JP2005263889A - ガスハイドレート製造装置 - Google Patents

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隆之 丸本
Osamu Hamamoto
修 濱本
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Abstract

【課題】外部配管冷却方式のガスハイドレート製造装置において、閉塞などの問題を回避しつつ、原料水の冷却を効率良く行う。
【解決手段】 ガスハイドレート製造装置100の水循環用管18には、ポンプ19が配備され、圧力容器10の底側部から排出された水を原料水供給管17との接続位置まで揚水して再利用する。水循環用管18の途中には、外部冷却方式の冷却手段として、雪氷冷却器23が配備されている。雪氷冷却器23は、水循環用管18内を流れる水を凍結させたり、ガスハイドレートを生じさせたりすることがなく、閉塞の問題を生じないので、安定的な水の供給が可能になる。
【選択図】図1

Description

本発明は、ガスハイドレート製造装置に関し、より詳細には、例えば、天然ガス、メタンガス、炭酸ガス等からガスハイドレートを製造するためのガスハイドレート製造装置に関する。
ガスハイドレートは、水分子とガス分子からなる氷状の固体物質であり、水分子により形成されるかご状構造の内部にガス分子を取り込んだ包摂水和物である。このガスハイドレートは、高いガス包蔵性、大きな生成・解離熱、小さな温度変化による大きな圧力変化、ハイドレート形成物質の選択性等の特質を有するため、例えば天然ガス等の輸送・貯蔵手段や、蓄熱システム、アクチュエータ、ガスの分離回収等の多様な用途での利用が注目されている。
ガスハイドレートを製造するために使用されるガスハイドレート製造装置として、これまでに数多くの提案がなされている。一般に、ガスハイドレート製造装置は、圧力容器内に気液接触手段を設け、所定の圧力と温度の下で水と原料ガスとを気液接触させる構成が採られる。ガスハイドレートは、例えばメタンハイドレートの場合、温度0〜10℃かつ圧力3〜6MPa程度の条件で生成するが、ハイドレート生成には発熱を伴うので、圧力容器内部や、原料水および原料ガスを常に冷却する必要がある。
原料水の冷却手段として、圧力容器から抜出した水を配管途中で冷却する外部配管冷却方式のガスハイドレート製造装置が知られている(例えば、特許文献1)。このガスハイドレート製造装置は、圧力容器内でハイドレート化しなかった余剰水を再使用するにあたり、圧力容器外部の揚水管路に水冷却器を設け、ここで水を過冷却するという構成である。このような外部配管冷却方式では、原料水の冷却が効率的に行われるので、ハイドレート製造を効率よく実施できるという利点がある。つまり、圧力容器全体を外部から冷却しようとすると、ジャケット式熱交換器などの大掛りな設備が必要になるので、熱交換効率が悪い上、設備も大型化せざるを得ないが、冷却効率に優れた外部配管冷却方式を採用することによって、簡易な装置構成でガスハイドレートの製造を効率よく実施できるのである。
特開2003−82371号公報(図1、図2など)
一般に、特許文献1の如き外部配管冷却方式では、ブライン(エチレングリコールなどの不凍液)を冷媒として利用した熱交換器によって配管を冷却しているが、この方式には、以下のような問題点が存在する。
すなわち、ブラインは容易に0℃以下の低温になるので、外部配管の途中で水が過冷却状態になりやすく、凍結して管の目詰まりを引き起こすおそれがある。また、ハイドレート生成容器内の水を循環再使用する揚水管路においては、管の途中でガスハイドレートが生成し、塊状に堆積して閉塞を引き起こす確率も高い。このため、水の供給が円滑に行えず、ガスハイドレートを安定的に製造する上で障害となる。
従って、本発明の目的は、外部配管冷却方式を採用した場合においても、閉塞などの問題を回避しつつ、原料水の冷却を効率良く行うことが可能なガスハイドレート製造装置を提供することである。
本発明の第1の態様は、所定圧力および所定温度の下、圧力容器内で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置であって、水を冷却するための冷却手段として、雪氷の冷熱を利用する雪氷冷却部を備えていることを特徴とする、ガスハイドレート製造装置である。
本発明のガスハイドレート製造装置においては、水の冷却手段として雪氷冷却部を用いる。雪氷冷却部は、雪氷の冷熱を利用して水の冷却を行うため、ハイドレート形成に供される水が過度に冷却された状態になることがなく、凍結が防止される。従って、原料水の供給が確実に行われるので、ガスハイドレートを安定的に製造できる。
また、降雪量の多い地域や寒冷地においては、天然の雪氷を利用することにより、水の冷却に要するエネルギー消費は僅かなもので済み、コストも低減できるため、ガスハイドレート製造を効率化できる。
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記圧力容器内でのハイドレート形成に使用されなかった水を再利用する循環経路を備えており、該循環経路の途中に、前記雪氷冷却部が設けられていることを特徴とする、ガスハイドレート製造装置である。
第2の態様では、ハイドレート形成に使用されなかった水を再利用する循環経路に雪氷冷却部を設けたので、循環経路内での凍結やガスハイドレート形成による閉塞という問題が生じず、安定的な運転が可能になる。また、循環経路を冷却する外部配管冷却方式であるため、冷却効率に優れており、大掛りな冷却設備を必要としない。
本発明のガスハイドレート製造装置により、ガスハイドレートを安定的に製造することが可能になる。
以下、図面に基き本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれにより何ら制約されるものではない。
図1は、本発明の第1実施形態に係るガスハイドレート製造装置100の概要を示す図面である。このガスハイドレート製造装置100は、水を噴霧することにより気液接触を行うスプレー方式の製造装置であり、圧力容器10内に、散水器11と、分別板12とを備えている。圧力容器10には、原料水供給管17と、原料ガス供給管16とが接続されている。また、圧力容器10には、「雪氷冷却部」としての雪氷冷却器23を有する水循環用管18が接続され、前記原料水供給管17まで揚水する「循環経路」を構成している。
本発明のガスハイドレート製造装置100で原料として用いるガスの種類は特に限定されるものではなく、所定の圧力、温度条件で水和反応によりガスハイドレートを形成するものであればよい。原料ガスとしては、例えばメタン、天然ガス(メタン、エタン、プロパン、ブタン等の混合ガス)、炭酸ガス(二酸化炭素)等を挙げることができる。
圧力容器10の内部は、原料ガスと水からハイドレート形成が可能な温度および圧力に調整可能に構成されている。すなわち、圧力容器10は、図示しない圧力制御手段と温度制御手段を備えており、例えば、メタンハイドレートの製造の際には、圧力容器10内を温度0〜10℃、圧力3〜6MPa程度に調節できるように構成されている。ここで、ガスハイドレート生成に必要な圧力や温度条件は、ガス(ハイドレート形成物質)の種類により異なるが、いずれも既知の条件で実施できる。なお、温度制御手段としては、熱交換器が一般的であるが、後述するように雪氷を利用して圧力容器10を外部から冷却する方式を採用することも可能である。
圧力容器10内の上部に設けられた散水器11は、原料水供給管17に接続されており、微小水滴50を複数のノズルから噴霧できるように構成されている。分別板12は、圧力容器10内の下部に設けられており、一定の目合いの網目構造を持つ部材によって構成されている。分別板12は、その位置よりも下部の領域へのガスハイドレート51の拡散を妨げるように作用する。
圧力容器10は、底部において原料ガス供給管16に接続している。原料ガス供給管16は、ポンプ15の作用により、メタンガスや天然ガスなどの原料ガスを供給できるように構成されている。原料ガスは、圧力容器10内を上昇し、ハイドレート形成に消費されるが、余剰のガスは、圧力容器10の頂部に設けられた排出部(図示せず)よりガス循環用管14を通して回収され、原料ガス供給管16に戻される。
以上の散水器11の配置と原料ガスの流れから、圧力容器10の内部では気液対向流が形成され、所定温度と圧力の下で散水器11から噴霧された微小水滴50と原料ガス(ハイドレート形成物質)が水和反応を起こしてガスハイドレート51が形成される。本実施形態では、気液対向流とすることによって、高い気液接触効率が得られ、水和反応が速やかに進行する。
水和反応により生じたガスハイドレート51は、余剰の水とともに雪状または塊状になって圧力容器10内部を落下し、同下部の滞留水53に集積する。滞留水53においては、ガスハイドレート51と水とが混合してハイドレートスラリーを形成している。水よりも比重の軽いガスハイドレート51は、主に滞留水53の液面付近に集積する。また、滞留水53の液面下方には、分別板12が配備されており、ガスハイドレート51が滞留水53全体に拡散することを防止するように作用している。
圧力容器10の側部には、滞留水53の液面よりやや下側に位置するように、ハイドレート排出部13が設けられており、多少の水を同伴するものの、密度の濃いスラリーの状態でガスハイドレート51を抜出すことができる。また、圧力容器10の底側部には、水循環用管18と接続する水排出口20が設けられており、ハイドレート形成に利用されなかった余剰水を抜出し、循環再利用することができる。水排出口20は、分別板12より下方に設けられているので、循環水中にガスハイドレート51が混入する心配はなく、また、水排出口20での閉塞も回避することができる。
なお、原料ガス供給管16からのガス導入位置を、滞留水53の液面より下に設定することによって、ガスハイドレート51と滞留水53とにより構成されるハイドレートスラリー中に原料ガスを気泡として導入することが可能になる。このバブリングによって、滞留水53においても気液接触が図られ、一旦ガスハイドレート形成に利用されなかった水を再使用してガスハイドレートを形成することが可能になる。また、滞留水53においてガスハイドレート51が集塊化すると、圧力容器10からの抜出しが困難になる可能性があるが、バブリングによって滞留水53のハイドレートスラリーを攪拌できるので、集塊化が防止され、ハイドレート排出部13での閉塞が起こり難くなる。
本実施形態において、「循環経路」としての水循環用管18には、ポンプ19が配備されており、圧力容器10の底側部から排出された水を原料水供給管17との接続位置まで揚水して再利用できるように構成されている。この水循環用管18の途中には、外部冷却方式の冷却手段として、雪氷冷却器23が配備されている。
ここで、雪氷冷却器23の概略構成を図2に示す。この雪氷冷却器23は、一定量の雪および/または氷を保持できる筐体24の内部を貫通するように、螺旋状の水循環用管18が配備された簡易な構造である。本実施形態では、水循環用管18を螺旋状にすることにより、雪氷54との接触面積と十分な冷却距離を確保し、確実に冷却を行うように構成している。なお、筐体24内の配管の形状は、螺旋状に限らず、例えば蛇行させることもできる。
筐体24は、上部が開放されており、この開放した上部から雪氷54を投入できるように構成されている。開放部分には拡開した傾斜壁25が形成されているので、雪氷54の投入を容易に行うことができる。
筐体24に投入された雪氷54は、水循環用管18を埋めるように隅々にまで充填される。雪氷54の投入は、連続的におこなっても、非連続的におこなってもよい。筐体24の底部には、排水口26が形成されており、筐体24内に投入された雪氷54は、融解して水になると順次排水口26から排出される。なお、図3では筐体24を縦長の構成としているが、雪氷54の荷重による水循環用管18への負荷を考慮して横長の構成とすることも可能である。
雪氷冷却器23を通過する間に、循環水は雪氷54の冷熱によって管の周囲から冷却される。大きな蓄熱能力を持つ雪氷54の冷熱により効率よく冷却を行うことが可能となる一方で、雪氷54を利用することによって、循環水の温度が0℃以下まで低下する心配はない。従って、水循環用管18内を流れる循環水が、管内で凍結する心配がない。また、水循環用管18内でガスハイドレート51が生じることもないので、管路閉塞の問題を引き起こすことがなく、安定的な水の再利用が可能になる。
水循環用管18は原料水供給管17に接続しており、雪氷冷却器23を通過して冷却された循環水は、未使用の原料水と混合されて散水器11に送られる。
雪氷冷却器23は、低コストかつ簡易な設備で流体を冷却できるので、ハイドレート形成に利用する循環水の冷却以外にも利用できる。本実施形態のガスハイドレート製造装置100においては、原料水供給管17の途中に雪氷冷却器21を配備している。また、原料ガス供給管16の途中にも雪氷冷却器22を配備し、原料ガスの冷却にも利用している。雪氷冷却器21および雪氷冷却器22は、雪氷冷却器23と同様の構成である。なお、圧力容器10を外部から冷却する外部冷却器(図示せず)として、雪氷の冷熱を利用することも可能である。
図3は、本発明の第2実施形態に係るガスハイドレート製造装置200の概要を示す図面である。
このガスハイドレート製造装置200は、攪拌により気液接触を行う攪拌方式の製造装置であり、圧力容器30内に、攪拌器34と、分別板31とを備えている。圧力容器30には、原料水供給管17と、原料ガス供給管16とが接続されている。また、圧力容器30には、雪氷冷却器23を有する水循環用管18が接続され、前記原料水供給管17まで揚水できるように構成されている。
圧力容器30の内部は、ハイドレート形成が可能な温度および圧力に調整できるように構成されており、ハイドレート原料の水が貯留されて滞留水53を形成している。圧力容器30は、第1実施形態の圧力容器10と同様に、図示しない圧力制御手段と温度制御手段を備えており、例えば、メタンハイドレートの製造の際には、圧力容器30内を温度0〜10℃、圧力3〜6MPa程度に調節できるように構成されている。
攪拌器34は、モータ33に接続しており、回転によって滞留水53を攪拌する。なお、攪拌器34としては、通常の攪拌翼を供えたもののほか、攪拌翼の先端から原料ガスを気泡として放出可能なガス導入手段を兼ねた攪拌器34を使用することも可能である。
分別板31は、一定の目合いの網目構造を持つ部材であり、分別板31よりも下部の領域へのガスハイドレート51の拡散を妨げるように作用する。
圧力容器30の上部には、原料水供給管17が接続されており、ここから水が圧力容器30内に導入される。また、圧力容器30は、底部において原料ガス供給管16に接続している。原料ガス供給管16は、ポンプ15の作用により、メタンガスや天然ガスなどの原料ガスを供給できるように構成されている。原料ガスは、散気装置(図示せず)によって圧力容器30内の下部に貯留する滞留水53中に気泡52として導入され、ハイドレート形成に消費されるが、余剰のガスは、頂部に設けられた排出部(図示せず)よりガス循環用管14を通して回収され、原料ガス供給管16に戻される。
圧力容器30の内部では、気泡52の導入(バブリング)と、攪拌器34の回転によって気液接触が図られ、所定温度と圧力の下で水と原料ガス(ハイドレート形成物質)が水和反応を起こしてガスハイドレート51が形成される。本実施形態では、微細な気泡52を導入することと、攪拌によって、高い気液接触効率が得られ、水和反応が速やかに進行する。
すなわち、攪拌によって渦流が生じることによって、気泡52の滞留時間を長くすることが可能になり、気液接触効率を高めることができる。さらに、攪拌を行うことによって、生成したガスハイドレート51の集塊化を防止する作用も得られる。
水和反応により生じた水よりも比重の軽いガスハイドレート51は、攪拌を停止すると、主に滞留水53の液面付近に集積する。滞留水53においては、ガスハイドレート51と水とが混合してハイドレートスラリーを形成している。また、滞留水53の下方に設けられた分別板31は、ガスハイドレート51が滞留水53全体に拡散することを防止するように作用する。
圧力容器30の側部には、滞留水53の液面よりやや下側に位置するように、ハイドレート排出部32が設けられており、多少の水を同伴するものの、密度の濃いスラリーの状態でガスハイドレート51を抜出すことができる。また、圧力容器30の底側部には、水循環用管18と接続する水排出口35が設けられており、ハイドレート形成に利用されなかった余剰水を抜出し、循環再利用することができる。水排出口35は、分別板31より下方に設けられているので、循環水中にガスハイドレート51や気泡52が混入する心配はなく、また、水排出口35や、水循環用管18の閉塞を回避することができる。
水循環用管18には、ポンプ19が配備され、圧力容器30の底側部から排出された水を原料水供給管17との接続位置まで揚水して再利用する。この水循環用管18の途中には、外部冷却方式の冷却手段として、雪氷冷却器23が配備されている。雪氷冷却器23の構成と機能は、第1実施形態(図1)と同様であるので、記載を省略する。また、雪氷冷却器21および雪氷冷却器22についても同様である。
以上、本発明を種々の実施形態に関して述べたが、本発明は上記実施形態に制約されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で、他の実施形態についても適用可能である。
例えば、ハイドレート製造装置として、図1ではスプレー方式、図3では、攪拌方式を例に挙げたが、雪氷冷却器23を備える構成は、他の形式のハイドレート製造装置においても適用可能である。
本発明のガスハイドレート製造装置は、天然ガス等の輸送・貯蔵手段としてのガスハイドレートの製造や、ガスの分離回収等に利用できる。
第1実施形態のガスハイドレート製造装置の概略構成を示す図面である。 雪氷冷却器の概略構成を示す図面である。 第2実施形態のガスハイドレート製造装置の概略構成を示す図面である。
符号の説明
10 圧力容器
11 散水器
12 分別板
13 ハイドレート排出部
14 ガス循環用管
15 ポンプ
16 原料ガス供給管
17 原料水供給管
18 水循環用管
19 ポンプ
20 水排出口
21,22,23 雪氷冷却器
24 筐体
25 投入部開口
26 排水部
30 圧力容器
31 分別板
32 ハイドレート排出部
33 モータ
34 攪拌器
35 水排出口
50 微小水滴
51 ガスハイドレート
52 気泡
53 滞留水
54 雪氷
100 ガスハイドレート製造装置
200 ガスハイドレート製造装置

Claims (2)

  1. 所定圧力および所定温度の下、圧力容器内で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置であって、
    ハイドレート形成水を冷却するための冷却手段として、雪氷の冷熱を利用する雪氷冷却部を備えていることを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。
  2. 請求項1において、前記圧力容器内でのハイドレート形成に使用されなかった水を再利用する循環経路を備えており、
    該循環経路の途中に、前記雪氷冷却部が設けられていることを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009242610A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの製造装置
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009242610A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの製造装置
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