JP2005249651A - フラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フラットディスプレイパネルの塗布膜の表面形状を短時間で検査できるようにする。
【解決手段】基板13上に形成した塗布膜14の表面形状を検査する際に、塗布膜14に平行光15を照射したときの塗布膜14の表面からの反射光16のうち正反射光の割合が高く維持されている間に、反射光16の光束密度分布を得るというフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法である。また、基板13上に膜材料を塗布して塗布膜14を形成して乾燥した後、塗布膜14を焼成するまでの間に、反射光16の光束密度分布を得るものである。
【選択図】図2
【解決手段】基板13上に形成した塗布膜14の表面形状を検査する際に、塗布膜14に平行光15を照射したときの塗布膜14の表面からの反射光16のうち正反射光の割合が高く維持されている間に、反射光16の光束密度分布を得るというフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法である。また、基板13上に膜材料を塗布して塗布膜14を形成して乾燥した後、塗布膜14を焼成するまでの間に、反射光16の光束密度分布を得るものである。
【選択図】図2
Description
本発明は、フラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法に関するものである。
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどに用いるフラットディスプレイパネルでは、基板上に塗布形成された形成層がパネルを構成する要素として各種の目的で使用されている。このような形成層の多くには、表面の平坦性、局所的な凹凸のないこと、膜厚が均一であることなどが要求される。
例えば、特許文献1に記載されているように、プラズマディスプレイパネルは、前面基板および背面基板の両ガラス基板を対向配置して間に放電空間を形成し、両ガラス基板の周囲を封着材で封着し、放電空間に放電ガスを封入することにより構成されている。前面基板上には誘電体層で覆われた複数の電極が形成され、背面基板上には複数の電極および隔壁が形成されるとともに隣接する隔壁間の溝に赤色、緑色、青色に発光する蛍光体層が形成されている。このプラズマディスプレイパネルでは、前面基板上に形成された誘電体層や背面基板上に形成された隔壁は、いずれも高い厚み精度や表面の平坦性を要求されるものであり、液晶パネルの配向膜層においても同様である。
特開2000−164145号公報
通常、基板上に形成された塗布膜の塗布状態は、それぞれの基板で微妙に異なる場合があり、塗布膜の性状を検査するときは全数の基板について基板全面の状態を検査できることが求められる。このような検査には、段差計または光学干渉式膜厚測定装置を用いた検査方法が考えられる。しかし、この検査方法では、点あるいは微少エリアでの測定評価を積み重ねて基板全面を評価することになるため、膜厚分布傾向の評価はできるが、局所的な膜厚ムラまで検出しようとすると測定ポイント数を非常に多くとらねばならないことになり、非現実的な検査タクトとなってしまう。
例えば、1m×1mの大きさの検査対象領域において10mmφの窪みを見つけるためには、少なくても検査対象領域を100×100の10000ポイント(あるいは領域)に分割して各ポイント(あるいは各領域)について測定を行い、その測定値の比較分析で局所的な膜厚ムラの有無を判定することになる。各ポイントでの測定時間と測定ポイント間の移動時間を合わせて5秒と仮定すると50000秒(約14時間)の検査時間となってしまうものである。
したがって、このような検査方法では、検査対象である塗布膜の全面について膜厚の異常な部分、あるいは表面の凹凸部分を現実的な検査時間で検出することは非常に困難である。
本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、フラットディスプレイパネルの塗布膜の表面形状を短時間で検査できるようにすることを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、基板上に形成した塗布膜の表面形状を検査する際に、前記塗布膜に平行光を照射したときの前記塗布膜の表面からの反射光のうち正反射光の割合が高く維持されている間に、前記反射光の光束密度分布を得ることを特徴とするフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法である。
本発明によれば、フラットディスプレイパネルの塗布膜の表面形状を短時間で検査することができ、塗布膜表面の局所的な凹凸異常を検出できる。
請求項1に記載の発明は、基板上に形成した塗布膜の表面形状を検査する際に、前記塗布膜に平行光を照射したときの前記塗布膜の表面からの反射光のうち正反射光の割合が高く維持されている間に、前記反射光の光束密度分布を得ることを特徴とするフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法である。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1記載の発明において、基板上に膜材料を塗布して塗布膜を形成して乾燥した後、前記塗布膜を焼成するまでの間に、反射光の光束密度分布を得ることを特徴とする。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1記載の発明において、基板上に膜材料を塗布して塗布膜を形成した後、前記塗布膜が乾燥するまでの間に、反射光の光束密度分布を得ることを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明は、請求項1記載の発明において、塗布膜を形成する前の基板の表面に平行光を照射したときの反射光の光束密度分布を得ておき、その光束密度分布と、塗布膜の表面からの反射光の光束密度分布との差を求めることにより塗布膜の膜厚分布を検査することを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明は、基板上に形成した塗布膜を検査する際に、被検査領域を複数の領域に分割して、前記領域のそれぞれが一度に検査できる大きさとなるようにし、前記領域のそれぞれにおいて請求項1ないし4のいずれかの検査方法を用いることにより前記基板上に形成した塗布膜の検査を行うことを特徴とするフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法である。
以下、本発明の一実施の形態によるフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法について、プラズマディスプレイパネルの場合を例にして図面を用いて説明する。
まず、プラズマディスプレイパネルの構造について図1を用いて説明する。プラズマディスプレイパネルは、間に放電空間を形成するように対向して配置されたガラス製の前面基板1と背面基板2とを備えている。前面基板1上には2つの表示電極3、4から構成された表示電極対が複数配列されており、表示電極3、4を覆うように誘電体層5が形成され、誘電体層5上に酸化マグネシウムからなる保護層6が形成されている。表示電極3、4は、インジウムスズ酸化物(ITO)などからなる透明電極7とその上に形成された銀などからなるバス電極8とにより構成されている。
また、背面基板2上には表示電極3、4と直交する方向に複数のアドレス電極9が形成され、アドレス電極9を覆うように誘電体層10が形成されている。誘電体層10上にはアドレス電極9の間に位置するように隔壁11が形成され、誘電体層10の表面および隔壁11の側面には蛍光体層12が形成されている。
放電空間には、例えばネオンとキセノンの混合ガスからなる放電ガスが400〜600Torrの圧力で封入されている。表示電極対を構成する表示電極3および表示電極4の間で表示放電を起こさせたときに発生する紫外線によって、蛍光体層12を発光させてカラー画像を表示している。
次に、塗布膜の検査方法について説明する。図2は本発明の一実施の形態による塗布膜の検査方法を説明するための図であり、基板13上に形成された塗布膜14を検査するときの状態を示している。
所定の光学系(図示せず)で作られた高い平行度を有する平行光15を基板13上の塗布膜14に当てると反射光16が生じる。平行光15が塗布膜14の凹部分14aに当たると反射光16は光路161を通る収束光になり、平行光15が塗布膜14の凸部分14bに当たると反射光16は光路162を通る拡散光になる。このような反射光16を、観察光学系17を通して観察用受光CCDカメラ18で撮像し、反射光16の光束分布密度を解析する。
図3は、反射光16を観察用受光CCDカメラ18で撮像したときの撮像画像を模式的に表した図である。観察光学系17の焦点を焦点位置19に合わせると、凹部分14aの位置での反射光16が収束し光束密度が高く明るくなり、凸部分14bの位置での反射光16が拡散し光束密度が低く暗くなるので、図3(a)に示すような撮像画像となる。すなわち図3(a)において、破線20aで囲まれたA領域では周囲の領域に比べて明るく且つA領域の中心へ行くほど明るくなる画像が得られ、破線20bで囲まれたB領域では周囲の領域に比べて暗く且つB領域の中心へ行くほど暗くなる画像が得られる。
また、観察光学系17の焦点を焦点位置21に合わせると凸部分14bの位置での反射光16が疑似収束し光束密度が高く明るくなり、凹部分14aの位置での反射光は光束密度が低く暗くなるので、図3(b)に示すような撮像画像となる。すなわち図3(b)において、破線20aで囲まれたA領域では周囲の領域に比べて暗く且つA領域の中心へ行くほど暗くなる画像が得られ、破線20bで囲まれたB領域では周囲の領域に比べて明るく且つB領域の中心へ行くほど明るくなる画像が得られる。
この観察光学系17の焦点位置を上下したときに得られる画像の明暗状況を解析することによって塗布膜14の表面形状を検査できるものであり、特に検査の難しい局所的な表面の凹凸形状を検査できるものである。
ところで、表面粗さの粗い塗布膜14の表面に平行光15を当てた場合、その表面からの反射光は乱反射成分が多くなり、平行光として返ってくる反射光成分は少なくなる。図4は、表面粗さの粗い表面を有する塗布膜14に平行光15が入射したときの反射光の進行方向を模式的に示した図である。図4に示すように、乱反射光成分22が多く発生するため正反射する反射光16はかなり弱くなってしまう。同様に、凹部分14aで正反射する反射光16(光路161を通る反射光)、および、凸部分14bで正反射する反射光16(光路162を通る反射光)も弱くなり乱反射光成分が主体となってしまうため、観察用受光CCDカメラ18で撮像した画像は十分なコントラストの得られない薄い濃淡画像となってしまう。このため、表面粗さの粗い表面を有する塗布膜14では、その表面状態の検査が難しい。
そこで、本実施の形態では、塗布膜14が表面粗さの粗い表面状態となる前の状態で検査するようにしている。すなわち、塗布膜14の表面からの反射光のうち正反射する反射光(正反射光)の割合が高く維持されている間に反射光の光束密度分布を得るようにしている。これにより、塗布膜14に平行光を当てたときの塗布膜14の表面からの反射光は乱反射光成分が弱く、正反射光が強い状態となるので、塗布膜14の表面形状を反映したコントラストのよい撮像画像が得られ、塗布膜14の表面形状の検査を精度よく行うことができる。
次に一例として、プラズマディスプレイパネルの前面基板1上に設けられた誘電体層5について検査する場合について説明する。プラズマディスプレイパネルの製造工程において、誘電体層5は次のようにして形成される。すなわち、ガラス等の誘電体材料、バインダおよび溶剤を含んだ誘電体ペースト(膜材料)を、前面基板1上に形成した表示電極3、4を覆うように塗布することにより誘電体材料膜(塗布膜)を形成し、その後、誘電体材料膜を昇温して乾燥させると溶剤が揮発し、誘電体材料の粒子間はバインダによって結着される。続いて温度を上げればバインダが除去され、さらに高温にして焼成することで誘電体材料が焼結して誘電体層5が形成される。
このようにして得られた誘電体層5の表面の表面粗さは比較的粗くなっている。誘電体材料膜の成分に有機成分が多い場合、乾燥した後に熱処理(焼成)すると誘電体材料膜中の有機成分が焼失するために表面粗さが粗くなる。そこで、この表面粗さが粗くなる前の状態、すなわち、誘電体ペーストを塗布して乾燥した後、焼成するまでの間に誘電体材料膜の表面状態の検査を行う。このとき、塗布乾燥後の正反射光の強い状態で検査することになるため、誘電体材料膜の表面形状の検査を精度よく行うことができる。また、誘電体材料膜の表面形状の検査を、誘電体ペーストの塗布後、乾燥するまでの間に検査してもよい。この場合にも正反射光の強い状態で検査することになるため、誘電体材料膜の表面形状の検査を精度よく行うことができる。
次に、塗布膜の膜厚分布を検査する方法について説明する。この検査方法は、特に他の検査方法では難しい局所的な膜厚分布の異常を検出するための検査方法である。
まず、図5のように塗布膜14を形成する前の基板13を、図1と同様の表面形状検査方法を用いて検査する。平行光15を基板13の表面に当てると反射光16が生じる。この反射光16を、観察光学系17を通して観察用受光CCDカメラ18で撮像し、反射光16の光束分布密度を得る。このときに観察用受光CCDカメラ18で撮像された画像の一例を模式的に図6に示す。図6では、基板13の表面うねりが画像の濃淡として斜線で示す領域23に現れており、例えば領域23内の内側へ行くほど暗くなるパターンが得られる。
次に、基板13の表面上に塗布膜14を形成し、図1の表面形状検査方法を用いて塗布膜14の表面形状を検査する。このときに観察用受光CCDカメラ18で撮像された画像の一例を模式的に図7に示す。図7では、基板13の表面うねりが画像の濃淡として領域23に現れているほかに、破線24で囲まれたC領域では周囲の領域に比べて明るく且つC領域の中心へ行くほど明るくなる画像が得られている。この図7の明暗信号と図6の明暗信号との差分をとって画像化した差分画像を模式的に示したものが図8である。
図8では、塗布膜14と基板13の表面形状の差が明確に現れており、これが膜厚分布を示している。図8の例で示すように画像の右側領域にある破線24で囲まれたC領域に局所的な凹ムラ部(膜厚が薄くなっている部分)が存在することが簡単に判別できる。この方法によれば、局所的な凸ムラ部(膜厚が厚くなっている部分)についても同様簡単に判別することができる。
また、上記実施の形態における検査方法では、高い平行度の平行光を作り出すための光学系が必要となる。大画面のプラズマディスプレイパネルに用いる大きな基板上に形成された塗布膜について検査する場合、その基板の大きさに見合った平行光が必要であるが、このような大きな面積で平行光を得るためには、そのための光学系に用いる巨大なレンズが必要となり設備の価格、サイズの面で実現が難しい面がある。図9に、30cm径の検査可能領域25を有する光学系を用いて1m×1mの大きさの基板13全面を検査する場合を示している。この方法では、被検査領域である基板13全面を複数(図9の例では25個)の領域26に分割して、各領域が一度に検査できる大きさ(検査可能領域25によってカバーされる大きさ)となるようにし、各領域において前述した検査方法のいずれかを用いることにより基板上に形成した塗布膜の検査を行い、各領域での検査結果を合成することにより検査を行う。この方法によれば、被検査領域を非常に多くの数に分割する必要はなく、大きな基板全面を低コストな設備で短時間に評価することができる。
以上の説明からわかるように、本発明は、フラットディスプレイパネルの塗布膜における表面形状の局所的な凹凸異常を検出する際に有用である。
1 前面基板
2 背面基板
5 誘電体層
13 基板
14 塗布膜
15 平行光
16 反射光
2 背面基板
5 誘電体層
13 基板
14 塗布膜
15 平行光
16 反射光
Claims (5)
- 基板上に形成した塗布膜の表面形状を検査する際に、前記塗布膜に平行光を照射したときの前記塗布膜の表面からの反射光のうち正反射光の割合が高く維持されている間に、前記反射光の光束密度分布を得ることを特徴とするフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法。
- 基板上に膜材料を塗布して塗布膜を形成して乾燥した後、前記塗布膜を焼成するまでの間に、反射光の光束密度分布を得ることを特徴とする請求項1記載のフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法。
- 基板上に膜材料を塗布して塗布膜を形成した後、前記塗布膜が乾燥するまでの間に、反射光の光束密度分布を得ることを特徴とする請求項1記載のフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法。
- 塗布膜を形成する前の基板の表面に平行光を照射したときの反射光の光束密度分布を得ておき、その光束密度分布と、塗布膜の表面からの反射光の光束密度分布との差を求めることにより塗布膜の膜厚分布を検査することを特徴とする請求項1記載のフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法。
- 基板上に形成した塗布膜を検査する際に、被検査領域を複数の領域に分割して、前記領域のそれぞれが一度に検査できる大きさとなるようにし、前記領域のそれぞれにおいて請求項1ないし4のいずれかの検査方法を用いることにより前記基板上に形成した塗布膜の検査を行うことを特徴とするフラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法。
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JP2004061992A JP2005249651A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | フラットディスプレイパネルの塗布膜の検査方法 |
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