及び四分の一波長板32が介在して
いる。係る構成において、通常前方から後方に向って外
部から入射する光(外光)の大部分を光反射層9で前方
に反射して表示を行なうとともに、必要に応じ後方から
前方に向って背面光源30から入射する光(光源光)の
一部分を光反射層9で遮ることなく開口9cを介して前
方に透過して表示を行なう。
[0010] A back light source 30 is arranged further rearward of the substrate 2 located at the rear, and enters light forward if necessary. In the present embodiment, the back light source 30 and the substrate 2
, A polarizing plate 31 and a quarter-wave plate 32 are interposed. In such a configuration, usually, most of light (external light) incident from the outside from the front to the rear is reflected forward by the light reflection layer 9 to perform display, and if necessary, the back light source is directed from the back to the front. A part of the light (light source light) incident from 30 is transmitted forward through the opening 9c without being blocked by the light reflection layer 9, and display is performed.

【0011】以下、個々の要素について具体的な説明を
加える。本実施形態では、四分の一波長層10は一軸配
向した高分子液晶膜で構成されている。この高分子液晶
膜を一軸配向する為下地配向層13が用いられている。
薄膜トランジスタ8及び光反射層9の凹凸を埋める為平
坦化層14が介在しており、上述した下地配向層13は
この平坦化層14の上に形成される。そして、四分の一
波長層10もこの平坦化層14の表面に成膜されてい
る。この場合、画素電極11は四分の一波長層10及び
平坦化層14を貫通して設けたコンタクトホール12を
介して薄膜トランジスタ8に接続することになる。光反
射層9は個々の画素電極11に対応して細分化されてい
る。個々に細分化された部分は対応する画素電極11と
同電位に接続されている。係る構成により、光反射層9
と画素電極11との間に介在する四分の一波長層10や
平坦化層14に不要な電界が加わることがない。光反射
層9は図示するように金属膜9bからなる散乱性の反射
面を備えており、入射光の鏡面反射を防止して画質の改
善を図っている。前述した様に、この光反射層9には後
方から入射した照明光を前方に透過する為の開口9cが
設けられている。画素電極11の表面を被覆するように
配向層15が形成されており、ゲストホスト液晶3に接
してその配向を制御している。本実施形態では、この配
向層15は対向する配向層7と一緒になって、ゲストホ
スト液晶3を垂直配向している。薄膜トランジスタ8は
ボトムゲート構造を有しており、下から順にゲート電極
16、ゲート絶縁膜17、半導体薄膜18を重ねた積層
構造を有している。半導体薄膜18は例えば多結晶シリ
コンからなり、ゲート電極16と整合するチャネル領域
は上側からストッパ19により保護されている。
Hereinafter, a specific description will be given for each element. In the present embodiment, the quarter-wave layer 10 is composed of a uniaxially oriented polymer liquid crystal film. A base alignment layer 13 is used to uniaxially align the polymer liquid crystal film.
A flattening layer 14 is interposed to fill the unevenness of the thin film transistor 8 and the light reflection layer 9, and the above-described base alignment layer 13 is formed on the flattening layer 14. The quarter-wave layer 10 is also formed on the surface of the flattening layer 14. In this case, the pixel electrode 11 is connected to the thin film transistor 8 via the contact hole 12 provided through the quarter-wave layer 10 and the flattening layer 14. The light reflection layer 9 is subdivided corresponding to each pixel electrode 11. Each of the subdivided portions is connected to the same potential as the corresponding pixel electrode 11. With such a configuration, the light reflection layer 9
An unnecessary electric field is not applied to the quarter wavelength layer 10 or the flattening layer 14 interposed between the pixel electrode 11 and the quarter wavelength layer 10. The light reflecting layer 9 is provided with a scattering reflecting surface made of a metal film 9b as shown in the figure, and improves the image quality by preventing the specular reflection of incident light. As described above, the light reflection layer 9 is provided with the opening 9c for transmitting the illumination light incident from behind to the front. An alignment layer 15 is formed so as to cover the surface of the pixel electrode 11, and controls the alignment in contact with the guest-host liquid crystal 3. In the present embodiment, the alignment layer 15 and the facing alignment layer 7 vertically align the guest-host liquid crystal 3 together. The thin film transistor 8 has a bottom gate structure, and has a stacked structure in which a gate electrode 16, a gate insulating film 17, and a semiconductor thin film 18 are sequentially stacked from the bottom. The semiconductor thin film 18 is made of, for example, polycrystalline silicon, and a channel region aligned with the gate electrode 16 is protected from above by a stopper 19.

【0012】係る構成を有するボトムゲート型の薄膜ト
ランジスタ8は層間絶縁膜20により被覆されている。
層間絶縁膜20には一対のコンタクトホールが開口して
おり、これらを介してソース電極21及びドレイン電極
22が薄膜トランジスタ8に電気接続している。これら
の電極21及び22は例えばアルミニウムをパタニング
したものである。ドレイン電極22は光反射層9と同電
位になっている。また、画素電極11は前述したコンタ
クトホール12を介してこのドレイン電極22と電気接
続している。一方、ソース電極21には信号電圧が供給
される。
The bottom gate type thin film transistor 8 having such a configuration is covered with an interlayer insulating film 20.
A pair of contact holes are opened in the interlayer insulating film 20, and a source electrode 21 and a drain electrode 22 are electrically connected to the thin film transistor 8 through these. These electrodes 21 and 22 are, for example, patterned aluminum. The drain electrode 22 has the same potential as the light reflection layer 9. The pixel electrode 11 is electrically connected to the drain electrode 22 through the contact hole 12 described above. On the other hand, a signal voltage is supplied to the source electrode 21.

【0013】ここで、光反射層9の形成方法を説明す
る。この光反射層9は凸部9aが形成された樹脂膜と、
その表面に成膜されたアルミニウム等の金属膜9bとか
らなる。樹脂膜はフォトリソグラフィにより凹凸がパタ
ニングされた感光性樹脂膜である。感光性樹脂膜9aは
例えばフォトレジストからなり、層間絶縁膜20の表面
に全面的に塗布される。これを所定のマスクを介して露
光処理して円柱状にパタニング加工する。次いで、加熱
してリフローを施せば凸部9aが安定的に形成できる。
このようにして形成された凸部9aの表面に所望の膜厚
で良好な光反射率を有するアルミニウム等の金属膜9b
を形成する。凸部9aの高さ寸法を例えば数μmに設定
すれば、良好な光散乱特性が得られ、光反射層9は白色
を呈する。この後、金属膜9bをエッチングして凸部9
aの一部から部分的に除去し、開口9cを設ける。
Here, a method for forming the light reflecting layer 9 will be described. The light reflection layer 9 includes a resin film on which the convex portions 9a are formed,
And a metal film 9b such as aluminum formed on the surface. The resin film is a photosensitive resin film having irregularities patterned by photolithography. The photosensitive resin film 9 a is made of, for example, a photoresist, and is applied to the entire surface of the interlayer insulating film 20. This is exposed through a predetermined mask, and is patterned into a cylindrical shape. Then, if the reflow is performed by heating, the projections 9a can be formed stably.
A metal film 9b of aluminum or the like having a desired film thickness and good light reflectance is formed on the surface of the projection 9a thus formed.
To form If the height of the projection 9a is set to, for example, several μm, good light scattering characteristics can be obtained, and the light reflection layer 9 exhibits white. After that, the metal film 9b is etched to
a is partially removed to provide an opening 9c.

【0014】さらに、四分の一波長層10の形成方法を
説明する。まず、光反射層9の上に平坦化層14を形成
して凹凸を埋めている。平坦化層14はアクリル樹脂等
透明な有機物を用いることが好ましい。この後、四分の
一波長層10を形成する処理に進む。まず、平坦化層1
4の上に下地配向層13を形成した後その上に高分子液
晶を塗工して一軸配向させることにより四分の一波長層
10を形成する。この際、平坦化層14を介在させるこ
とで下地配向層13の成膜及びラビング処理が安定に行な
える。この為、四分の一波長層10が精度よく形成でき
る。
Further, a method of forming the quarter wavelength layer 10 will be described. First, a flattening layer 14 is formed on the light reflection layer 9 to fill in irregularities. It is preferable to use a transparent organic material such as an acrylic resin for the planarizing layer 14. Thereafter, the process proceeds to the process of forming the quarter wavelength layer 10. First, the planarization layer 1
After a base alignment layer 13 is formed on 4, a polymer liquid crystal is applied thereon and is uniaxially aligned to form a quarter-wave layer 10. At this time, the formation of the underlying alignment layer 13 and the rubbing treatment can be stably performed by interposing the planarizing layer 14. For this reason, the quarter wavelength layer 10 can be formed accurately.

【0015】下地配向層13は例えばポリイミドフィル
ムからなり、所定の配向方向に沿ってラビング処理が施
される。この下地配向層13の上に実際に四分の一波長
層10を形成する。具体的には、高分子液晶を所定の膜
厚で下地配向層13の上に塗工する。この高分子液晶は
所定の転位点を境にして高温側のネマティック液晶相と
低温側のガラス固体相との間を相転位可能な材料であ
る。この高分子液晶を有機溶媒に溶解させた後、スピン
コーティングによって下地配向層13の表面に塗布す
る。この際、溶液の濃度やスピン回転数等の条件を適宜
設定して、形成される薄膜の膜厚が可視光領域でλ/4
の位相差を生じさせる様にする。なお、λは入射光の波
長である。この後温度処理を行ない、基板2を一旦転位
点以上に加熱した後転位点以下の室温まで除冷し、成膜
された高分子液晶を配向方向に整列させて四分の一波長
層10を形成する。成膜段階では高分子液晶に含まれる
液晶分子はランダムな配列状態にあるのに対し、除冷後
では液晶分子は配向方向に沿って整列し、所望の一軸光
学異方性が得られる。
The underlying alignment layer 13 is made of, for example, a polyimide film, and is subjected to rubbing along a predetermined alignment direction. The quarter-wave layer 10 is actually formed on the base alignment layer 13. Specifically, a polymer liquid crystal is applied on the base alignment layer 13 with a predetermined thickness. This polymer liquid crystal is a material capable of phase transition between a high temperature side nematic liquid crystal phase and a low temperature side glass solid phase at a predetermined dislocation point. After dissolving this polymer liquid crystal in an organic solvent, it is applied to the surface of the base alignment layer 13 by spin coating. At this time, conditions such as the concentration of the solution and the number of spin rotations are appropriately set so that the thickness of the formed thin film is λ / 4 in the visible light region.
Is generated. Here, λ is the wavelength of the incident light. Thereafter, a temperature treatment is performed, and the substrate 2 is once heated to a temperature equal to or higher than the dislocation point, and then cooled to room temperature equal to or lower than the dislocation point. Form. In the film formation stage, the liquid crystal molecules contained in the polymer liquid crystal are in a random alignment state, but after cooling, the liquid crystal molecules are aligned along the alignment direction, and a desired uniaxial optical anisotropy can be obtained.

【0016】図2を参照して、図1に示した第1実施形
態の反射表示時における動作を説明する。反射表示を行
なう場合背面光源は消灯する。外部からの入射光は対向
基板及びゲストホスト液晶を通過し、光反射層9で拡散
反射される。白黒表示の切り替えは画素電極11に印加
する電圧のオン/オフで制御する。この白黒表示につい
て図1を参照し説明を加える。電圧印加状態では、ネマ
ティック液晶分子4は水平に配向しており、二色性色素
5も同様に配向する。上側の基板1側から入射した光が
ゲストホスト液晶3に進むと、入射光のうち二色性色素
5の分子の長軸方向に対して平行な振動面を持つ成分が
二色性色素5によって吸収される。又、二色性色素5の
分子の長軸方向に対して垂直な振動面を持つ成分はゲス
トホスト液晶3を通過し、下側の基板2の表面に形成さ
れた四分の一波長層10で円偏光とされて、光反射層9
で反射する。この時、反射光の偏光が逆回りとなり、再
び四分の一波長層9を通過し、二色性色素5の分子の長
軸方向に対して平行な振動面を持つ成分となる。この成
分は二色性色素5によって吸収されるのでほぼ完全な黒
色表示となる。一方、電圧無印加時にはネマティック液
晶分子4は図示の様に垂直に配向し、二色性色素5も同
様に配向する。上側の基板1側から入射した光は二色性
色素5によって吸収されずにゲストホスト液晶3を通過
し、さらに四分の一波長層9で偏光されずに光反射層9
で反射する。反射光は再び四分の一波長層10を通過
し、ゲストホスト液晶3で吸収されずに出射する。従っ
て白色表示となる。
The operation of the first embodiment shown in FIG. 1 at the time of reflective display will be described with reference to FIG. When performing reflective display, the back light source is turned off. External incident light passes through the opposite substrate and the guest host liquid crystal, and is diffusely reflected by the light reflection layer 9. Switching between monochrome display is controlled by turning on / off the voltage applied to the pixel electrode 11. The monochrome display will be described with reference to FIG. In a voltage applied state, the nematic liquid crystal molecules 4 are horizontally oriented, and the dichroic dye 5 is similarly oriented. When light incident from the upper substrate 1 side travels to the guest-host liquid crystal 3, a component of the incident light having a vibration plane parallel to the major axis direction of the molecules of the dichroic dye 5 is changed by the dichroic dye 5. Absorbed. A component having a vibration plane perpendicular to the major axis direction of the molecules of the dichroic dye 5 passes through the guest-host liquid crystal 3 and is formed on the surface of the lower substrate 2 by a quarter-wavelength layer 10. Is converted into circularly polarized light by the light reflection layer 9.
Reflected by At this time, the polarization of the reflected light is reversed, passes through the quarter wavelength layer 9 again, and becomes a component having a vibration plane parallel to the major axis direction of the molecules of the dichroic dye 5. Since this component is absorbed by the dichroic dye 5, an almost complete black display is obtained. On the other hand, when no voltage is applied, the nematic liquid crystal molecules 4 are vertically oriented as shown, and the dichroic dye 5 is similarly oriented. Light incident from the upper substrate 1 side passes through the guest-host liquid crystal 3 without being absorbed by the dichroic dye 5, and is further not polarized by the quarter-wavelength layer 9 but is reflected by the light reflecting layer 9.
Reflected by The reflected light passes through the quarter-wave layer 10 again and exits without being absorbed by the guest-host liquid crystal 3. Therefore, white display is obtained.

【0017】図3を参照して、図1に示した第1実施形
態の透過表示時における動作を説明する。透過表示時に
は背面光源を点灯する。背面光源から発した光源光は基
板2を通過し、光反射層9を構成する金属膜9bの裏面
で反射され、開口4cから出射した後近傍の金属膜9b
の表面で拡散反射され、ゲストホスト液晶に入射する。
白黒表示の切り替えは、反射表示と同様画素電極11に
印加する電圧のオンオフにより制御する。この点に付
き、再び図1を参照して説明を加える。背面光源30か
らの光は偏光板31で直線偏光とされ、四分の一波長板
32及び四分の一波長層10によって偏光軸が90°回
転した状態でゲストホスト液晶3に進入する。従って、
図26に示した透過型ゲストホスト液晶表示装置と同様
の原理により白黒表示が行なえる。即ち、電圧無印加状
態ではゲストホスト液晶3に含まれる二色性色素5が液
晶分子4に倣って垂直配向している。この配向状態で
は、背面光源30から発した光源光は何らゲストホスト
液晶3によって吸収されずにそのまま透過し、白表示と
なる。一方、電圧印加状態では二色性色素5は液晶分子
4とともに水平配向に移行する。液晶分子4のプレチル
ト角を適当に制御することで、液晶分子4及び二色性色
素5の配向方向を例えば紙面に対して平行に設定でき
る。背面光源30から発した光源光は偏光板31により
直線偏光に変換される。この直線偏光軸は紙面と垂直で
ある。直線偏光は四分の一波長板32及び四分の一波長
層10を通過することで偏光軸が90°回転する。従っ
て、ゲストホスト液晶3に入射する時点では偏光軸が紙
面と平行になる。この為、ゲストホスト液晶3により吸
収を受け、黒表示が行なえる。四分の一波長板32と四
分の一波長層10は互いに重なることで二分の一波長板
として機能し、直線偏光の偏光軸を90°回転する。仮
に、四分の一波長板32が無いと、偏光板31を通った
直線偏光が四分の一波長層10により円偏光に変換され
る為、ゲストホスト液晶3により十分な吸収を受けるこ
とができない。これに対処する為、外付けの四分の一波
長板32を導入し、内蔵された四分の一波長層10の影
響を除去するようにしている。即ち、外付けの四分の一
波長板32は透過表示を行なう場合にゲストホスト液晶
3による光変調を可能とする為に装着されたものであ
る。
The operation of the first embodiment shown in FIG. 1 during the transmissive display will be described with reference to FIG. At the time of transmissive display, the back light source is turned on. The light source light emitted from the rear light source passes through the substrate 2, is reflected on the back surface of the metal film 9b forming the light reflection layer 9, and is emitted from the opening 4c.
Is diffusely reflected by the surface of the liquid crystal and enters the guest-host liquid crystal.
Switching between black and white display is controlled by turning on and off the voltage applied to the pixel electrode 11 as in the reflective display. In this regard, a description will be given again with reference to FIG. The light from the rear light source 30 is linearly polarized by the polarizing plate 31 and enters the guest-host liquid crystal 3 with the polarization axis rotated by 90 ° by the quarter-wave plate 32 and the quarter-wave layer 10. Therefore,
Black and white display can be performed according to the same principle as that of the transmission type guest host liquid crystal display device shown in FIG. That is, in the state where no voltage is applied, the dichroic dye 5 included in the guest-host liquid crystal 3 is vertically aligned following the liquid crystal molecules 4. In this orientation state, the light source light emitted from the back light source 30 is not absorbed by the guest-host liquid crystal 3 but is transmitted as it is, resulting in white display. On the other hand, the dichroic dye 5 shifts to the horizontal alignment together with the liquid crystal molecules 4 when the voltage is applied. By appropriately controlling the pretilt angle of the liquid crystal molecules 4, the orientation direction of the liquid crystal molecules 4 and the dichroic dye 5 can be set, for example, parallel to the paper surface. The light source light emitted from the rear light source 30 is converted into linearly polarized light by the polarizing plate 31. This linear polarization axis is perpendicular to the paper. When the linearly polarized light passes through the quarter-wave plate 32 and the quarter-wave layer 10, the polarization axis is rotated by 90 °. Therefore, at the time of incidence on the guest-host liquid crystal 3, the polarization axis becomes parallel to the paper surface. For this reason, it is absorbed by the guest host liquid crystal 3 and black display can be performed. The quarter-wave plate 32 and the quarter-wave layer 10 overlap each other to function as a half-wave plate, and rotate the polarization axis of linearly polarized light by 90 °. If the quarter-wave plate 32 is not provided, the linearly polarized light passing through the polarizing plate 31 is converted into circularly polarized light by the quarter-wave layer 10, so that the guest-host liquid crystal 3 may receive sufficient absorption. Can not. To cope with this, an external quarter-wave plate 32 is introduced to eliminate the influence of the built-in quarter-wave layer 10. That is, the external quarter-wave plate 32 is mounted to enable light modulation by the guest-host liquid crystal 3 when performing transmissive display.

【0018】以上のように、本反射型兼透過型表示装置
は、前方に位置し電極6を備えた第1の透明基板1と、
これから所定の間隙を介して後方に位置し電極11を備
えた第2の透明基板2と、この間隙に保持され入射する
光を電極6,11に印加される電圧に応じて変調し表示
を行なう電気光学物質としてのゲストホスト液晶3と、
第2の透明基板2側に配され入射する光の大部分を反射
するとともに一部分を透過可能な光反射層9と、第2の
透明基板2より後方に配され必要に応じて前方に向って
光を入射する背面光源30とを備えている。通常前方か
ら後方に向って外部から入射する光(外光)の大部分を
光反射層9で前方に反射して表示を行なうとともに、必
要に応じ後方から前方に向って背面光源30から入射す
る光の一部分を光反射層9で遮ることなく前方に透過し
て表示を行なう。電気光学物質は、ホストとなる液晶分
子4からなるネマティック液晶にゲストとなる二色性色
素5を添加したゲストホスト液晶3であり、第2の透明
基板2は光反射層9とゲストホスト液晶3との間に外部
から入射する光の変調を効率化する四分の一波長層10
を備えており、背面光源30は第2の透明基板2との間
に背面光源30から入射する光の変調を可能にする偏光
板31及び四分の一波長板32を備えている。光反射層
9は平面に沿って形成された微細な凸部9aとその上に
成膜された金属膜9bからなるとともに、金属膜9bの
一部をエッチングで除去した開口9cを備えており、前
方から入射した光の大部分を散乱的に反射する一方後方
から入射した光の一部分を開口9cから透過する。この
開口9cは凸部9aの一部に形成されている。係る構成
により、本反射型兼透過型表示装置は暗い環境下でも明
るい環境下でも高品位な表示が得られる。即ち、屋外/
屋内双方で使用可能な画期的な表示装置が実現できる。
As described above, the present reflective / transmissive display device comprises the first transparent substrate 1 provided with the electrode 6 located in front thereof,
From this, the second transparent substrate 2 provided with the electrode 11 located rearward through a predetermined gap and the light held in this gap and incident light are modulated according to the voltage applied to the electrodes 6 and 11 to perform display. A guest-host liquid crystal 3 as an electro-optical material,
A light reflecting layer 9 disposed on the side of the second transparent substrate 2 for reflecting most of incident light and transmitting a part thereof, and disposed rearward of the second transparent substrate 2 and facing forward as necessary. And a back light source 30 for receiving light. Usually, most of the light (external light) incident from the outside from the front toward the rear is reflected forward by the light reflection layer 9 to perform display, and if necessary, enters from the rear light source 30 from the rear toward the front. The display is performed by transmitting a part of the light forward without being blocked by the light reflection layer 9. The electro-optical material is a guest host liquid crystal 3 in which a dichroic dye 5 serving as a guest is added to a nematic liquid crystal including liquid crystal molecules 4 serving as a host. The second transparent substrate 2 includes a light reflecting layer 9 and a guest host liquid crystal 3. And a quarter-wave layer 10 that efficiently modulates light incident from the outside.
The back light source 30 includes a polarizing plate 31 and a quarter-wave plate 32 that enable modulation of light incident from the back light source 30 between the back light source 30 and the second transparent substrate 2. The light reflection layer 9 includes a fine projection 9a formed along a plane and a metal film 9b formed thereon, and has an opening 9c in which a part of the metal film 9b is removed by etching. Most of the light incident from the front is scattered and reflected, while part of the light incident from the rear is transmitted through the opening 9c. The opening 9c is formed in a part of the projection 9a. With this configuration, the reflective and transmissive display device can provide high-quality display even in a dark environment or a bright environment. That is, outdoor /
An innovative display device that can be used both indoors can be realized.

【0019】図4は、本発明に係る反射型兼透過型表示
装置の第2実施形態を示す部分断面図であり、基板2側
の一画素分のみを示してある。本実施形態はフォトレジ
ストからなる凸部9a、金属膜9b、平坦化層14、四
分の一波長層10、画素電極11等を備えている。ダブ
ルゲート構造を有する薄膜トランジスタ8を介して供給
された信号電圧は金属膜9bの一部及び中間電極12a
を介して画素電極11に印加される。第1実施形態と同
様に、光反射層9には開口9cが形成されており、背面
光源と組み合わせた透過表示が可能である。これによ
り、周囲の環境が明るい所では背面光源を用いない反射
型表示装置として機能し、暗い所では背面光源を用いた
透過型表示装置として機能する。なお、本例では薄膜ト
ランジスタ8を補助する補助容量Csを同時に形成して
いる。又、ゲート絶縁膜17a,17bを重ねた積層構
造を採用し、層間絶縁膜20a,20bも二層にしてあ
る。
FIG. 4 is a partial sectional view showing a reflective and transmissive display device according to a second embodiment of the present invention, and shows only one pixel on the substrate 2 side. The present embodiment includes a projection 9a made of a photoresist, a metal film 9b, a planarizing layer 14, a quarter-wave layer 10, a pixel electrode 11, and the like. The signal voltage supplied through the thin film transistor 8 having the double gate structure is applied to a part of the metal film 9b and the intermediate electrode 12a.
Is applied to the pixel electrode 11. As in the first embodiment, an opening 9c is formed in the light reflection layer 9, and transmission display in combination with a back light source is possible. Thus, the device functions as a reflective display device that does not use a back light source in a place where the surrounding environment is bright, and functions as a transmissive display device that uses a back light source in a dark place. In this example, the auxiliary capacitance Cs for assisting the thin film transistor 8 is formed at the same time. Further, a laminated structure in which the gate insulating films 17a and 17b are stacked is adopted, and the interlayer insulating films 20a and 20b are also two layers.

【0020】図5は、図4に示した一画素分のパタン設
計例を示す平面図である。光反射層9の一部に開口9c
を設けると反射型表示装置としての表示特性の低下が懸
念されるが、本図に示す様に光反射層9の平坦な部分の
みに開口9cを設ければ、凸部9aによる光散乱効果の
低下は起こらない。よって、反射型としての表示特性の
低下を抑えることが可能である。図5に示す様に、光反
射層9は画素毎に細分化されている。具体的には、ゲー
ト配線Xと信号配線Yとによって区画された領域に一画
素分の光反射層9が形成されている。この光反射層9と
整合する様に画素電極11も個々の画素毎に形成されて
いる。画素電極11はコンタクトホールを介して薄膜ト
ランジスタ8のドレイン電極22に接続し、信号配線Y
は同じくコンタクトホールを介してソース電極21に接
続し、ゲート配線Xはゲート電極16に接続している。
光反射層9は離散的に配列した凸部9aを無数に含んで
おり、その上は金属膜9bにより被覆されている。凸部
9aの間に残された平坦部には部分的に開口9cが形成
されている。
FIG. 5 is a plan view showing an example of the pattern design for one pixel shown in FIG. An opening 9c is formed in a part of the light reflection layer 9.
Is provided, there is a concern that the display characteristics of the reflective display device may be deteriorated. However, if the openings 9c are provided only in the flat portions of the light reflecting layer 9 as shown in FIG. No degradation occurs. Therefore, it is possible to suppress a decrease in display characteristics as a reflection type. As shown in FIG. 5, the light reflection layer 9 is subdivided for each pixel. Specifically, the light reflection layer 9 for one pixel is formed in a region defined by the gate wiring X and the signal wiring Y. The pixel electrode 11 is also formed for each pixel so as to match the light reflection layer 9. The pixel electrode 11 is connected to the drain electrode 22 of the thin film transistor 8 via a contact hole, and the signal wiring Y
Is also connected to the source electrode 21 via the contact hole, and the gate wiring X is connected to the gate electrode 16.
The light reflection layer 9 includes a myriad of discretely arranged projections 9a, which are covered with a metal film 9b. An opening 9c is partially formed in the flat portion left between the convex portions 9a.

【0021】図6を参照して、図4及び図5に示した第
2実施形態の動作を詳細に説明する。本実施形態は背面
光源30側の透明基板2、これに対面する透明基板1、
その内表面に形成されたカラーフィルタ40、対向電極
6、両基板1,2に保持されたゲストホスト液晶3等を
備えている。ゲストホスト液晶3は電圧無印加状態で水
平配向した液晶分子4及び二色性色素5を含有してい
る。まず、反射モードの動作原理について説明する。ゲ
ート電極16の電位がローレベルの場合、ドレイン電極
22及び画素電極11には電圧が印加されない為、水平
配向されたゲストホスト液晶3に変化はない。対向基板
1側から入射した光はゲストホスト液晶3により直線偏
光となり、さらに四分の一波長層10を通過することに
より円偏光となる。さらに、光反射層9により反射し、
帰路四分の一波長層10を通った光は直線偏光となる。
この直線偏光は偏光軸が90°旋回している為、ゲスト
ホスト液晶3に吸収されてしまう。よって黒表示とな
る。ゲート電極16の電位がハイレベルの場合、ドレイ
ン電極22を介して画素電極11に信号電圧が印加され
る為、対向電極6との間に電位差が生じ、液晶分子4の
長軸方向は電界に平行に垂直配列する。この場合、前側
の基板1から入射した光はゲストホスト液晶3により直
線偏光にならない為、全て光反射層9により反射され基
板1側に戻る。よって白表示となる。以上の説明は、誘
電異方性が正の液晶分子4を使用した水平配向の場合で
あるが、誘電異方性が負の液晶を利用し初期配向を垂直
配向にしてもよい。四分の一波長層10の光学的異方軸
は、液晶分子4が水平配向されている場合には、その配
向方向と45°の角度を成す様に設定する。又、液晶分
子4が垂直配向されている場合には、プレチルト角を持
った余弦方向に対して45°の角度を持つ様に四分の一
波長層10の光学的異方軸が設定される。
The operation of the second embodiment shown in FIGS. 4 and 5 will be described in detail with reference to FIG. In the present embodiment, the transparent substrate 2 on the side of the rear light source 30, the transparent substrate 1 facing the transparent substrate 2,
It has a color filter 40 formed on the inner surface thereof, a counter electrode 6, a guest-host liquid crystal 3 held on both substrates 1 and 2, and the like. The guest-host liquid crystal 3 contains liquid crystal molecules 4 and dichroic dyes 5 which are horizontally aligned without applying a voltage. First, the operation principle of the reflection mode will be described. When the potential of the gate electrode 16 is at a low level, no voltage is applied to the drain electrode 22 and the pixel electrode 11, so that the horizontally aligned guest-host liquid crystal 3 does not change. Light incident from the counter substrate 1 side is converted into linearly polarized light by the guest-host liquid crystal 3, and further becomes circularly polarized light by passing through the quarter-wave layer 10. Further, the light is reflected by the light reflection layer 9,
The light passing through the return quarter-wave layer 10 becomes linearly polarized light.
This linearly polarized light is absorbed by the guest-host liquid crystal 3 because the polarization axis is rotated by 90 °. Therefore, black display is performed. When the potential of the gate electrode 16 is at a high level, a signal voltage is applied to the pixel electrode 11 via the drain electrode 22, causing a potential difference between the pixel electrode 11 and the counter electrode 6. Arrange vertically in parallel. In this case, the light incident from the front substrate 1 is not converted into linearly polarized light by the guest-host liquid crystal 3, so that all the light is reflected by the light reflection layer 9 and returns to the substrate 1. Therefore, white display is performed. The above description is for the case of horizontal alignment using liquid crystal molecules 4 having a positive dielectric anisotropy, but the initial alignment may be vertical using liquid crystal having a negative dielectric anisotropy. When the liquid crystal molecules 4 are horizontally aligned, the optically anisotropic axis of the quarter wavelength layer 10 is set to form an angle of 45 ° with the alignment direction. When the liquid crystal molecules 4 are vertically aligned, the optically anisotropic axis of the quarter-wave layer 10 is set to have an angle of 45 ° with respect to the cosine direction having a pretilt angle. .

【0022】次に透過モードでの動作原理について説明
する。本実施形態は背面光源30、直線偏光板31、四
分の一波長板32を備えている。偏光板31の吸収軸は
ゲストホスト液晶3の配向方向と同じ向きに設置され、
外付けの四分の一波長板32の光学的異方軸は内蔵の四
分の一波長層10の光学的異方軸と同じ向きに設定され
ている。背面光源30から発した光は偏光板31により
直線偏光となり、さらに四分の一波長板32により円偏
光となり、後側の基板2に入射する。入射した光は光反
射層9に設けた開口9cを介して四分の一波長層10を
通過する。これにより、直線偏光に変換されるが、偏光
板31を通った直後の偏光軸に対し90°偏光軸が回転
している。ゲストホスト液晶3が水平配向している場
合、四分の一波長層10を通った直線偏光はこれに吸収
されてしまい黒表示となる。電圧印加に応答してゲスト
ホスト液晶3が垂直配向に移行すると、四分の一波長層
10を通った直線偏光は透過する為白表示となる。
Next, the principle of operation in the transmission mode will be described. This embodiment includes a back light source 30, a linear polarizing plate 31, and a quarter-wave plate 32. The absorption axis of the polarizing plate 31 is set in the same direction as the orientation direction of the guest-host liquid crystal 3,
The optical anisotropic axis of the external quarter-wave plate 32 is set in the same direction as the optical anisotropic axis of the built-in quarter-wave layer 10. The light emitted from the rear light source 30 becomes linearly polarized light by the polarizing plate 31 and further becomes circularly polarized light by the quarter-wave plate 32 and enters the rear substrate 2. The incident light passes through the quarter wavelength layer 10 through the opening 9c provided in the light reflection layer 9. As a result, the light is converted into linearly polarized light, but the polarization axis is rotated by 90 ° with respect to the polarization axis immediately after passing through the polarizing plate 31. When the guest-host liquid crystal 3 is horizontally aligned, the linearly polarized light that has passed through the quarter-wave layer 10 is absorbed by the guest-host liquid crystal 3 and black display is performed. When the guest-host liquid crystal 3 shifts to the vertical alignment in response to the voltage application, the linearly polarized light that has passed through the quarter-wave layer 10 is transmitted and white display is performed.

【0023】以上の様に本実施形態では、光反射層の一
部に開口を設けることによりバックライトの併用が可能
になり、反射型として使用できない暗い環境でもバック
ライトを用いることにより透過型として機能することが
可能になる。特に、光反射層9の凸部と凸部の間に残さ
れた平面の一部に開口9cを設けることにより、光反射
層の光散乱効果を損なうことなくバックライトの併用が
可能になる。従来の光反射型液晶表示装置はバックライ
トを用いないで外光のみで視認するディスプレイである
為低消費電力であり、携帯端末用ディスプレイとして適
している。しかし、外光が全く無いかあるいは乏しい状
況下では視認性が悪くなる為端末の使用が周囲の環境に
制限されてしまう。補助的な光源として、表示装置の上
部付近から光を当てる様なユニットを付属させて使用し
てもよいが、それでは端末自体の形状が大きくなり過ぎ
る為携帯用としては不適当である。これに対し、本実施
形態では極めてコンパクトな構成で反射型兼透過型の表
示装置を実現できる。
As described above, in this embodiment, a backlight can be used together by providing an opening in a part of the light reflection layer, and the backlight can be used as a transmissive type even in a dark environment where it cannot be used as a reflective type. It will be able to function. In particular, by providing the opening 9c in a part of the plane left between the convex portions of the light reflecting layer 9, it is possible to use a backlight together without impairing the light scattering effect of the light reflecting layer. A conventional light-reflection type liquid crystal display device is a display that can be visually recognized only by external light without using a backlight, and thus has low power consumption and is suitable as a display for a portable terminal. However, in a situation where there is no or little external light, visibility deteriorates, so that use of the terminal is limited to the surrounding environment. As an auxiliary light source, a unit that emits light from near the upper portion of the display device may be attached, but this is not suitable for portable use because the terminal itself becomes too large. On the other hand, in the present embodiment, a reflective and transmissive display device with an extremely compact configuration can be realized.

【0024】図7は、本発明に係る反射型兼透過型表示
装置の第3実施形態を示す模式図である。(A)は光反
射層の形成方法を模式的に表わしたものであり、(B)
は一画素分の光反射層の構造を模式的に表わしている。
(A)に示す様に、基板2には画素PXLが集積形成さ
れている。(B)に示す様に、各画素は散乱性の光反射
層9を備えている。この光反射層9は有効画素領域の一
部において後方からの光を透過することが可能な構造を
有している。基板2の上には層間絶縁膜20を介して凸
部9aが形成されている。この凸部9aに対して金属膜
9bを形成する為にアルミニウムをスパッタリング(又
は蒸着)する際、スパッタ方向Sに対して基板2を傾斜
させ、凹凸の陰を作ることで、光を透過する開口9cを
形成している。有効画素領域内でフォトリソグラフィ及
びリフロー等を利用して凸部9aをあらかじめ形成した
基板2に対し、ターゲットTのアルミニウム等をスパッ
タする時スパッタリング方向Sに対して基板2を傾斜し
て成膜を行なう。その結果、凸部9aの形状によってス
パッタ方向から陰になる部分が発生し、ここにはアルミ
ニウムが被着しない為基板2の裏側から光が透過可能な
開口9cができる。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a third embodiment of a reflective / transmissive display device according to the present invention. (A) schematically shows a method of forming a light reflection layer, and (B)
Indicates schematically the structure of the light reflection layer for one pixel.
As shown in (A), pixels PXL are formed on a substrate 2 in an integrated manner. As shown in (B), each pixel is provided with a scattering light reflecting layer 9. The light reflection layer 9 has a structure capable of transmitting light from behind in a part of the effective pixel area. On the substrate 2, a projection 9 a is formed with an interlayer insulating film 20 interposed therebetween. When aluminum is sputtered (or vapor-deposited) to form the metal film 9b on the projections 9a, the substrate 2 is inclined with respect to the sputtering direction S to create a shadow of unevenness, so that an aperture through which light is transmitted. 9c. When sputtering aluminum or the like of the target T on the substrate 2 on which the projections 9a are formed in advance by using photolithography and reflow in the effective pixel region, the substrate 2 is inclined with respect to the sputtering direction S to form a film. Do. As a result, there is a portion which is shaded from the sputtering direction due to the shape of the convex portion 9a, and an opening 9c through which light can be transmitted from the back side of the substrate 2 is formed here since aluminum is not attached.

【0025】図8に示すように、凸部9aの陰になる部
分の大きさの制御は、凸部9aの傾斜角αとスパッタ方
向Sの関係によって決定される。陰を形成するには、基
板2の法線を基準にしたスパッタ角θsと半球状の凸部
9aの傾斜角αとの関係が、90°−α<θs<90°
の条件を満たす必要がある。スパッタ角θsをこの範囲
内で適切に制御することで、透過部分と反射部分の面積
比を変えることができる。
As shown in FIG. 8, the control of the size of the shaded portion of the projection 9a is determined by the relationship between the inclination angle α of the projection 9a and the sputtering direction S. In order to form a shadow, the relationship between the sputtering angle θs based on the normal line of the substrate 2 and the inclination angle α of the hemispherical projection 9a is 90 ° −α <θs <90 °.
Must be satisfied. By appropriately controlling the sputtering angle θs within this range, the area ratio between the transmitting portion and the reflecting portion can be changed.

【0026】以上の様に、本実施形態では、光反射層9
は平面に沿って形成された微細な凸部9aとこの表面の
法線に対して傾斜した方位から蒸着又はスパッタリング
により成膜された金属膜9bからなる。前方から入射し
た光の大部分は凸部9aに被着した金属膜9bにより散
乱的に反射される一方、後方から入射した光の一部は凸
部9aの陰で金属膜9bが被着してない箇所から透過す
る。基板2の傾斜角を調整するだけで透過部分の面積を
簡単に制御することが可能である。前述した第1実施形
態及び第2実施形態では光反射層に開口を形成する方法
として、アルミニウムをスパッタリングした後選択的に
エッチングしてアルミニウムを除去し光が透過可能な開
口を作成していた。この方法ではエッチングの際に必要
なマスクの位置合わせにある程度の精度が要求される。
又、透過部分と反射部分の面積比の設計変更があると、
その都度マスクのパタンを変更しなくてはならない。
As described above, in this embodiment, the light reflection layer 9
Is composed of a fine projection 9a formed along a plane and a metal film 9b formed by vapor deposition or sputtering from an orientation inclined with respect to the normal to the surface. Most of the light incident from the front is scattered and reflected by the metal film 9b attached to the convex portion 9a, while part of the light incident from the rear is covered by the metal film 9b behind the convex portion 9a. Transmits from places that are not. The area of the transmissive portion can be easily controlled only by adjusting the inclination angle of the substrate 2. In the above-described first and second embodiments, as a method of forming an opening in the light reflecting layer, aluminum is sputtered and then selectively etched to remove the aluminum and form an opening through which light can pass. In this method, a certain degree of accuracy is required for mask alignment required for etching.
Also, if there is a design change of the area ratio of the transmission part and the reflection part,
The mask pattern must be changed each time.

【0027】図9は、本発明に係る反射型兼透過型表示
装置の第4実施形態を示す模式的な部分断面図である。
図示する様に、光反射層9は平面に沿って形成された微
細な凸部9aとその上に成膜された半透鏡膜9zからな
り、前方から入射した光の大部分を散乱的に反射する一
方後方から入射した光の一部分を透過する。なお、本実
施形態は第1実施形態乃至第3実施形態と異なり、アク
ティブマトリクス型ではなく単純マトリクス型である。
この関係で、基板1には列状の電極6yが形成されてお
り、基板2には行状の電極11xが形成されている。両
電極6y,11xの交差部に画素が規定される。本表示
装置が反射型及び透過型の両モードで使用可能となる様
に、光反射層9として半透鏡膜9zの役割を果たす金属
薄膜を用いている。金属薄膜からなる半透鏡膜9zの光
特性については、反射率の低下が顕著にならない様、比
較的光透過率よりも反射率が高いことが必要である。
又、透過率及び反射率に波長依存性が少いことが必要で
ある。これらの条件に該当する金属薄膜としては、例え
ばロジウム(Rh)があり、その反射率は約80%であ
る。又、チタン(Ti)も使用可能であり、その反射率
は約60%である。
FIG. 9 is a schematic partial sectional view showing a fourth embodiment of the reflection-type and transmission-type display device according to the present invention.
As shown in the figure, the light reflection layer 9 is composed of fine projections 9a formed along a plane and a semi-transparent mirror film 9z formed thereon, and reflects most of the light incident from the front in a scattering manner. On the other hand, a part of the light incident from behind is transmitted. Note that, unlike the first to third embodiments, this embodiment is not an active matrix type but a simple matrix type.
In this relation, the substrate 1 is formed with the column-shaped electrodes 6y, and the substrate 2 is formed with the row-shaped electrodes 11x. A pixel is defined at the intersection of both electrodes 6y and 11x. The light reflecting layer 9 is made of a metal thin film that plays the role of the semi-transparent mirror film 9z so that the present display device can be used in both the reflective mode and the transmissive mode. Regarding the optical characteristics of the semi-transparent mirror film 9z made of a metal thin film, it is necessary that the reflectance is relatively higher than the light transmittance so that the reflectance does not decrease significantly.
Further, it is necessary that the transmittance and the reflectance have little wavelength dependence. For example, rhodium (Rh) is a metal thin film that satisfies these conditions, and its reflectivity is about 80%. Titanium (Ti) can also be used, and its reflectance is about 60%.

【0028】図9を参照して本実施形態の反射モードに
おける表示原理を説明する。入射光はゲストホスト液晶
3を通過し、光散乱性の光反射層9に至る。ここで、比
較的透過率より反射率の割合が高い金属薄膜を半透鏡膜
9zとして用いた場合、透過による光損失を少くするこ
とができる為、全入射光の大部分を表示に寄与させるこ
とが可能である。
The display principle in the reflection mode of this embodiment will be described with reference to FIG. The incident light passes through the guest host liquid crystal 3 and reaches the light scattering layer 9. Here, when a metal thin film having a relatively higher reflectance than the transmittance is used as the semi-transparent mirror film 9z, light loss due to transmission can be reduced, so that most of all incident light contributes to display. Is possible.

【0029】図10の(A)を参照して、本実施形態の
透過モードにおける表示原理を説明する。蛍光管等から
なる背面光源30から発した光源光は、まず偏光板31
を通過して直線偏光になる。その偏光方向はゲストホス
ト液晶3の配向方向(ラビング方向)に対して直交す
る。さらにこの偏光は外付けの四分の一波長板32を通
過する。この四分の一波長板32は例えば光学的に一軸
性もしくは二軸性を示す高分子液晶の様な材料を用い
て、光学軸をゲストホスト液晶3のラビング方向に対し
て約45°方向に傾けたものである。直線偏光がこの四
分の一波長板32を通過すると円偏光になる。さらに、
この円偏光の一部が半透鏡膜9zを通過し、内蔵の四分
の一波長層10に進入すると、ゲストホスト液晶3のラ
ビング方向に平行な直線偏光に変換される。この時、画
素に電圧が印加されていなければ直線偏光はゲストホス
ト液晶3に吸収され黒表示となる。電圧が印加されてい
る場合液晶分子4とともに二色性色素5が垂直配向に移
行するので、直線偏光は吸収されずに白表示となる。本
表示装置に用いる半透鏡膜9zは透過率が小さいが、強
力な背面光源30を用いることにより、明るい表示を得
ることが可能である。上記の原理により、本表示装置は
反射及び透過の両モードでの表示が可能となる。なお、
本実施形態では基板2と光反射層9との間に下地の絶縁
膜20cが介在している。又、四分の一波長層10と電
極11xとの間にも下地層10aが介在している。
Referring to FIG. 10A, the display principle in the transmission mode of this embodiment will be described. The light source light emitted from the back light source 30 composed of a fluorescent tube or the like
And becomes linearly polarized light. The polarization direction is orthogonal to the orientation direction (rubbing direction) of the guest-host liquid crystal 3. Further, this polarized light passes through an external quarter-wave plate 32. The quarter-wave plate 32 is made of, for example, a material such as a polymer liquid crystal having optically uniaxial or biaxial properties, and its optic axis is oriented at about 45 ° with respect to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3. It is inclined. When linearly polarized light passes through the quarter-wave plate 32, it becomes circularly polarized light. further,
When a part of this circularly polarized light passes through the semi-transparent mirror film 9z and enters the built-in quarter-wave layer 10, it is converted into linearly polarized light parallel to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3. At this time, if no voltage is applied to the pixel, the linearly polarized light is absorbed by the guest-host liquid crystal 3 and black display is performed. When a voltage is applied, the dichroic dye 5 shifts to the vertical alignment together with the liquid crystal molecules 4, so that white display is performed without absorbing linearly polarized light. Although the translucent mirror film 9z used in the present display device has a small transmittance, a bright display can be obtained by using the strong back light source 30. According to the above principle, the present display device can perform display in both the reflection mode and the transmission mode. In addition,
In this embodiment, a base insulating film 20c is interposed between the substrate 2 and the light reflection layer 9. An underlayer 10a is also interposed between the quarter wavelength layer 10 and the electrode 11x.

【0030】入射光を透過光と反射光に二分割できる光
学素子をハーフミラーと呼ぶ。本実施形態は、ハーフミ
ラーとしての半透鏡膜9zを用いることで反射型兼透過
型表示装置を実現している。上述した様に、ハーフミラ
ーとしては金属を蒸着した半透鏡膜9zが簡単であり、
例えばアルミニウムや銀などにより容易に作成できる。
しかしながら、金属膜では反射成分と透過成分の他に吸
収成分があるので、光の損失が生じる。これに代えて、
(B)に示す様に、λ/4の光学厚みを有する誘電体膜
9z1を下地の透明樹脂膜20の上にコーティングして
所望の半透鏡(ハーフミラー)を得ることができる。金
属膜の代わりに高屈折率の誘電体膜を用いることで、実
質上吸収損失の無いハーフミラーを作ることが可能であ
る。(B)において、誘電体膜9z1の屈折率をn1と
し、下地の透明樹脂膜20の屈折率をn0とすると、こ
のハーフミラーの反射率Rは以下の数式で表わされる。
なお、n1はn0よりも大きい。
An optical element capable of dividing incident light into transmitted light and reflected light is called a half mirror. In the present embodiment, a reflective / transmissive display device is realized by using a semi-transparent mirror film 9z as a half mirror. As described above, a semi-transparent mirror film 9z on which a metal is deposited is simple as a half mirror,
For example, it can be easily made of aluminum or silver.
However, since the metal film has an absorption component in addition to the reflection component and the transmission component, light loss occurs. Instead,
As shown in (B), a desired semi-transparent mirror (half mirror) can be obtained by coating a dielectric film 9z1 having an optical thickness of λ / 4 on the underlying transparent resin film 20. By using a dielectric film having a high refractive index instead of a metal film, it is possible to produce a half mirror having substantially no absorption loss. In (B), assuming that the refractive index of the dielectric film 9z1 is n1 and the refractive index of the underlying transparent resin film 20 is n0, the reflectance R of the half mirror is represented by the following equation.
Note that n1 is larger than n0.

【数1】 上記数式から明らかな様に、n1及びn0の値を適切に
設定することで、所望の反射率を有しほとんど吸収の無
いハーフミラーを形成することができる。ただし、上記
数式で示した反射率Rは垂直に入射した光に対する値で
ある。なお、誘電体膜9z1としては、例えば比較的屈
折率の高いZnS、TiO2 、CeO2などが用いられ
る。
(Equation 1) As is clear from the above formula, by appropriately setting the values of n1 and n0, it is possible to form a half mirror having a desired reflectance and having almost no absorption. However, the reflectance R shown in the above equation is a value with respect to vertically incident light. As the dielectric film 9z1, for example, ZnS, TiO 2 , CeO 2 or the like having a relatively high refractive index is used.

【0031】(C)に、上述した誘電体膜9z1を用い
た光反射層9の具体的な構成を示す。(A)に示した光
反射層9の構成と対応する部分には対応する参照番号を
付して理解を容易にしている。下地の絶縁膜20cの上
には微細な凸部9aが形成されている。この凸部9aは
感光性樹脂を用いてパタニングした後熱フローを掛ける
ことにより形成できる。凸部9aの上に屈折率n0の透
明樹脂9yを塗布することにより、凸部9aの形状を最
適化し、所望の光拡散特性が得られる様にしている。透
明樹脂9yの上に屈折率n1の誘電体膜9z1を成膜す
ることで、ハーフミラー構造を得ている。n1の値を
1.4乃至1.5とし、n0の値をこれより低くすれ
ば、上記数式から算出される所望の光反射率Rが得られ
る。通常反射型表示装置として使用する場合、外光の強
度は調節が難しいものの、透過型表示装置として用いる
場合透過光はバックライトにより自在に調節可能であ
る。この点に鑑み、本実施形態では反射率を透過率より
も大きくする様にハーフミラーを設計している。具体的
には、反射率は50乃至90%の範囲に設定することが
好ましい。更に好ましくは、60乃至80%の範囲に反
射率を設定すると、最もバランスの取れた表示画像が得
られる。
FIG. 3C shows a specific configuration of the light reflection layer 9 using the above-described dielectric film 9z1. Parts corresponding to the configuration of the light reflection layer 9 shown in FIG. 1A are given corresponding reference numerals to facilitate understanding. On the underlying insulating film 20c, fine projections 9a are formed. The projections 9a can be formed by patterning using a photosensitive resin and then applying a heat flow. By applying a transparent resin 9y having a refractive index n0 on the convex portion 9a, the shape of the convex portion 9a is optimized, and a desired light diffusion characteristic is obtained. A half mirror structure is obtained by forming a dielectric film 9z1 having a refractive index n1 on the transparent resin 9y. If the value of n1 is set to 1.4 to 1.5 and the value of n0 is set lower than this, the desired light reflectance R calculated from the above equation can be obtained. Normally, when used as a reflective display device, the intensity of external light is difficult to adjust, but when used as a transmissive display device, the transmitted light can be freely adjusted by a backlight. In view of this point, in the present embodiment, the half mirror is designed so that the reflectance is higher than the transmittance. Specifically, it is preferable to set the reflectance in the range of 50 to 90%. More preferably, when the reflectance is set in the range of 60 to 80%, the most balanced display image can be obtained.

【0032】(D)はハーフミラーの別の構成を模式的
に表わしている。本例では、下地の樹脂膜20の上に金
属膜(Metal)9z2を成膜し、更にその上に誘電
体膜9z1を成膜して、複合構造を有するハーフミラー
を得ている。
(D) schematically shows another configuration of the half mirror. In this example, a half mirror having a composite structure is obtained by forming a metal film (Metal) 9z2 on the underlying resin film 20 and further forming a dielectric film 9z1 thereon.

【0033】ゲストホスト液晶表示装置を透過型として
用いる場合、偏光板を基板1の外側か又は基板2の外側
に配することが必要である。(A)に示した実施形態で
は、基板2の外側に偏光板31を配している。この構造
では、基板2の内側に形成された四分の一波長層10の
効果を打ち消す為に、基板2の外側に追加の四分の一波
長板32を挿入する必要がある。この構造では基板2よ
り後方に偏光板31があるので、反射型として用いた場
合には偏光板31は全く影響を与えることがない為、外
光で明るい表示が得られる。これに対し、基板1の外側
に偏光板を配する構造も考えられる。この時には、反射
型でも通常のゲストホスト液晶表示装置として機能する
為、内蔵の四分の一波長層10は不要となる。この構造
では、基板1よりも前方に偏光板が位置する為、(A)
に示した構造よりも表示画像が暗くなるが、コントラス
トは逆に上昇する。
When the guest-host liquid crystal display device is used as a transmission type, it is necessary to dispose a polarizing plate outside the substrate 1 or outside the substrate 2. In the embodiment shown in (A), a polarizing plate 31 is provided outside the substrate 2. In this structure, an additional quarter-wave plate 32 needs to be inserted outside the substrate 2 in order to negate the effect of the quarter-wave layer 10 formed inside the substrate 2. In this structure, since the polarizing plate 31 is provided behind the substrate 2, when used as a reflection type, the polarizing plate 31 has no influence, so that a bright display can be obtained by external light. On the other hand, a structure in which a polarizing plate is arranged outside the substrate 1 is also conceivable. In this case, since the reflection type functions as a normal guest-host liquid crystal display device, the built-in quarter-wave layer 10 is not required. In this structure, since the polarizing plate is located ahead of the substrate 1, (A)
However, the displayed image is darker than the structure shown in FIG.

【0034】図11は種々の金属薄膜の反射率特性を示
すグラフである。横軸に波長を取り、縦軸に反射率を取
ってある。例えば、Rhの場合可視光領域でその反射率
は80%程度である。Tiの場合可視光領域で反射率は
60%程度である。何れも、半透鏡膜として使用可能で
ある。その場合、膜厚は50〜200nm程度に設定さ
れる。なお、Alでも膜厚を50nm以下にすれば半透
鏡膜として使用可能である。半透鏡膜としては金属薄膜
に代え誘電体膜を用いることもできる。以上の様に、本
実施形態では光反射層は平面に沿って形成された微細な
凸部とその上に成膜された半透鏡膜からなり、前方から
入射した光の大部分を散乱的に反射する一方後方から入
射した光の一部分を透過する。半透鏡膜としてはロジウ
ム、チタン、クロム、クロメル又はインコネルからなる
金属薄膜を用いることができる。クロメルはニッケル8
0%とクロム20%の合金である。インコネルはニッケ
ル80%、クロム15%、鉄5%の合金である。このよ
うに、後側の基板は背面光源から発した光源光の一部を
通過可能な構造を有し、且つ前面側の基板から入射した
光が当たる部分で、これを拡散反射させる構造を有して
いる。即ち、透過型と反射型の両方の表示能力を備えて
いる。従来の反射型液晶表示装置は照明又は日光等の外
光が存在する環境下でのみ使用が可能であり、外光が全
く存在しない環境では観察者が表示を見ることができな
い。しかし、反射型の液晶表示装置を外光の存在しない
環境でも使用したいとの要求もある。本実施形態は、外
光が存在する環境では外光を用いた反射型モードでの表
示を行ない、外光が存在しない環境では、背面光源(バ
ックライト)を利用した透過型モードでの表示を行な
う。
FIG. 11 is a graph showing the reflectance characteristics of various metal thin films. The horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents reflectance. For example, in the case of Rh, the reflectance in the visible light region is about 80%. In the case of Ti, the reflectance is about 60% in the visible light region. Any of them can be used as a semi-transparent mirror film. In that case, the film thickness is set to about 50 to 200 nm. It should be noted that Al can be used as a semi-transparent mirror film if the film thickness is 50 nm or less. As the semi-transparent mirror film, a dielectric film can be used instead of the metal thin film. As described above, in the present embodiment, the light reflection layer is composed of the fine projections formed along the plane and the semi-transparent mirror film formed thereon, and the most of the light incident from the front is scattered. It reflects and transmits a part of the light incident from behind. As the semi-transparent mirror film, a metal thin film made of rhodium, titanium, chromium, chromel or inconel can be used. Chromel is nickel 8
It is an alloy of 0% and chromium 20%. Inconel is an alloy of 80% nickel, 15% chromium and 5% iron. As described above, the rear substrate has a structure capable of passing a part of the light source light emitted from the rear light source, and has a structure in which the light incident from the front substrate hits and diffusely reflects the light. doing. That is, it has both transmission type and reflection type display capabilities. The conventional reflective liquid crystal display device can be used only in an environment where external light such as illumination or sunlight exists, and an observer cannot see the display in an environment where no external light exists. However, there is a demand that the reflective liquid crystal display device be used even in an environment where no external light exists. In the present embodiment, display in a reflective mode using external light is performed in an environment where external light exists, and display in a transmissive mode using a back light source (backlight) is performed in an environment where external light does not exist. Do.

【0035】図12は本発明に係る反射型兼透過型表示
装置の第5実施形態を示す模式的な部分断面図であり、
4個の画素を表わしている。液晶3zは第1実施形態乃
至第4実施形態に示したゲストホスト液晶に限る必要は
ない。例えば、偏光板を一枚使用するECBモードの液
晶や相変化型の液晶を用いることも可能である。本実施
形態の特徴は、光反射層9に形成された金属膜9bが、
基板2に対して平行ではなくある角度θを以て傾斜配置
していることである。まず、背面光源30がオフの時
は、外部からの入射光が光拡散層42を通って進入して
くる。ここで、前側の基板1に設けた光拡散層42は後
方散乱を少くし、前方散乱のみを起こすものを用いる。
アルミニウム等からなる金属膜9bに入射した光は鏡面
反射され、再び光拡散層42に戻る。ここで散乱され外
部に出ていく。従って、金属膜9bが傾いていても広い
視角範囲で通常の反射型表示装置として機能する。次
に、背面光源30がオンの時は、これから基板2に垂直
に入る光源光が反射されるが、金属膜9bが傾斜してい
る為画素間を抜けて斜めに進む光線は液晶3zに入射す
ることができる。この透過光(a)、(b)はさらに光
拡散層42を通る為、広範囲に拡散される。結果とし
て、広い視角方向で通常の透過型表示装置として機能す
る。傾斜した金属膜9bを形成する為、レーザ光による
エッチングもしくはスタンパ技術を利用できる。レーザ
光を用いる場合、鋸波形に沿ってその強度変調を行ない
ながら樹脂膜をレーザエッチングすることで傾斜面に加
工できる。レーザ光は例えばYAGレーザから出力され
るラインビームを用いることができる。スタンパ法では
予め断面が鋸刃の形状に加工されたスタンパを用いてこ
れを基板2に転写することで傾斜形状を有する樹脂膜を
形成できる。その上に、蒸着又はスパッタリングで金属
膜9bを成膜すればよい。
FIG. 12 is a schematic partial sectional view showing a fifth embodiment of the reflection-type and transmission-type display device according to the present invention.
This represents four pixels. The liquid crystal 3z does not need to be limited to the guest-host liquid crystal described in the first to fourth embodiments. For example, an ECB mode liquid crystal using a single polarizing plate or a phase change liquid crystal can be used. The feature of this embodiment is that the metal film 9b formed on the light reflection layer 9 is
That is, they are not parallel to the substrate 2 but are inclined at a certain angle θ. First, when the rear light source 30 is off, incident light from the outside enters through the light diffusion layer 42. Here, the light diffusion layer 42 provided on the front substrate 1 is one that reduces backscattering and causes only forward scattering.
Light incident on the metal film 9b made of aluminum or the like is specularly reflected and returns to the light diffusion layer 42 again. It is scattered here and goes outside. Therefore, even if the metal film 9b is inclined, it functions as a normal reflective display device in a wide viewing angle range. Next, when the back light source 30 is on, light from the light source that enters perpendicularly to the substrate 2 from now on is reflected. However, since the metal film 9b is inclined, light rays that travel obliquely through the pixels enter the liquid crystal 3z. can do. Since the transmitted lights (a) and (b) further pass through the light diffusion layer 42, they are diffused over a wide range. As a result, it functions as a normal transmissive display device in a wide viewing angle direction. In order to form the inclined metal film 9b, etching using a laser beam or a stamper technique can be used. When a laser beam is used, the resin film can be processed into an inclined surface by laser etching while performing intensity modulation along a sawtooth waveform. As the laser light, for example, a line beam output from a YAG laser can be used. In the stamper method, a resin film having an inclined shape can be formed by using a stamper whose cross section is previously processed into a saw blade shape and transferring the stamper to the substrate 2. The metal film 9b may be formed thereon by vapor deposition or sputtering.

【0036】図12に示した構成で、液晶3zとして相
変換ゲストホスト型を用いる時は図示の構成のままでよ
い。しかしながら、液晶パネル(LCD)が四分の一波
長層を内蔵したゲストホスト型の場合、背面光源側の構
成を図13に示したものにする必要がある。ここで外付
けした四分の一波長板32は内蔵した四分の一波長層と
ともに二分の一波長板として機能し、偏光板31を通っ
た背面光源30からの直線偏光を偏光方向が90°回転
した直線偏光で出力する。
In the configuration shown in FIG. 12, when the phase-change guest-host type is used as the liquid crystal 3z, the configuration shown in FIG. However, when the liquid crystal panel (LCD) is a guest-host type having a built-in quarter-wave layer, the configuration on the back light source side needs to be as shown in FIG. Here, the externally attached quarter-wave plate 32 functions as a half-wave plate together with the built-in quarter-wave layer, and converts the linearly polarized light from the rear light source 30 passing through the polarizing plate 31 to a polarization direction of 90 °. Output with rotated linearly polarized light.

【0037】以上の様に本実施形態では、内部に光反射
層を有する表示装置において、光反射層が基板に対して
平行ではなくある角度を以て傾斜していることにより、
反射型として使った時の反射率を落とすことなく、透過
型としても使える様にした。図12に示す様に具体的に
は、第1及び第2の透明基板1,2に設けた各電極6,
11は互いに対面してマトリクス状の画素を規定し、光
反射層9は個々の画素に対応して細分化された反射要素
の集合からなる。各反射要素は傾斜平面及び側端面を有
する透明な傾斜凸部9sとこの傾斜平面に選択的に形成
された金属膜9bからなる。前方から入射した光の大部
分は金属膜9bにより鏡面反射する一方、後方から入射
した光の一部分は側端面から透過する。傾斜平面は透明
基板2に対して1°〜45°の範囲で傾斜しており、後
方から入射した光源光の一部分は一つの反射要素に属す
る金属膜9bの裏面で反射した後側端面を通過し、さら
に他の反射要素に属する金属膜9bの表面で反射して前
方に指向する。第1の透明基板1にはブラックマスク4
1に加えて光拡散層42が配されており、光反射層9に
より鏡面反射した光又は光反射層9を透過した光を前方
に向って拡散する。係る構成により、反射モードでの使
用時の明るさを犠牲にすることなく表示装置を透過モー
ドでも使える様にできる。なお、反射型と透過型を両立
する方法として、例えば前述した第4実施形態の様に、
光反射層を100%完全反射の膜とするのではなく、一
部の光を反射し一部の光を透過する半透鏡膜(ハーフミ
ラー)の様な形態にすることが考えられる。しかし、こ
の方法では場合により反射型として見る時光反射層が一
部の光を透過してしまう為、反射率が下がり暗い表示と
なる可能性がある。又、透過型として見る時には背面光
源からの光が一部光反射層によって反射されてしまう為
透過率が下がり、やはり暗い表示となってしまう場合が
ある。本実施形態はこの様なトレードオフの関係を解消
することが可能である。
As described above, in the present embodiment, in the display device having the light reflection layer inside, the light reflection layer is not parallel to the substrate but is inclined at a certain angle.
It can be used as a transmission type without reducing the reflectance when used as a reflection type. Specifically, as shown in FIG. 12, each of the electrodes 6 provided on the first and second transparent substrates 1 and 2
Numeral 11 designates a matrix of pixels facing each other, and the light reflecting layer 9 is composed of a set of reflective elements subdivided corresponding to individual pixels. Each reflecting element is composed of a transparent inclined convex portion 9s having an inclined plane and a side end face, and a metal film 9b selectively formed on the inclined plane. Most of the light incident from the front is specularly reflected by the metal film 9b, while part of the light incident from the rear is transmitted from the side end surface. The inclined plane is inclined in the range of 1 ° to 45 ° with respect to the transparent substrate 2, and a part of the light source light incident from the rear passes through the rear end face reflected by the back surface of the metal film 9b belonging to one reflecting element. Then, the light is reflected by the surface of the metal film 9b belonging to another reflection element and directed forward. The first transparent substrate 1 has a black mask 4
In addition to the light diffusion layer 1, a light diffusion layer 42 is provided, and diffuses light reflected specularly by the light reflection layer 9 or light transmitted through the light reflection layer 9 toward the front. With such a configuration, the display device can be used in the transmission mode without sacrificing brightness when used in the reflection mode. As a method of achieving both the reflection type and the transmission type, for example, as in the above-described fourth embodiment,
It is conceivable that the light reflecting layer is not formed as a 100% completely reflecting film, but is formed as a semi-transparent mirror film (half mirror) that reflects some light and transmits some light. However, in this method, when viewed as a reflection type, the light reflection layer partially transmits light when viewed as a reflection type, so that the reflectance may decrease and a dark display may be obtained. In addition, when viewed as a transmissive type, light from the rear light source is partially reflected by the light reflection layer, so that the transmittance is reduced and a dark display may also be obtained. The present embodiment can eliminate such a trade-off relationship.

【0038】図14は、本発明に係る反射型兼透過型表
示装置の第6実施形態を示す模式的な部分断面図であ
る。図示する様に、本表示装置はゲストホスト液晶3を
利用しており、且つ四分の一波長層10を内蔵してい
る。但し、本実施形態はこれに限られるものではなく一
枚の偏光板を用いたECB方式でも同様に応用可能であ
る。図示する様に、光反射層9には微小な開口9cが形
成されている。表示装置の後側に位置する背面光源30
からの光源光を画素毎に設けた開口9cに効率よく集光
する様、背面光源30と基板2との間にマイクロレンズ
35のアレイを配置している。
FIG. 14 is a schematic partial sectional view showing a sixth embodiment of the reflective and transmissive display device according to the present invention. As shown in the figure, the present display device utilizes a guest-host liquid crystal 3 and incorporates a quarter-wave layer 10. However, the present embodiment is not limited to this, and can be similarly applied to an ECB method using one polarizing plate. As shown, the light reflection layer 9 has a minute opening 9c. Back light source 30 located on the rear side of the display device
An array of microlenses 35 is arranged between the rear light source 30 and the substrate 2 so that light from the light source is efficiently condensed into the aperture 9c provided for each pixel.

【0039】背面光源30の輝度が例えば3000ni
tである場合、入射側に偏光板を配置しカラーフィルタ
での光吸収やゲストホスト液晶3での光吸収等を考慮に
入れると、3000nit×0.4×0.7/3=28
0nitの輝度が、開口率100%の時に得られる。一
方反射型として用いる時の明るさをロスしない為には、
反射率に寄与しない開口9cの開口率は10%以下とす
る必要がある。従って、これを例えば5%に設定すると
結局透過型として使用した時の明るさは280nit×
0.05=14nitとなって少々暗過ぎる。これを解
決する為本実施形態では図示する様にマイクロレンズ3
5のアレイシートを用いる。このアレイシートは各マイ
クロレンズ35の焦点位置に開口9cが来る様に配置さ
れている。背面光源30からの光源光はこのマイクロレ
ンズ35によって集光され、効率よく開口9cを通るこ
とになる。マイクロレンズ35による集光効果が3倍に
なれば約40nitの明るさが得られることになり、暗
い環境では十分な明度である。マイクロレンズ35の集
光効率は背面光源30から発する光源光の平行度に依存
している。従って、この光源光の平行度を上げる手法と
して、背面光源30上にプリズムシートを配置すること
もできる。以上の様な構成により、明るい環境で使う時
には外光を利用した反射型で、暗い環境で使う時には背
面光源を利用した透過型とすることにより、いかなる場
所でも使える携帯型機器のディスプレイが得られる。こ
の考え方を別な見地から見れば、基本的には反射型ディ
スプレイであるが、暗い所では背面光源(バックライ
ト)で透過型にもなるということである。従って、透過
型の場合の明るさはせいぜい上述した様に数十nitで
も十分である。これを実現する方法としてマイクロレン
ズを用いた。
The brightness of the rear light source 30 is, for example, 3000 ni.
In the case of t, when a polarizing plate is arranged on the incident side and light absorption by the color filter and light absorption by the guest-host liquid crystal 3 are taken into consideration, 3000 nit × 0.4 × 0.7 / 3 = 28
A luminance of 0 nit is obtained when the aperture ratio is 100%. On the other hand, in order not to lose the brightness when using it as a reflection type,
The aperture ratio of the opening 9c that does not contribute to the reflectance needs to be 10% or less. Therefore, if this is set to, for example, 5%, the brightness when used as a transmission type after all is 280 nit ×
0.05 = 14 nit, which is a bit too dark. In order to solve this, in the present embodiment, as shown in FIG.
5 array sheets are used. This array sheet is arranged so that the opening 9c comes to the focal position of each micro lens 35. The light source light from the back light source 30 is condensed by the microlens 35 and efficiently passes through the opening 9c. If the light-collecting effect of the microlens 35 is tripled, a brightness of about 40 nit can be obtained, and the brightness is sufficient in a dark environment. The light collection efficiency of the microlens 35 depends on the parallelism of the light source light emitted from the rear light source 30. Therefore, as a method of increasing the parallelism of the light from the light source, a prism sheet can be arranged on the rear light source 30. With the above configuration, a portable device display that can be used anywhere can be obtained by using a reflective type using external light when using it in a bright environment and a transmissive type using a back light source when using it in a dark environment. . From another point of view, this concept is basically a reflection type display, but it is also a transmissive type with a back light source (backlight) in a dark place. Therefore, in the case of the transmission type, brightness of several tens of nits is sufficient as described above. A microlens was used as a method for realizing this.

【0040】図15は開口9cの配置例を表わす模式的
な平面である。(A)のパタン例では、各画素に1個ず
つ開口9cを配している。(B)のパタン例では、各画
素に2個ずつ開口9cを配している。(A)及び(B)
の何れのパタン例でも、開口9cは画素ピッチと同一か
もしくは整数倍の周期を持つ様にして、マイクロレンズ
35に対応させる。(C)に示す様に、開口9cは円形
でなくともスリット状でもよい。この場合、マイクロレ
ンズ35はx方向にのみ曲率を持つシリンドリカルレン
ズでよいことになる。即ち、(A)及び(B)のパタン
例では個々のマイクロレンズは二次元配列されるが、
(C)の場合一次元配列したものを用いてよいことにな
る。
FIG. 15 is a schematic plan view showing an example of the arrangement of the openings 9c. In the pattern example of (A), one opening 9c is arranged for each pixel. In the pattern example of (B), two openings 9c are arranged in each pixel. (A) and (B)
In any of the pattern examples, the aperture 9c is made to correspond to the microlens 35 so as to have the same period as the pixel pitch or a period that is an integral multiple. As shown in (C), the opening 9c may not be circular but may be slit-shaped. In this case, the micro lens 35 may be a cylindrical lens having a curvature only in the x direction. That is, in the pattern examples (A) and (B), the individual microlenses are two-dimensionally arranged.
In the case of (C), a one-dimensional array may be used.

【0041】図16は第6実施形態の変形例を示す模式
的な部分断面図である。本変形例ではマイクロレンズ3
5は基板2に内蔵した構造となっている。具体的には、
基板2の上に屈折率がn2の透明な樹脂を塗工し、これ
をフォトリソグラフィ及びリフローの手法を用いてマイ
クロレンズ35の形状に加工する。この上を、異なる屈
折率n1を有する透明な平坦化膜35aで被覆する。こ
の平坦化膜35aの上には前述した光反射層9が形成さ
れている。この光反射層9は凸部9aとその上に成膜さ
れた金属膜9bとからなる。金属膜9bの一部は欠損し
ており、ここに光源光が通過する開口9cが設けられ
る。なお、マイクロレンズ35が平行な光源光を集束透
過光に変換する為には、屈折率がn2>n1の関係を満
たす必要がある。
FIG. 16 is a schematic partial sectional view showing a modification of the sixth embodiment. In this modification, the micro lens 3
Reference numeral 5 denotes a structure built in the substrate 2. In particular,
A transparent resin having a refractive index of n2 is applied on the substrate 2 and processed into a shape of the microlens 35 by using a method of photolithography and reflow. This is covered with a transparent flattening film 35a having a different refractive index n1. The light reflection layer 9 described above is formed on the flattening film 35a. This light reflection layer 9 is composed of a projection 9a and a metal film 9b formed thereon. Part of the metal film 9b is missing, and an opening 9c through which light from the light source passes is provided here. In addition, in order for the microlens 35 to convert the parallel light source light into the focused transmitted light, the refractive index needs to satisfy the relationship of n2> n1.

【0042】図17に示す様に、四分の一波長層をパネ
ル内に集積化したゲストホストLCDを透過型及び反射
型兼用で用いる場合、背面光源30とLCDとの間にプ
リズムシート36、偏光板31、四分の一波長板32、
マイクロレンズアレイシート35mを介在させた構造を
採用する。ここで、外付けの四分の一波長板32はLC
Dに内蔵した四分の一波長層とともに二分の一波長板と
して作用し、直線偏光を保持する役目を果たす。
As shown in FIG. 17, when a guest-host LCD having a quarter-wave layer integrated in a panel is used for both transmission and reflection, a prism sheet 36 is provided between the back light source 30 and the LCD. Polarizing plate 31, quarter-wave plate 32,
A structure in which a microlens array sheet 35m is interposed is employed. Here, the external quarter-wave plate 32 is LC
It functions as a half-wave plate together with the quarter-wave layer built in D, and serves to maintain linearly polarized light.

【0043】以上の様に、図14に示した本実施形態で
は第1及び第2の透明基板1,2に設けた各電極6,1
1は互いに対面してマトリクス状の画素を規定し、光反
射層9は個々の画素に対応して細分化された反射要素の
集合からなる。各反射要素は前方から入射した光の大部
分を反射する金属膜9b及び後方から入射した光の一部
を透過する為に金属膜9bの一部を除去した微小な開口
9cを有している。マイクロレンズ35が光反射層9の
後方に位置し、背面光源30から発した光源光を各画素
の開口9cに向けて集光する。好ましくは、この開口9
cは画素に対して1〜10%の面積比で形成されてい
る。開口9cは点状に形成されており、マイクロレンズ
35は画素毎に形成された点状の開口9cに対応してマ
トリクス状に配列している。場合によっては、この開口
9cは線状に形成されており、マイクロレンズ35は画
素の列に沿った線状の開口9cに対応してストライプ状
に配列したものであってもよい。このマイクロレンズ3
5は外付けに代えて第2の透明基板2に集積的に形成し
てもよい。係る構成により、反射型兼透過型表示装置に
おいて、反射型として使用した時の反射率を大幅に低下
させることがない。又、透過型として使用した時の明る
さを十分に確保することが可能である。なお、反射型と
透過型を両立できる様にする方法として、第4実施形態
に示した様に光反射層を100%完全な反射膜とするの
ではなく、一部の光を反射し一部の光を透過するハーフ
ミラーの様な形態にする手段がある。しかし、この方法
では反射型として見る時に光反射層が一部の光を透過し
てしまう為、反射率が下がり暗い表示となってしまう場
合がある。又、透過型として見る時にはバックライトか
らの光が一部光反射層によって反射されてしまう為、透
過率が下がりやはり暗い表示となってしまう場合があ
る。本実施形態はこの様な第4実施形態のトレードオフ
の関係を解消することができる。
As described above, in the present embodiment shown in FIG. 14, each of the electrodes 6 and 1 provided on the first and second transparent substrates 1 and 2 is used.
Numeral 1 designates a matrix of pixels facing each other, and the light reflecting layer 9 is composed of a set of reflecting elements subdivided corresponding to each pixel. Each reflection element has a metal film 9b for reflecting most of light incident from the front and a minute opening 9c in which a part of the metal film 9b is removed to transmit a part of light incident from the rear. . The micro lens 35 is located behind the light reflection layer 9 and condenses the light source light emitted from the back light source 30 toward the opening 9c of each pixel. Preferably, this opening 9
c is formed at an area ratio of 1 to 10% with respect to the pixel. The openings 9c are formed in a dot shape, and the micro lenses 35 are arranged in a matrix corresponding to the dot-shaped openings 9c formed for each pixel. In some cases, the openings 9c are formed in a linear shape, and the microlenses 35 may be arranged in stripes corresponding to the linear openings 9c along the pixel columns. This micro lens 3
5 may be formed integrally on the second transparent substrate 2 instead of externally attached. With such a configuration, in the reflective / transmissive display device, the reflectance when used as a reflective type is not significantly reduced. Further, it is possible to sufficiently secure the brightness when used as a transmission type. As a method for achieving both the reflection type and the transmission type, as shown in the fourth embodiment, instead of forming the light reflection layer as a 100% complete reflection film, a part of light is reflected and partially reflected. There is a means for making a form such as a half mirror that transmits the light. However, in this method, when viewed as a reflection type, the light reflection layer transmits a part of the light, so that the reflectance may decrease and a dark display may occur. In addition, when viewed as a transmissive type, the light from the backlight is partially reflected by the light reflecting layer, so that the transmittance is reduced and the display may be dark again. This embodiment can eliminate such a trade-off relationship of the fourth embodiment.

【0044】図18は、本発明に係る反射型兼透過型表
示装置の第7実施形態を示す模式的な部分断面図であ
る。従来の反射型液晶表示装置では、照明等の外光が存
在する環境下においては、表示装置としての役割を果た
すが、外光が全く存在しない環境下では、表示装置とし
て全く機能しない。本実施形態では、外光が存在する状
態では、バックライトフリーの反射型モードでの駆動を
実現させ、外光が全く存在しない状態ではバックライト
を利用した透過型モードでの駆動を実現させる。具体的
には、基板2側に形成された画素PXLの境界を、表示
装置の裏側から光が透過する様な構造とする。且つ、対
向側の基板1の内表面には、後方から透過してきた光が
当たる部分に、光を拡散反射させる構造を持つ副散乱層
51を形成している。係る構造により、透過型の表示に
も対応可能な反射型表示装置が得られる。
FIG. 18 is a schematic partial sectional view showing a seventh embodiment of the reflection-type and transmission-type display device according to the present invention. A conventional reflective liquid crystal display device functions as a display device in an environment where external light such as illumination exists, but does not function as a display device in an environment where no external light exists. In the present embodiment, in a state where external light exists, driving in a backlight-free reflection mode is realized, and in a state where no external light exists, driving in a transmission mode using a backlight is realized. Specifically, the boundary between the pixels PXL formed on the substrate 2 side is configured to transmit light from the back side of the display device. On the inner surface of the substrate 1 on the opposite side, a sub-scattering layer 51 having a structure for diffusing and reflecting light is formed in a portion where light transmitted from behind is applied. With such a structure, it is possible to obtain a reflective display device that can also support a transmissive display.

【0045】図示する様に、反射型と併用可能にする
為、後側の基板2から背面光源30の光源光を透過させ
る。この場合、反射モードで表示する時の有効画素の反
射率をほとんど低下させることがない様に、反射モード
では全く不要な画素PXL間の境界部分をバックライト
から発した光源光の透過用の開口(窓)とする。この開
口に対応する対向基板1の部分に、ブラックマスク41
及び光散乱性の副光反射層51を配置する。さらに、背
面光源30から発した光源光を有効に利用する為、画素
PXL間に整合してマイクロレンズ35を配置する。例
えば、二色性色素5を添加したネガ型のネマティック液
晶4を垂直に配向させ、さらに画素PXLの光散乱層9
の上に四分の一波長層10を配置する。この場合には、
マイクロレンズ35のさらに外側に四分の一波長板32
及び偏光板31を配置する。
As shown in the figure, the light from the rear light source 30 is transmitted from the rear substrate 2 so that the light source can be used together with the reflection type. In this case, a boundary portion between pixels PXL which is not necessary in the reflection mode is formed so as to hardly lower the reflectance of the effective pixel when displaying in the reflection mode. (Window). A black mask 41 is provided on a portion of the opposite substrate 1 corresponding to the opening.
And a light scattering sub-light reflecting layer 51 is disposed. Further, in order to effectively use the light source light emitted from the rear light source 30, a microlens 35 is arranged in alignment between the pixels PXL. For example, the negative nematic liquid crystal 4 to which the dichroic dye 5 is added is vertically aligned, and the light scattering layer 9 of the pixel PXL is further aligned.
The quarter-wave layer 10 is disposed on the substrate. In this case,
A quarter-wave plate 32 further outside the micro lens 35
And a polarizing plate 31.

【0046】反射モードにおいては、ブラックマスク4
1が画素PXLの境界に沿って配置されている分、余分
な反射がなくコントラストの向上が期待できる。透過モ
ードについては、蛍光管やEL素子等からなる背面光源
30からの光は偏光板31を通過して直線偏光になる。
その偏光方向はゲストホスト液晶3のラビング方向と平
行な方向である。この直線偏光は四分の一波長板32で
一但円偏光になる。さらに、光学的に一軸もしくは二軸
性を有する高分子液晶の様な材料を用いて、光学軸をラ
ビング方向に対して約45°方向に傾けることで、四分
の一波長層10が形成されている。前述した円偏光はこ
の四分の一波長層10を通過することでラビング方向と
垂直な方向の直線偏光に変換される。それ故、この直線
偏光は二色性色素5に吸収されることがほとんどなく、
対向基板1側に達する。この光は副光反射層51により
散乱的に逆反射され、画素PXL上の主光散乱層9に進
み、ここで再反射が起こる。その際、光は四分の一波長
層10を往復通過することで、直線偏光の偏光軸が90
°回転し、ゲストホスト液晶3のラビング方向に平行な
直線偏光となって対向基板1に向って進む。この時、画
素PXLに電圧が印加されていなければ液晶分子4及び
二色性色素5は垂直に配向しているので直線偏光は吸収
されず、カラーフィルタ40によって決定される色を表
示することができる。逆に、電圧が印加されている場合
液晶分子4及び二色性色素5はラビング方向に沿って図
示の様に水平配向するので、二色性色素による吸収が起
こり黒もしくはグレーの表示が可能になる。
In the reflection mode, the black mask 4
Since 1 is arranged along the boundary of the pixel PXL, there is no extra reflection and an improvement in contrast can be expected. In the transmission mode, light from the rear light source 30 including a fluorescent tube and an EL element passes through the polarizing plate 31 and becomes linearly polarized light.
The polarization direction is parallel to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3. This linearly polarized light is converted into a circularly polarized light by the quarter-wave plate 32. Further, a quarter-wavelength layer 10 is formed by tilting the optical axis in a direction of about 45 ° with respect to the rubbing direction using a material such as a polymer liquid crystal having optically uniaxial or biaxial properties. ing. The circularly polarized light described above is converted into linearly polarized light in a direction perpendicular to the rubbing direction by passing through the quarter wavelength layer 10. Therefore, this linearly polarized light is hardly absorbed by the dichroic dye 5,
It reaches the counter substrate 1 side. This light is scattered and retro-reflected by the sub-light reflection layer 51 and proceeds to the main light scattering layer 9 on the pixel PXL, where re-reflection occurs. At that time, the light reciprocates through the quarter-wave layer 10 so that the polarization axis of the linearly polarized light is 90.
And turns toward the opposite substrate 1 as linearly polarized light parallel to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3. At this time, if no voltage is applied to the pixel PXL, the liquid crystal molecules 4 and the dichroic dye 5 are vertically aligned, so that linearly polarized light is not absorbed, and the color determined by the color filter 40 can be displayed. it can. Conversely, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules 4 and the dichroic dye 5 are horizontally aligned along the rubbing direction as shown in the drawing, so that absorption by the dichroic dye occurs and black or gray display is possible. Become.

【0047】以上の様に、本実施形態では、第1及び第
2の透明基板1,2に設けた各電極は互いに対面してマ
トリクス状の画素PXLを規定し、光反射層9は個々の
画素PXLに対応して細分化された光反射性の主散乱面
と隣り合う画素PXLの境界に配された開口とを有す
る。第1の透明基板1には画素PXLの境界に沿って副
散乱面を備えた光反射層51が形成されており、前方か
ら入射した光の大部分は主散乱面を備えた光反射層9に
より反射する一方、後方から入射した光の一部分は開口
を通過した後副散乱面を備えた光反射層51により逆反
射され、さらに主散乱面を備えた光反射層9で前方に再
反射される。第1の透明基板1には画素PXLの境界に
沿って副散乱面より前方に遮光性のブラックマスク41
が形成されている。本実施形態では電気光学物質として
ホストとなるネマティック液晶4にゲストとなる二色性
色素5を添加したゲストホスト液晶3を用いている。こ
の場合、第2の透明基板2の少くとも画素PXLと整合
する部分には光反射層9とゲストホスト液晶3との間に
介在して外部から入射する光の変調を効率化する四分の
一波長層10が形成されている。本実施形態ではこの四
分の一波長層10は画素PXLの境界に位置する開口ま
で延設されている。この関係で、背面光源30と透明基
板2との間には後方から入射する光源光の変調を可能に
する偏光板31及び四分の一波長板32が介在してい
る。なお、ブラックマスク41上に形成された副光散乱
層51は画素PXL上に形成された主光散乱層9と同様
な構造を有しており、無数の微小凸部とその上に成膜さ
れた金属膜からなる。
As described above, in the present embodiment, the electrodes provided on the first and second transparent substrates 1 and 2 face each other to define a matrix-shaped pixel PXL, and the light reflection layer 9 has It has a light-reflective main scattering surface subdivided corresponding to the pixel PXL and an opening arranged at the boundary between the adjacent pixels PXL. On the first transparent substrate 1, a light reflection layer 51 having a sub-scattering surface is formed along the boundary of the pixel PXL, and most of light incident from the front is a light reflection layer 9 having a main scattering surface. On the other hand, a part of the light incident from the rear is reflected back by the light reflecting layer 51 having the sub-scattering surface after passing through the opening, and further re-reflected forward by the light reflecting layer 9 having the main scattering surface. You. A light-shielding black mask 41 is provided on the first transparent substrate 1 ahead of the sub-scattering surface along the boundary of the pixel PXL.
Are formed. In this embodiment, a guest-host liquid crystal 3 in which a dichroic dye 5 serving as a guest is added to a nematic liquid crystal 4 serving as a host is used as an electro-optical material. In this case, at least a portion of the second transparent substrate 2 that is aligned with the pixel PXL is interposed between the light reflection layer 9 and the guest host liquid crystal 3 to improve the efficiency of modulation of light incident from the outside. One wavelength layer 10 is formed. In the present embodiment, the quarter-wave layer 10 extends to the opening located at the boundary of the pixel PXL. In this connection, between the rear light source 30 and the transparent substrate 2, a polarizing plate 31 and a quarter-wave plate 32 for modulating the light source light incident from behind are interposed. The sub-light scattering layer 51 formed on the black mask 41 has a structure similar to that of the main light scattering layer 9 formed on the pixel PXL. Metal film.

【0048】図19は、図18に示した第7実施形態の
変形例を示す模式的な部分断面図である。本変形例では
外付けの四分の一波長板32を取り除き、その代わりに
対向基板1の副光反射層51上に八分の一波長層52を
形成することで、同様な効果を得ている。この八分の一
波長層52は例えば光学的に一軸もしくは二軸性を有す
る高分子液晶の様な材料を用い、光学軸をゲストホスト
液晶3のラビング方向に対して約45°方向に傾けるこ
とで作成可能である。本変形例では内蔵した四分の一波
長層10は画素PXLの境界に位置する開口まで延設さ
れており、背面光源30と第2の透明基板2との間に偏
光板31が介在しており、副散乱面を有する光反射層5
1の上には開口を介して後方から入射した光源光の変調
を可能にする八分の一波長層52が配されている。
FIG. 19 is a schematic partial sectional view showing a modification of the seventh embodiment shown in FIG. In this modification, the same effect can be obtained by removing the external quarter-wave plate 32 and forming the eighth-wavelength layer 52 on the sub-light reflecting layer 51 of the counter substrate 1 instead. I have. The eighth-wavelength layer 52 is made of, for example, a material such as a polymer liquid crystal having optically uniaxial or biaxial properties, and the optical axis is inclined at about 45 ° with respect to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3. It can be created with. In this modification, the built-in quarter-wave layer 10 extends to an opening located at the boundary of the pixel PXL, and a polarizing plate 31 is interposed between the back light source 30 and the second transparent substrate 2. Light reflecting layer 5 having a sub-scattering surface
An 八 wavelength layer 52 that allows modulation of light source light incident from behind through an aperture is disposed on 1.

【0049】図20は、図18に示した第7実施形態の
他の変形例を示す模式的な部分断面図である。本変形例
では外付けの四分の一波長板と偏光板を取り除き、その
代わりに対向基板1の副光反射層51の上に偏光子53
を設けている。この偏光子53は光学的に一軸もしくは
二軸性を示す高分子液晶に黒の二色性色素を添加した材
料で形成できる。偏光子53の吸収軸をゲストホスト液
晶3のラビング方向に垂直になる様に配置すると、第7
実施形態と同様な効果が得られる。本変形例では、内蔵
の四分の一波長層10は画素PXLの境界に位置する開
口まで延設されており、副散乱面を備える光反射層51
の上には開口を介して後方から入射した光の変調を可能
にする偏光子53が配されている。
FIG. 20 is a schematic partial sectional view showing another modification of the seventh embodiment shown in FIG. In this modification, the external quarter-wave plate and the polarizing plate are removed, and instead, the polarizer 53 is placed on the sub-light reflecting layer 51 of the counter substrate 1.
Is provided. The polarizer 53 can be formed of a material obtained by adding a black dichroic dye to a polymer liquid crystal having optical uniaxial or biaxial properties. When the absorption axis of the polarizer 53 is arranged to be perpendicular to the rubbing direction of the guest-host liquid crystal 3, the seventh
An effect similar to that of the embodiment can be obtained. In this modification, the built-in quarter-wave layer 10 is extended to the opening located at the boundary of the pixel PXL, and the light reflection layer 51 having a sub-scattering surface is provided.
Above is disposed a polarizer 53 that allows modulation of light incident from behind through an aperture.

【0050】図21は、図18に示した第7実施形態の
別の変形例を示す模式的な部分断面図である。本変形例
では、四分の一波長層10は画素PXLの境界に位置す
る開口から除去されており、背面光源30と第2の透明
基板2との間には後方から入射する光源光の変調を可能
にする偏光板31が配されている。
FIG. 21 is a schematic partial sectional view showing another modification of the seventh embodiment shown in FIG. In the present modification, the quarter-wave layer 10 is removed from the opening located at the boundary of the pixel PXL, and the rear light source 30 and the second transparent substrate 2 modulate the light source light incident from behind. Is provided.

【0051】図22は、対向基板に形成される光反射層
51の構成例を示す模式図である。(A)に示す様に、
対向基板1にあらかじめ形成されたブラックマスク41
に沿って所定の厚みで金属膜51aを成膜する。その上
をフォトレジストPRで被覆する。続いて(B)に示す
様にオーバーエッチングを行ない、金属膜51aの端面
を傾斜構造にする。これにより、散乱性を備えた光反射
層51を形成することができる。
FIG. 22 is a schematic diagram showing a configuration example of the light reflection layer 51 formed on the opposite substrate. As shown in (A),
Black mask 41 formed in advance on counter substrate 1
The metal film 51a is formed to have a predetermined thickness along. The surface is covered with a photoresist PR. Subsequently, over-etching is performed as shown in (B), so that the end face of the metal film 51a has an inclined structure. Thereby, the light reflection layer 51 having a scattering property can be formed.

【0052】図23は本発明に係る反射型兼透過型表示
装置の第8実施形態を示す模式的な断面図である。特徴
事項として、対向基板1の前面側には所定の間隙を介し
て第3の透明基板68が接合している。第1の透明基板
1と第3の透明基板68との間に例えば高分子分散型液
晶60が封入されており、液晶セルを構成する。高分子
分散型液晶60は上下から透明電極によって保持されて
いる。透明電極間に電圧を印加することで、高分子分散
型液晶60は拡散状態と透明状態との間で変化する。な
お、軽量化の為第3の透明基板68は有機フィルムを用
いることもできる。第1の透明基板1の内表面には対向
電極6が形成されている。一方、第2の透明基板10の
内表面には画素電極11が形成されている。ゲストホス
ト液晶3の駆動は薄膜トランジスタ8を介して画素電極
11に印加される電圧により行なう。画素電極11の下
方に位置する光反射層9は鏡面を備えているとともに、
一部が除去されており開口を形成する。背面光源30か
ら発した光源光はこの開口を介して前方に透過する。
FIG. 23 is a schematic sectional view showing an eighth embodiment of the reflective / transmissive display device according to the present invention. As a characteristic feature, a third transparent substrate 68 is bonded to the front side of the counter substrate 1 with a predetermined gap therebetween. For example, a polymer-dispersed liquid crystal 60 is sealed between the first transparent substrate 1 and the third transparent substrate 68 to form a liquid crystal cell. The polymer dispersed liquid crystal 60 is held by transparent electrodes from above and below. By applying a voltage between the transparent electrodes, the polymer-dispersed liquid crystal 60 changes between a diffusion state and a transparent state. Note that an organic film can be used for the third transparent substrate 68 for weight reduction. A counter electrode 6 is formed on the inner surface of the first transparent substrate 1. On the other hand, a pixel electrode 11 is formed on the inner surface of the second transparent substrate 10. The guest host liquid crystal 3 is driven by a voltage applied to the pixel electrode 11 via the thin film transistor 8. The light reflection layer 9 located below the pixel electrode 11 has a mirror surface,
Some have been removed to form openings. The light source light emitted from the rear light source 30 is transmitted forward through this opening.

【0053】図24を参照して、図23に示した第8実
施形態の反射表示モードを詳細に説明する。(A)は電
圧無印加状態を示し、(B)は電圧印加状態を示してい
る。反射表示では背面光源30及び高分子分散型の液晶
セル65は共にオフ状態である。従って、液晶セル65
は拡散状態になる。入射光は拡散状態にある高分子分散
型液晶60を通過した段階で拡散され、表示パネル内に
入射する。(A)に示す白表示では二色性色素5が基板
に垂直に配向しているので、入射光は光反射層9により
鏡面反射され、パネル外部に出ていく。(B)に示す黒
表示では、二色性色素5が基板に平行に配向している
為、入射光を吸収する。
The reflection display mode of the eighth embodiment shown in FIG. 23 will be described in detail with reference to FIG. (A) shows a state where no voltage is applied, and (B) shows a state where a voltage is applied. In the reflection display, the back light source 30 and the polymer dispersion type liquid crystal cell 65 are both off. Therefore, the liquid crystal cell 65
Becomes diffused. The incident light is diffused when passing through the polymer-dispersed liquid crystal 60 in a diffused state, and enters the display panel. In the white display shown in (A), since the dichroic dye 5 is oriented perpendicular to the substrate, the incident light is specularly reflected by the light reflection layer 9 and goes out of the panel. In the black display shown in (B), since the dichroic dye 5 is oriented parallel to the substrate, it absorbs incident light.

【0054】図25は、図23に示した第8実施形態の
透過表示モードを示す模式図である。(A)は電圧無印
加状態を示し、(B)は電圧印加状態を示している。透
過表示では、背面光源30及び高分子分散型の液晶セル
65は共にオンであり、液晶セル65は透明状態になっ
ている。拡散板39を介して背面光源30から発した光
源光は偏光板31により直線偏光となる。さらに外付け
の四分の一波長板32及び内蔵の四分の一波長層10を
通過する為、直線偏光は90°回転したまま維持され
る。電圧無印加状態では二色性色素5が垂直配向してい
る為、直線偏光はほとんど吸収されずにパネル外に出て
いき、白表示が得られる。(B)に示す電圧印加状態で
は二色性色素5が基板に対して平行に配向する為、背面
光源30から発した光源光は吸収され、黒表示になる。
FIG. 25 is a schematic diagram showing the transmissive display mode of the eighth embodiment shown in FIG. (A) shows a state where no voltage is applied, and (B) shows a state where a voltage is applied. In the transmissive display, both the back light source 30 and the polymer dispersion type liquid crystal cell 65 are on, and the liquid crystal cell 65 is in a transparent state. The light source light emitted from the rear light source 30 via the diffusion plate 39 is converted into linearly polarized light by the polarizing plate 31. Further, since the light passes through the external quarter-wave plate 32 and the built-in quarter-wave layer 10, the linearly polarized light is kept rotated by 90 °. When no voltage is applied, since the dichroic dye 5 is vertically aligned, the linearly polarized light goes out of the panel without being absorbed, and a white display is obtained. Since the dichroic dye 5 is oriented parallel to the substrate in the voltage application state shown in FIG. 3B, the light source light emitted from the back light source 30 is absorbed, and a black display is obtained.

【0055】以上の様に、本実施形態では光反射層9は
前方から入射する外光の大部分を鏡面反射する鏡面及び
後方から入射する光源光の一部分を透過する開口を有し
ており、背面光源30は拡散板39を介して前方に向っ
て拡散的な光を発する。第1の透明基板1の前方には外
部から印加される電圧に応じて拡散状態と透明状態との
間で変化する液晶セル65が配されている。この液晶セ
ル65は通常拡散状態に置かれ、光反射層9の鏡面から
前方に鏡面反射した光を拡散的に出射するとともに、必
要に応じ透明状態に置かれ光反射層9の開口から前方に
透過した拡散的な光をそのまま出射する。この液晶セル
65は高分子に液晶を分散した高分子分散型である。係
る構成により、透過/反射型双方の特徴を有する高品位
表示が可能な液晶表示装置を実現できる。従来の液晶表
示装置はパネル外部に備えたバックライトからの透過光
を利用した透過型と、外部からの光を利用した反射型に
大別される。前者は、高コントラストなカラー表示が可
能であるが、強力なバックライトが不可欠になる為、例
えば屋外で使用する場合、消費電力が大きく携帯に不向
きである。又、明るい環境下では逆にコントラストが低
下する。これに対して、反射型ではバックライトが不要
である為消費電力が小さく、明るい環境下ではコントラ
ストが高くなる。しかし絶対的なコントラストは低く高
品位表示は不可能である。本実施形態は、以上の様な従
来の反射型及び透過型表示装置の欠点を改善したもので
ある。
As described above, in this embodiment, the light reflecting layer 9 has a mirror surface for reflecting most of external light incident from the front and an opening for transmitting a part of light source light incident from the rear. The rear light source 30 emits diffuse light toward the front via the diffusion plate 39. A liquid crystal cell 65 that changes between a diffusion state and a transparent state according to a voltage applied from the outside is disposed in front of the first transparent substrate 1. The liquid crystal cell 65 is normally placed in a diffused state, diffusely emits light that has been specularly reflected forward from the mirror surface of the light reflection layer 9, and is placed in a transparent state as needed and forwardly from the opening of the light reflection layer 9. The transmitted diffuse light is emitted as it is. The liquid crystal cell 65 is of a polymer dispersion type in which liquid crystal is dispersed in a polymer. With such a configuration, a liquid crystal display device having both transmission / reflection characteristics and capable of high-quality display can be realized. Conventional liquid crystal display devices are broadly classified into a transmission type using transmitted light from a backlight provided outside the panel and a reflection type using light from the outside. The former enables high-contrast color display, but a strong backlight is indispensable, so that when used outdoors, for example, it consumes large power and is not suitable for carrying. On the other hand, in a bright environment, the contrast is reduced. On the other hand, in the reflection type, a backlight is not required, so that the power consumption is small, and the contrast is high in a bright environment. However, the absolute contrast is low and high-quality display is impossible. The present embodiment is an improvement on the above-described drawbacks of the conventional reflection type and transmission type display devices.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、表
示装置は前方に位置し電極を備えた第1の透明基板と、
これから所定の間隙を介して後方に位置し電極を備えた
第2の透明基板と、間隙に保持され入射する光を電極に
印加される電圧に応じて変調し表示を行なう電気光学物
質と、第2の透明基板側に配され入射する光の大部分を
反射するとともに一部分を透過可能な光反射層と、第2
の透明基板より後方に配され必要に応じて前方に向って
光を入射する背面光源とを備えている。係る構成によ
り、反射型兼透過型表示装置が実現できる。明るい環境
下では、前方から後方に向って外部から入射する外光の
大部分を光反射層で前方に反射して表示を行なうととも
に、暗い環境下では後方から前方に向って背面光源から
入射する光源光の一部分を光反射層で遮ることなく前方
に透過して表示を行なうことが可能である。
As described above, according to the present invention, the display device is provided with the first transparent substrate provided with the electrodes, which is located forward,
A second transparent substrate provided with an electrode positioned rearward through a predetermined gap, an electro-optical material that is held in the gap and modulates incident light according to a voltage applied to the electrode to perform display, A light reflecting layer disposed on the side of the transparent substrate and reflecting a large part of incident light and partially transmitting the light;
And a rear light source that is arranged rearward of the transparent substrate and that receives light forward when necessary. With such a configuration, a reflection-type and transmission-type display device can be realized. In a bright environment, most of the external light entering from the outside from the front to the rear is reflected forward by the light reflection layer to perform display, and in a dark environment, it enters from the back light source from the back to the front. It is possible to perform display by transmitting part of the light from the light source forward without being blocked by the light reflection layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第1実
施形態を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a reflective and transmissive display device according to the present invention.

【図2】第1実施形態の動作説明図である。FIG. 2 is an operation explanatory diagram of the first embodiment.

【図3】第1実施形態の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the first embodiment.

【図4】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第2実
施形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the reflective / transmissive display device according to the present invention.

【図5】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第2実
施形態の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a reflective and transmissive display device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】第2実施形態の全体構成を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating the entire configuration of the second embodiment.

【図7】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第3実
施形態を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a third embodiment of a reflective and transmissive display device according to the present invention.

【図8】第3実施形態の説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram of a third embodiment.

【図9】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第4実
施形態を示す部分断面図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing a fourth embodiment of a reflective / transmissive display device according to the present invention.

【図10】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第4
実施形態の部分断面図である。
FIG. 10 is a fourth view of the reflective / transmissive display device according to the present invention.
It is a partial sectional view of an embodiment.

【図11】第4実施形態の説明に供するグラフである。FIG. 11 is a graph for explaining a fourth embodiment;

【図12】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第5
実施形態を示す断面図である。
FIG. 12 is a fifth view of the reflective / transmissive display device according to the present invention;
It is sectional drawing which shows embodiment.

【図13】第5実施形態の説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of the fifth embodiment.

【図14】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第6
実施形態を示す断面図である。
FIG. 14 is a sixth view of the reflective / transmissive display device according to the present invention.
It is sectional drawing which shows embodiment.

【図15】第6実施形態の説明に供する平面図である。FIG. 15 is a plan view for explaining a sixth embodiment;

【図16】第6実施形態の変形例を示す断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view showing a modification of the sixth embodiment.

【図17】第6実施形態の全体構成を示す模式図であ
る。
FIG. 17 is a schematic diagram showing the overall configuration of the sixth embodiment.

【図18】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第7
実施形態を示す断面図である。
FIG. 18 shows a seventh example of the reflective / transmissive display device according to the present invention.
It is sectional drawing which shows embodiment.

【図19】第7実施形態の変形例を示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view showing a modification of the seventh embodiment.

【図20】第7実施形態の他の変形例を示す模式図であ
る。
FIG. 20 is a schematic diagram showing another modification of the seventh embodiment.

【図21】第7実施形態の別の変形例を示す断面図であ
る。
FIG. 21 is a sectional view showing another modification of the seventh embodiment.

【図22】第7実施形態の説明に供する模式図であ
る。。
FIG. 22 is a schematic diagram for explaining a seventh embodiment; .

【図23】本発明に係る反射型兼透過型表示装置の第8
実施形態を示す断面図である。
FIG. 23 is an eighth view of the reflective / transmissive display device according to the present invention;
It is sectional drawing which shows embodiment.

【図24】第8実施形態の動作説明に供する模式図であ
る。
FIG. 24 is a schematic diagram for explaining the operation of the eighth embodiment;

【図25】第8実施形態の動作説明に供する模式図であ
る。
FIG. 25 is a schematic diagram for explaining the operation of the eighth embodiment;

【図26】従来の透過型表示装置の一例を示す模式図で
ある。
FIG. 26 is a schematic view showing an example of a conventional transmission type display device.

【図27】従来の反射型表示装置の一例を示す模式図で
ある。
FIG. 27 is a schematic view showing an example of a conventional reflective display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板、2・・・基板、3・・・ゲストホスト液
晶、4・・・液晶分子、5・・・二色性色素、7・・・
配向層、8・・・薄膜トランジスタ、9・・・光反射
層、9a・・・凸部、9b・・・金属膜、9c・・・開
口、10・・・四分の一波長層、11・・・画素電極、
14・・・平坦化層、15・・・配向層、30・・・背
面光源、31・・・偏光板、32・・・四分の一波長板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Substrate, 3 ... Guest host liquid crystal, 4 ... Liquid crystal molecule, 5 ... Dichroic dye, 7 ...
Orientation layer, 8 thin film transistor, 9 light reflection layer, 9a projection, 9b metal film, 9c opening, 10 quarter-wave layer, 11 ..Pixel electrodes,
14 flattening layer, 15 alignment layer, 30 back light source, 31 polarizing plate, 32 quarter-wave plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 重野 信行 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 宗像 昌樹 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 藤岡 隆之 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 川手 靖俊 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 松手 雅隆 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Nobuyuki Shigeno 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Masaki Munakata 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Takayuki Fujioka 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Yasutoshi Kawate 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Inside (72) Inventor Masataka Matsude Inside Sony Corporation 6-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo

Claims (31)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 前方に位置し電極を備えた第1の透明基
板と、これから所定の間隙を介して後方に位置し電極を
備えた第2の透明基板と、該間隙に保持され入射する光
を該電極に印加される電圧に応じて変調し表示を行なう
電気光学物質と、第2の透明基板側に配され入射する光
の大部分を反射するとともに一部分を透過可能な光反射
層と、第2の透明基板より後方に配され必要に応じて前
方に向って光を入射する背面光源とを備えた反射型兼透
過型表示装置であって、 通常前方から後方に向って外部から入射する光の大部分
を該光反射層で前方に反射して表示を行なうとともに、
必要に応じ後方から前方に向って該背面光源から入射す
る光の一部分を該光反射層で遮え切ることなく前方に透
過して表示を行なうことを特徴とする反射型兼透過型表
示装置。
1. A first transparent substrate provided with an electrode at the front, a second transparent substrate provided with an electrode at a rear of the first transparent substrate via a predetermined gap, and light incident on the first transparent substrate. An electro-optical material that modulates the display according to the voltage applied to the electrode to perform display, a light reflection layer that is disposed on the second transparent substrate and reflects most of incident light and can partially transmit light, A reflective / transmissive display device having a rear light source disposed rearward of the second transparent substrate and incident light forward as necessary, wherein the light is normally incident from the outside from the front to the rear. Most of the light is reflected forward by the light reflection layer to perform display,
A reflective / transmissive display device wherein a part of the light incident from the rear light source from the rear to the front is transmitted forward as necessary without being blocked by the light reflection layer to perform display.
【請求項2】 前記電気光学物質はホストとなるネマテ
ィック液晶にゲストとなる二色性色素を添加したゲスト
ホスト液晶であり、前記第2の透明基板は該光反射層と
該ゲストホスト液晶との間に外部から入射する光の変調
を効率化する四分の一波長層を備えており、前記背面光
源は該第2の透明基板との間に該背面光源から入射する
光の変調を可能にする偏光板及び四分の一波長板を備え
ていることを特徴とする請求項1記載の反射型兼透過型
表示装置。
2. The electro-optical material is a guest-host liquid crystal obtained by adding a dichroic dye as a guest to a nematic liquid crystal as a host, and the second transparent substrate is formed of a light-reflecting layer and a guest-host liquid crystal. And a quarter-wavelength layer that efficiently modulates light incident from the outside between the light source and the rear light source, which enables modulation of light incident from the rear light source between the light source and the second transparent substrate. The reflective and transmissive display device according to claim 1, further comprising a polarizing plate and a quarter-wave plate.
【請求項3】 前記光反射層は平面に沿って形成された
微細な凸部とその上に成膜された金属膜からなるととも
に、該金属膜の一部をエッチングで除去した開口を備え
ており、前方から入射した光の大部分を散乱的に反射す
る一方後方から入射した光の一部分を該開口から透過す
ることを特徴とする請求項1記載の反射型兼透過型表示
装置。
3. The light reflection layer includes a fine projection formed along a plane and a metal film formed on the projection, and has an opening in which a part of the metal film is removed by etching. 2. The reflective and transmissive display device according to claim 1, wherein most of the light incident from the front is scatteredly reflected, and a part of the light incident from the rear is transmitted through the opening.
【請求項4】 前記開口は該凸部の一部に形成されてい
ることを特徴とする請求項3記載の反射型兼透過型表示
装置。
4. The reflective and transmissive display device according to claim 3, wherein said opening is formed in a part of said convex portion.
【請求項5】 前記開口は凸部と凸部の間に残された平
面の一部に形成されていることを特徴とする請求項3記
載の反射型兼透過型表示装置。
5. The reflective and transmissive display device according to claim 3, wherein said opening is formed in a part of a plane left between the convex portions.
【請求項6】 前記光反射層は平面に沿って形成された
微細な凸部と該平面の法線に対して傾斜した方位から蒸
着又はスパッタリングにより成膜された金属膜からな
り、前方から入射した光の大部分は凸部に被着した金属
膜により散乱的に反射される一方後方から入射した光の
一部は凸部の陰で金属膜が被着して無い箇所から透過す
ることを特徴とする請求項1記載の反射型兼透過型表示
装置。
6. The light reflection layer is composed of fine projections formed along a plane and a metal film formed by vapor deposition or sputtering from a direction inclined with respect to the normal to the plane, and is incident from the front. Most of the light that is reflected is scattered by the metal film deposited on the convex part, while part of the light incident from behind is transmitted from the part where the metal film is not deposited due to the shadow of the convex part. The reflective and transmissive display device according to claim 1.
【請求項7】 前記光反射層は平面に沿って形成された
微細な凸部とその上に成膜された半透鏡膜からなり、前
方から入射した光の大部分を散乱的に反射する一方後方
から入射した光の一部分を透過することを特徴とする請
求項1記載の反射型兼透過型表示装置。
7. The light reflection layer comprises a fine projection formed along a plane and a semi-transparent mirror film formed thereon, and reflects most of light incident from the front in a scattering manner. 2. The reflective and transmissive display device according to claim 1, wherein a part of light incident from behind is transmitted.
【請求項8】 前記半透鏡膜はロジウム、チタン、クロ
ム、アルミニウム、銀、クロメル又はインコネルからな
る金属薄膜であることを特徴とする請求項7記載の反射
型兼透過型表示装置。
8. The reflective / transmissive display device according to claim 7, wherein said semi-transparent mirror film is a metal thin film made of rhodium, titanium, chromium, aluminum, silver, chromel or inconel.
【請求項9】 前記半透鏡膜は誘電体膜であることを特
徴とする請求項7記載の反射型兼透過型表示装置。
9. The display device according to claim 7, wherein said semi-transparent mirror film is a dielectric film.
【請求項10】 前記誘電体膜はZnS,TiO2 又は
CeO2 からなることを特徴とする請求項9記載の反射
型兼透過型表示装置。
10. The reflective and transmissive display device according to claim 9, wherein said dielectric film is made of ZnS, TiO 2 or CeO 2 .
【請求項11】 前記半透鏡膜は可視光領域における反
射率が50〜90%の範囲にあることを特徴とする請求
項7記載の反射型兼透過型表示装置。
11. The reflective / transmissive display device according to claim 7, wherein said semi-transparent mirror film has a reflectance in a visible light range of 50 to 90%.
【請求項12】 前記半透鏡膜は可視光領域における反
射率が60〜80%の範囲にあることを特徴とする請求
項7記載の反射型兼透過型表示装置。
12. The reflective / transmissive display device according to claim 7, wherein said semi-transparent mirror film has a reflectance in a visible light range of 60 to 80%.
【請求項13】 第1及び第2の透明基板に設けた各電
極は互いに対面してマトリクス状の画素を規定し、前記
光反射層は個々の画素に対応して細分化された反射要素
の集合からなり、各反射要素は傾斜平面及び側端面を有
する透明な斜形凸部と該傾斜平面に選択的に形成された
金属膜からなり、前方から入射した光の大部分は該金属
膜により鏡面反射する一方後方から入射した光の一部分
は側端面から透過することを特徴とする請求項1記載の
反射型兼透過型表示装置。
13. The electrodes provided on the first and second transparent substrates face each other to define a matrix-shaped pixel, and the light reflection layer is formed of a reflective element subdivided corresponding to each pixel. Each reflecting element is composed of a transparent oblique projection having an inclined plane and side end faces, and a metal film selectively formed on the inclined plane, and most of light incident from the front is formed by the metal film. 2. The reflective and transmissive display device according to claim 1, wherein a part of the light which is specularly reflected while being incident from behind is transmitted through a side end face.
【請求項14】 前記傾斜平面は透明基板に対して1°
〜45°の範囲で傾斜しており、後方から入射した光の
一部分はある反射要素に属する金属膜の裏面で反射した
後側端面を通過しさらに隣りの反射要素に属する金属膜
の表面で反射して前方に指向することを特徴とする請求
項13記載の反射型兼透過型表示装置。
14. The inclined plane is 1 ° with respect to a transparent substrate.
A part of the light incident from behind is reflected at the back surface of the metal film belonging to a certain reflection element, passes through the rear end face, and is further reflected at the surface of the metal film belonging to the next reflection element. 14. The reflective and transmissive display device according to claim 13, wherein the display device is directed forward.
【請求項15】 前記第1の透明基板には光拡散層が配
されており、該光反射層により鏡面反射した光又は該光
反射層を透過した光を前方に向って拡散することを特徴
とする請求項13記載の反射型兼透過型表示装置。
15. A light diffusing layer is provided on the first transparent substrate, and diffuses light reflected specularly by the light reflecting layer or light transmitted through the light reflecting layer toward the front. The reflective and transmissive display device according to claim 13, wherein:
【請求項16】 第1及び第2の透明基板に設けた各電
極は互いに対面してマトリクス状の画素を規定し、前記
光反射層は個々の画素に対応して細分化された反射要素
の集合からなり、各反射要素は前方から入射した光の大
部分を反射する金属膜及び後方から入射した光の一部分
を透過する為に該金属膜の一部を除去した微小な開口を
有しており、加えて該光反射層の後方に位置し該背面光
源から発した光を各画素の開口に向けて集光するマイク
ロレンズを備えていることを特徴とする請求項1記載の
反射型兼透過型表示装置。
16. The electrodes provided on the first and second transparent substrates face each other to define a matrix-shaped pixel, and the light reflection layer is formed of a reflection element subdivided corresponding to each pixel. Each reflecting element has a metal film that reflects most of the light incident from the front and a small opening in which a part of the metal film has been removed to transmit a part of the light incident from the rear. 2. The reflection-type lens according to claim 1, further comprising a microlens located behind the light reflection layer and condensing light emitted from the rear light source toward an opening of each pixel. Transmission type display device.
【請求項17】 該開口は画素に対して1〜10%の面
積比で形成されていることを特徴とする請求項16記載
の反射型兼透過型表示装置。
17. The reflective and transmissive display device according to claim 16, wherein said opening is formed at an area ratio of 1 to 10% with respect to the pixel.
【請求項18】 前記開口は点状に形成されており、マ
イクロレンズは画素毎に形成された点状の開口に対応し
てマトリクス状に配列していることを特徴とする請求項
16記載の反射型兼透過型表示装置。
18. The device according to claim 16, wherein the openings are formed in a dot shape, and the microlenses are arranged in a matrix corresponding to the dot openings formed for each pixel. Reflective and transmissive display.
【請求項19】 前記開口は線状に形成されており、マ
イクロレンズは画素の列に沿った線状の開口に対応して
ストライプ状に配列していることを特徴とする請求項1
6記載の反射型兼透過型表示装置。
19. The device according to claim 1, wherein the openings are formed in a linear shape, and the microlenses are arranged in a stripe shape corresponding to the linear openings along a column of pixels.
6. The reflective and transmissive display device according to 6.
【請求項20】 前記マイクロレンズは該第2の透明基
板に集積的に形成されていることを特徴とする請求項1
6記載の反射型兼透過型表示装置。
20. The micro lens according to claim 1, wherein the micro lens is formed integrally on the second transparent substrate.
6. The reflective and transmissive display device according to 6.
【請求項21】 第1及び第2の透明基板に設けた各電
極は互いに対面してマトリクス状の画素を規定し、前記
光反射層は個々の画素に対応して細分化された光反射性
の主散乱面と隣り合う画素の境界に配された開口とを有
し、第1の透明基板には画素の境界に沿って副散乱面が
形成されており、前方から入射した光の大部分は主散乱
面により反射する一方後方から入射した光の一部分は該
開口を透過した後副散乱面により逆反射されさらに主散
乱面で前方に再反射することを特徴とする請求項1記載
の反射型兼透過型表示装置。
21. Each electrode provided on the first and second transparent substrates faces each other to define a matrix-shaped pixel, and the light reflection layer is formed of a light-reflecting subdivided corresponding to each pixel. And an opening arranged at the boundary between adjacent pixels, and a sub-scattering surface is formed on the first transparent substrate along the boundary between the pixels, so that most of the light incident from the front 2. The reflection according to claim 1, wherein a part of the light incident from behind is reflected by the main scattering surface, while part of the light incident from behind is reflected back by the sub-scattering surface after passing through the aperture and further reflected back by the main scattering surface. Type and transmission type display device.
【請求項22】 前記第1の透明基板には画素の境界に
沿って該副散乱面より前方に遮光性のブラックマスクが
形成されていることを特徴とする請求項21記載の反射
型兼透過型表示装置。
22. The reflective and transmissive light-transmitting device according to claim 21, wherein a light-shielding black mask is formed on the first transparent substrate in front of the sub-scattering surface along a boundary between pixels. Type display device.
【請求項23】 前記電気光学物質はホストとなるネマ
ティック液晶にゲストとなる二色性色素を添加したゲス
トホスト液晶であり、前記第2の透明基板の少くとも画
素と整合する部分には該光反射層と該ゲストホスト液晶
との間に介在して外部から入射する光の変調を効率化す
る四分の一波長層が形成されていることを特徴とする請
求項21記載の反射型兼透過型表示装置。
23. The electro-optical material is a guest-host liquid crystal in which a dichroic dye serving as a guest is added to a nematic liquid crystal serving as a host, and at least a portion of the second transparent substrate that matches a pixel is provided with the light. 22. The reflection type and transmission according to claim 21, wherein a quarter wavelength layer is formed between the reflection layer and the guest-host liquid crystal to efficiently modulate light incident from outside. Type display device.
【請求項24】 前記四分の一波長層は画素の境界に位
置する開口まで延設されており、前記背面光源と前記第
2の透明基板との間には後方から入射する光の変調を可
能にする偏光板及び四分の一波長板が介在していること
を特徴とする請求項23記載の反射型兼透過型表示装
置。
24. The quarter-wave layer extends to an opening located at a boundary of a pixel, and modulates light incident from the rear between the back light source and the second transparent substrate. 24. The reflective and transmissive display device according to claim 23, wherein a polarizing plate and a quarter-wave plate enabling the interposition are interposed.
【請求項25】 前記四分の一波長層は画素の境界に位
置する開口まで延設されており、前記背面光源と前記第
2の透明基板との間に偏光板が介在しており、前記副散
乱面の上には開口を介して後方から入射した光の変調を
可能にする八分の一波長層が配されていることを特徴と
する請求項23記載の反射型兼透過型表示装置。
25. The quarter-wave layer extends to an opening located at a boundary of a pixel, and a polarizing plate is interposed between the back light source and the second transparent substrate. 24. The reflective / transmissive display device according to claim 23, wherein an eighth-wavelength layer is provided on the sub-scattering surface to enable modulation of light incident from behind through an aperture. .
【請求項26】 前記四分の一波長層は画素の境界に位
置する開口まで延設されており、前記副散乱面の上には
開口を介して後方から入射した光の変調を可能にする偏
光子が配されていることを特徴とする請求項23記載の
反射型兼透過型表示装置。
26. The quarter-wave layer extends to an opening located at the boundary of a pixel, and allows modulation of light incident from behind through the opening on the sub-scattering surface. The reflective / transmissive display device according to claim 23, further comprising a polarizer.
【請求項27】 前記四分の一波長層は画素の境界に位
置する開口から除去されており、前記背面光源と前記第
2の透明基板との間には後方から入射する光の変調を可
能にする偏光板が配されていることを特徴とする請求項
23記載の反射型兼透過型表示装置。
27. The quarter-wave layer is removed from an aperture located at a pixel boundary, and allows modulation of light incident from behind between the rear light source and the second transparent substrate. 24. The reflective / transmissive display device according to claim 23, further comprising a polarizing plate.
【請求項28】 前記光反射層は前方から入射する光の
大部分を鏡面反射する鏡面及び後方から入射する光の一
部分を透過する開口を有しており、前記背面光源は前方
に向って拡散的な光を発し、前記第1の透明基板の前方
には外部から印加される電圧に応じて拡散状態と透明状
態との間で変化する液晶セルが配されており、通常は拡
散状態におかれ該鏡面から前方に鏡面反射した光を拡散
的に出射するとともに、必要に応じ透明状態におかれ該
開口から前方に透過した拡散的な光をそのまま出射する
ことを特徴とする請求項1記載の反射型兼透過型表示装
置。
28. The light reflecting layer has a mirror surface for reflecting most of light incident from the front and an opening for transmitting a part of light incident from the rear, and the rear light source diffuses forward. In front of the first transparent substrate, a liquid crystal cell which changes between a diffused state and a transparent state in accordance with a voltage applied from the outside is disposed, and the liquid crystal cell is normally in the diffused state. 2. The device according to claim 1, further comprising: diffusively emitting light specularly reflected forward from said mirror surface, and emitting diffuse light transmitted forward from said opening as required in a transparent state. Reflective and transmissive display device.
【請求項29】 前記液晶セルは高分子に液晶を分散し
た高分子分散型であることを特徴とする請求項28記載
の反射型兼透過型表示装置。
29. The reflective / transmissive display device according to claim 28, wherein said liquid crystal cell is of a polymer dispersion type in which liquid crystal is dispersed in a polymer.
【請求項30】 前方に位置し電極を備えた第1の透明
基板と、これから所定の間隙を介して後方に位置し電極
を備えた第2の透明基板と、該間隙に保持され入射する
光を該電極に印加される電圧に応じて変調し表示を行な
う電気光学物質と、第2の透明基板側に配され入射する
光の大部分を反射するとともに一部分を透過可能な光反
射層と、第2の透明基板より後方に配され必要に応じて
前方に向って光を入射する背面光源とを備え、 通常前方から後方に向って外部から入射する光の大部分
を該光反射層で前方に反射して表示を行なうとともに、
必要に応じ後方から前方に向って該背面光源から入射す
る光の一部分を該光反射層で遮え切ることなく前方に透
過して表示を行ない、 第1及び第2の透明基板に設けた各電極は互いに対面し
てマトリクス状の画素を規定し、前記光反射層は個々の
画素に対応して細分化された反射要素の集合からなり、
各反射要素は前方から入射した光の大部分を反射する金
属膜及び後方から入射した光の一部分を透過する為に該
金属膜の一部を除去した微小な開口を有しており、加え
て該光反射層の後方に位置し該背面光源から発した光を
各画素の開口に向けて集光するマイクロレンズを備えて
いることを特徴とする反射型兼透過型表示装置。
30. A first transparent substrate, which is located forward and has electrodes, and a second transparent substrate, which is located rearward with electrodes therefrom via a predetermined gap, and light which is held in the gap and is incident. An electro-optical material that modulates the display according to the voltage applied to the electrode to perform display, a light reflection layer that is disposed on the second transparent substrate and reflects most of incident light and can partially transmit light, A rear light source disposed rearward of the second transparent substrate and receiving light toward the front as necessary, wherein most of the light incident from the outside from the front to the rear is usually forwarded by the light reflection layer. To reflect on the display
If necessary, a part of the light incident from the rear light source from the rear to the front is transmitted forward without being cut off by the light reflection layer, and the display is performed, and each of the first and second transparent substrates is provided. The electrodes define matrices of pixels facing each other, and the light reflecting layer is composed of a set of subdivided reflecting elements corresponding to individual pixels.
Each reflective element has a metal film that reflects most of the light incident from the front and a small opening in which a part of the metal film is removed to transmit a part of the light that enters from the rear. A reflective / transmissive display device, comprising: a microlens located behind the light reflecting layer and condensing light emitted from the back light source toward an opening of each pixel.
【請求項31】 前方に位置し電極を備えた第1の透明
基板と、これから所定の間隙を介して後方に位置し電極
を備えた第2の透明基板と、該間隙に保持され入射する
光を該電極に印加される電圧に応じて変調し表示を行な
う電気光学物質と、第2の透明基板側に配され入射する
光の大部分を反射するとともに一部分を透過可能な光反
射層と、第2の透明基板より後方に配され必要に応じて
前方に向って光を入射する背面光源とを備え、 通常前方から後方に向って外部から入射する光の大部分
を該光反射層で前方に反射して表示を行なうとともに、
必要に応じ後方から前方に向って該背面光源から入射す
る光の一部分を該光反射層で遮え切ることなく前方に透
過して表示を行ない、 前記電気光学物質はホストとなるネマティック液晶にゲ
ストとなる二色性色素を添加したゲストホスト液晶であ
り、前記第2の透明基板は該光反射層と該ゲストホスト
液晶との間に外部から入射する光の変調を効率化する四
分の一波長層を備えており、前記背面光源は該第2の透
明基板との間に該背面光源から入射する光の変調を可能
にする偏光板及び四分の一波長板を備えていることを特
徴とする反射型兼透過型表示装置。
31. A first transparent substrate provided with an electrode located forward, a second transparent substrate provided with an electrode located backward from the first transparent substrate via a predetermined gap, and light incident and held in the gap. An electro-optical material that modulates the display according to the voltage applied to the electrode to perform display, a light reflection layer that is disposed on the second transparent substrate and reflects most of incident light and can partially transmit light, A rear light source disposed rearward of the second transparent substrate and incident light forward as necessary, and a large part of light incident from the outside usually forward to rearward is forwardly reflected by the light reflecting layer. To reflect on the display
If necessary, a part of the light incident from the rear light source from the rear to the front is transmitted forward without being blocked by the light reflection layer, and the display is performed. A guest-host liquid crystal to which a dichroic dye to be added is added, and the second transparent substrate is a quarter that efficiently modulates light incident from outside between the light reflection layer and the guest-host liquid crystal. A wavelength layer, wherein the rear light source includes a polarizer and a quarter-wave plate between the second transparent substrate and the second transparent substrate that enable modulation of light incident from the rear light source. Reflective and transmissive display device.
JP11615597A 1997-03-21 1997-04-18 Reflective and transmissive display device Expired - Fee Related JP3666181B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11615597A JP3666181B2 (en) 1997-03-21 1997-04-18 Reflective and transmissive display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-87746 1997-03-21
JP8774697 1997-03-21
JP11615597A JP3666181B2 (en) 1997-03-21 1997-04-18 Reflective and transmissive display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10325953A true JPH10325953A (en) 1998-12-08
JP3666181B2 JP3666181B2 (en) 2005-06-29

Family

ID=26429001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11615597A Expired - Fee Related JP3666181B2 (en) 1997-03-21 1997-04-18 Reflective and transmissive display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3666181B2 (en)

Cited By (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11242226A (en) * 1997-12-26 1999-09-07 Sharp Corp Liquid crystal display device
WO1999053369A1 (en) * 1998-04-08 1999-10-21 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display and electronic device
JP2000347219A (en) * 1999-03-29 2000-12-15 Sharp Corp Liquid crystal display device
WO2001004695A1 (en) * 1999-07-07 2001-01-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Translucent liquid crystal display device
JP2001209044A (en) * 1999-11-18 2001-08-03 Seiko Instruments Inc Liquid crystal display element and its manufacturing method
JP2001264750A (en) * 2000-03-23 2001-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display panel, method for driving the same, image display device, projection type display device, view finder, light receiving method and light transmitter device
JP2002090742A (en) * 2000-09-19 2002-03-27 Sony Corp Liquid crystal display device
JP2002098951A (en) * 2000-09-22 2002-04-05 Sony Corp Semi-transmitting type liquid crystal display device
JP2002169150A (en) * 2000-11-30 2002-06-14 Kyocera Corp Liquid crystal display
JP2002311445A (en) * 2001-04-16 2002-10-23 Hitachi Ltd Liquid crystal display
EP1111436A3 (en) * 1999-12-22 2002-10-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective liquid crystal display device
WO2002091071A1 (en) * 2001-05-07 2002-11-14 Nec Corporation Liquid crystal display element and method of producing the same
JP2002333621A (en) * 2001-05-11 2002-11-22 Dainippon Printing Co Ltd Semitransmission type liquid crystal display device and manufacturing method for semitransmissive reflection plate used for the same
KR100394023B1 (en) * 1998-08-06 2003-10-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Transflective Liquid Crystal Display
KR100439925B1 (en) * 2000-11-22 2004-07-12 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 Liquid crystal display device
JP2004199050A (en) * 2002-12-06 2004-07-15 Citizen Watch Co Ltd Reflective substrate and liquid crystal display panel using the same
JP2005031641A (en) * 2003-06-20 2005-02-03 Casio Comput Co Ltd Display apparatus and method for manufacturing the display apparatus
JP2005266206A (en) * 2004-03-18 2005-09-29 Hitachi Chem Co Ltd Liquid crystal display device
KR100528626B1 (en) * 2001-12-14 2005-11-15 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Semitransmission reflection electrooptic device, manufacturing method of the same and electronic device
JP2006099056A (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Idc Llc System and method of illuminating interferometric modulator by using backlighting
KR100597813B1 (en) * 1999-10-01 2006-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 transflective liquid crystal display device.
KR100603927B1 (en) * 1999-11-11 2006-07-24 삼성전자주식회사 Tft lcd
JP2006251307A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Toppoly Optoelectronics Corp Transflective liquid crystal display device and its manufacturing method
US7142770B2 (en) 2001-09-20 2006-11-28 Seiko Epson Corporation Electrooptic device and production method therefor
KR100660531B1 (en) * 1999-09-02 2006-12-22 삼성전자주식회사 TFT LCD of merged reflection- transmission type
WO2008093467A1 (en) * 2007-01-31 2008-08-07 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
JP2009025578A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
US7580096B2 (en) 2001-08-01 2009-08-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US7609342B2 (en) 2001-10-22 2009-10-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display for enhancing reflection and method of manufacturing the same
KR100989256B1 (en) * 2002-12-30 2010-10-20 엘지디스플레이 주식회사 Liqude crystal display
EP2284437A1 (en) * 2001-12-05 2011-02-16 Rambus International Ltd Transreflector and display with transreflector
US8013831B2 (en) 2004-09-27 2011-09-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and devices for lighting displays
JP2011191750A (en) * 2010-02-19 2011-09-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Liquid crystal display device
US8054532B2 (en) 1994-05-05 2011-11-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for providing illumination to interferometric modulators
US8289461B2 (en) 2007-01-24 2012-10-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US8384860B2 (en) 2007-06-26 2013-02-26 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device
US8421967B2 (en) 2006-12-14 2013-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and process for producing liquid crystal display device
CN103529592A (en) * 2013-10-18 2014-01-22 京东方科技集团股份有限公司 Liquid crystal display device
US8659726B2 (en) 2007-04-13 2014-02-25 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display and method of manufacturing liquid crystal display
US8872085B2 (en) 2006-10-06 2014-10-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display device having front illuminator with turning features
US8928967B2 (en) 1998-04-08 2015-01-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US8971675B2 (en) 2006-01-13 2015-03-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interconnect structure for MEMS device
US8979349B2 (en) 2009-05-29 2015-03-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination devices and methods of fabrication thereof
US9019590B2 (en) 2004-02-03 2015-04-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
US9019183B2 (en) 2006-10-06 2015-04-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical loss structure integrated in an illumination apparatus
US9025235B2 (en) 2002-12-25 2015-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical interference type of color display having optical diffusion layer between substrate and electrode
US9110289B2 (en) 1998-04-08 2015-08-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Device for modulating light with multiple electrodes
JP2018063403A (en) * 2016-10-14 2018-04-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Display panel, display device, input/output device, and information processing device
CN112882294A (en) * 2019-11-29 2021-06-01 夏普株式会社 Liquid crystal display panel
WO2023173479A1 (en) * 2022-03-16 2023-09-21 广州华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and display device

Cited By (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8054532B2 (en) 1994-05-05 2011-11-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for providing illumination to interferometric modulators
US7542116B2 (en) 1997-12-26 2009-06-02 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US8427608B2 (en) 1997-12-26 2013-04-23 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US6563554B2 (en) 1997-12-26 2003-05-13 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US7050132B2 (en) 1997-12-26 2006-05-23 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US7394511B2 (en) 1997-12-26 2008-07-01 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US6900863B2 (en) 1997-12-26 2005-05-31 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
US7859620B2 (en) 1997-12-26 2010-12-28 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
JPH11242226A (en) * 1997-12-26 1999-09-07 Sharp Corp Liquid crystal display device
US9110289B2 (en) 1998-04-08 2015-08-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Device for modulating light with multiple electrodes
WO1999053369A1 (en) * 1998-04-08 1999-10-21 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display and electronic device
US8928967B2 (en) 1998-04-08 2015-01-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US6680765B1 (en) 1998-04-08 2004-01-20 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
KR100394023B1 (en) * 1998-08-06 2003-10-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Transflective Liquid Crystal Display
JP2000347219A (en) * 1999-03-29 2000-12-15 Sharp Corp Liquid crystal display device
US6727965B1 (en) 1999-07-07 2004-04-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semitransparent liquid crystal display device
WO2001004695A1 (en) * 1999-07-07 2001-01-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Translucent liquid crystal display device
EP1113308A1 (en) * 1999-07-07 2001-07-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Translucent liquid crystal display device
EP1113308A4 (en) * 1999-07-07 2006-07-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd Translucent liquid crystal display device
KR100446562B1 (en) * 1999-07-07 2004-09-04 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 Translucent Liquid Crystal Display Device
KR100660531B1 (en) * 1999-09-02 2006-12-22 삼성전자주식회사 TFT LCD of merged reflection- transmission type
KR100597813B1 (en) * 1999-10-01 2006-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 transflective liquid crystal display device.
KR100603927B1 (en) * 1999-11-11 2006-07-24 삼성전자주식회사 Tft lcd
JP4704554B2 (en) * 1999-11-18 2011-06-15 セイコーインスツル株式会社 Liquid crystal display element and manufacturing method thereof
JP2001209044A (en) * 1999-11-18 2001-08-03 Seiko Instruments Inc Liquid crystal display element and its manufacturing method
US6597421B1 (en) 1999-12-22 2003-07-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective liquid crystal display element and image display device using the same
EP1111436A3 (en) * 1999-12-22 2002-10-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective liquid crystal display device
JP2001264750A (en) * 2000-03-23 2001-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display panel, method for driving the same, image display device, projection type display device, view finder, light receiving method and light transmitter device
JP4560924B2 (en) * 2000-09-19 2010-10-13 ソニー株式会社 Liquid crystal display
JP2002090742A (en) * 2000-09-19 2002-03-27 Sony Corp Liquid crystal display device
JP4543530B2 (en) * 2000-09-22 2010-09-15 ソニー株式会社 Method for manufacturing transflective liquid crystal display device
JP2002098951A (en) * 2000-09-22 2002-04-05 Sony Corp Semi-transmitting type liquid crystal display device
KR100439925B1 (en) * 2000-11-22 2004-07-12 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 Liquid crystal display device
JP2002169150A (en) * 2000-11-30 2002-06-14 Kyocera Corp Liquid crystal display
JP2002311445A (en) * 2001-04-16 2002-10-23 Hitachi Ltd Liquid crystal display
WO2002091071A1 (en) * 2001-05-07 2002-11-14 Nec Corporation Liquid crystal display element and method of producing the same
JP2002333619A (en) * 2001-05-07 2002-11-22 Nec Corp Liquid crystal display element and manufacturing method therefor
JP2002333621A (en) * 2001-05-11 2002-11-22 Dainippon Printing Co Ltd Semitransmission type liquid crystal display device and manufacturing method for semitransmissive reflection plate used for the same
US7965356B2 (en) 2001-08-01 2011-06-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid display device and method for fabricating the same
US7580096B2 (en) 2001-08-01 2009-08-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US7142770B2 (en) 2001-09-20 2006-11-28 Seiko Epson Corporation Electrooptic device and production method therefor
US7609342B2 (en) 2001-10-22 2009-10-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display for enhancing reflection and method of manufacturing the same
EP2284437A1 (en) * 2001-12-05 2011-02-16 Rambus International Ltd Transreflector and display with transreflector
KR100528626B1 (en) * 2001-12-14 2005-11-15 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Semitransmission reflection electrooptic device, manufacturing method of the same and electronic device
JP2004199050A (en) * 2002-12-06 2004-07-15 Citizen Watch Co Ltd Reflective substrate and liquid crystal display panel using the same
US9025235B2 (en) 2002-12-25 2015-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical interference type of color display having optical diffusion layer between substrate and electrode
KR100989256B1 (en) * 2002-12-30 2010-10-20 엘지디스플레이 주식회사 Liqude crystal display
JP2005031641A (en) * 2003-06-20 2005-02-03 Casio Comput Co Ltd Display apparatus and method for manufacturing the display apparatus
US9019590B2 (en) 2004-02-03 2015-04-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
JP2005266206A (en) * 2004-03-18 2005-09-29 Hitachi Chem Co Ltd Liquid crystal display device
JP2006099056A (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Idc Llc System and method of illuminating interferometric modulator by using backlighting
US8013831B2 (en) 2004-09-27 2011-09-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and devices for lighting displays
JP2011039536A (en) * 2004-09-27 2011-02-24 Qualcomm Mems Technologies Inc System and method of illuminating interferometric modulator using backlighting
JP2006251307A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Toppoly Optoelectronics Corp Transflective liquid crystal display device and its manufacturing method
US8971675B2 (en) 2006-01-13 2015-03-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interconnect structure for MEMS device
US8872085B2 (en) 2006-10-06 2014-10-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display device having front illuminator with turning features
US9019183B2 (en) 2006-10-06 2015-04-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical loss structure integrated in an illumination apparatus
US8421967B2 (en) 2006-12-14 2013-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and process for producing liquid crystal display device
US8289461B2 (en) 2007-01-24 2012-10-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
WO2008093467A1 (en) * 2007-01-31 2008-08-07 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
JPWO2008093467A1 (en) * 2007-01-31 2010-05-20 シャープ株式会社 Liquid crystal display
US8659726B2 (en) 2007-04-13 2014-02-25 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display and method of manufacturing liquid crystal display
US8384860B2 (en) 2007-06-26 2013-02-26 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device
JP2009025578A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
US9121979B2 (en) 2009-05-29 2015-09-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination devices and methods of fabrication thereof
US8979349B2 (en) 2009-05-29 2015-03-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination devices and methods of fabrication thereof
JP2011191750A (en) * 2010-02-19 2011-09-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Liquid crystal display device
CN103529592A (en) * 2013-10-18 2014-01-22 京东方科技集团股份有限公司 Liquid crystal display device
CN103529592B (en) * 2013-10-18 2016-01-27 京东方科技集团股份有限公司 A kind of liquid crystal indicator
JP2018063403A (en) * 2016-10-14 2018-04-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Display panel, display device, input/output device, and information processing device
CN112882294A (en) * 2019-11-29 2021-06-01 夏普株式会社 Liquid crystal display panel
US11428981B2 (en) * 2019-11-29 2022-08-30 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel
CN112882294B (en) * 2019-11-29 2024-04-02 夏普株式会社 Liquid crystal display panel having a light shielding layer
WO2023173479A1 (en) * 2022-03-16 2023-09-21 广州华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and display device
US11841524B2 (en) 2022-03-16 2023-12-12 Guangzhou China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Backlight module and display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3666181B2 (en) 2005-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3666181B2 (en) Reflective and transmissive display device
US7327421B2 (en) Liquid crystal display device
JP4060332B2 (en) Liquid crystal display
JP4526591B2 (en) Method for forming optical λ / 4 layer for transflective liquid crystal display device
JP3858581B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
US6833891B2 (en) Reflective liquid crystal display using cholesteric polymers
JP4727629B2 (en) Liquid crystal display
US20010022636A1 (en) Reflective display device
US7502085B2 (en) Display device having functional transparent plate in prismatic structure on retarder provided on polarizer above display panel assembly
JP2000200049A (en) Reflection type display device
KR100423685B1 (en) A transflector, and a transflective display device
US6747717B2 (en) Liquid crystal display device having cholesteric liquid crystal
KR101432567B1 (en) Liquid crystal display device
JP2001154181A (en) Liquid crystal display device
JP4122555B2 (en) Reflective display device
JP3543606B2 (en) Reflective display
KR100663074B1 (en) Reflection and transflection type liquid crystal display device with retardation film
JPH10154817A (en) Reflective liquid crystal display element
JP4636886B2 (en) Liquid crystal display device
JPH08106087A (en) Reflection type liquid crystal display device
JPH09211496A (en) Reflection type guest-host liquid crystal display device
JP3367853B2 (en) Reflective liquid crystal display
JP2003195319A (en) Liquid crystal display device and electronic appliance
KR20090041043A (en) Transflective mode liquid crystal display device
KR100503600B1 (en) Liquid Crystal Display Panel And Fabricating Apparatus and Method Thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041130

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050328

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080415

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100415

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees