JP2005262061A - 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 - Google Patents
使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005262061A JP2005262061A JP2004077239A JP2004077239A JP2005262061A JP 2005262061 A JP2005262061 A JP 2005262061A JP 2004077239 A JP2004077239 A JP 2004077239A JP 2004077239 A JP2004077239 A JP 2004077239A JP 2005262061 A JP2005262061 A JP 2005262061A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing slurry
- semiconductor polishing
- used semiconductor
- slurry
- undergone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Treatment Of Sludge (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
【解決手段】使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させる前に、使用済みのスラリーが含有する過酸化水素のような酸化剤の分解処理操作を行う。酸化剤の分解処理操作は、例えば、スラリーへの紫外線照射やスラリーを酸化剤分解触媒と接触させることにより行う。
【選択図】図1
Description
比重 1.03
pH 2.0〜2.2
平均粒子径[μm] 0.14〜0.15
W濃度[ppm] < 10
Fe濃度[ppm] 60
Ti濃度[ppm] < 0.1
B 濃度[ppm] < 0.2
Na濃度[ppm] < 0.1
Mg濃度[ppm] 0.6
Al濃度[ppm] 0.1
K 濃度[ppm] < 0.1
Ca濃度[ppm] 0.1
Mn濃度[ppm] 0.1
Cr濃度[ppm] 0.1
Mn濃度[ppm] 0.1
Ni濃度[ppm] < 0.1
Cu濃度[ppm] < 0.5
Zn濃度[ppm] < 0.1
Pb濃度[ppm] < 1
Co濃度[ppm] < 0.1
Zr濃度[ppm] < 0.1
Cr濃度[ppm] < 10
TOC濃度[ppm] 160〜230
1)使用済みの研磨用スラリーに紫外線を照射する。
2)使用済みの研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させる。
3)使用済みの研磨用スラリーに紫外線を照射するとともに酸化剤分解触媒と接触させる。
この実施例形態は、使用済み研磨用スラリーや研磨工程後の洗浄廃液等が収容されるタンク1、使用済みの研磨用スラリーから水分を除いて濃縮する孔径0.05μmのセラミックフィルター(又は耐酸性の有機膜)2、波長254nmの紫外線照射装置を備えた紫外線装置付タンク(又は酸化剤分解装置付タンク)3、キレート繊維処理装置4、組成調整タンク5及び粒度調整フィルター6を、流路に沿って、順に設置して構成されている。
○ タンク1 → 紫外線照射装置付タンク(又は酸化剤分解装置付タンク)3 → フイルター → セラミックフィルター(又は耐酸性の有機膜)2 → キレート繊維処理装置4 → 組成調整タンク5 → 粒度調整フィルター6
この構成の場合には、紫外線照射と過酸化水素によりコロイド粒子化したWをフィルターで除去されるので、キレート繊維処理装置の負荷が軽減される。
○ タンク1 → 紫外線照射装置付タンク(又は酸化剤分解装置付タンク)3 → セラミックフィルター(又は耐酸性の有機膜)2 → キレート繊維処理装置4 → 組成調整タンク5 → 粒度調整フィルター6
○ タンク1 → 紫外線装置付タンク(又は酸化剤分解装置付タンク)3 → キレート繊維処理装置4 → セラミックフィルター(又は耐酸性の有機膜)2 → 組成調整タンク5及び粒度調整フィルター6
Al2O3 を支持材としてZrO2が表面にコーティングされているセラミック製のろ過膜 (以下フィルター)により水と研磨材中のシリカ研磨材を分離した。このフィルターの孔径は、0.05μmである。このフィルターを用いる事により研磨材排液の研磨材密度を高める。つまり砥粒を濃縮する。セラミックフィルターへの循環流速は、セラミックフィルタ−1本あたり4m/秒により通液を行い、約35L/ hの透過水を得ることができる。透過水は、本再生操作においては排水した。
その後、硝酸第二鉄、有機酸、アミノ酸をメトレート処理液に添加した。さらに30Lの新品研磨材を添加して撹拌後にpHを測定した。pH2.0〜2.2に調整するためにHNO3 を添加した。薬品を添加した後、CMPure205(2μmを50%除去、5μmを90%除去) フィルターを用いて粒度調整を行った。流量7L/分により循環し、100L研磨材を50回液が入れ替わる分処理を行った。
Claims (9)
- 使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させて前記スラリーが含有する金属イオンを除去するとともに、研磨材濃度及び組成の調整を行うことからなる使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法において、
前記使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させる前に、前記スラリーに酸化剤分解処理を施すことを特徴とする使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。 - 前記酸化剤分解処理は、前記使用済み半導体研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させ、及び/又は前記使用済み半導体研磨用スラリーに紫外線を照射することからなる請求項1記載の使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。
- 前記組成調整は、前記使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させた後、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液を添加することにより行われる請求項1又は2記載の使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。
- 前記組成調整は、前記使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させた後、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液と未使用の半導体研磨用スラリーを添加することにより行われる請求項1又は2記載の使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。
- 前記研磨材濃度の調整は、使用済み半導体研磨用スラリーをセラミックフィルターに通過させて分散媒の一部を濾別することにより行われる請求項1乃至4のいずれか1項記載の使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。
- 使用済み半導体研磨用スラリーをセラミックフィルター又は有機膜に通過させて研磨材に対する分散媒の一部を除去する濃縮工程と、
前記濃縮工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させ、及び/又は前記使用済み半導体研磨用スラリーに紫外線を照射する酸化剤分解工程と、
前記酸化剤分解工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーをキレート繊維と接触させる金属イオン除去工程と、
前記金属イオン除去工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液及び/又は、補正液と未使用の半導体研磨用スラリーを所定の割合で添加する組成調整工程と、
前記組成調整工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、粒度調整フィルターで濾過する粒度調整工程と
を有することを特徴とする使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。 - 使用済み半導体研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させ、及び/又は前記使用済み半導体研磨用スラリーに紫外線を照射する酸化剤分解工程と、
前記酸化剤分解工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、キレート繊維と接触させる金属イオン除去工程と、
前記金属イオン除去工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、セラミックフィルター又は有機膜に通過させて分散媒の一部を除去する濃縮工程と、
前記濃縮工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーに、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液及び/又は、補正液と未使用の半導体研磨用スラリーを所定の割合で添加する組成調整工程と、
前記組成調整工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、粒度調整フィルターで濾過する粒度調整工程と
を有することを特徴とする使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。 - 使用済み半導体研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させ、及び/又は前記使用済み半導体研磨用スラリーに紫外線を照射する酸化剤分解工程と、
前記酸化剤分解工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを凝集粒子が除去できる耐酸化性フイルターで濾過する濾過工程と、
前記濾過工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、セラミックフィルター又は有機膜に通過させて分散媒の一部を除去する濃縮工程と、
前記濃縮工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、キレート繊維と接触させる金属イオン除去工程と、
前記金属イオン除去工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーに、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液及び/又は、補正液と未使用の半導体研磨用スラリーを所定の割合で添加する組成調整工程と、
前記組成調整工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、粒度調整フィルターで濾過する粒度調整工程と
を有することを特徴とする使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。 - 使用済み半導体研磨用スラリーを酸化剤分解触媒と接触させ、及び/又は前記使用済み半導体研磨用スラリーに紫外線を照射する酸化剤分解工程と、
前記濾過工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、セラミックフィルター又は有機膜に通過させて分散媒の一部を除去する濃縮工程と、
前記濃縮工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、キレート繊維と接触させる金属イオン除去工程と、
前記金属イオン除去工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーに、該使用済み半導体研磨用スラリーが未使用の半導体研磨用スラリーとほぼ同一組成となるように、予め組成調整を行った補正液及び/又は、補正液と未使用の半導体研磨用スラリーを所定の割合で添加する組成調整工程と、
前記組成調整工程を経た使用済み半導体研磨用スラリーを、粒度調整フィルターで濾過する粒度調整工程と
を有することを特徴とする使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004077239A JP4472391B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004077239A JP4472391B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005262061A true JP2005262061A (ja) | 2005-09-29 |
JP4472391B2 JP4472391B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=35087156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004077239A Expired - Fee Related JP4472391B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4472391B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007098534A (ja) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | D-Process:Kk | スラリ再生方法 |
JP2007127544A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 半導体用研磨スラリー中の異物検査方法 |
