JP2005266001A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents
ポジ型感光性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005266001A JP2005266001A JP2004075119A JP2004075119A JP2005266001A JP 2005266001 A JP2005266001 A JP 2005266001A JP 2004075119 A JP2004075119 A JP 2004075119A JP 2004075119 A JP2004075119 A JP 2004075119A JP 2005266001 A JP2005266001 A JP 2005266001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- resin
- diisocyanate
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】 (A)ノボラック樹脂と、
(B)ビニル化合物を付加重合してなる樹脂、及び、縮重合により合成される、イミド、アミド、ウレタン、ウレア、エステル、並びにレゾール樹脂からなる群より選ばれる1種のアルカリ可溶性樹脂と、
(C)赤外線吸収剤と、
(D)スルホニウム塩と、を含有するポジ型感光性組成物。
【選択図】 なし
Description
しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料では、様々な使用条件における未露光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部(非画像部)の溶解性との間の差(ディスクリミネーション;以下、溶解ディスクリと称する。)が未だ十分とは言えず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいという問題があった。
即ち、本発明の目的は、感度に優れ、膜強度、及び、赤外線露光による相互作用解除性が高く、ポジ型平版印刷版原版の記録層として有用な、ポジ型感光性組成物を提供することである。
また、本発明の他の目的としては、現像ラチチュード、感度、及び焼きだめ性に優れた、ポジ型平版印刷版原版の記録層として有用な、感光性組成物を提供することにある。
即ち、本発明のポジ型感光性組成物は、(A)ノボラック樹脂と、(B)ビニル化合物を付加重合してなる樹脂、及び、縮重合により合成される、イミド、アミド、ウレタン、ウレア、エステル、並びにレゾール樹脂からなる群より選ばれる1種のアルカリ可溶性樹脂と、(C)赤外線吸収剤と、(D)スルホニウム塩と、を含有することを特徴とする。
本発明の感光性組成物は、(A)ノボラック樹脂と、(B)ノボラック樹脂以外の特定アルカリ可溶性樹脂と、を含有していることにより、ノボラック樹脂単独膜に比べ膜の安定化効果が期待される。また、(D)スルホニウム塩を添加することにより、(A)ノボラック樹脂や(B)特定アルカリ可溶性樹脂との間に強固な相互作用を形成することができるため、膜強度に優れるものと推測される。特に、本発明に用いられる(B)特定アルカリ可溶性樹脂は、(A)ノボラック樹脂や(D)スルホニウム塩とも均一な相容性を有することから、感光性組成物の膜中では、(D)スルホニウム塩と(A)及び(B)の樹脂とが、近接して、安定かつ均一に分散することができる。このため、(D)スルホニウム塩と(A)及び(B)の樹脂との相互作用もより強固なものとなり、更なる膜強度の向上が可能となる。一方、このような本発明の感光性組成物に対し、赤外線露光を行うと、(D)スルホニウム塩が、感度よく、容易に分解することができるため、強固に形成していた(A)及び(B)の樹脂との相互作用が容易に解除される。ここで、上述のように、感光性組成物の膜中では、(D)スルホニウム塩と(A)及び(B)の樹脂とが、近接しているため、相互作用の解除が樹脂近傍で起こるため、汎用のオニウム塩を単独で感光性組成物中に添加するよりも、一層の効果向上が実現されるものと推測される。
また、(D)スルホニウム塩は、露光に対し、感度よく分解することができ、更に、その分解反応が非可逆反応であるため、(D)スルホニウム塩を含む本発明の感光性組成物をポジ型平版印刷版原版の記録層に適用すると、露光後、直ちに現像処理を行わず、露光した版材を所定時間経た後に現像するような場合であっても、露光部のアルカリ可溶性が低下しないため、経時による現像性の低下を抑制することができるものと思われる。
これらのことから、本発明の感光性組成物を用いたポジ型平版印刷版原版は、現像ラチチュード、感度、及び焼きだめ性に優れるものと推測される。
また、現像ラチチュード、感度、及び焼きだめ性に優れた、ポジ型平版印刷版原版の記録層として有用な、感光性組成物を提供することができる。
本発明のポジ型感光性組成物は、(A)ノボラック樹脂と、(B)ビニル化合物を付加重合してなる樹脂、及び、縮重合により合成される、イミド、アミド、ウレタン、ウレア、エステル、並びにレゾール樹脂からなる群より選ばれる1種のアルカリ可溶性樹脂(以下、特定アルカリ可溶性樹脂と称する場合がある。)と、(C)赤外線吸収剤と、(D)スルホニウム塩と、を含有することを特徴とする。
本発明の感光性組成物を構成する各成分を順に説明する。
本発明において用いられるノボラック樹脂としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、フロログルシノール、4,4’−ビフェニルジオール、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン等のフェノール類の少なくとも1種を、酸性触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類(ホルムアルデヒドに代えてパラホルムアルデヒドを、アセトアルデヒドに代えてパラアルデヒドを、用いてもよい)、又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、の少なくとも1種と重縮合させた樹脂のことを指す。
本発明における(B)特定アルカリ可溶性樹脂としては、ビニル化合物を付加重合してなる樹脂、及び、縮重合により合成される、イミド、アミド、ウレタン、ウレア、エステル、並びにレゾール樹脂がある。これらの樹脂について、それぞれ説明する。
本発明におけるビニル化合物を付加重合してなる樹脂(以下、ビニルポリマーと称する場合がある。)としては、スチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、エチレン等のビニル化合物を付加重合してなる樹脂である。
より具体的には、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体、カルボキシル基含有ビニルポリマー、フェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、スルホンアミド基を有するアクリル系樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、未露光部において、カルボキシル基同士及びカルボキシル基と上記フェノール性水酸基との間の相互作用によるアルカリ現像液に対する耐性向上の観点から、カルボキシル基含有ビニルポリマーが好ましい。
本発明におけるカルボキシル基含有ビニルポリマーとしては、カルボキシル基を有するモノマーを付加重合して得ることができる。
このカルボキシル基含有ビニルポリマーの中でも、カルボキシル基を有する共重合成分を少なくとも1種含み、分子内のカルボキシル基の含有量が2.0meq/g以上であり、且つ溶解性パラメータが21.3MPa1/2未満であるビニルポリマー(特定ビニルポリマー)がより好ましい。
このような特定ビニルポリマーの共重合成分として用いられる、カルボキシル基を有するモノマーとしては、分子内にカルボキシル基及び重合性二重結合を有するものであれば特に制限はないが、特に好ましい例としては、下記一般式(1)で示されるものを挙げることができる。
また、同様の理由から、R1〜R4がアルキル基の場合は、炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
このような2価の連結基のうち、特に好ましい具体例を以下に挙げる。
特定ビニルポリマー中のカルボキシル基の含有率は、アルカリ現像性を確保する目的から、2.0meq/g(単位はビニルポリマー1g中のカルボキシル基のミリモル当量)以上であることが必要であり、2.2meq/g以上であることが好ましい。カルボキシル基含率に特に上限はないが、組成物の疎水性を確保し、膜物性を良好に保つためには5、.0meq/g未満であることが好ましい。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアルキルアクリレート。
(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジイソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリン等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(11)N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
更に、(2)アルキルアクリレート及び(3)アルキルメタクリレートを共重合成分として用いる場合は、無置換のアルキル基を有するアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレートであることが特に好ましく、無置換のアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルキル基の炭素数は2〜8であることが好ましく、炭素数が2〜4であることが特に好ましい。
また、上述した(A)ノボラック樹脂との混和性の観点から、上記カルボキシル基を含有するモノマーと共重合されるアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレートは2種類以上を併用することが好ましく、直鎖状と分岐鎖状のアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレートを併用して共重合することが特に好ましい。
これらの特定ビニルポリマーのうち、本発明に好適に用いられるものを以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、カッコ内は各ユニットの溶解性パラメータ(MPa1/2)を示し、(1)はカルボキシル基含率(meq/g)、(2)はポリマーの溶解性パラメータ(MPa1/2)を示す。
本発明における縮重合により合成されるウレタン樹脂(以下、単にウレタン樹脂と称する場合がある。)としては、水に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶であれば特に制限はないが、中でも、側鎖にカルボキシル基を有するものが好ましく、具体的には、下記一般式(A)で表わされるジイソシアネート化合物と、下記一般式(B)又は一般式(C)で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物の少なくとも1種と、の反応生成物を基本骨格とするポリウレタン樹脂が挙げられる。
更に、R1は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、アルキル基、アルコキシル基、アルキルエステル基、シアノ基など、該イソシアネート基に不活性な置換基が挙げられる。
また、本発明に用いられるジイソシアネート化合物としては、上記一般式(A)で表される範囲のもの以外にも、例えば、後述するジオール化合物からなるオリゴマー又はポリマーなどの高分子化合物の両末端に、イソシアネート基を有する高分子量のジイソシアネート化合物などを用いることもできる。
好ましいR2としては水素原子、炭素数1〜8個の無置換のアルキル基、炭素数6〜15個の無置換のアリール基が挙げられる。
好ましいR3、R4、R5としては、炭素数1〜20個の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15個の無置換のアリーレン基が挙げられ、更に好ましいものとしては炭素数1〜8個の無置換のアルキレン基が挙げられる。また、必要に応じて、R3、R4、R5は上記一般式(A)におけるイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。
また、上記R2、R3、R4、R5は、これらのうち2つ或いは3つが互いに結合して環構造を形成していてもよい。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートのような芳香族環を有するものが耐刷性の観点より好ましい。
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピルプロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙げられる。
中でも、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシエチル)プロピオン酸がイソシアネートとの反応性の観点より好ましい。
また、一般式(B)又は(C)で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物の他に、カルボキシル基を有さず、且つ、一般式(A)中のイソシアネート基と反応しない置換基を有していてもよい他のジオール化合物を、アルカリ現像性を低下させない程度に併用することもできる。
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス−(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−ビス−(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス−(2−ヒドロキシエチル)m−キシリレンカルバメート、ビス−(2−ヒドロキシエチルフタレート等が使用できる。
使用するジイソシアネートとジオール化合物とのモル比は、好ましくは、0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
また、本発明におけるウレタン樹脂は、その構造内に芳香族骨格を有するものが耐薬品性の観点より好ましい。
これらのポリウレタン樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
本発明における縮重合により合成されるウレア樹脂(以下、単にウレア樹脂と称する場合がある。)としては、水不溶性且つアルカリ可溶性であり、そのポリマー主鎖に尿素結合を有するものであれば特に制限はない。
ここで、尿素結合とは、一般的には「−NH−CO−NH−」のことを指すが、本発明における尿素結合とは、上記「−NH−」の水素部分が任意の置換基により置換されている構造も包含するものと定義する。
本発明における尿素結合としては、例えば、下記一般式(a)で表されるものが挙げられる。
ここで、Ra、Ra'がアルキル基である場合には、炭素数1〜20程度のものが好ましく、炭素数1〜6程度のものがより好ましい。
Ra、Ra'がアリール基である場合には、炭素数6〜24程度のものが好ましく、炭素数6〜15程度のものがより好ましい。
Ra、Ra'がアラルキル基である場合には、炭素数7〜24程度のものが好ましく、炭素数7〜15程度のものがより好ましい。
また、Ra及びRa'で表される置換基の少なくとも一方と、該置換基が結合している窒素原子の他方の結合手と、が互いに結合して環構造を形成していてもよく、例えば、下記式で表される如き結合もまた、本発明における尿素結合に包含される。
本発明におけるウレア樹脂としては、下記一般式(b)で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも1種と、下記一般式(c)、(d)及び(e)で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物の少なくとも1種と、1級或いは2級アミンを有する化合物などのポリマー主鎖に尿素結合を導入しうる化合物の少なくとも1種と、からなる反応生成物を基本骨格とするものが好ましい。
更に、R1は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)などが好ましい。
また、本発明に用いられるジイソシアネート化合物としては、上記一般式(b)で表される範囲のもの以外にも、例えば、後述するジオール化合物からなるオリゴマー又はポリマーなどの高分子化合物の両末端に、イソシアネート基を有する高分子量のジイソシアネート化合物などを用いることもできる。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂肪環ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネートが耐刷性、耐薬品性の観点より好ましい。
好ましいR2としては水素原子、炭素数1〜8個の無置換のアルキル基、炭素数6〜15個の無置換のアリール基が挙げられる。
好ましいR3、R4、R5としては、炭素数1〜20個の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15個の無置換のアリーレン基が挙げられ、更に好ましいものとしては炭素数1〜8個の無置換のアルキレン基が挙げられる。また、必要に応じて、R3、R4、R5は上記一般式(b)におけるイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。
また、上記R2、R3、R4、R5は、これらのうち2つ或いは3つが互いに結合して環構造を形成していてもよい。
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン等が挙げられる。
中でも、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸が合成上の観点から好ましい。
中でも、1級の脂肪族ジアミン、1級の芳香族ジアミンが耐刷性の観点から特に好ましい。
このような化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが本発明はこれらに限定されるものではない。
具体的には、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、m−キシリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ヘキサメチレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、4,4’−ジフェニルメタン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、1,5−ナフタレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)等が挙げられ、中でも、ヘキサメチレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、4,4’−ジフェニルメタン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)が特に好ましい。
具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。
使用するジイソシアネート化合物に対する、一般式(c)〜(e)で表されるジオール化合物と、1級或いは2級アミンを有する化合物及び/又は尿素結合を有する化合物との合計のモル比は、好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
また、一般式(c)〜(e)で表されるジオール化合物に対する、1級或いは2級アミンを有する化合物及び/又はウレア化合物のモル比は、95:5〜0:100であることが好ましく、90:10〜10:90であることがより好ましく、80:20〜20:80であることが更に好ましい。
これらのウレア樹脂は単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明における縮重合により合成されるエステル樹脂(以下、単にエステル樹脂と称する場合がある。)としては、水不溶性且つアルカリ可溶性であり、そのポリマー主鎖にエステル結合を有する樹脂であれば特に制限はない。
ここで、ポリマー主鎖にエステル結合を有する樹脂としては、例えば、ポリ(エステル−ウレタン)系樹脂、ポリエステル樹脂、等が挙げられる。本発明においては、ポリ(エステル−ウレタン)系樹脂であることが特に好ましい。
更に、R1は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)などが好ましい。
また、本発明に用いられるジイソシアネート化合物としては、上記一般式(i)で表される範囲のもの以外にも、例えば、後述するジオール化合物からなるオリゴマー又はポリマーなどの高分子化合物の両末端に、イソシアネート基を有する高分子量のジイソシアネート化合物などを用いることもできる。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂肪環ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネートが耐刷性、耐薬品性の観点より好ましい。
好ましいR2としては水素原子、炭素数1〜8個の無置換のアルキル基、炭素数6〜15個の無置換のアリール基が挙げられる。
好ましいR3、R4、R5としては、炭素数1〜20個の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15個の無置換のアリーレン基が挙げられ、更に好ましいものとしては炭素数1〜8個の無置換のアルキレン基が挙げられる。また、必要に応じて、R3、R4、R5は上記一般式(i)におけるイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、エーテル基を有していてもよい。
また、上記R2、R3、R4、R5は、これらのうち2つ或いは3つが互いに結合して環構造を形成していてもよい。
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン等が挙げられる。
中でも、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸が合成上の観点から好ましい。
好ましいR6、R7としては、炭素数1〜20の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15の無置換のアリーレン基、炭素数4以上の複素環式炭化水素基が挙げられる。更に好ましいR6、R7としては、炭素数1〜8の無置換のアルキレン基が挙げられる。
例えば、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。
一般式(i)で表されるジイソシアネート化合物に対する、一般式(ii)、(iii)及び(iv)で表されるジオール化合物から選択される少なくとも1種と、一般式(v)及び/又は(vi)で表される化合物との合計のモル比は、好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
また、一般式(i)で表されるジイソシアネート化合物に対する、一般式(v)及び/又は(vi)で表される化合物の使用量は、1モル%以上が好ましく、5〜50モル%の範囲で使用されることが更に好ましい。50モル%以上使用した場合、有機溶剤に対する溶解性が悪化する場合がある。
また、本発明におけるエステル樹脂は、単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明における縮重合により合成されるアミド樹脂(以下、単にアミド樹脂と称する場合がある。)としては、水不溶性且つアルカリ可溶性であり、そのポリマー主鎖にアミド結合を有する樹脂であれば、本発明の効果を発揮しうるものである限り特に制限はない。
本発明に係るアミド樹脂としては、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリ(ウレタン−アミド)系樹脂などが挙げられるが、ポリ(ウレタン−アミド)系樹脂であることが特に好ましい。
更に、R1は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)などが好ましい。
また、本発明に用いられるジイソシアネート化合物としては、上記一般式(I)で表される範囲のもの以外にも、例えば、後述するジオール化合物からなるオリゴマー又はポリマーなどの高分子化合物の両末端に、イソシアネート基を有する高分子量のジイソシアネート化合物などを用いることもできる。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂肪環ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネートが耐刷性、耐薬品性の観点より好ましい。
好ましいR2としては水素原子、炭素数1〜8個の無置換のアルキル基、炭素数6〜15個の無置換のアリール基が挙げられる。
好ましいR3、R4、R5としては、炭素数1〜20個の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15個の無置換のアリーレン基が挙げられ、更に好ましいものとしては炭素数1〜8個の無置換のアルキレン基が挙げられる。また、必要に応じて、R3、R4、R5は上記一般式(I)におけるイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、エーテル基を有していてもよい。
また、上記R2、R3、R4、R5は、これらのうち2つ或いは3つが互いに結合して環構造を形成していてもよい。
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン等が挙げられる。
中でも、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸が合成上の観点から好ましい。
好ましいR6、R7としては、炭素数1〜20の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15の無置換のアリーレン基、炭素数4以上の複素環式炭化水素基が挙げられる。更に好ましいR6、R7としては、炭素数1〜8の無置換のアルキレン基が挙げられる。
例えば、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート等が挙げられる。
一般式(I)で表されるジイソシアネート化合物に対する、一般式(II)、(III)及び(IV)で表されるジオール化合物から選択される少なくとも1種と、一般式(V)及び/又は(VI)で表される化合物との合計のモル比は、好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
また、一般式(I)で表されるジオール化合物に対する、一般式(IV)及び/又は(VI)で表される化合物の使用量は、1モル%以上が好ましく、5〜70モル%の範囲で使用されることが更に好ましい。
また、本発明におけるアミド樹脂は、単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明における縮重合により合成されるイミド樹脂(以下、単にイミド樹脂と称する場合がある。)としては、水不溶性且つアルカリ可溶性であれば、本発明の効果を発揮しうるものである限り特に制限はない。
本発明において好適に用いられるイミド樹脂としては、以下に示すものが挙げられる。
4,4’−ジアミノ−4”−ヒドロキシトリフェニルメタンと4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物との縮合物を加熱し、イミド化した樹脂
2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物と3,3’−ジヒドロキシベンジジンの縮合物を加熱、イミド化した樹脂
ピロメリット酸無水物と3,3’−ジヒドロキシベンジジンの縮合物を加熱、イミド化した樹脂
ピロメリット酸無水物と2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの縮合物を加熱、イミド化した樹脂
4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物と2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの縮合物を加熱、イミド化した樹脂
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの縮合物を加熱、イミド化した樹脂
また、本発明におけるイミド樹脂は、単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明における縮重合により合成されるレゾール樹脂(以下、単にレゾール樹脂と称する場合がある。)としては、水不溶性且つアルカリ可溶性であれば、本発明の効果を発揮しうるものである限り特に制限はない。
本発明におけるレゾール樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を塩基性条件下で縮重合させた化合物が挙げられる。前記化合物のうち好ましいものとしては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で縮重合させたもの、同様に、m−クレゾールとホルムアルデヒドとから得られる化合物、ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得られる化合物、4,4’ ビスフェノールとホルムアルデヒドとから得られる化合物、その他、英国特許第2,082,339号明細書にレゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。
また、本発明の感光性組成物のように、(A)ノボラック樹脂と、(B)アルカリ可溶性樹脂と、を併用する場合、(B)アルカリ可溶性樹脂の含有量は、(A)ノボラック樹脂に対して、40質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物に使用できる(C)赤外線吸収剤としては、入手容易な露光光源としての高出力レーザーへの適合性の観点から、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
本発明の感光性組成物は、(D)スルホニウム塩を含有することを要する。
本発明に用いうるスルホニウム塩としては、下記一般式(x)で表されるスルホニウム塩が挙げられる。
Z-は強酸残基を示す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられ、安定性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。
本発明に好ましく用いられる(D)スルホニウム塩としては、カウンターアニオンがスルホン酸アニオン又はカルボン酸アニオンのものが挙げられる。
本発明の感光性組成物は、上述の必須成分に加えて、更に必要に応じて、その他の成分を添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質(熱分解性溶解抑制剤)を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。
本発明の感光性組成物において、その他の成分として用いられるオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
中でも、好適なオニウム塩としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.& Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
これらのオニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号公報記載のものが挙げられる。
これらのオニウム塩は単一でも使用できるし、数種の混合物として使用してもよい。
本発明の感光性組成物に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により(A)ノボラック樹脂や(B)特定アルカリ可溶性樹脂の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感光性組成物の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
これらのo−キノンジアジド化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
また、本発明の感光性組成物には、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、感光性組成物の全固形分に対し、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−621,DBE−712,DBP−732,DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げられる。
上記各面活性剤、シロキサン系化合物、及びフッ素含有モノマーの共重合体の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
これらの染料は、感光性組成物の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合である。
以下に、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の記録層に適用する例を挙げて、具体的な態様について説明する。平版印刷版原版は、支持体上に、記録層を設けてなるものであり、目的に応じて、下塗層、樹脂中間層、バックコート層なども有する構成である。同様にして形成することができる。
本発明の感光性組成物が適用される記録層は、記録層用成分(本発明の感光性組成物)を溶媒に溶かして記録層用塗布液を調製し、適当な支持体上に塗布することにより形成される。また、任意の層である、下塗層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。
溶媒中の記録層用成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
更に、記録層は、単層であってもよいし重層構造を有するものであってもよい。
本発明に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と記録層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
また、平版印刷版原版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の被覆量は、耐刷性の観点から、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。
また、平版印刷版原版には、必要に応じて、支持体と記録層との間(下塗層が設けられている場合には下塗層と支持体との間)に樹脂中間層を設けることができる。
この樹脂中間層を設けることで、露光によりアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感応層である記録層が、露光面或いはその近傍に設けられることで赤外線レーザに対する感度が良好であると共に、支持体と該赤外線感応層との間に高分子からなる樹脂中間層が存在し、断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率良く画像形成に使用されることからの高感度化も図れるという利点を有する。また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この樹脂中間層は有用であると考えられる。
以上のようにして、各層が形成された平版印刷版原版の製版工程(像露光、現像処理、印刷工程)について説明する。
像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の記録層に適用し場合、焼きだめ性に優れているため、適用した平版印刷版原版を露光後直ちに現像処理を行わず、所定時間経過した後現像する場合でも現像性が低下することはない。このため、例えば、露光を完了した複数の平版印刷版原版をストックした後、それらをまとめて自動現像機により処理する場合などに好適であり、経時後も露光後直ちに現像処理したものと同様の優れた現像性を示す。
平版印刷版原版の現像液及び補充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。
これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の記録層として適用した場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布した後、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。特に、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の記録層に適用した場合には、記録層がフェノール性水酸基を有する(A)ノボラック樹脂を含み、熱架橋性を有することになるため、汎用のバーニング処理を行なうことで、耐刷性が著しく向上する。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。その後、整面液が塗布された平版印刷版は必要により乾燥させてもよい。
本発明においては、上記加熱方法の中でも、バーニングプロセッサー(例えば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱する方法が好ましい。この場合の加熱温度及び加熱時間は、上層及び画像記録層を構成する成分の種類にもよるが、150〜300℃の範囲で0.5〜20分の範囲が好ましく、180〜270℃の範囲で1〜10分の範囲がより好ましい。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
(支持体の作製)
厚さ0.3mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
上記(a)〜(j)の各工程を順に行い(e)工程におけるエッチング量は3.4g/m2となるようにして支持体Aを作製した。
<支持体B>
上記工程のうち(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Bを作製した。
上記工程のうち(a)及び(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Cを作製した。
<支持体D>
上記工程のうち(a)及び(d)(e)(f)の工程を省略した以外は各工程を順に行い、(g)工程における電気量の総和が450C/dm2となるようにして支持体Dを作製した。
上記によって得られた支持体A、B、C、Dには、引き続き下記の親水処理、下塗り処理を行った。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体A〜Dを温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は3.5mg/m2であった。
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は18mg/m2であった。
・下記高分子化合物I 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
次に、上記で得られた下塗層付き支持体A〜Dのいずれかに、下記組成の記録層塗布液(感光性組成物)を塗布して、150℃のオーブンで1分間乾燥して、乾燥膜厚が1.7g/m2の記録層を有するポジ型平版印刷版原版を作製した。各実施例にて使用した支持体は表1に記載する。
・(A)フェノールクレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 0.95g
(フェノール:m−クレゾール:p−クレゾール=50:30:20、
重量平均分子量:7700)
・(B)表1に記載の特定アルカリ可溶性樹脂 0.08g
・(C)シアニン染料A(下記構造) 0.015g
・(C)シアニン染料B(下記構造) 0.025g
・(D)表13に記載のスルホニウム塩 0.20g
・2,4,6−トリス(ヘキシルオキシ)ベンゼンジアゾニウム−2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホネート 0.01g
・p−トルエンスルホン酸 0.003g
・シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物 0.06g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを
1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g
・フッ素系界面活性剤 0.02g
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 15g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7g
次に、得られた実施例1〜8、及び比較例1、2のポジ型平版印刷版原版に対して、現像ラチチュード、感度、焼きだめ性の各項目について、評価を行った。評価方法の詳細は下記の通りである。
得られた平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter3244 VXにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンの描き込みを行った。
その後、下記組成のアルカリ現像液A又はBの、水の量を変更することにより希釈率を変えて電導度を変化させたものを仕込んだ、富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間22秒で現像した。この時、画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物の差を現像ラチチュードとして評価した。その結果を表1に示す。なお、使用した現像液も表1に併記する。
・SiO2・K2O(K2O/SiO2=1/1(モル比)) 4.0質量%
・クエン酸 0.5質量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.5質量%
(重量平均分子量1,000)
・水 95.0質量%
・Dソルビット 2.5質量%
・水酸化ナトリウム 0.85質量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.5質量%
(重量平均分子量1,000)
・水 96.15質量%
得られた平版印刷用原板に対し、Creo社製Trendsetter3244 VFSにて露光エネルギーを変えてテストパターンの描き込みを行った。
その後、上記現像ラチチュードの評価において画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低いものと、の中間(平均値)の電導度のアルカリ現像液で現像し、この現像液で非画像部が現像できる露光量(ドラム回転速度160rpmのときのビーム強度)を測定して、感度とした。数値が小さいほど高感度であると評価する。その結果を表1に示す。
露光後に25℃相対湿度70%の環境で一時間保存する以外は、上記感度評価と同様の評価を行った。そして、上記感度評価の結果を露光直後の感度として、保存することにより、その感度が低下する度合いを焼きだめ性の指針とした。その結果を表1に示す。
なお、表1中の数値は露光後一時間での感度を表し、当該数値が露光直後の感度に近いほど焼きだめ性が良好であると評価する。
また、比較例2に用いたアンモニウム塩Aの構造については、以下に示す。
これにより、本発明の感光性組成物は、感度に優れ、膜強度、及び、赤外線露光による相互作用解除性が高いものと推測される。
得られた支持体Bに、実施例1〜12と同様に前記下塗り液を塗布した後、下記組成の下層用塗布液を、ウェット塗布量が28ml/m2のワイヤーバーで塗布して塗布量を1.5g/m2としたのち、150℃の乾燥オーブンで60秒間乾燥した。
得られた下層付き支持体に、下記組成の上層用塗布液を、ウエット塗布量が11ml/m2のワイヤーバーで塗布を行い総塗布量を1.8g/m2とした。塗布後、乾燥オーブンで、140℃で70秒間の乾燥を行いポジ型平版印刷版原版を作製した。
・N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドと、 2.003g
メタクリル酸メチルと、アクリロニトリルと、の共重合体
(モル比37:33:30、重量平均分子量6.5万)
・シアニン染料A(前記構造) 0.01g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.106g
・シクロヘキサンジカルボン酸無水物 0.100g
・ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール 0.090g
・p−トルエンスルホン酸 0.012g
・エチルバイオレットの対アニオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの 0.100g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート(熱分解性化合物) 0.05g
・フッ素系界面活性剤 0.035g
(メガファックF−176、大日本インキ工業(株)社製)
・メチルエチルケトン 26.6g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g
・N,N−ジメチルアセトアミド 13.8g
・(A)クレゾールノボラック樹脂 0.3g
(PR−54046、住友ベークライト(株)製)
・(B)表2に記載の特定アルカリ可溶性樹脂 0.3g
・(C)シアニン染料C(下記構造) 0.008g
・(D)表2に記載のスルホニウム塩 0.016g
テトラブチルアンモニウムブロミド 0.030g
・フッ素系界面活性剤 0.035g
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製)
・1−メトキシ−2−プロパノール 40.2g
得られた平版印刷版原版に対し、実施例1〜12と同様の方法により、現像ラチチュード、感度、及び焼きだめ性を評価した。なお、現像液は、組成Bのものを使用した。結果を表2に示す。
また、比較例2に用いたアンモニウム塩Aは、前記したものと同様である。
以上、実施例によれば、本発明の感光性組成物は、赤外線対応のポジ型平版印刷版原版の記録層として有用であることがわかった。
Claims (1)
- (A)ノボラック樹脂と、
(B)ビニル化合物を付加重合してなる樹脂、及び、縮重合により合成される、イミド、アミド、ウレタン、ウレア、エステル、並びにレゾール系樹脂からなる群より選ばれる1種のアルカリ可溶性樹脂と、
(C)赤外線吸収剤と、
(D)スルホニウム塩と、を含有するポジ型感光性組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004075119A JP4250105B2 (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | ポジ型感光性組成物 |
EP05005635A EP1577111B1 (en) | 2004-03-16 | 2005-03-15 | Positive-type photosensitive composition |
DE602005000609T DE602005000609T2 (de) | 2004-03-16 | 2005-03-15 | Positiv arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung |
AT05005635T ATE355183T1 (de) | 2004-03-16 | 2005-03-15 | Positiv arbeitende photoempfindliche zusammensetzung |
US11/081,087 US20050214675A1 (en) | 2004-03-16 | 2005-03-16 | Positive-type photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004075119A JP4250105B2 (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005266001A true JP2005266001A (ja) | 2005-09-29 |
JP4250105B2 JP4250105B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=35090657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004075119A Expired - Lifetime JP4250105B2 (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4250105B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008126722A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2010-07-22 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
WO2013015121A1 (ja) * | 2011-07-27 | 2013-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
WO2017038423A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
JP2017173842A (ja) * | 2006-03-10 | 2017-09-28 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | フォトリソグラフィーの組成物および方法 |
-
2004
- 2004-03-16 JP JP2004075119A patent/JP4250105B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017173842A (ja) * | 2006-03-10 | 2017-09-28 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | フォトリソグラフィーの組成物および方法 |
JPWO2008126722A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2010-07-22 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
WO2013015121A1 (ja) * | 2011-07-27 | 2013-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
JP2013029619A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
WO2017038423A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
JPWO2017038423A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
US10495971B2 (en) | 2015-08-31 | 2019-12-03 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, planographic printing plate precursor, and plate-making method for planographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4250105B2 (ja) | 2009-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4248345B2 (ja) | 感光性組成物 | |
US20050214675A1 (en) | Positive-type photosensitive composition | |
JP4393258B2 (ja) | 画像記録材料及び平版印刷版 | |
JP4171254B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2004012770A (ja) | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 | |
JP4250105B2 (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
JP2003029400A (ja) | 画像形成材料 | |
JP2005107484A (ja) | 画像記録材料及び平版印刷版 | |
JP4401103B2 (ja) | 画像記録材料 | |
JP4085005B2 (ja) | 平版印刷版用原版 | |
JP2004125985A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4173686B2 (ja) | 画像記録材料 | |
JP2005004053A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2004361483A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2004117546A (ja) | 画像形成材料 | |
JP2004061947A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2005250037A (ja) | ヒートモード対応ポジ型画像記録材料 | |
JP4340572B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP4328172B2 (ja) | 感光性組成物およびそれを用いたポジ型平版印刷版原版の製造方法 | |
JP4076843B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2005049756A (ja) | 画像記録材料 | |
JP2004252189A (ja) | 平版印刷版用原版 | |
JP2005181734A (ja) | 画像記録材料 | |
JP2005345795A (ja) | 感光性組成物 | |
JP3712198B2 (ja) | 画像記録材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060426 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20070111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090113 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090116 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4250105 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140123 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |