JP2005248629A - 床面加工装置 - Google Patents
床面加工装置Info
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Abstract
【課題】 既設の床面に滑り止め及び/または装飾等の加工を施すことができ、効率的に加工を行うことができる床面加工装置を提供する。
【解決手段】 加工対象である床面F上を移動可能な可搬式の基台12と、該基台12に取付けられたレーザ発振器20と、基台12に設けられて、レーザ発振器20から出射されるレーザ光を前記基台12の下方に配置される床面Fに向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する光学装置24と、を備える。
【選択図】 図2
【解決手段】 加工対象である床面F上を移動可能な可搬式の基台12と、該基台12に取付けられたレーザ発振器20と、基台12に設けられて、レーザ発振器20から出射されるレーザ光を前記基台12の下方に配置される床面Fに向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する光学装置24と、を備える。
【選択図】 図2
Description
本発明は、建物や歩道等の床面の表面に滑り止め及び/または装飾の目的で加工を施す床面加工装置に関する。
従来、床面の滑り止めを行うのには、床面を形成する床材の表面仕上げを粗く加工することが行われているが、このような加工を行うと、表面の光沢が失われるという問題がある。また、床材として厚板のガラスを採用したときには、ガラスの表面に艶消し仕上げ加工をすることが行われているが、このような加工を行うと、透光性が損なわれるという問題がある。
このような問題を解決するために、特開2003−293562号公報では、床用基材の表面に対して小さな窪みを形成することが提案されており、この窪みを形成するのに、床用基材表面部分にレーザ光を透過可能な冷却剤を付与した状態で、レーザ光の照射を行っている。そして、所望の最大幅と所望の間隔を持つ窪みが形成された床用基材を複数枚用意し、その基材を床に敷設している。
しかしながら、上記公報の滑り防止加工方法では、床用基材に窪みを形成しているので、既設の床面には適用することができず、また、床用基材を予め加工することが必要となるために、作業性の改善が望まれている。
本発明はかかる課題に鑑みなされたもので、その目的は、既設の床面に滑り止め及び/または装飾等の加工を施すことができ、効率的に加工を行うことができる床面加工装置を提供することである。
前述した目的を達成するために、請求項1記載の発明は、
加工対象である床面上を移動可能な可搬式の基台と、該基台に取付けられたレーザ発振器と、基台に設けられて、レーザ発振器から出射されるレーザ光を前記基台の下方に配置される床面に向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する光学装置と、
を備えることを特徴とする。
加工対象である床面上を移動可能な可搬式の基台と、該基台に取付けられたレーザ発振器と、基台に設けられて、レーザ発振器から出射されるレーザ光を前記基台の下方に配置される床面に向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する光学装置と、
を備えることを特徴とする。
請求項2記載の発明は、請求項1記載のものにおいて、基台は直進移動可能であることを特徴とする。
請求項3記載の発明は、請求項1記載のものにおいて、前記基台には、床面に対する基台の位置決めを行う位置決め装置が取り付けられることを特徴とする。
請求項4記載の発明は、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のものにおいて、前記位置決め装置が、ライン状ビームを床面に向けて投射する発光体を有することを特徴とする。
請求項5記載の発明は、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のものにおいて、前記位置決め装置は、基台の下方に向けてビームを照射する発光体と、発光体のビームの床面照射付近を撮像する撮像装置と、該撮像装置からの画像を表示するモニタと、を有することを特徴とする。
請求項6記載の発明は、請求項1ないし5のいずれか1項に記載のものにおいて、基台の傾斜角度を検出する傾斜計と、前記傾斜計で検出される傾斜角度が所定角度以上になった場合に、レーザ発振器からのレーザ光の出射を停止させるインターロック装置とをさらに備えることを特徴とする。
請求項7記載の発明は、請求項1ないし6のいずれか1項に記載のものにおいて、レーザ発振器の発振動作のオン・オフを行う2つのスイッチをさらに備え、該2つのスイッチは、同時にオンされたときにのみレーザ光が出射することを特徴とする。
請求項8記載の発明は、請求項1ないし7のいずれか1項に記載のものにおいて、基台とは別の第2基台をさらに備えており、第2基台には電源装置が備えられ、基台と第2基台との間には可撓性ケーブルが配索されることを特徴とする。
本発明によれば、可搬式基台を加工対象である床面にまで移動させて、その基台下方に配置される床面に向けてレーザ光を照射して、窪みを形成することができる。これにより、既設の床面に対して窪みを形成して加工を施すことができ、効率的に処理をすることができる。
請求項2記載の発明によれば、基台を直進移動させることができるので、通常、整列して敷設される床材に対して基台を平行移動させることができる。
請求項3記載の発明によれば、位置決め装置により、床面に対する基台の位置決めを行うことで、可搬式の基台であっても、床面の所望の位置に窪みを形成することができる。
請求項4記載の発明によれば、発光体から投射されるライン状ビームを床材の辺等に合わせることにより、基台の床面に対する位置決めを行うことができるようになる。ライン状ビームは、直交する2つのラインとすることもできる。
請求項5記載の発明によれば、モニタに表示される撮像装置からの画像によって、ビームと床面との位置合わせ状態を確認することができるので、その画像を見ながら基台の床面に対する位置決めを行うことができるようになる。基台の下方にあって、その位置合わせ状態が視認できない場合でも正確に位置決めをすることができる。
請求項6記載の発明によれば、基台が大きい角度傾斜して、レーザ光が基台の下方以外の部分に照射されることを防ぐことができる。
請求項7記載の発明によれば、誤って1つのスイッチをオンしても、レーザ光が出射することを防ぐことができる。
請求項8記載の発明によれば、第2基台に重量または容量の大きい電源装置を備えることで、基台を軽量化、小型化することができる。第2基台よりも基台を主として移動させることにより、基台の床面との位置決め及び移動を簡単に行うことができるようになる。
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。本発明は、この実施形態に限定されるものではなく、種々の改変が可能である。
図1は本発明の実施形態による床面加工装置10の全体斜視図である。図2、図3はその内部構造を表す図である。
図において、12は基台であり、基台12は、上下2段(12a、12b)のフレーム構造をなしており、その外周囲は、外装カバー14によって包囲されている。
基台12は、4つの直進型ローラ16によって支持されており、これによって、床面Fを直進上に移動可能となっている。直進型ローラ16は、常時は基台12に対して後述のX方向と平行に直進を行うように設定されている。但しローラに限らず、キャタピラー等任意の走行手段で基台12を支持可能である。
基台12の上段フレーム12aには、図2に示すように、レーザ発振器20と、後述のX−Yステージ30のモータ36、44を駆動するモータドライブ22とが取り付けられている。レーザ発振器は特に限定しない。基台に取り付け可能な、例えば連続発振、パルス発振のCO2レーザ、Nd−YAGレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、ファイバーレーザ等を使用できる。
また、基台12の下段フレーム12bには、図2、3に示すように、光学装置24が取り付けられる。光学装置24は、レーザ発振器20からのレーザ光を基台12の下方に配置される床面Fに向けて、誘導するものであり、レーザ光路に沿って設けられる複数のミラーMと、集光レンズL及びビームエクスパンダが内蔵されたビームベンダー28とを有している。レーザ発振器20からのレーザ光は、水平に出された後、ミラーMによって鉛直に垂下し、ミラーMによって水平になりビームベンダー28の上部へと到達して、さらに鉛直に垂下して床面Fに到達する(図2、図3の一点鎖線で示す。)。
X−Yステージ30は、光学装置24によって誘導されるレーザ光の照射位置を二次元的に調整可能にするもので、基台12の下段フレーム12bに対して軸支されるX方向の送りネジ軸34と、基台12に固定され該送りネジ軸34を回転させるX軸モータ36と、送りネジ軸34に螺合するナット38と、ナット38に固定される第1可動台40と、第1可動台40に軸支されるY方向の送りネジ軸42と、該送りネジ軸42を回転させるY軸モータ44と、Y軸モータ44の出力軸と送りネジ軸42との間に渡り掛け渡されたベルト45と、送りネジ軸42に螺合するナット43と、ナット43に固定される第2可動台46と、を備えており、前記ビームベンダー28は第2可動台46に固定される。
X軸モータ36及びY軸モータ44の駆動により、ビームベンダー28は、二次元的に移動可能となっており、図3の仮想線で囲んだ領域Sが照射範囲となる。尚、外装カバー14は、照射範囲Sを覆うようにして、下方まで延びていることが望ましい。
また、下段フレーム12bには傾斜計48が設置されている。
基台12から上段フレーム12aよりも上方には、外装カバー14よりも上方に伸びる延設部12cが設けられており、該延設部12cには操作部50が設けられる。操作部50は、主に、手動で基台12を操作するためのハンドル52と、操作盤54とを備えており、操作盤54には、設定操作及び表示を行うタッチパネル式モニタ56と、メインスイッチS1と、非常停止スイッチS2とが配置される。また、ハンドル52には、操作者がハンドル52を握ったまま、スイッチ操作を可能なる様に、レーザ照射スイッチ58、58が配置される。レーザ照射スイッチ58は2つ設けられており、2つのレーザ照射スイッチ58、58が同時にオンされたときのみ、レーザ発振器20からのレーザ光が出射するようになっている。また、操作部50には、基台12の方向を変更するべく、ローラ16の方向を変えるための回転レバー60が設けられる。
また、回転レバー60の真下には、基台12を固定するためのストップレバー62が設けられており、ストップレバー62を操作すると、ストッパー63が下降して、床面Fに圧接して基台12を固定する。
また、外装カバー14の上側先端部には、位置決め装置としての位置決めマーカ64が設けられる。位置決めマーカ64は、ライン状またはクロス状のマーカを照射可能な発光体からなり、その照射方向は床面Fに向いている。また、そのライン状またはクロス状の発光ラインは基台12の前記X方向及び/またはY方向と平行となっている。また、外装カバー14の下側先端部には、位置決め装置としての位置決め突片65が設けられる。位置決め突片65はX方向またはY方向と平行に伸びている。発光ライン及び位置決め突片65の延長線は、それぞれ前記X−Yステージ30の原点(または任意の基準点)を通過しており、それらの延長線の交点はX−Yステージ30の原点(または任意の基準点)となっている。
ビームベンダー28のレンズL付近には、レンズLが加工屑によって汚れるのを防ぐ為に、圧縮エアをレンズLに向けて吹出すノズル66が配置されており、ノズル66は、電磁弁を介して圧縮機及びエアタンクに接続される。
さらに、基台12とは別に、第2基台70が設けられる。第2基台70内には、レーザ発振器20を動作させるための制御装置74、高周波電源装置75、直流電源装置76、前記圧縮機78及びエアタンク79等の重量または容量の大きい装置が配置される。第2基台70も、基台12と同様に、ローラ72によって支持され、床面Fを移動可能となっている。第2基台70と基台12との間には、信号ケーブル、電源ケーブルまたはエア用チューブといった制御信号、電源電圧信号または圧縮エアが通るための可撓性ケーブルCが配索される。また、それ以外に連結用ワイヤが基台12と第2基台70との間に配索される。第2基台70には、商用交流電源に接続するためのコードが別途、設けられている。
以上のように構成される床面加工装置10において、その作用を説明する。まず、大理石、御影石、ガラス等の任意の床材が敷設されてなる床面Fに床面加工装置10の基台12及び第2基台70を搬入し、基台12を、その加工するべき位置まで走行させる。床面Fは、通常、矩形の床材が整列されてなるため、床材の一辺に沿って直進的に移動させるとよい。そして、ある床材の上方に基台12を設置すると、位置決めマーカ64から光を発光させてマーカを床面Fに照射する。作業者は、そのライン状またはクロス状の発光ラインを加工するべき床材とX方向(またはY方向)に整列された周囲床材の一辺に合うように基台12位置を調整する。そして、位置決め突片65を加工するべき床材とY方向(またはX方向)に整列された周囲床材の一辺に合うように基台12位置を調整する。こうして、X−Yステージ30の原点が対象床材の角に一致するので、ストップレバー62を操作して、ストッパー63を床面Fに圧接させて基台12を固定する。
加工するべき窪みは、照射条件を選定する点状や線状などの図4に示すような様々なパターンとすることができ、予め操作部50のタッチパネル式モニタ56において設定される。制御装置74には、予め幾つかのパターンに対応して、X−Yステージ30を動作させるためのプログラムが記録されており、タッチパネル式モニタ56からの選択により、該当するプログラムが読み出される。
次に、加工の準備ができると、レーザ照射スイッチ58を操作者がオンして、レーザ照射が開始される。尚、レーザ照射スイッチ58の1つのボタンだけが誤ってオンされてもレーザが出射されないようになっており、安全が図られている。
レーザ照射開始と共に、予めプログラムによって決められた手順でX−Yステージ30のX軸モータ36及びY軸モータ44が作動し、選択されたパターンに沿って加工を開始する。また、同時に、電磁弁が開き、圧縮エアが第2基台70のタンクからノズル66を通り吹出され、レンズLのパージが行われる。
加工条件は、床面Fの床材の材料によって変化するが、例えば、レーザ出力50〜150W、最大走査速度600〜700mm/sec、レーザスポット径0.5mm〜1.5mm程度とすることができる。この最大走査速度で加工した場合、1つの加工面積(例えば400×400mm程度)の加工時間は数10秒〜数分程度で行うことができる。照射エネルギは、5〜50J/cm2で所望の深さを持つ窪み加工を行うことができる。
制御装置74には、傾斜計48からの検出信号が入力されており、その検出信号と閾値角度との比較が行われている。この検出信号が閾値角度よりも大きくなった場合には、割り込み信号が出されて、レーザ発振が停止される。こうして、基台12の傾斜により、レーザ光が加工するべき床面F以外に照射されることを防ぐことができる。この制御装置74によってインターロック装置が構成される。
1回の加工が終了すると、基台12を次の加工床材の上方へと移動し、同じ手順を繰り返す。基台12と第2基台70との間のケーブルCの長さを適宜にすることにより、次の加工位置へは、基台12のみを移動させることで行うことができる。また、必要に応じて基台を移動させながら加工することもできる。こうして既設の床面に対して、所望のパターンの加工を行い、滑り止めまたは装飾を施すことができる。
以上の実施形態では、基台12の床面に対する位置決め装置として、位置決めマーカ64及び位置決め突片65を使用した例について説明したが、2つの位置決めマーカ64を設け、それぞれのX方向とY方向に平行なライン状で、且つそのラインの交点がX−Yステージ30の原点となるようなマーカを出力するものとすることもできる。または、X−Yステージ30のビームベンダー28の近傍に、位置決めマーカとCCDカメラ(撮像装置)を配置し、位置決めマーカからのマーカの照射位置がレーザ照射位置と一致するようにして、そのマーカの照射位置をCCDカメラで撮像し、その画像をモニタに表示することもできる。この場合、画像を見ながら、マーカを床材の原点に一致させるように基台12の位置を調整することとしてもよい。これにより、CCDカメラを介して、直接、基台12の基準点となるX−Yステージ30の原点とマーカとの位置合わせができて、位置調整を正確に且つ簡単に行うことができるようになる。
また、この実施形態では、ハンドル52を持って基台12を手動で移動させるようになっているが、これに限るものではなく、基台12が予め決められた軌跡に沿って自立走行するタイプとすることもでき、その場合に、複数の停止位置(即ち、決められた床材位置)に到達すると、自動的に停止して、その下方の床面Fの加工を行うことを繰り返す、自動操作とすることも可能である。
また、この実施形態では、レーザ発振器から出射されるレーザ光を前記基台の下方に配置される床面に向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する手段としてX−Yステージ30を用いた例で説明したが、これに限るものではなく、ミラーを回転させることにより、レーザ光の照射位置を二次元的に調節可能とすることもでき、任意の手段を用いることができる。
10 床面加工装置
12 基台
20 レーザ発振器
24 光学装置
48 傾斜計
58 レーザ照射スイッチ
64 位置決めマーカ
F 床面
12 基台
20 レーザ発振器
24 光学装置
48 傾斜計
58 レーザ照射スイッチ
64 位置決めマーカ
F 床面
Claims (8)
- 加工対象である床面上を移動可能な可搬式の基台と、該基台に取付けられたレーザ発振器と、基台に設けられて、レーザ発振器から出射されるレーザ光を前記基台の下方に配置される床面に向けてその照射位置を二次元的に調節可能に誘導する光学装置と、
を備えることを特徴とする床面加工装置。 - 基台は直進移動可能であることを特徴とする請求項1記載の床面加工装置。
- 前記基台には、床面に対する基台の位置決めを行う位置決め装置が取り付けられることを特徴とする請求項1記載の床面加工装置。
- 前記位置決め装置は、ライン状ビームを床面に向けて投射する発光体を有することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の床面加工装置。
- 前記位置決め装置は、基台の下方に向けてビームを照射する発光体と、発光体のビームの床面照射付近を撮像する撮像装置と、該撮像装置からの画像を表示するモニタと、を有することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の床面加工装置。
- 基台の傾斜角度を検出する傾斜計と、前記傾斜計で検出される傾斜角度が所定角度以上になった場合に、レーザ発振器からのレーザ光の出射を停止させるインターロック装置とをさらに備えることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の床面加工装置。
- レーザ発振器の発振動作のオン・オフを行う2つのスイッチをさらに備え、該2つのスイッチは、同時にオンされたときにのみレーザ光が出射することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の床面加工装置。
- 基台とは別の第2基台をさらに備えており、第2基台には電源装置が備えられ、基台と第2基台との間には可撓性ケーブルが配索されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の床面加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004063066A JP2005248629A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 床面加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004063066A JP2005248629A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 床面加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005248629A true JP2005248629A (ja) | 2005-09-15 |
Family
ID=35029370
Family Applications (1)
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JP2004063066A Pending JP2005248629A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 床面加工装置 |
Country Status (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008215020A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Taisei Corp | 床面加工装置 |
JP2013103228A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Kiden Technos:Kk | レーザ照射装置 |
JP2021513463A (ja) * | 2018-02-09 | 2021-05-27 | レーザラックス インク | 表面をレーザ処理する方法及びレーザ処理システム |
-
2004
- 2004-03-05 JP JP2004063066A patent/JP2005248629A/ja active Pending
Cited By (3)
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A02 | Decision of refusal |
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