JP2007244951A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Nissan Motor Co Ltd | パティキュレートフィルター型排ガス浄化触媒の製造方法及びパティキュレートフィルター型排ガス浄化触媒 |
JP2009255203A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 研磨用スラリーの再生方法 |
JP2010501349A (ja) * | 2006-08-25 | 2010-01-21 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板研磨液のユースポイント処理のための方法及びシステム |
JP2010253393A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 排スラリー中の有用固形成分の回収方法 |
JP2019136844A (ja) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
-
2004
- 2004-03-17 JP JP2004077239A patent/JP4472391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007098534A (ja) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | D-Process:Kk | スラリ再生方法 |
JP2007127544A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 半導体用研磨スラリー中の異物検査方法 |
JP2007244951A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Nissan Motor Co Ltd | パティキュレートフィルター型排ガス浄化触媒の製造方法及びパティキュレートフィルター型排ガス浄化触媒 |
JP2010501349A (ja) * | 2006-08-25 | 2010-01-21 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板研磨液のユースポイント処理のための方法及びシステム |
JP2009255203A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 研磨用スラリーの再生方法 |
JP4580433B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2010-11-10 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 研磨用スラリーの再生方法 |
JP2010253393A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 排スラリー中の有用固形成分の回収方法 |
JP2019136844A (ja) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP7150390B2 (ja) | 2018-02-14 | 2022-10-11 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4472391B2 (ja) | 2010-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1610365B1 (en) | Material for purification of semiconductor polishing slurry, module for purification of semiconductor polishing slurry and process for producing semiconductor polishing slurry | |
TWI480126B (zh) | 用於回收使用過之漿體的方法 | |
CN1266047C (zh) | 溶氢水制造设备 | |
JP2007319974A (ja) | 半導体研磨用スラリーの回収方法及び回収システム並びに再生方法及び再生システム | |
CA2617270C (en) | System and method of slurry treatment | |
JP4580433B2 (ja) | 研磨用スラリーの再生方法 | |
JP4472391B2 (ja) | 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法 | |
JP2009023061A (ja) | 金属イオン成分の除去・低減方法及び装置 | |
TWI417430B (zh) | 基板研磨液之使用點處理方法與系統 | |
TW548245B (en) | A process for treating aqueous waste containing copper and copper CMP particles | |
JP4161389B2 (ja) | 研磨排水の処理方法及び装置 | |
JP3928484B2 (ja) | 機能水の回収方法 | |
JP3732903B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2002119964A (ja) | 半導体製造工程における排水循環システム | |
JP5135654B2 (ja) | 二次純水製造装置 | |
US20100108609A1 (en) | System and method of slurry treatment | |
JP2002083789A (ja) | 研磨材の回収装置 | |
WO2008069136A1 (ja) | キレート剤添加薬液の精製方法 | |
JPH11192480A (ja) | アルカリ系シリカ研磨排水の回収処理装置 | |
JPH11309318A (ja) | フィルター装置および該フィルター装置を用いた液体の清浄化法 | |
JP3399607B2 (ja) | 過酸化水素含有廃水の処理方法 | |
JP2021159898A (ja) | 軟水化装置及びその操業方法 | |
JPH10249343A (ja) | 水処理方法 | |
JP2002018715A (ja) | 研磨材の回収装置 | |
JP2002011664A (ja) | 研磨材の回収装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100126 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100302 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100303 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4472391 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |