JP2005265438A - 振動子の製造方法および振動子 - Google Patents
振動子の製造方法および振動子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005265438A JP2005265438A JP2004074377A JP2004074377A JP2005265438A JP 2005265438 A JP2005265438 A JP 2005265438A JP 2004074377 A JP2004074377 A JP 2004074377A JP 2004074377 A JP2004074377 A JP 2004074377A JP 2005265438 A JP2005265438 A JP 2005265438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibrator
- etching
- axis direction
- oscillator
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Gyroscopes (AREA)
Abstract
【課題】フォトリソグラフィー法とエッチング法とを組み合わせて振動子の外形を成形し、振動型ジャイロスコープ用の振動子を製造するのに際して、製造した振動子ごとの検出離調のバラツキを防止できるようにする。
【解決手段】X軸とY軸とを含む所定面に沿って少なくとも一部が形成されている振動子9を製造する。基板1上に金属膜とフォトレジスト膜とを形成し、フォトレジスト膜にフォトリソグラフィー法によって開口部を形成し、次いで金属膜をエッチングすることによって金属マスクを形成し、基板1をエッチングすることによって振動子9を成形する。この際X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上である。
【選択図】 図2
【解決手段】X軸とY軸とを含む所定面に沿って少なくとも一部が形成されている振動子9を製造する。基板1上に金属膜とフォトレジスト膜とを形成し、フォトレジスト膜にフォトリソグラフィー法によって開口部を形成し、次いで金属膜をエッチングすることによって金属マスクを形成し、基板1をエッチングすることによって振動子9を成形する。この際X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上である。
【選択図】 図2
Description
本発明は、振動子の製造方法および振動子に関するものである。
振動型ジャイロスコープ用の水晶振動子をフォトリソグラフィー法およびウエットエッチング法によって形成することが知られている。例えば、特許文献1には、振動片の両方の主面に溝を形成し、振動片の断面をH型とするための製法が記載されている。具体的には、水晶ウエハの表面と裏面とに金属マスクを形成し、この金属マスク上にフォトレジスト膜を形成し、フォトレジスト膜をパターニングする。そしてフォトレジスト膜のパターンに合わせて金属マスクをパターニングする。このパターンは、振動子の外形輪郭に合わせて設計されている。次いで、金属マスクパターン上にフォトレジスト膜を成膜し、次いでフォトレジスト膜をパターニングする。このフォトレジスト膜のパターンは、振動片の溝のパターンに合わせて設計されている。次いで金属マスクのパターンに合わせて水晶ウエハをエッチングし、振動片の外形輪郭を成形する。次いで、金属マスクを溝パターンに合わせてパターニングし、次いでエッチングによって振動片に溝を形成する。
特開2002−76806号公報
このように、フォトリソグラフィー法とウエットエッチング法とを組み合わせて水晶振動子の外形を成形する方法は、微小な振動子を作製する方法として優れている。しかし、振動子が微小になってくると、この振動子を用いて作製した振動型ジャイロスコープにおいて、製造した振動子ごとに、検出離調にバラツキが発生することがあった。
本発明の課題は、フォトリソグラフィー法とエッチング法とを組み合わせて振動子の外形を成形し、振動型ジャイロスコープ用の振動子を製造するのに際して、製造した振動子ごとの検出離調のバラツキを防止できるようにすることである。
本発明は、X軸とY軸とを含む所定面に沿って少なくとも一部が形成されている振動子を製造する方法であって、基板上に金属膜からなるマスクを形成し、次いで基板をエッチングすることによって振動子を成形し、この際X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上であることを特徴とする。
本発明者は、前述した検出感度のバラツキの原因を調査したところ、フォトリソグラフィー技術によってメタルマスクを形成し、次いでエッチングによって振動子を成形する際に、X軸方向とY軸方向との間でのサイドエッチング量と検出離調のバラツキとが相関することを発見した。
この点を更に追求した結果、X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)を大きくすることによって、具体的には3.0以上とすることによって、製造した振動子ごとの検出離調のバラツキが少なくなり、検出感度のバラツキが低減されることを見いだし、本発明に到達した。
本発明の振動子は、少なくとも一部が、X軸とY軸とを含む所定面に沿って形成されているものである。振動子の全体が所定面に沿って形成されていてもよい。所定面に沿って形成されているとは、所定面と略平行に形成されていることを意味する。
図1〜図3は、本発明の第一の実施形態に係るプロセスを説明するためのものである。まず、図1(a)に示すように基板1を準備する。基板1はウエハー状であってよい。基板1の材質は限定されないが、圧電単結晶が好ましく、水晶、ニオブ酸リチウム単結晶、タンタル酸リチウム単結晶、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体単結晶、ホウ酸リチウム単結晶、ランガサイト単結晶等からなる圧電単結晶が特に好ましい。基板はZ板、X板(Y板)のいずれであってもよく、またZ板やX板(Y板)のオフセット基板であってよい。特に好適な実施形態においては、圧電単結晶が3回対称のa軸を有しており、X軸がa軸と一致し、Y軸がa軸に対して直交している。
基板1の表面をエッチングすることによって、表面の加工変質層を除去できる。次いで、基板1を洗浄することによって、パーティクルを減らすことができる。この際の洗浄液としては、アルカリ系洗剤、超純水、イソプロピルアルコール(ELグレード)などがある。
次いで基板1の主面1a、1b上に、それぞれ金属膜2A、2Bを形成する。この金属膜2A、2Bは、振動子材料用のメタルマスクとして機能する限り限定されない。例えば、下地をCrとし、その上にAuを積層した多層膜、下地をTiとしその上にAuを積層した多層膜、タングステン膜を例示できる。
次いで、各金属膜2A、2B上に、それぞれ、フォトレジスト膜3A、3Bを形成し、被覆する。次いで、図1(b)に示すように、フォトレジスト膜3A、3Bをパターニングし、パターニングされたフォトレジスト膜4A、4Bを得る。フォトレジスト膜3A、3Bのパターニングは、通常の露光方法によって実施できる。露光時にはコンタクトアライナーを使用することができる。
次いで、図1(c)に示すように、金属膜3A、3Bをエッチングし、フォトレジスト膜4A、4Bのパターンを金属膜に転写し、パターニングされた金属マスク6A、6Bを形成する。次いで、フォトレジスト膜4A、4Bを除去し、図2(a)に示す所定パターンの金属マスク6A、6Bを露出させる。ここで、金属マスク6A、6Bには開口部7A、7Bが形成されており、これが振動子の外形に対応している。
金属マスクのエッチング方法それ自体は公知である。例えば、金用エッチャントとしては、よう素とよう化カリウムの水溶液が好ましく、クロム用エッチャントとしては、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸の水溶液が好ましい。また、金とクロムを同時にエッチングする場合には硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸と塩酸の水溶液が好ましい。
次いで、基板1をエッチングし、図2(b)に示すような外形輪郭を有する振動子9を得る。このとき金属膜6A、6Bがエッチング用マスクとして機能する。エッチングの具体的方法は限定されず、ドライエッチング、ウエットエッチングでよいが、ウエットエッチングが好ましい。
基板1のエッチング方法それ自体は公知である。例えばエッチャントとしては、フッ化水素溶液、フッ化水素アンモニウム溶液、バッファードフッ酸溶液(フッ化水素アンモニウムとフッ化アンモニウムの混合液)、水酸化ナトリウム溶液などがある。
本発明においては、X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上である。まず各軸方向のサイドエッチング量について述べる。図2(a)に示す段階においては、メタルマスク6A、6Bの開口部7A、7Bの寸法は、例えばWX(WY)である(WXはX軸方向の寸法、WYはY軸方向の寸法)。
この後、振動子の外形9を形成するのに際して、いわゆるサイドエッチングが生ずる。これは、メタルマスク6A、6Bの開口部7A、7B側のエッジにおいて、振動子を構成する材料が、開口部7A、7Bを超えてエッチングを受けるために、振動子の開口部10の寸法が、メタルマスクの開口部7A、7Bの寸法よりも若干大きくなる現象である。
この結果、図2(b)に示すように、振動子外形9の開口部10の寸法EX(EY)は、メタルマスク6A、6Bの開口部7A、7Bの寸法WX(WY)よりも大きくなる(EXはX軸方向の寸法、EYはY軸方向の寸法)。
ここで、図2(b)において、開口部10に面する振動子9の各エッジにおけるサイドエッチング量(X軸方向)dXは、(EX−WX)/2で定義される。また、開口部10に面する振動子9の各エッジにおけるサイドエッチング量(Y軸方向)dXは、(EY−WY)/2で定義される。
本発明においては、X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)を3.0以上とする。これによって、フォトリソグラフィー法とエッチング法とを組み合わせて振動子の外形を成形し、振動型ジャイロスコープ用の振動子を製造するのに際して、検出離調のバラツキを防止できる。この相関関係が成立する理由は明らかになっていないが、サイドエッチング時の異方性が高いほど、得られる振動子の外形が安定するものと推測される。
本発明の観点からは、X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)は3.3以上とすることが更に好ましい。また、この上限は特にないが、現実的には、4.2以下となることが多い。
dX/dYを変更し、制御する方法は特に限定されない。例えば、金属膜2Aの厚さを変更することによって、dX、dYを変化させることができる。また、金属膜2Aを二層構造とした場合には、下地層の厚さおよび/または上層の厚さを変化させることによって、dX/dYを変化させることができる。
次に、本発明を適用可能な振動子の一例について述べる。
図3を参照しつつ、本実施形態の振動子11の形状および動作について説明する。振動子11の基部12は、振動子の重心GO(振動子が振動していないときの重心)を中心として四回対称の略正方形をなしている。各支持部13は、基部12の周縁部から径方向に細長く突出しており、各支持部13の長手方向に直交する方向に向かって、それぞれ一対の細長い駆動振動片14が延びている。本例では、各駆動振動片14の先端に幅広の重量部ないしハンマーヘッド15が設けられており、各重量部15内に貫通孔が設けられている。
図3を参照しつつ、本実施形態の振動子11の形状および動作について説明する。振動子11の基部12は、振動子の重心GO(振動子が振動していないときの重心)を中心として四回対称の略正方形をなしている。各支持部13は、基部12の周縁部から径方向に細長く突出しており、各支持部13の長手方向に直交する方向に向かって、それぞれ一対の細長い駆動振動片14が延びている。本例では、各駆動振動片14の先端に幅広の重量部ないしハンマーヘッド15が設けられており、各重量部15内に貫通孔が設けられている。
基部12の周縁部から細長い検出振動片16が径方向に突出して延びており、各検出振動片16の先端にはそれぞれ幅広の重量部ないしハンマーヘッド17が設けられており、各重量部17内に貫通孔が設けられている。
次に振動子11の動作について述べる。図示しない駆動電極を使用し、駆動振動片14を矢印AのようにX−Y面内で共振させる。屈曲振動片14の駆動振動の全体の重心が、振動子の重心GO上か、またはその近傍に位置するようにする。この状態で、振動子11を所定面(X−Y面)内で回転軸Zを中心としてωのように回転させると、回転中にコリオリ力が振動子11に作用する結果、各支持部13は、矢印Bのように、その基部12への付け根を中心として屈曲振動する。この際、支持部13の各屈曲振動の位相は、重心GOを中心として周方向に見たときに反対向きになる。これに対応して、各検出振動片16は、矢印Cに示すように、その基部12への付け根を中心として屈曲振動する。各検出振動片16が屈曲振動すると、図示しない検出電極に信号電圧が発生するので、この信号電圧から回転角速度を算出する。
ここで、Y軸方向に延びる振動片14、16をエッチングにより形成する際には、図4(a)に示すように、X軸方向へのサイドエッチングにより、フォトリソグラフィー用マスクの開口部の寸法WXに比べて、得られた振動子における開口部の寸法EXが大きく、それだけ各振動片14、16の端面20が引っ込んでおり、振動片14、16が細くなっている。この寸法差がサイドエッチング量dXである。
X軸方向に延びる振動片13をエッチングにより形成する際には、図4(b)に示すように、Y軸方向へのサイドエッチングにより、フォトリソグラフィー用マスクの開口部の寸法WYに比べて、得られた振動子における開口部の寸法EYが大きく、それだけ各振動片13の端面20が引っ込んでおり、振動片13が細くなっている。この寸法差がサイドエッチング量dYである。
また、検出離調とは、振動子に励起される駆動振動モードの振動の共振周波数と、検出振動モードの振動の共振周波数との差である。
振動子を用いて測定されるべき物理量は、特に限定はされない。振動子に駆動振動を励振し、駆動振動中の振動子に対する物理量の影響によって振動子の振動状態に変化が生じたときに、この振動状態の変化から検出回路を通して検出可能な物理量を対象とする。こうした物理量としては、振動子に印加される加速度、角速度、角加速度が特に好ましい。また、測定装置としては慣性センサーが好ましい。
図1、図2を参照しつつ説明した製造方法に従い、図3、図4に示す振動子11を作製し、その離調ばらつきを測定した。
具体的には、2インチ角、厚さ0.1mmの水晶基板を希フッ酸にてエッチング洗浄した後、スピンドライヤーにて乾燥し、清浄な水晶基板1を製作した。次に、スパッタ装置を用いて水晶基板1の両方の主面1aおよび1bに、下地層であるCrを5nm、その上にAuを150nmの厚さで成膜し、金属膜2A、2Bを成膜した。また、異なる成膜条件として、Cr厚さを5nmとし、Au厚さを50nmとした。
次にAu膜の成膜面上に、スピンコーターによりフォトレジストを塗布してレジスト膜3A、3Bを形成した(図1(a))。両方の主面1a、1bの高精度アライメントが可能な露光装置と水晶外形エッチング加工パターンをウェハ面内に100個描画したフォトマスクを用い、フォトリソグラフィーによって水晶基板1の両方の主面1a、1b側に水晶振動子の外形エッチング加工用のレジストパターン4A、4Bを形成した(図1(b))。
このレジストパターン4A、4Bをマスクとして、硝酸セリウムアンモニウムと塩酸と過塩素酸の混合液にて、水晶基板1上に成膜したAuとCrからなる金属膜2A、2Bをエッチング除去し、水晶振動子の外形加工用エッチングマスクパターン6A、6Bを形成した(図2(a))。また、ウェハ面内の100個の振動子について、エッチングマスクパターン6A、6BのX方向とY方向を寸法測定した。
次いで、基板1を、70℃に加熱した40%フッ化水素アンモニウム溶液に14時間浸漬し、水晶をエッチング加工し、振動子外形9を得た(図2(b))。ここで、予め測定しておいたエッチングマスクパターンと同一位置において、水晶振動子のX方向とY方向の寸法を測定し、エッチングパターン寸法から水晶寸法を差し引いた値をそれぞれX方向のサイドエッチング量dX、Y方向のサイドエッチング量dYとした。
X方向のサイドエッチング量dXとY方向のサイドエッチング量dYの比(dX/dY)を算出した。この結果、エッチングマスクの膜厚としてCrが50nm、Auが150nmの膜条件では1.8であったのに対し、Crが50nm、Auが50nmの膜条件では4.2となり、膜条件により大きく異なった。
次にエッチング加工にて水晶基板上に形成した振動子の表裏面及び側面にCrを下地層としAuを表面層とした電極膜を成膜した後、その表面にフォトリソグラフィーによって電極配線パターンを形成して振動子ジャイロ用水晶振動子を得た。
このように製作した水晶振動子の周波数特性を測定した結果、X/Yサイドエッチング比が1.8であったウェハの100個の振動子における離調の標準偏差は520Hzであった。同様に、X/Yサイドエッチング比が4.2であったウェハの100個の振動子について周波数特性を測定すると離調の標準偏差は64Hzであった。駆動モードの共振周波数、検出モードの共振周波数は、インピーダンスアナライザで測定した。
更に、dX/dYの水準を、図5および表1に示すように種々変更し、離調ばらつきと相関があるか実験したところ、図5および表1に示すような関係が得られた。この結果、dX/dYを3.0以上にすれば離調ばらつきを抑制できることが分かった。
1 基板 2A、2B 金属膜 3A、3B フォトレジスト膜 4A、4B パターニングされたフォトレジスト膜 5A、5B フォトレジスト膜の開口部 6A、6B メタルマスク 7A、7B メタルマスク6によって形成された開口部 9 振動子の外形 10 振動子の開口部 EX 振動子9の開口部10の寸法(X軸方向) EY 振動子9の開口部10の寸法(Y軸方向) WX メタルマスク6A、6Bの開口部7A、7Bの寸法(X軸方向) WY メタルマスク6A、6Bの開口部7A、7Bの寸法(Y軸方向) dX X軸方向のサイドエッチング量 dY Y軸方向のサイドエッチング量
Claims (4)
- X軸とY軸とを含む所定面に沿って少なくとも一部が形成されている振動子を製造する方法であって、
基板上に金属膜からなるマスクを形成し、次いで前記基板をエッチングすることによって前記振動子を成形し、この際前記X軸方向のサイドエッチング量の前記Y軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上であることを特徴とする、振動子の製造方法。 - 前記基板が圧電性単結晶からなることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 請求項1または2記載の方法によって製造されたことを特徴とする、振動子。
- 振動型ジャイロスコープ用の振動子であることを特徴とする、請求項3記載の振動子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004074377A JP2005265438A (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | 振動子の製造方法および振動子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004074377A JP2005265438A (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | 振動子の製造方法および振動子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005265438A true JP2005265438A (ja) | 2005-09-29 |
Family
ID=35090171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004074377A Withdrawn JP2005265438A (ja) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | 振動子の製造方法および振動子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005265438A (ja) |
-
2004
- 2004-03-16 JP JP2004074377A patent/JP2005265438A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4714770B2 (ja) | 音叉型圧電振動片及び音叉型圧電振動片の製造方法 | |
JP5059399B2 (ja) | 圧電振動片の製造方法、圧電振動片および圧電デバイス | |
JP2003337025A (ja) | 振動子および振動型ジャイロスコープ | |
JP5465573B2 (ja) | 音叉型水晶片の製造方法 | |
JP2007108053A (ja) | 振動子および振動型ジャイロスコープ用測定素子 | |
JP5468444B2 (ja) | 音叉型水晶片の製造方法 | |
JP4010218B2 (ja) | 圧電振動片の製造方法 | |
JP2000004138A (ja) | 振動子の製造方法及び電子機器 | |
JP5465572B2 (ja) | 音叉型水晶片の製造方法 | |
JP4136754B2 (ja) | 回転角速度測定装置 | |
JP2009152988A (ja) | 圧電振動片、圧電デバイス及びそれらの製造方法 | |
JP2007306471A (ja) | 水晶振動子及びその製造方法ならびに物理量センサー | |
JP4305728B2 (ja) | 振動片の製造方法 | |
JP2006214779A (ja) | 振動体の製造方法 | |
JP2005020141A (ja) | 圧電振動片の製造方法及び圧電デバイスの製造方法 | |
JP2005265438A (ja) | 振動子の製造方法および振動子 | |
JP3998515B2 (ja) | 振動片、振動子、振動型ジャイロスコープおよび振動片の製造方法 | |
JP2007086003A (ja) | 振動型ジャイロスコープ用測定素子 | |
US20240056053A1 (en) | Manufacturing Method For Vibrator Element | |
JP6240531B2 (ja) | 圧電振動子の製造方法 | |
JP6055273B2 (ja) | 圧電素子の製造方法 | |
JP4305947B2 (ja) | 振動型ジャイロスコープ | |
JP2005277482A (ja) | 水晶振動子の製造方法および振動ジャイロ | |
JP2016131172A (ja) | 素子基板、素子の検査方法、素子の製造方法、および振動素子 | |
JP2008157845A (ja) | 水晶振動子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070605 |