JP5307866B2 - ガスハイドレート製造装置 - Google Patents

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本発明は、例えば、天然ガスなどの原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置に関するものである。
ガスハイドレートとは、水分子と気体分子により形成された氷状の固体結晶であり、水分子が構築する立体構造の籠(ケージ)の内部に気体分子が介在する包接水和物(ハイドレート)の総称である。ガスハイドレートは、1m3 のガスハイドレートの中に天然ガスを約165Nm3 も包蔵しているため、天然ガスの輸送及び貯蔵手段として研究開発が盛んに行われている。
ガスハイドレートを製造する装置としては、従来、生成器内の原料水に対して原料ガスを吹き込むバブリング方式(例えば、特許文献1参照。)、原料ガスが充満した生成器内に原料水を噴霧する噴霧方式(例えば、特許文献2参照。)、ラインミキサー及び水管式の反応管路を用いた反応管路方式(例えば、特許文献3参照。)などがある。
ところが、バブリング方式は、攪拌機付きの生成器と、生成熱(反応熱とも言う。)を除去する外部冷却器と、生成器で生成されたガスハイドレートスラリーを導入して未反応水を重力を利用して脱水する重力脱水器(重力脱水塔とも言う。)とを備えているから、(1)攪拌機が要る、(2)生成器と外部冷却器との2つの機器が要る、(3)重力脱水のため、脱水器が大きい、(4)重力脱水のため、脱水器の制御が困難であるなどの問題があった。
また、噴霧方式は、上記のように、原料ガスが充満した生成器内にノズルより水を噴霧させるので、(1)ガスハイドレートの製造速度が遅い、(2)生成器内の原料ガスを外部冷却器で冷却しているので、伝熱が悪いなどの問題があった。
他方、管路方式は、(1)反応管路が長い、(2)反応管路が長いために、圧損が大きいなどの問題があった。
特開2003−80056号公報 特開2002−38171号公報 特開2002−356685号公報
本発明は、生成器の攪拌機が不要で、かつ、装置が簡単であり、その上、脱水器の制御の容易で、製品のガスハイドレート化率を一定にすることができるガスハイドレート製造装置を提供することにある。
請求項1に係る発明は、原料ガスと原料水を攪拌混合するエジェクタ型の第1混合器の下流側にガスハイドレート核の生成を目的とするシェルアンドチューブ型の第1生成器を設け、該第1生成器の下流側に前記ガスハイドレート核を含むスラリーに原料ガスを混入して攪拌混合するエジェクタ型の第2混合器を設け、該第2混合器の下流側にガスハイドレートの生成を目的とする第2生成器を設け、更に、前記第2生成器で生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第2混合器に戻す管路に流量調製バルブを設け、該流量調製バルブを前記第2生成器の下流側に設けたNGH化率計によって制御することを特徴とする。
請求項2に係る発明は、前記シェルアンドチューブ型の第1,第2生成器は、胴部の前後に鏡板を備え、前部の第1鏡板はその内部に隔壁を多段に備え、後部の第2鏡板はその中央に垂直な隔壁を有すると共に垂直な隔壁の左側には第1鏡板に設けられている奇数段の隔壁に相当する隔壁を設け、垂直な隔壁の右側には第1鏡板に設けられている偶数段の隔壁に相当する隔壁を設け、かつ、前記鏡板と前記隔壁との接合部に彎曲状の濡れ面を有するコーナー部を設けたことを特徴とする。
請求項3に係る発明は、前記エジェクタ型の混合器は、細く縊れた胴部に、板状の基板に三角形又は台形状の貫通部を放射状に設けた第1衝突体と、板状の基板に星型の貫通部を設けた第2衝突体とを交互に設けたことを特徴とする。
請求項4に係る発明は、前記第1生成器にて生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第1生成器の上流側に戻して再循環させることを特徴とする。
請求項1に係る発明は、上記のように、ガスハイドレート核の生成を目的とするシェルアンドチューブ型の第1生成器の下流側にガスハイドレートの生成を目的とする第2生成器を設け、更に、第2生成器で生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第2混合器に戻す管路に流量調製バルブを設けたので、ガスハイドレートの粒子を大きくすることができるばかりでなく、NGH化率を制御することが可能になった。
また、この発明は、生成器における攪拌機や攪拌機駆動用のモータなどが不要になる。また、複数の屈曲した管からなる従来の反応管路方式に比べて生成器がコンパクトとなり、生成器の圧損を抑制することが可能となる、シェルアンドチューブ型の生成器であるから反応熱を効率的に除去することができるなどの効果を有する。
請求項2に係る発明は、第1,第2生成器の前後両端にある鏡板内にスラリーをUターンさせる隔壁を設けたので、第1,第2生成器の圧損を大きくすることなく、ガスハイドレート生成領域を長尺化することが可能となり、ガスハイドレート核の生成やガスハイドレートの粒子の成長を助長することが可能となった。
また、この発明は、鏡板と隔壁との接合部に彎曲状の濡れ面を有するコーナー部を設けたので、鏡板内のガスハイドレートスラリーの流速を均一化することが可能となった。
請求項3に係る発明は、前記エジェクタ型の混合器の細く縊れた胴部に、板状の基板に三角形又は台形状の貫通部を放射状に設けた第1衝突体と、板状の基板に星型の貫通部を設けた第2衝突体とを交互に設けたので、第1及び第2衝突体によって原料水が激しく攪拌され、その中に原料ガスが巻き込まれて微細な気泡群に砕かれ、原料水と原料ガスとが混合される。これによって、原料ガスと原料水との接触面積が大きくなり、原料ガスが原料水に効率よく溶解するようになる。
請求項1に係る発明の如く、生成器にて生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記生成器に戻して再循環させる場合は、ガスハイドレートスラリー中にハイドレートの核が存在するので、過冷却度は不要であり、ガスハイドレートは、運転温度にしたがって生成する。他方、循環をしない場合は、混合器を出た水及びガスの混合物がシェル&チューブ熱交換器に入って冷却されるが、過冷却度がある大きさ(4〜8℃)になる領域までは、ハイドレートが生成しない。また、過冷却度に達すると、急激にハイドレートが生成し、定常運転の温度まで温度低下する。このように、ハイドレートが急激に生成する場合は、ハイドレートによって管内が閉鎖することがある。また、過冷却の区間は、伝熱熱量が低下するので、装置が大きくなる。
請求項4に係る発明の如く、前記第1生成器にて生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第1生成器に戻して再循環させる場合も、上記と同様であるから、説明を省略する。
本発明に係るガスハイドレート製造装置の概略構成図である。 混合器の断面図である。 混合器の断面図である。 (a)第1衝突体の正面図、(b)第2衝突体の正面図である。 生成器の一部断面を含む側面図である。 (a)図5のX−X断面図、(b)図5のY−Y断面図である。 鏡板の断面図である。 本発明に係るガスハイドレート製造装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
先ず、第1の実施形態について説明し、次いで、第2の実施形態について説明する。
(1)第1の実施形態
本発明のガスハイドレート製造装置は、図1に示すように、エジェクタ型の混合器1と、シェルアンドチューブ型のガスハイドレート生成器2と、脱水器3とを有し、前記混合器1には、原料ガス供給管4と原料水供給管5が接続されている。また、混合器1とガスハイドレート生成器2は、配管6によって接続され、ガスハイドレート生成器2と脱水器3は、スラリーポンプ7を有するスラリー供給管8によって接続されている。スラリーポンプ7と脱水器3の間に位置するスラリー供給管8は、分岐点aより分岐され、分岐管16によってスラリーの一部を上記配管6に注入するように成っている。ここで、循環するスラリー量は、0〜10%程度で良い。また、脱水器3の出口に設けたガスハイドレート排出管9には、NGH化率計10を設けている。また、脱水器3と原料水供給管5を接続する排水管11には、流量調整バルブ12とポンプ13を設け、脱水器3と原料ガス供給管4を接続する未反応ガス回収管14には、コンプレッサ15を設けている。ここで、上記流量調整バルブ12は、NGH化率計10によって制御するようになっている。NGH化率計としては、例えば、混相流体の混合率測定装置(特開昭62−172253号公報)などを適用することができる。
エジェクタ型の混合器1は、図2に示すように、細く縊れた胴部20を有する管体21と、胴部20の上流側に位置し、かつ、L字状に屈曲したノズル先端22を胴部20の入口に位置させたノズル23によって形成されている。ここで、管体21の上流端には、原料水供給管5を接続し、管体21の下流端には、配管6を接続し、ノズル23には、原料ガス供給管4を接続するようになっている。
ところで、図2のエジェクタ型の混合器でも差し支えが無いが、図3に示すように、細く縊れた胴部20に第1衝突体25と第2衝突体26とを交互に設けることによって原料ガスと原料水との混合をより一層促進させることができる。第1衝突体25は、図4(a)に示すように、円形の基板27に三角形、或いは台形状の貫通部28を放射状に設けたものであり、第2衝突体26は、図4(b)に示すように、円形の基板29に星形状の貫通部30を設けたものである。その際、第1衝突体25と第2衝突体26とは、貫通部28及び30が重複しないように、どちらか一方を時計方向又は反時計方向に若干回転して設置する。
シェルアンドチューブ型のガスハイドレート生成器2は、図5に示すように、多数の管31を内蔵した胴部32を有し、管31の両端は、胴部32の両端を密閉している管板33,33を貫通している。胴部32は、その天井部と底部とに交互に仕切板34を有し、冷媒流入部35から流入した冷媒液が蛇行しながら移動して冷媒流出部36から排出されるようになっている。
上記ガスハイドレート生成器2は、図5に示すように、胴部32の前端部(上流部)に第1鏡板37を有し、胴部32の後端部(下流部)に第2鏡板38を有している。第1鏡板37は、その底部に被処理物流入部39を有し、第2鏡板38は、その上部に被処理物流出部40を有している。第1鏡板37は、図6(a)に示すように、その内部に隔壁41を複数段(例えば、5段。)水平に設けて複数(例えば、10個。)の区画A〜Jを形成している。この例では、左右の関係にある区画B〜C、区画D〜E、区画F〜G、区画H〜Iは、互いに連通している。他方、第2鏡板38は、図6(b)に示すように、その中央に区画A’から区画J’に至る垂直な隔壁42を設けると共に、区画A’,C’間、区画D’,G’間、区画H’,J’間、区画B’,E’間、区画F’,I’間に、それぞれ、隔壁43を設けている。
ここで、第1鏡板37と隔壁41との接合部、及び第2鏡板38と隔壁42,43との接合部に、図7に示すように、彎曲状の濡れ面44を有するコーナー部45を設けて死水域が生じないようにしている。
上記脱水器3は、図1に示すように、耐圧容器47内にコーン状(裁頭円錐状)の濾過体48を略水平に設けたものであり、濾過体48は、メッシュ加工されている。また、耐圧容器47の底部に排水管11を接続する一方、耐圧容器47の上部に未反応ガス回収管14を接続している。なお、所望により、濾過体48内にコーン型のスクリュー(図示せず)を設けてガスハイドレートスラリーの推力を増加させることもできる。また、脱水器3は、濾過体48を縦形に設けたものでも良い。
次に、上記ガスハイドレート製造装置の作動について説明する。
図2に示すように、所定の温度(例えば、4〜8℃)に冷却された原料水wを混合器1の管体21に供給し、所定の圧力(例えば、4〜5.5MPa)に昇圧された原料ガスgを混合器1のノズル23に供給すると、管体21の細く縊れた胴部20において流速が急激に増加するため、原料ガスgが微細な気泡となって原料水wと均一に混合する。
原料ガスが混入した混合水w’は、図1に示すように、配管6を通ってシェルアンドチューブ型のガスハイドレート生成器2の被処理物流入部39に供給される。シェルアンドチューブ型のガスハイドレート生成器2の被処理物流入部39に供給された混合水w’は、図5に示すように、第1鏡板37内の隔壁41及び第2鏡板38内の隔壁42,43に沿ってUターンして胴部32内を何度も蛇行する。そして、最終的には、被処理物流出部40から排出されるのであるが、その間に原料ガスgと原料水wとが反応してガスハイドレートスラリーsとなる。
ここで、第1鏡板37及び第2鏡板38内における混合水w’の流れについて説明すると、第1鏡板37では、図6(a)に示すように、区画Bから区画C、区画Dから区画E、区画Fから区画G、区画Hから区画Iに流れ、第2鏡板38では、図6(b)に示すように、区画A’から区画B’、区画C’から区画D’、区画E’から区画F’、区画G’から区画H’、区画I’から区画J’に流れる。
ガスハイドレート生成器2によって生成されたガスハイドレートスラリーs(NGH化率20〜30%)は、図1に示すように、スラリーポンプ7によって脱水器3に供給される。脱水器3に供給されたガスハイドレートスラリーsは、濾過体48がコーン型に形成されているため、スラリーポンプ7の推力によって加圧脱水され、NGH化率が約40〜60%程度のガスハイドレートnとなる。脱水器2で脱水された未反応水w”は、ポンプ13によって原料水供給管5に戻しされる。その際、ガスハイドレート排出管9に設けたNGH化率計10によって流量調製バルブ12を調整することにより、NGH化率を制御することができる。他方、脱水器3内に溜まった未反応ガスg”は、未反応ガス回収管14を経て原料ガス供給管4に戻される。
次に、第2の実施形態について説明する。
(2)第2の実施形態
このガスハイドレート製造装置は、図8に示すように、原料ガスgと原料水wとを攪拌混合するエジェクタ型の第1混合器51の下流側に第1配管52を介してガスハイドレート核の生成を目的とするシェルアンドチューブ型の第1生成器53を設けている。更に、第1生成器53の下流側に第2配管54を介してエジェクタ型の第2混合器55を設け、更に、第2混合器55の下流側に第3配管56を介してガスハイドレートの生成を目的とする第2生成器57を設けている。
その上、第2生成器57に設けたガスハイドレートスラリー排出管58と第2配管54とをガスハイドレートスラリー戻し管59によって接続している。このガスハイドレートスラリー戻し管59には、ポンプ60と流量調整バルブ61とを設け、ガスハイドレートスラリー排出管58に設けたNGH化率計62によって流量調製バルブ61を制御するようになっている。また、第1混合器51には、原料ガス供給管63と原料水供給管64が設けられている。更に、第2混合器55には、原料ガス供給管63から分岐した原料ガス供給管63aが設けられている。なお、第1混合器51及び第2混合器55の構造は、第1の実施形態における混合器1と構造が同じであるから詳しい説明を省略する。また、第1生成器53及び第2生成器57の構造は、第1の実施形態における生成器2と構造が同じであるから詳しい説明を省略する。
次に、このガスハイドレート製造装置の作動について説明する。
図8に示すように、所定の温度(例えば、4〜8℃)に冷却された原料水wと、所定の圧力(例えば、4〜5.5MPa)に昇圧された原料ガスgとをエジェクタ型の第1混合器51に供給すると、原料ガスgが微細な気泡となって原料水wと均一に混合する。原料ガスgが混入した混合水w’は、第1配管52を通ってシェルアンドチューブ型の第1生成器53に供給される。第1生成器53に供給された混合水w’は、シェルアンドチューブ型の第1生成器53内を前後方向に蛇行する間に反応して微細なガスハイドレート核が生成される。
第1生成器53で生成されたガスハイドレート核を含むスラリーS(NGH化率1〜5%)は、第2配管54を通って第2混合器55に供給される。スラリーポンプ65と第2混合器55の間に位置する第2配管548は、分岐点bより分岐され、分岐管66によってスラリーの一部を第1配管52に注入するように成っている。ここで、循環するスラリー量は、0〜10%程度で良い。この第2混合器55には、原料ガス供給管63aから原料ガスgが供給されので、第2混合器55によってスラリーSと原料ガスgとが攪拌混合される。原料ガスgが補充されたスラリーS’は、第3配管56を通ってシェルアンドチューブ型の第2生成器57に供給される。第2生成器57に供給された前記スラリーS’は、例えば、冷却温度が1〜7℃に設定されているシェルアンドチューブ型の第2生成器57内を前後方向に蛇行する間に反応してガスハイドレートスラリーsとなる。
第2生成器57で生成されたガスハイドレートスラリーsは、ガスハイドレートスラリー排出管58より次工程の排出されるが、ガスハイドレートスラリー排出管58に設けたNGH化率計62によって流量調製バルブ61を制御することによりガスハイドレートスラリーsのNGH化率を制御することができる(例えば、20〜30%。)。
その上、第2生成器57によって生成されたガスハイドレートスラリーsの一部をガスハイドレートスラリー戻し管59によって第2混合器55の上流側に戻すため、ガスハイドレートの結晶化が促進され、ガスハイドレートの粒子を大きくすることができる。
53 第1生成器
57 第2生成器
59 管路
61 流量調製バルブ
62 NGH化率計

Claims (4)

  1. 原料ガスと原料水を攪拌混合するエジェクタ型の第1混合器の下流側にガスハイドレート核の生成を目的とするシェルアンドチューブ型の第1生成器を設け、該第1生成器の下流側に前記ガスハイドレート核を含むスラリーに原料ガスを混入して攪拌混合するエジェクタ型の第2混合器を設け、該第2混合器の下流側にガスハイドレートの生成を目的とする第2生成器を設け、更に、前記第2生成器で生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第2混合器に戻す管路に流量調製バルブを設け、該流量調製バルブを前記第2生成器の下流側に設けたNGH化率計によって制御することを特徴とするガスハイドレート製造装置。
  2. 前記シェルアンドチューブ型の第1,第2生成器は、胴部の前後に鏡板を備え、前部の第1鏡板はその内部に隔壁を多段に備え、後部の第2鏡板はその中央に垂直な隔壁を有すると共に垂直な隔壁の左側には第1鏡板に設けられている奇数段の隔壁に相当する隔壁を設け、垂直な隔壁の右側には第1鏡板に設けられている偶数段の隔壁に相当する隔壁を設け、かつ、前記鏡板と前記隔壁との接合部に彎曲状の濡れ面を有するコーナー部を設けたことを特徴とする請求項記載のガスハイドレート製造装置。
  3. 前記エジェクタ型の混合器は、細く縊れた胴部に、板状の基板に三角形又は台形状の貫通部を放射状に設けた第1衝突体と、板状の基板に星型の貫通部を設けた第2衝突体とを交互に設けたことを特徴とする請求項記載のガスハイドレート製造装置。
  4. 前記第1生成器にて生成されたガスハイドレートスラリーの一部を前記第1生成器の上流側に戻して再循環させることを特徴とする請求項記載のガスハイドレート製造装置。
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